JP3203279B2 - シ−ルド層を有する可撓性回路基板 - Google Patents

シ−ルド層を有する可撓性回路基板

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    • H05K1/00Printed circuits
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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    • H05K3/4038Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
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    • H05K3/4069Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques for via connections in organic insulating substrates

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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シ−ルド部が折りたた
みにより三層構造に構成されるシ−ルド層を有する可撓
性回路基板に関する。
【0002】
【従来技術とその問題点】この種のシ−ルド層を備えた
従来の可撓性回路基板としては、図5の(1)及び
(2)に示すように、可撓性絶縁べ−ス材21上の銅箔
をエッチングして回路配線パタ−ン22を形成する際、
その回路配線パタ−ン22の形成面と同一面側にベタ銅
箔又はメッシュ状銅箔等でシ−ルド層23を隣接形成
し、また上記回路配線パタ−ン22の表面には絶縁層2
4を被着して絶縁処理を施した後、シ−ルド層23を回
路配線パタ−ン22の上面から裏面に及ぶように折りた
たむことにより、回路配線パタ−ン22の上下を覆って
電気的にシ−ルドする構造が提案されている。
【0003】このようなシ−ルド構造では、信号回路間
のクロスト−クを防止する為、信号回路間にア−ス回路
を配置してもシ−ルド層との接続は困難であってア−ス
回路に於ける端部接続構造となるので、シ−ルド効果は
低いものであった。
【0004】このような問題を解消する為に、対向する
ア−ス回路とシ−ルド層を接続する為に、信号回路表面
に形成された表面保護層の透孔及び絶縁べ−ス材に設け
た孔に導電性接着剤を充填し、折りたたみ積層のプレス
成形によってア−ス回路とシ−ルド層の導通を取る構造
も提案されている。
【0005】しかし、このような構造では導通用導電性
接着剤を適量に調整することは困難であり、また、各層
の接着強度は機械的強度に劣る導電性接着剤に依存して
いるので、その接合部の長期安定性及び信頼性を得るこ
とは困難であった。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで本発明は、可撓性
絶縁べ−ス材の一方面の所要の位置に回路配線パタ−ン
及びア−ス回路パタ−ンを形成すると共に、これらの回
路配線パタ−ン及びア−ス回路パタ−ンが形成された部
位に隣接させてメッシュ状又はベタ状のシ−ルド電極層
を形成し、上記回路配線パタ−ン及びア−ス回路パタ−
ン並びにシ−ルド電極層の上面には共通に絶縁性の表面
保護層を設け、上記シ−ルド電極層はこの回路基板の裏
面と上記回路配線パタ−ン及びア−ス回路パタ−ンとに
位置するように接着剤を用いて折りたたみ接合積層すべ
く構成され、上記ア−ス回路パタ−ンの上面又は裏面の
一部を露出させる導通用孔を設け、この導通用孔に導電
性接着剤を充填して上記ア−ス回路パタ−ンとシ−ルド
電極層とを電気的に接続するように構成したものであ
る。
【0007】ア−ス回路パタ−ンとシ−ルド電極層との
電気的接続構造としては、上記態様の他、上記ア−ス回
路パタ−ン及び上下に位置する上記シ−ルド電極層の箇
所に共通の透孔を設け、この透孔にメッキ処理でスル−
ホ−ル導通層を形成することによって上記ア−ス回路パ
タ−ンとシ−ルド電極層とを電気的に接続するように構
成することも可能である。
【0008】
【実施例】図1は本発明の一実施例によるシ−ルド層を
