JP3205230B2 - 赤外光源 - Google Patents
赤外光源Info
- Publication number
- JP3205230B2 JP3205230B2 JP24855395A JP24855395A JP3205230B2 JP 3205230 B2 JP3205230 B2 JP 3205230B2 JP 24855395 A JP24855395 A JP 24855395A JP 24855395 A JP24855395 A JP 24855395A JP 3205230 B2 JP3205230 B2 JP 3205230B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- infrared light
- silicon nitride
- infrared
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 229910000953 kanthal Inorganic materials 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K1/00—Details
- H01K1/28—Envelopes; Vessels
- H01K1/32—Envelopes; Vessels provided with coatings on the walls; Vessels or coatings thereon characterised by the material thereof
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/10—Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry
- G01J3/108—Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry for measurement in the infrared range
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K7/00—Lamps for purposes other than general lighting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
フーリエ変換赤外分光光度計、或いはその他の分析装置
等に用いられる赤外光源に関する。
は、カンタル線をコイル状に形成した熱放射体等が用い
られている。
来の光源には以下のような幾つかの問題点がある。すな
わち、コイル状の熱放射体では、光の強度分布に粗密が
生じエネルギー密度が低くなるため、結果的に光のパワ
ーが小さい。また、光源から放射された光を集光するた
めの反射鏡による焦点位置にアパーチャーを置く光学部
品配置とするとコイル像ができてしまうため、焦点位置
から若干ずれた位置にアパーチャーを置き発光むらの影
響を軽減する必要がある。このため光の利用効率が悪く
なる。更に、長期間の使用によりコイル形状に変形が生
じ、光束密度が低くなる上に寿命も短い。
たものであり、その目的とするところは発光パワーが大
きく且つその強度分布のむらが小さく、更に長寿命であ
る赤外光源を提供することにある。
に成された本発明に係る赤外光源は、赤外光を利用した
分析装置用の赤外光源において、金属導体から成る発熱
抵抗体と、該発熱抵抗体を挟み込んで形成される平板形
状の窒化珪素焼結体とから成ることを特徴としている。
に、例えば櫛形形状に形成される。そして、この金属導
体は二枚の窒化珪素の平板に挟み込まれ、内部に密封さ
れるようにして赤外発光部が形成される。金属導体に通
電されることにより発生する熱は接触する窒化珪素平板
に伝播し、発熱抵抗体に対応する面領域が発熱して赤外
光を発する。窒化珪素は安定な材料であるため、金属導
体に通電する電流を大きくすることにより、高温にして
輝度を上げることができる。また、材料の色自体が黒色
であるため、放射効率も良好である。
的なスペクトルを得るためには、窒化珪素の表面に予め
酸化珪素膜を形成しておくことが好ましい。この膜は、
珪酸ナトリウム溶液等を塗布し熱処理することにより、
比較的容易に形成することができる。
を、図面を用いて具体的に説明する。図1は本発明に係
る赤外光源の実施例の外観図、図2は図1の赤外光源の
構造図である。この光源10は、窒化珪素焼結体11、
発熱導体12及びリード線13から構成される。発熱導
体12は、タングステン、モリブデンのような高融点金
属又はその合金が用いられる。
導体12をサンドイッチ状に挟み込む二枚の平板状部材
から成り、発熱導体12を内部に保持した状態で一体焼
成される。これにより、発熱導体12は窒化珪素焼結体
11の内部に封入される。発熱導体12に接続されるリ
ード線13に外部から電流が供給されると、発熱導体1
2が櫛形状に折り曲げられた発熱部(図1では約3.6
×10mmの領域)で発熱が生じ、赤外光を放出する。な
お、図1中の寸法は一例であり、適宜変更可能である。
度計のパワースペクトルを、従来のカンタル線を用いた
光源と比較した結果を示す図である。光源温度はカンタ
ル線1100℃、本実施例の光源を1200℃とし、横
軸は波数(cm-1)、縦軸はパワー相対強度すなわち相
対輝度を示している。図中、(1)は本発明に係る赤外光
源、(2)はカンタル線の光源によるパワースペクトルで
ある。図に示されているように、本実施例による光源は
従来光源と比較して遙かに輝度が高く、結果的に分光測
定のS/N比が向上する。
した結果、光源温度1200℃では予想された5000
時間以上の寿命が得られることが確認された。これは、
従来の一般的なカンタル線の光源の寿命が1200℃程
度の光源温度で2000時間程度であるのに比べて、遙
かに長寿命である。
物系窒化物から成る赤外光源では、点灯時の発熱により
非酸化物系窒化物の表面に徐々に酸化膜が形成される。
この酸化膜はゆっくりと形成されるため安定した膜が形
成される迄に時間を要し、その間安定した赤外線スペク
トルが得られにくい。この課題を解決するため、予め非
酸化物系窒化物の表面に酸化珪素の薄い膜を形成するべ
く表面処理を行なうことが好ましい。
のような赤外光源に対し、その表面に珪酸ナトリウム溶
液等を塗布し熱処理する。これにより、窒化珪素の表面
に始めから安定的な酸化珪素膜が形成される。
ための図であり、図4は表面処理を施した赤外光源を用
いた赤外分光光度計のパワースペクトルの経時変化、図
5は表面処理を施さない赤外光源を用いた赤外分光光度
計のパワースペクトルの経時変化の実測例を示してい
る。図4、図5ともに、横軸は波数(cm-1)、縦軸は
パワー相対強度すなわち相対輝度を示し、点灯開始を0
時間(h)として所定時間経過後の相対輝度を表わして
いる。
付近ではSi−Nの吸収スペクトルによる経時変化が生
じておりスペクトルが安定しないが、図4の表面処理し
た赤外光源では殆ど経時変化は生じておらず安定してい
る。
-1付近で約1日点灯したあとに酸化珪素による吸収スペ
クトルが明瞭に現われ、その後はスペクトルは安定して
いる。これは、塗布及び乾燥により形成された酸化膜
が、点灯後1日程度のエージングにより安定な膜として
完成することを示している。すなわち、膜形成時にはピ
