JP3210540U - 細胞培養プラットフォーム及び細胞培養システム - Google Patents
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Abstract
Description
−培養する細胞及び液体培地を収容するための培養チャンバー、
−ガスを受け入れるためのガス室、及び
−ガス室と培養チャンバーの間のガス浸透性材料、
を備える。
−本考案による細胞培養プラットフォーム、及び
−該細胞培養プラットフォームのフレーム構造によって機械的に支持されたガス供給システム、
を備える。
有利なことに、上記のガス室の体積は、細胞のガス環境を(必要であれば)素早く変更できるように小さい。例えば、ガス室の体積は培養する細胞を収容するための培養チャンバーの体積の約0.5〜約3倍であり得る。
構造物及び操作方法に対する本考案の様々な例示的且つ限定されることのない実施形態は共に、追加の対象及びその利点も一緒に、添付の図面と関連づけて読むことで以下の特定の例示的な実施形態の説明からよく理解できる。
以下に示した説明に提供した具体例は、添付の請求項の範囲及び/又は適用性を限定するものとして解釈されるべきではない。以下に示した説明に提供された例の一覧及び群は、別段の明らかな記述のない限り網羅的なものではない。
本考案の例示的且つ限定されることのない実施形態による細胞培養プラットフォームは、培養する細胞の温度を制御するために電気的に操作される発熱エレメントを備える。図1aに図解した例示的な細胞培養システムでは、発熱エレメントは図面参照番号108で指示されている。例えば、発熱エレメント108は、例えば顕微鏡撮影や他の光学的操作を妨げないほど薄い抵抗器ワイヤーを備えていてもよい。発熱エレメント108は例えば電池で作動でき、そして、フレーム構造103は、電池を機械的に支持するように配置され得る。
Claims (20)
- 細胞を培養するための1又は複数の培養エレメント(102)を備え、該培養エレメントのそれぞれが:
−培養する細胞及び液体培地を収容するための培養チャンバー(220)、
−ガスを受け入れるためのガス室(221)、及び
−該ガス室と該培養チャンバーとの間のガス浸透性材料(222)、
を備える細胞培養プラットフォーム(101)であって、
該細胞培養プラットフォームが、該培養エレメントを機械的に支持するための、且つ、外部供給源からガスを受け入れることなくガスを供給できるガス供給システムを機械的に支持するためのフレーム構造(103)を備え、及び該ガス供給システムからガスを受け入れ、そしてそのガスが培養エレメントのガス室を通って流れるように誘導するためのガスチャンネル(104)を備えることを特徴とする細胞培養プラットフォーム。 - 前記フレーム構造が、1つの培養エレメントをそれぞれが収容できるウェルを備えるウェルプレート(105)、及びガスチャンネルを備え、且つ、ウェルプレート上に置いたときにウェルを閉じるための蓋(106)を備える、請求項1に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記ウェルプレート(105)が、ガス供給システムを収容するためのくぼみを備える、請求項2に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記フレーム構造が別のガス供給システムを機械的に支持するように構成され、且つ、前記ガスチャンネルが、培養エレメントのガス室にガスを供給できる1つのガス供給システムを選択するための選択弁システム(107)を備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記培養エレメント(102)のそれぞれが:
−液体培地を収容するための第1のリザーバ(223)、
−対象としている培養エレメントの該第1のリザーバから培養チャンバーまで液体培地を誘導するための第1の液体導管(224)、及び
−対象としている培養エレメントの該培養チャンバーから排出される液体培地を誘導するための第2の液体導管(225)を備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。 - 前記培養エレメントのそれぞれが、対象としている培養エレメントの第2の液体導管に接続された第2のリザーバ(226)を備える、請求項5に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記培養エレメントのそれぞれが:
−ガスチャンネルから対象としている培養エレメントのガス室(221)までガスを誘導するための第1のガス導管(227)、及び
−対象としている培養エレメントのガス室から排出されるガスを誘導するための第2のガス導管(228)、
を備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。 - 前記のそれぞれの培養エレメントのガス室(221)が、対象としている培養エレメントの培養チャンバー(220)を囲んでおり、且つ、該ガス室と該培養チャンバーの間の壁がガス浸透性材料を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記培養エレメントのそれぞれが、互いに積み重なった部分(229〜231)を備え、該部分のそれぞれが互いに積み重なっている方向に対して切断面が垂直であるときに一定の断面外郭を有するような部分である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記フレーム構造が、それぞれの培養エレメントの底部を構成する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記フレーム構造及び培養エレメントが、培養する細胞の光学的検査が可能なように1又は複数の透明な材料で少なくとも一部が作られている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記の1又は複数の透明な材料が、以下の:ポリスチレン、コポリマーを用いたポリスチレン、塩化ポリビニル、コポリマーを用いた塩化ポリビニル、ポリエチレン、ポリスチレン−アクリロニトリル、ポリプロピレン、塩化ポリビニリジン、シリコーンエラストマーのうちの1又は複数を含む、請求項11に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記細胞培養プラットフォームが、培養する細胞の温度を制御するための電気的に操作される発熱エレメント(108)を更に備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記ガス浸透性材料がポリジメチルシロキサンを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記細胞培養プラットフォームが、培養エレメントのガス室を通るガスの流量を制御するための制御可能弁(109)を更に備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記細胞培養プラットフォームが、ガス供給システムによって供給されたガスの流れる方向に対して周囲大気が反対の方向で培養エレメントのガス室に流れ込むのを防ぐための逆流止め(110)を更に備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- 前記のそれぞれの培養エレメントのガス室の体積が0.5〜3倍であり、好ましくは対象としている培養エレメントの培養チャンバーの体積の0.5〜3倍である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム。
- −請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養プラットフォーム(101)、及び
−該細胞培養プラットフォームのフレーム構造によって機械的に支持されたガス供給システム(111)、
を備える細胞培養システム。 - 前記ガス供給システムが、加圧ガス用の交換可能な容器(114)を備える、請求項18に記載の細胞培養システム。
- 前記ガス供給システムが、加圧ガス用の詰め替え可能な容器を備え、そして、該詰め替え可能な容器が詰め替え弁を備える、請求項18に記載の細胞培養システム。
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