有する可撓性回路基板に於いて、シ−ルド層を折りたた
む以前の回路基板形状を示す概念的な断面構成図であ
る。図に於いて、可撓性絶縁べ−ス材1の一方面に於け
る所要の位置にはこの回路基板に必要な所要の回路配線
パタ−ン2とその回路配線パタ−ン2に隣接して挟むよ
うな部位にア−ス回路パタ−ン3とが形成される一方、
これらの回路配線パタ−ン2及びア−ス回路パタ−ン3
が形成された部位に隣接して設けられたメッシュ状又は
ベタ状のシ−ルド電極層6を有する。これらの回路配線
パタ−ン2及びア−ス回路パタ−ン3並びにシ−ルド電
極層6は、銅箔に対するエッチング処理で同時に形成す
ることができる。
【0009】上記回路配線パタ−ン2、ア−ス回路パタ
−ン3及びシ−ルド電極層6の上面には接着剤9を用い
て共通に可撓性絶縁フィルム8を貼着して表面保護層1
0を形成してある。この表面保護層10は、ポリイミド
樹脂等の絶縁性樹脂を印刷などの手段で塗布することに
より形成することも可能である。
【0010】このような表面保護層10に於いて、ア−
ス回路パタ−ン3が位置する箇所にはそのア−ス回路パ
タ−ン3の一部を露出させる導通用孔7が形成され、ま
た、シ−ルド電極層6が位置する部位であって、図2の
如くシ−ルド電極層6を折りたたんだ場合に上記各導通
用孔7と合致する部位にも同様な導通用孔7を形成して
あり、このシ−ルド電極層6の箇所に形成された導通用
孔7によりシ−ルド電極層6の一部が露出してランド部
5を形成する。そして、このランド部5の中央部位には
シ−ルド電極層6及び可撓性絶縁べ−ス材1を貫通する
貫通孔4を形成してある。
【0011】このような可撓性回路基板は図2のように
そのシ−ルド電極層6が回路基板の裏面から回路配線パ
タ−ン2及びア−ス回路パタ−ン3の位置する面に及ぶ
ように接着剤11を用いて折りたたみ積層すると、この
シ−ルド電極層6は回路基板の外面に位置して回路配線
パタ−ン2及びア−ス回路パタ−ン3包み込むような形
態となり、また、ア−ス回路パタ−ン3の箇所の導通用
孔7とシ−ルド電極層6の導通用孔7とが合致するよう
になるので、図2の如くその導通用孔7に導電性接着剤
12を充填することにより、各ア−ス回路パタ−ン3と
シ−ルド電極層6とを電気的に確実に接続することがで
きる。
【0012】上記ア−ス回路パタ−ン3とシ−ルド電極
層6との電気的接続構造としては、上記態様の他、図3
の如くア−ス回路パタ−ン3の位置する該当箇所の可撓
性絶縁べ−ス材1に設けた導通用孔13とシ−ルド電極
層6に設けた上記導通用孔7とを合致させて、これに導
電性接着剤12を充填することによってア−ス回路パタ
−ン3とシ−ルド電極層6とを電気的に接続することも
可能である。
【0013】また、他の接続構造としては、図4の如く
シ−ルド電極層6の上記のような折りたたみ接着積層処
理後に、上下に位置するシ−ルド電極層6とア−ス回路
パタ−ン3とに共通にドリル穿孔した透孔14を設け、
この透孔14に対するメッキ処理でスル−ホ−ル導通層
15を形成することにより、ア−ス回路パタ−ン3とシ
−ルド電極層6との電気的相互接続を行うこともでき
る。
【0014】
【発明の効果】本発明に係るシ−ルド層を有する可撓性
回路基板によれば、回路配線パタ−ンに関連して形成さ
れたア−ス回路パタ−ンとシ−ルド電極層との電気的相
互接続部は、回路端部のみに制約されることなく電気的
性能を確保する為に必要な位置に効果的に配置すること
ができる。
【0015】また、シ−ルド電極層の折りたたみにより
三層積層回路基板の形態に構成できると共に、シ−ルド
電極層を折りたたむ際には接着剤により強固に接合され
ている構造であるので、シ−ルド電極層の折りたたみ構
造及びア−ス回路パタ−ンとシ−ルド電極層との電気的
相互接続構造には長期安定性及び信頼性を確実に与える
ことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例によるシ−ルド層を有する
可撓性回路基板に於けるシ−ルド層の折りたたみ前の状
態を示す概念的断面構成図。
【図2】 図1のシ−ルド層を折りたたんで接着積層し
たシ−ルド層を有する可撓性回路基板の概念的断面構成
図。
【図3】 ア−ス回路パタ−ンとシ−ルド電極層との電
気的相互接続構造の他の実施例を示す要部断面構成図。
【図4】 ア−ス回路パタ−ンとシ−ルド電極層との電
気的相互接続構造の更に他の実施例を示す要部断面構成
図。
【図5】 (1)及び(2)はシ−ルド層を有する従来
の可撓性回路基板の展開状態の概念的断面構成図及びシ
−ルド層を折りたたんだ状態の概念的断面構成図。
【符号の説明】
1 可撓性絶縁べ−ス材 2 回路配線パタ−ン 3 ア−ス回路パタ−ン 4 貫通孔 5 ランド部 6 シ−ルド電極層 7 導通用孔 8 可撓性絶縁フィルム 9 接着剤 10 表面保護層 11 接着剤 12 導電性接着剤 13 導通用孔 14 透孔 15 スル−ホ−ル導通層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−124896(JP,A) 特開 平4−313300(JP,A) 特開 平2−79497(JP,A) 特開 平4−263495(JP,A) 特開 昭63−226999(JP,A) 特開 昭63−227096(JP,A) 実開 平4−59998(JP,U) 実開 平1−173998(JP,U) 実開 平1−95014(JP,U) 実開 平1−75911(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 9/00 H05K 1/02

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可撓性絶縁べ−ス材の一方面の所要の位
    置に回路配線パタ−ン及びア−ス回路パタ−ンを形成す
    ると共に、これらの回路配線パタ−ン及びア−ス回路パ
    タ−ンが形成された部位に隣接させてメッシュ状又はベ
    タ状のシ−ルド電極層を形成し、上記回路配線パタ−ン
    及びア−ス回路パタ−ン並びにシ−ルド電極層の上面に
    は共通に絶縁性の表面保護層を設け、上記シ−ルド電極
    層はこの回路基板の裏面と上記回路配線パタ−ン及びア
    −ス回路パタ−ンとに位置するように接着剤を用いて折
    りたたみ接合積層すべく構成され、上記ア−ス回路パタ
    −ンの上面の一部を露出させる導通用孔を設け、この導
    通用孔に導電性接着剤を充填して上記ア−ス回路パタ−
    ンとシ−ルド電極層とを電気的に接続するように構成し
    たことを特徴とするシ−ルド層を有する可撓性回路基
    板。
  2. 【請求項2】 可撓性絶縁べ−ス材の一方面の所要の位
    置に回路配線パタ−ン及びア−ス回路パタ−ンを形成す
    ると共に、これらの回路配線パタ−ン及びア−ス回路パ
    タ−ンが形成された部位に隣接させてメッシュ状又はベ
    タ状のシ−ルド電極層を形成し、上記回路配線パタ−ン
    及びア−ス回路パタ−ン並びにシ−ルド電極層の上面に
    は共通に絶縁性の表面保護層を設け、上記シ−ルド電極
    層はこの回路基板の裏面と上記回路配線パタ−ン及びア
    −ス回路パタ−ンとに位置するように接着剤を用いて折
    りたたみ接合積層すべく構成され、上記ア−ス回路パタ
    −ンの裏面の一部を露出させる導通用孔を設け、この導
    通用孔に導電性接着剤を充填して上記ア−ス回路パタ−
    ンとシ−ルド電極層とを電気的に接続するように構成し
    たことを特徴とするシ−ルド層を有する可撓性回路基
    板。
  3. 【請求項3】 可撓性絶縁べ−ス材の一方面の所要の位
    置に回路配線パタ−ン及びア−ス回路パタ−ンを形成す
    ると共に、これらの回路配線パタ−ン及びア−ス回路パ
    タ−ンが形成された部位に隣接させてメッシュ状又はベ
    タ状のシ−ルド電極層を形成し、上記回路配線パタ−ン
    及びア−ス回路パタ−ン並びにシ−ルド電極層の上面に
    は共通に絶縁性の表面保護層を設け、上記シ−ルド電極
    層はこの回路基板の裏面と上記回路配線パタ−ン及びア
    −ス回路パタ−ンとに位置するように接着剤を用いて折
    りたたみ接合積層すべく構成され、上記ア−ス回路パタ
    −ン及び上下に位置する上記シ−ルド電極層の箇所には
    共通の透孔を設け、この透孔にスル−ホ−ル導通層を形
    成することにより上記ア−ス回路パタ−ンとシ−ルド電
    極層とを電気的に接続するように構成したことを特徴と
    するシ−ルド層を有する可撓性回路基板。
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