ンホールや膜厚の不均一性が生じる可能性があるが、所
定時間エージングすることにより酸素を透過させにくい
完全な膜となる。一方、表面処理を施さないものでは、
約500時間点灯した後でもSi−N及びSi−Oによ
る吸収スペクトルが不安定となっている。
明の表面処理を施すことにより、点灯のほぼ初期段階か
ら安定したパワースペクトルを得ることができる。
分が平面状であるため、光の強度分布にむらがなく大き
な発光パワーが得られる。また、高温(約1350℃)
迄安定し変形も生じないため、輝度を上げることができ
且つ長寿命である。更に、窒化珪素自体が黒色であるた
め、放射効率を上げるために従来行なっていた黒化処理
も不要となる。
分光光度計のパワースペクトルを示す図。
施した場合のパワースペクトルの経時変化を示す図。
施さない場合のパワースペクトルの経時変化を示す図。
Claims (1)
- 【請求項1】 赤外光を利用した分析装置用の赤外光源
において、金属導体から成る発熱抵抗体と、該発熱抵抗
体を挟み込んで形成される平板形状の窒化珪素焼結体と
から成ることを特徴とする赤外光源。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24855395A JP3205230B2 (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 赤外光源 |
US08/699,785 US5731594A (en) | 1995-08-31 | 1996-08-20 | Infrared light source |
CA002184223A CA2184223A1 (en) | 1995-08-31 | 1996-08-27 | Infrared light source |
EP96113680A EP0760468B1 (en) | 1995-08-31 | 1996-08-27 | Infrared light source |
DE69617138T DE69617138T2 (de) | 1995-08-31 | 1996-08-27 | Infrarot-Lichtquelle |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24855395A JP3205230B2 (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 赤外光源 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000286284A Division JP3509728B2 (ja) | 2000-09-21 | 2000-09-21 | 分析装置用赤外光源 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0968463A JPH0968463A (ja) | 1997-03-11 |
JP3205230B2 true JP3205230B2 (ja) | 2001-09-04 |
Family
ID=17179887
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24855395A Expired - Fee Related JP3205230B2 (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 赤外光源 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5731594A (ja) |
EP (1) | EP0760468B1 (ja) |
JP (1) | JP3205230B2 (ja) |
CA (1) | CA2184223A1 (ja) |
DE (1) | DE69617138T2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023120722A1 (ja) * | 2021-12-24 | 2023-06-29 | 公立大学法人富山県立大学 | 光音響波測定装置、光音響波測定システム、及び、熱型光源 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19849277A1 (de) * | 1997-10-27 | 1999-05-27 | Heraeus Noblelight Gmbh | Sphäroidisch abstrahlender Infraraot-Strahler |
US7301148B2 (en) | 2003-04-23 | 2007-11-27 | Battelle Memorial Institute | Methods and systems for remote detection of gases |
DE10356508B4 (de) * | 2003-12-03 | 2019-05-02 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanische Infrarotquelle |
DE102006008041A1 (de) * | 2006-02-21 | 2007-08-23 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Verfahren zum Herstellen einer elektrischen Lampe und elektrische Lampe |
FR2925686B1 (fr) * | 2007-12-19 | 2012-02-24 | Le Verre Fluore | Dispositif optique de mesures par reflectance |
JP5716346B2 (ja) * | 2010-10-13 | 2015-05-13 | 株式会社リコー | 信号バッファ回路とセンサ制御基板と画像読取装置および画像形成装置 |
CN106290219A (zh) * | 2016-08-24 | 2017-01-04 | 中国电子科技集团公司第四十九研究所 | 一种新型红外辐射源 |
CN109844902B (zh) * | 2016-09-22 | 2021-03-30 | 贺利氏特种光源有限公司 | 红外辐射器 |
DE102018101974A1 (de) | 2018-01-30 | 2019-08-01 | Infrasolid Gmbh | Infrarotstrahlungsquelle |
WO2019191244A1 (en) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | Scp Holdings, Llc. | Hot surface igniters for cooktops |
US10948571B1 (en) * | 2018-08-28 | 2021-03-16 | Rockwell Collins, Inc. | Long wave infrared emitter systems |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2432484A (en) * | 1943-03-12 | 1947-12-09 | American Optical Corp | Reflection reducing coating having a gradually increasing index of refraction |
DE3437397A1 (de) * | 1984-10-12 | 1986-04-17 | Drägerwerk AG, 2400 Lübeck | Infrarot-strahler |
JPS6244971A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-26 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミツク基板ヒ−タ− |
US4804823A (en) * | 1986-07-31 | 1989-02-14 | Kyocera Corporation | Ceramic heater |
JP2627506B2 (ja) * | 1987-06-09 | 1997-07-09 | 東海高熱工業株式会社 | 遠赤外線ヒータ |
US5264681A (en) * | 1991-02-14 | 1993-11-23 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Ceramic heater |
US5402038A (en) * | 1992-05-04 | 1995-03-28 | General Electric Company | Method for reducing molybdenum oxidation in lamps |
FI110727B (fi) * | 1994-06-23 | 2003-03-14 | Vaisala Oyj | Sähköisesti moduloitava terminen säteilylähde |
-
1995
- 1995-08-31 JP JP24855395A patent/JP3205230B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-08-20 US US08/699,785 patent/US5731594A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-27 EP EP96113680A patent/EP0760468B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-27 DE DE69617138T patent/DE69617138T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-27 CA CA002184223A patent/CA2184223A1/en not_active Abandoned
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
工藤恵栄『分光の基礎と方法』41〜44頁(昭和60年7月25日オーム社発行) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023120722A1 (ja) * | 2021-12-24 | 2023-06-29 | 公立大学法人富山県立大学 | 光音響波測定装置、光音響波測定システム、及び、熱型光源 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0968463A (ja) | 1997-03-11 |
CA2184223A1 (en) | 1997-03-01 |
DE69617138D1 (de) | 2002-01-03 |
US5731594A (en) | 1998-03-24 |
EP0760468A2 (en) | 1997-03-05 |
EP0760468B1 (en) | 2001-11-21 |
DE69617138T2 (de) | 2002-07-18 |
EP0760468A3 (en) | 1997-07-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3205230B2 (ja) | 赤外光源 | |
US5479069A (en) | Planar fluorescent lamp with metal body and serpentine channel | |
US6844664B2 (en) | Field emission electron source and production method thereof | |
US4281267A (en) | High intensity discharge lamp with coating on arc discharge tube | |
EP0376712A2 (en) | Double bulb halogen lamp | |
JP3509728B2 (ja) | 分析装置用赤外光源 | |
JP3803432B2 (ja) | ランプユニット及びこれを用いた画像読み取り装置 | |
JP2668829B2 (ja) | ヒータランプの点灯方法 | |
JPS6084744A (ja) | 熱陰極 | |
JP3395515B2 (ja) | ショートアーク型メタルハライドランプ | |
JPH0449222B2 (ja) | ||
JP2978716B2 (ja) | 遠赤外線ヒータ | |
US2200951A (en) | Artificial illumination | |
JP2003187946A (ja) | 赤外線照射ユニット | |
JPH07272686A (ja) | 導電性発熱接着剤およびこれを用いた低圧水銀蒸気放電灯ならびに液晶表示装置 | |
JPS6341412B2 (ja) | ||
JPH0723732Y2 (ja) | 赤外線分析計の光源 | |
JPS5928959B2 (ja) | 赤外線輻射ヒ−タ | |
KR100413447B1 (ko) | 음극선관용 음극 및 그 제조방법 | |
JPH04172221A (ja) | 車両用計器の照明装置 | |
TW202425070A (zh) | 閃光照射裝置、閃光放電燈 | |
JPH06163008A (ja) | 希ガス放電灯 | |
JPS62291881A (ja) | 赤外線放射体 | |
JPH0762992B2 (ja) | 反射形メタルハライドランプ | |
JPH05217553A (ja) | アパーチャ形けい光ランプおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080629 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090629 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130629 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130629 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140629 Year of fee payment: 13 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |