JP3203224B2 - 熱処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば写真製版技
術を用いて半導体素子を製造する半導体製造システム内
に組み込まれる加熱装置や冷却装置などの熱処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、写真製版技術を用いた半導体
製造システムでは、一つのシステム内にレジスト塗布ユ
ニットや、乾燥ユニット、加熱ユニットなどの各種処理
ユニットを組み込み、これら各種処理ユニット間を順次
移動させながら一連の処理を施すようになっている。

【０００３】図１４は典型的な熱処理ユニット２００の
垂直断面図である。

【０００４】この熱処理ユニット２００では、半導体ウ
エハ（以下、単に「ウエハ」という）Ｗは熱処理盤２０
１の上面上に載置され、このウエハＷは熱処理盤２０１
から放出される熱により熱処理される。この熱処理盤２
０１には図示しない加熱機構が組み込まれており、この
加熱機構から供給される熱量により熱処理盤２０１が加
熱される。熱処理盤２０１の上面上には図示しない小突
起が複数個設けられており、ウエハＷはこれら小突起の
頂部に載置され、ウエハＷの下面と熱処理盤２０１の上
面とが接触してウエハＷの下面に傷や埃が付着するのを
防止するようになっている。そのため、ウエハＷの下面
と熱処理盤２０１の上面との間には微小な隙間が形成さ
れ、熱処理盤２０１上面からこの隙間の空気を介してウ
エハＷ下面に熱が供給される。この熱処理盤２０１及び
ウエハＷで加熱された気体は周囲のより低温の空気より
比重が軽いため、熱処理ユニット２００内を上昇し、熱
処理盤２０１の上方に対向配置されたカバー体２０２に
集められ、このカバー体２０２下面側の頂部に設けられ
た排気口２０３に接続された配管２０４を介して排気さ
れるようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このように
下から上へ空気が流れる上下方向のエアフローを用いる
機構ではパーティクル付着や熱的不均衡などの問題があ
る。

【０００６】即ち、図１４のようにウエハＷの中心部真
上の位置に排気口２０３を設けた構造では、熱処理盤２
０１の外周方向から中心の排気口２０３にエアの流れが
集中するため、エアに塵や埃などが混入していると、排
気口２０３で排気される前に落下してウエハＷの上面に
付着してパーティクルを生じるという問題がある。

【０００７】また、カバー体２０２の下面側には漏斗型
の窪みが形成されており、熱処理盤２０１の外周方向か
ら集められた空気がこの漏斗型の窪みに沿って流れると
きに、渦を形成し排気口２０３の真下付近で空気が滞留
しやすく、熱処理盤２０１からの熱がウエハＷに不均一
に作用しやすいという問題がある。更に、熱処理盤２０
１とカバー体２０２下面との間にこの漏斗型の窪みを形
成する関係上、カバー体２０２の厚さが大きくなり、装
置自体の上下方向の寸法が大きくなるという問題があ
る。

【０００８】本発明は、このような課題を解決するため
になされたものである。

【０００９】即ち、本発明は、パーティクルの付着を防
止できる熱処理装置を提供することを目的とする。

【００１０】また、本発明は、流動する空気の滞留が起
きず、ウエハＷが不均一に加熱されることのない熱処理
装置を提供することを目的とする。

【００１１】更に、本発明は、上下方向の寸法を小さく
抑えることのできる熱処理装置を提供することを目的と
する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、請求項１記載の本発明の熱処理装置は、被処理基板
が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤の横方向から、
この熱処理盤の全幅方向にわたって気体を流す気体流出
手段と、前記熱処理盤に関して前記気体流出手段と対向
する位置に配設され、前記熱処理盤上を通過した気体を
排気する排気手段と、前記排気手段を前記熱処理盤の全
幅方向に移動させる手段と、を具備する。

【００１３】請求項２記載の本発明の熱処理装置は、被
処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣接
配置され、前記熱処理盤の全幅方向にわたって気体を流
すエアパイプと、前記熱処理盤に関して前記エアパイプ
と対向する位置に配設され、前記エアパイプの長手方向
両端にそれぞれ対応する位置に配設された２つの排気口
と、前記排気口と接続され、気体を装置外へ排出する排
気系と、前記排気系と前記２つの排気口のいずれかとの
接続関係を切り換える切換手段と、を具備する。

【００１４】請求項３記載の本発明の熱処理装置は、被
処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣接
配置され、前記熱処理盤の全幅方向にわたって気体を流
すエアパイプと、前記熱処理盤に関して前記エアパイプ
と対向する位置に配設され、前記エアパイプの長手方向
にわたって配設された３つ以上の排気口と、前記排気口
と接続され、気体を装置外へ排出する排気系と、前記排
気系と前記排気口との接続を切り換える手段と、を具備
する。

【００１５】請求項４記載の本発明の熱処理装置は、被
処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣接
配置され、前記熱処理盤の全幅方向にわたって気体を流
すエアパイプと、前記熱処理盤に関して前記エアパイプ
と対向する位置に配設され、前記エアパイプの長手方向
にわたって配設された３つ以上の排気口と、前記排気口
と接続され、気体を装置外へ排出する排気系と、前記排
気系と、前記３つ以上の排気口のうち一端の排気口から
連続する所定の排気口までの排気口とを部分的に接続さ
せる第１接続手段と、前記排気系と、前記３つ以上の排
気口のうち他端の排気口から連続する所定の排気口まで
の排気口とを部分的に断続させる第２接続手段と、前記
第１接続手段と前記第２接続手段とを切り換える手段
と、を具備する。

【００１６】請求項５記載の本発明の熱処理装置は、被
処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣接
配置され、前記熱処理盤の全幅方向にわたって気体を流
すエアパイプと、前記熱処理盤に関して前記エアパイプ
と対向する位置に配設され、前記エアパイプの長手方向
にわたって移動可能な排気口と、前記排気口と接続さ
れ、気体を装置外へ排出する排気系と、前記排気口を移
動させる手段と、を具備する。

【００１７】請求項６記載の本発明の熱処理装置は、被
処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣接
配置され、前記熱処理盤の全幅方向にわたって気体を流
すエアパイプと、前記熱処理盤に関して前記エアパイプ
と対向する位置に配設され、前記エアパイプの長手方向
にわたって配設された３つ以上の排気口と、前記排気口
と接続され、気体を装置外へ排出する排気系と、前記排
気系と前記排気口との接続を切り換える切換手段と、熱
処理操作時に前記切換手段を作動させて前記気体の流動
方向が連続的に変化するように制御する手段と、を具備
する。

【００１８】請求項７記載の本発明の熱処理装置は、被
処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣接
配置され、前記熱処理盤の全幅方向にわたって気体を流
すエアパイプと、前記熱処理盤に関して前記エアパイプ
と対向する位置に配設され、前記エアパイプの長手方向
にわたって移動可能な排気口と、前記排気口と接続さ
れ、気体を装置外へ排出する排気系と、前記排気口を移
動させる移動手段と、熱処理操作時に前記移動手段を作
動させて前記気体の流動方向が連続的に変化するように
制御する手段と、を具備する。

【００１９】請求項８記載の本発明の熱処理装置は、被
処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣接
配置され、この熱処理盤の全幅方向にわたって気体を流
す第１エアパイプと、前記熱処理盤に関して前記第１エ
アパイプと対向する位置に配設され、前記第１エアパイ
プの長手方向両端にそれぞれ対応する位置に配設された
第１排気口及び第２排気口と、前記第１排気口及び第２
排気口に対応する位置に配設された第２エアパイプと、
前記熱処理盤に関して前記第２エアパイプと対向する位
置に配設され、前記第２エアパイプの長手方向両端に対
応する位置に配設された第３排気口及び第４排気口と、
前記第１エアパイプ及び第２エアパイプに接続され、こ
れらに気体を供給する気体供給系と、前記第１排気口〜
第４排気口と接続され、これらから気体を装置外へ排出
させる排気系と、前記第１エアパイプ及び第２エアパイ
プと前記気体供給系との接続を切り換える第１切換装置
と、前記第１排気口〜第４排気口のそれぞれと前記排気
系とを断続する第２切換装置と、前記第１切換装置及び
前記第２切換装置と接続され、前記第１エアパイプから
前記第１排気口へ気体を流す第１接続状態と前記第１エ
アパイプから前記第２排気口へ気体を流す第２接続状態
とを交互に行う第１熱処理手段と、前記第１切換装置及
び前記第２切換装置と接続され、前記第２エアパイプか
ら前記第３排気口へ気体を流す第３接続状態と前記第２
エアパイプから前記第４排気口へ気体を流す第４接続状
態とを交互に行う第２熱処理手段と、前記第１熱処理手
段と前記第２熱処理手段とを切り換える手段と、を具備
する。

【００２０】請求項９記載の本発明の熱処理装置は、被
処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣接
して一列に配設された複数の開口部からなる第１開口列
と、前記熱処理盤に関して前記第１開口群と対向して配
設された複数の開口部からなる第２開口列と、前記第１
開口列及び第２開口列の各開口部とそれぞれ接続された
気体供給系と、前記第１開口列及び第２開口列と各開口
部とそれぞれ接続された排気系と、前記各開口部と前記
気体供給系、及び前記各開口部と排気系との間にそれぞ
れ配設されたバルブと、前記各バルブと接続され、前記
第１開口列の全開口部と前記気体供給系とを接続させる
とともに前記第２開口列の一方の端の開口部とを接続さ
せる第１接続手段と、前記各バルブと接続され、前記第
１開口列の全開口部と前記気体供給系とを接続させると
ともに前記第２開口列の他方の端の開口部とを接続させ
る第２接続手段と、前記各バルブと接続され、前記第２
開口列の全開口部と前記気体供給系とを接続させるとと
もに前記第１開口列の一方の端の開口部とを接続させる
第３接続手段と、前記各バルブと接続され、前記第２開
口列の全開口部と前記気体供給系とを接続させるととも
に前記第１開口列の他方の端の開口部とを接続させる第
４接続手段と、前記第１〜第４接続手段を切り換える手
段と、を具備する。

【００２１】請求項１０記載の本発明の熱処理装置は、
被処理基板が載置される熱処理盤と、前記熱処理盤に隣
接して一列に配設された複数の開口部からなる第１開口
列と、前記熱処理盤に関して前記第１開口群と対向して
配設された複数の開口部からなる第２開口列と、前記第
１開口列及び第２開口列の各開口部とそれぞれ接続され
た気体供給系と、前記第１開口列及び第２開口列と各開
口部とそれぞれ接続された排気系と、前記各開口部と前
記気体供給系、及び前記各開口部と排気系との間にそれ
ぞれ配設されたバルブと、前記各バルブと接続され、前
記第１開口列の全開口部と前記気体供給系とを接続させ
るとともに前記第２開口列の全開口部のうち一方の端の
開口部から連続する所定の開口部までを部分的に接続さ
せる第１接続手段と、前記各バルブと接続され、前記第
１開口列の全開口部と前記気体供給系とを接続させると
ともに前記第２開口列の全開口部のうち他方の端の開口
部から連続する所定の開口部までを部分的に接続させる
第２接続手段と、前記各バルブと接続され、前記第２開
口列の全開口部と前記気体供給系とを接続させるととも
に前記第１開口列の全開口部のうち一方の端の開口部か
ら連続する所定の開口部までを部分的に接続させる第３
接続手段と、前記各バルブと接続され、前記第２開口列
の全開口部と前記気体供給系とを接続させるとともに前
記第１開口列の全開口部のうち他方の端の開口部から連
続する所定の開口部までを部分的に接続させる第４接続
手段と、前記第１〜第４接続手段を切り換える手段と、
を具備する。

【００２２】請求項１の熱処理装置では、前記熱処理盤
を挟んで気体流出手段と排気手段とを配設しており、被
処理基板が載置される熱処理盤上には排気口が設けられ
ていないので、塵や埃を含む空気流が排気口の手前で減
速しても、その塵や埃が被処理基板上に落下してパーテ
ィクルを生じるのを防止できる。

【００２３】また、被処理基板上では前記排気手段を前
記熱処理盤の全幅方向に移動させることにより、気流の
方向が異なる二種類の傾斜流を交互に形成して疑似平行
流を形成するので、被処理基板上で空気が滞留すること
がなく、被処理基板の不均一な加熱が防止される。

【００２４】更に、被処理基板上では板面の垂直方向に
関して平行に気体が流れ、熱処理盤上部に上下方向に大
きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の上下
方向の寸法を小さく抑えることができる。

【００２５】請求項２の熱処理装置では、前記排気口と
前記エアパイプとは前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板が載置される熱処理盤
上には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排
気口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に
落下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【００２６】また、被処理基板上では前記排気系と前記
２つの排気口のいずれかとの接続関係を切り換えること
により、気流の方向が異なる二種類の傾斜流を交互に形
成して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気
が滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防
止される。

【００２７】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【００２８】請求項３の熱処理装置では、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板が載置される熱処理盤
上には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排
気口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に
落下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【００２９】また、被処理基板上では前記排気系と前記
３つ以上の排気口との接続を切り換えることにより、気
流の異なる傾斜流を次々に形成して疑似平行流を形成す
るので、被処理基板上で空気が滞留することがなく、被
処理基板の不均一な加熱が防止される。

【００３０】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【００３１】請求項４の熱処理装置では、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【００３２】また、被処理基板上では前記排気系と前記
３つ以上の排気口との接続を切り換えることにより、気
流の異なる傾斜流を次々に形成して疑似平行流を形成す
るので、被処理基板上で空気が滞留することがなく、被
処理基板の不均一な加熱が防止される。

【００３３】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【００３４】特に、前記３つ以上の排気口のうち一方の
端の排気口から連続する所定の排気口までの排気口と排
気系とを部分的に接続させるので、より平行流に近い気
流が得られる。

【００３５】請求項５の熱処理装置では、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【００３６】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された排気口を前記エアパイプの長手方向にわたって移
動させることにより、気流の異なる傾斜流を次々に形成
して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気が
滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防止
される。

【００３７】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【００３８】請求項６の熱処理装置では、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【００３９】また、被処理基板上では前記排気系と前記
３つ以上の排気口の一つとの接続を切り換えることによ
り、気流の異なる傾斜流を次々に形成して疑似平行流を
形成するので、被処理基板上で空気が滞留することがな
く、被処理基板の不均一な加熱が防止される。

【００４０】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【００４１】加えて、熱処理操作時に前記切換手段を作
動させて前記気体の流動方向が連続的に変化するように
制御しているので、気流が安定して被処理基板の不均一
加熱がより確実に防止される。

【００４２】請求項７の熱処理装置では、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【００４３】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された排気口を前記エアパイプの長手方向にわたって移
動させることにより、気流の異なる傾斜流を次々に形成
して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気が
滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防止
される。

【００４４】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【００４５】加えて、熱処理操作時に前記切換手段を作
動させて前記気体の流動方向が連続的に変化するように
制御しているので、気流が安定して被処理基板の不均一
加熱がより確実に防止される。

【００４６】請求項８の熱処理装置では、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【００４７】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された排気口を前記第１排気口と前記第２排気口との
間、或いは前記第３排気口と前記第４排気口との間で切
り換えることにより、気流の方向が異なる二種類の傾斜
流を交互に形成して疑似平行流を形成するので、被処理
基板上で空気が滞留することがなく、被処理基板の不均
一な加熱が防止される。

【００４８】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【００４９】加えて、前記第１エアパイプから前記第１
排気口や前記第２排気口に流れる気流と、前記第２エア
パイプから前記第３排気口や前記第４排気口に流れる気
流と、を切り換えて被処理基板上の気流の方向を反転す
るようになっているので、気流の上流側と下流側との間
で供給熱量が不均一になるのが防止され、より均一な熱
処理が可能となる。

【００５０】請求項９の熱処理装置では、前記第１開口
列及び前記第２開口列が前記熱処理盤を挟むように配設
されており、排気口に当たる開口部が被処理基板を載置
する熱処理盤上には設けられていないので、塵や埃を含
む空気流が開口部の手前で減速しても、その塵や埃が被
処理基板上に落下してパーティクルを生じるのを防止で
きる。

【００５１】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された開口部を開口列の一方の端と他方の端との間で切
り換えることにより、気流の異なる傾斜流を次々に形成
して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気が
滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防止
される。

【００５２】更に、被処理基板上では一つの開口列から
これに対向するもう一つの開口列の端に位置する開口部
に向かって、板面の垂直方向に関して被処理基板面に平
行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向に大きい空間
を確保する必要がないので、熱処理装置の上下方向の寸
法を小さく抑えることができる。

【００５３】加えて、前記第１開口列から前記第２開口
列側に流れる気流と、前記第２開口列から前記第１開口
列側に流れる気流と、を切り換えて被処理基板上の気流
の方向を反転するようになっているので、気流の上流側
と下流側との間で供給熱量が不均一になるのが防止さ
れ、より均一な熱処理が可能となる。

【００５４】更に、前記第１開口列及び前記第２開口列
をバルブの切換えにより気体を供給するための配管とし
てり機能と排気口としての機能を併用させたので、気体
を供給するための配管と排気口とを別個に設ける必要が
無くなり、装置を小形化できる。

【００５５】請求項１０の熱処理装置では、前記第１開
口列及び前記第２開口列が前記熱処理盤を挟むように配
設されており、排気口に当たる開口部が被処理基板を載
置する熱処理盤上には設けられていないので、塵や埃を
含む空気流が開口部の手前で減速しても、その塵や埃が
被処理基板上に落下してパーティクルを生じるのを防止
できる。

【００５６】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された開口部を開口列の一方の端と他方の端との間で切
り換えることにより、気流の異なる傾斜流を次々に形成
して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気が
滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防止
される。

【００５７】更に、被処理基板上では一つの開口列から
これに対向するもう一つの開口列の端に位置する開口部
に向かって、板面の垂直方向に関して被処理基板面に平
行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向に大きい空間
を確保する必要がないので、熱処理装置の上下方向の寸
法を小さく抑えることができる。

【００５８】加えて、前記第１開口列から前記第２開口
列側に流れる気流と、前記第２開口列から前記第１開口
列側に流れる気流と、を切り換えて被処理基板上の気流
の方向を反転するようになっているので、気流の上流側
と下流側との間で供給熱量が不均一になるのが防止さ
れ、より均一な熱処理が可能となる。更に、前記第１開
口列及び前記第２開口列をバルブの切換えにより気体を
供給するための配管としてり機能と排気口としての機能
を併用させたので、気体を供給するための配管と排気口
とを別個に設ける必要が無くなり、装置を小形化でき
る。

【００５９】また、開口部が並んだ開口列のうち、端の
開口部から連続する所定の開口部までを排気系と部分的
に接続させることにより排気口として機能する開口部全
体の幅を比較的広くとっているので、より平行流に近い
気流が得られる。

【００６０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の詳細を
図面に基づいて説明する。

【００６１】図１は本発明の一実施形態に係るレジスト
塗布ユニット（ＣＯＴ）を備えた半導体ウエハ（以下、
「ウエハ」という）の塗布現像処理システム１全体を示
した平面図である。

【００６２】この塗布現像処理システム１では、被処理
体としてのウエハＷをウエハカセットＣＲで複数枚、例
えば２５枚単位で外部からシステムに搬入・搬出した
り、ウエハカセットＣＲに対してウエハＷを搬入・搬出
したりするためのカセットステーション１０と、塗布現
像工程の中で１枚ずつウエハＷに所定の処理を施す枚葉
式の各種処理ユニットを所定位置に多段配置した処理ス
テーション１１と、この処理ステーション１１に隣接し
て設けられる露光装置（図示せず）との間でウエハＷを
受け渡しするためのインタフェース部１２とが一体的に
接続されている。このカセットステーション１０では、
カセット載置台２０上の位置決め突起２０ａの位置に、
複数個例えば４個までのウエハカセットＣＲが、夫々の
ウエハ出入口を処理ステーション１１側に向けてＸ方向
（図１中の上下方向）一列に載置され、このカセット配
列方向（Ｘ方向）およびウエハカセッ卜ＣＲ内に収納さ
れたウエハＷのウエハ配列方向（Ｚ方向；垂直方向）に
移動可能なウエハ搬送体２１が各ウエハカセットＣＲに
選択的にアクセスする。

【００６３】このウエハ搬送体２１はθ方向に回転自在
であり、後述するように処理ステーション１１側の第３
の処理ユニット群Ｇ₃ の多段ユニット部に配設されたア
ライメントユニット（ＡＬＩＭ）やイクステンションユ
ニット（ＥＸＴ）にもアクセスできる。

【００６４】処理ステーション１１には、ウエハ搬送装
置を備えた垂直搬送型の主ウエハ搬送機構２２が設けら
れ、その周りに全ての処理ユニットが１組または複数の
組に亙って多段に配置されている。

【００６５】図２は上記塗布現像処理システム１の正面
図である。

【００６６】第１の処理ユニット群Ｇ₁ では、カップＣ
Ｐ内でウエハＷをスピンチャックに載せて所定の処理を
行う２台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗
布ユニット（ＣＯＴ）および現像ユニット（ＤＥＶ）が
下から順に２段に重ねられている。第２の処理ユニット
群Ｇ₂ では、２台のスピンナ型処理ユニット、例えばレ
ジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）および現像ユニット（Ｄ
ＥＶ）が下から順に２段に重ねられている。これらレジ
スト塗布ユニット（ＣＯＴ）は、レジスト液の排液が機
構的にもメンテナンスの上でも面倒であることから、こ
のように下段に配置するのが好ましい。しかし、必要に
応じて適宜上段に配置することももちろん可能である。

【００６７】図３は上記塗布現像処理システム１の背面
図である。

【００６８】主ウエハ搬送機構２２では、筒状支持体４
９の内側に、ウエハ搬送装置４６が上下方向（Ｚ方向）
に昇降自在に装備されている。筒状支持体４９はモータ
（図示せず）の回転軸に接続されており、このモータの
回転駆動力によって、前記回転軸を中心としてウエハ搬
送装置４６と一体に回転し、それによりこのウエハ搬送
装置４６はθ方向に回転自在となっている。なお筒状支
持体４９は前記モータによって回転される別の回転軸
（図示せず）に接続するように構成してもよい。ウエハ
搬送装置４６には、搬送基台４７の前後方向に移動自在
な複数本の保持部材４８が配設されており、これらの保
持部材４８は各処理ユニット間でのウエハＷの受け渡し
を可能にしている。

【００６９】また、図１に示すようにこの塗布現像処理
システム１では、５つの処理ユニット群Ｇ₁ 、Ｇ₂ 、Ｇ
₃ 、Ｇ₄ 、Ｇ₅ が配置可能であり、第１および第２の処
理ユニット群Ｇ₁ 、Ｇ₂ の多段ユニットは、システム正
面（図１において手前）側に配置され、第３の処理ユニ
ット群Ｇ₃ の多段ユニットはカセットステーション１０
に隣接して配置され、第４の処理ユニット群Ｇ₄ の多段
ユニットはインタフェース部１２に隣接して配置され、
第５の処理ユニット群Ｇ₅ の多段ユニットは背面側に配
置されることが可能である。

【００７０】図３に示すように、第３の処理ユニット群
Ｇ₃ では、ウエハＷを保持台（図示せず）に載せて所定
の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処
理を行うクーリングユニット（ＣＯＬ）、レジストの定
着性を高めるためのいわゆる疏水化処理を行うアドヒー
ジョンユニット（ＡＤ）、位置合わせを行うアライメン
トユニット（ＡＬＩＭ）、イクステンションユニット
（ＥＸＴ）、露光処理前の加熱処理を行うプリベーキン
グユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）および露光処理後の加熱
処理を行うポストベーキングユニット（Post Exposure
Bake 以下、「ＰＥＢ」と記す。）が、下から順に例え
ば８段に重ねられている。第４の処理ユニット群Ｇ₄ で
も、オーブン型の処理ユニット、例えばクーリングユニ
ット（ＣＯＬ）、イクステンション・クーリングユニッ
ト（ＥＸＴＣＯＬ）、イクステンションユニット（ＥＸ
Ｔ）、クーリングユニッ卜（ＣＯＬ）、プリベーキング
ユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）およびポストベーキングユ
ニット（ＰＥＢ）が下から順に、例えば８段に重ねられ
ている。

【００７１】このように処理温度の低いクーリングユニ
ット（ＣＯＬ）、イクステンション・クーリングユニッ
ト（ＥＸＴＣＯＬ）を下段に配置し、処理温度の高いプ
リベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベー
キングユニット（ＰＥＢ）およびアドヒージョンユニッ
ト（ＡＤ）を上段に配置することで、ユニット間の熱的
な相互干渉を少なくすることができる。もちろん、ラン
ダムな多段配置としてもよい。

【００７２】図１に示すように、インタフェース部１２
では、奥行方向（Ｘ方向）は前記処理ステーション１１
と同じ寸法を有するが、幅方向（Ｙ方向）はより小さな
サイズである。このインタフェース部１２の正面部に
は、可搬性のピックアップカセットＣＲと、定置型のバ
ッファカセットＢＲとが２段に配置され、他方背面部に
は周辺露光装置２３が配設され、さらに中央部にはウエ
ハ搬送体２４が設けられている。このウエハ搬送体２４
は、Ｘ方向、Ｚ方向に移動して両カセットＣＲ、ＢＲお
よび周辺露光装置２３にアクセスする。

【００７３】ウエハ搬送体２４は、θ方向にも回転自在
であり、処理ステーション１１側の第４の処理ユニット
群Ｇ₄ の多段ユニットに配設されたイクステンションユ
ニット（ＥＸＴ）や、隣接する露光装置側のウエハ受渡
し台（図示せず）にもアクセスできる。

【００７４】また塗布現像処理システム１では、既述の
如く主ウエハ搬送機構２２の背面側にも図１中破線で示
した第５の処理ユニット群Ｇ₅ の多段ユニットを配置で
きるが、この第５の処理ユニット群Ｇ₅ の多段ユニット
は、案内レール２５に沿ってＹ方向へ移動可能である。
従って、この第５の処理ユニット群Ｇ₅ の多段ユニット
を図示の如く設けた場合でも、前記案内レール２５に沿
って移動することにより、空間部が確保されるので、主
ウエハ搬送機構２２に対して背後からメンテナンス作業
が容易に行える。

【００７５】次に、図４及び図５につき処理ステーショ
ン１１において第３および第４の組Ｇ₃ ，Ｇ₄ の多段ユ
ニットに含まれているベーキングユニット（ＰＲＥＢＡ
ＫＥ）、（ＰＥＢ）、クーリングユニット（ＣＯＬ）、
（ＥＸＴＣＯＬ）のような熱処理ユニットの構成および
作用を説明する。

【００７６】図４および図５は、本実施形態に係る熱処
理ユニットの構成を示す平面図および断面図である。な
お、図５では、図解のために水平遮蔽板５５を省略して
ある。

【００７７】この熱処理ユニットの処理室５０は両側壁
５３と水平遮蔽板５５とで形成され、処理室５０の正面
側（主ウエハ搬送機構２２側）および背面側はそれぞれ
開口部５０Ａ，５０Ｂとなっている。遮蔽板５５の中心
部には円形の開口５６が形成され、この開口５６内には
内部にヒータとセンサとを備え、後述する制御装置で制
御された円盤状の熱処理盤５８が被処理基板の載置台と
して設けられている。

【００７８】この熱処理盤５８には例えば３つの孔６０
が設けられ、各孔６０内には支持ピン６２が遊嵌状態で
挿通されており、半導体ウエハＷのローディング・アン
ローディング時には各指示ピン６２が熱処理盤５８の表
面より上に突出または上昇して主ウエハ搬送機構（メイ
ンアーム）２２の保持部材４８との間でウエハＷの受け
渡しを行うようになっている。

【００７９】熱処理盤５８の上部空間５９には、熱処理
盤５８の盤面即ち熱処理盤５８上に載置したウエハＷの
板面に平行に空気や窒素ガスのような不活性ガスなどの
気体を流すための機構が配設されている。

【００８０】図６は本実施形態に係る熱処理ユニットの
遮蔽板５５より上に形成される上部空間５９を示した平
面図である。

【００８１】図６に示したように、この上部空間５９の
ほぼ中央には熱処理盤５８の上面が露出しており、ハウ
ジングの開口部５０Ａ，５０Ｂを介してＹ方向から主ウ
エハ搬送機構２２が出入りしてこの熱処理盤５８上にウ
エハＷを搬入したり搬出するようになっている。

【００８２】図４中熱処理盤５８の左側には気体流出口
としてのエアノズル６３，６３…を側面に多数備えたエ
アパイプ６４が図中Ｙ方向に配設されている。一方、上
部空間５９の図４中右側の角には排気口６５ａ，６５ｂ
が設けられ、この排気口６５ａ，６５ｂにはその先に排
気系（図示省略）が接続された排気管６６ａ，６６ｂが
取り付けれている。

【００８３】エアパイプ６４には図示しない気体供給系
から空気や不活性ガスなどの気体を供給するようになっ
ており、供給された気体はエアパイプ６４の側面に一列
に穿孔して配設されたエアノズル６３，６３…から図４
中Ｘ方向に、排気口６５ａ又は６５ｂに向けて流出する
ようになっている。

【００８４】ここで、エアノズル６３，６３…の口径や
形は全て等しいものであっても良いが、熱処理盤５８の
上部空間５９に三角形の気体流動領域が形成されるよう
に口径や形を適宜変化させることによりより円滑に上記
略三角形の気体流動領域を形成することができる。

【００８５】例えば、エアパイプ６４の中央付近で口径
を小さくし左右両端に近付くほど口径を大きくしたり、
反対に、エアパイプ６４の中央付近で口径を大きくし左
右両端に近付くほど口径を小さくする方法などが考えら
れる。

【００８６】また、エアパイプ６４のエアノズル６３，
６３…のそれぞれの口径や気体流出角度を自在に変化さ
せられる構造とすることも可能である。

【００８７】更に、このように口径や気体流出角度を変
化可能な構造にする場合、後述するように、センサで検
出した熱処理盤５８の温度と口径や気体流出角度とをリ
ンクさせることは上記略三角形の気体流動領域を形成し
たり、熱処理盤５８の温度分布を均一にするための有効
な方法である。

【００８８】例えば、熱処理盤５８のうち、エアパイプ
６４に近い部分（図４中の左側部分）の温度低下が著し
い場合にはエアノズル６３，６３…のうちの中心付近の
エアノズル６３の口径を小さくする一方、エアパイプ６
４の両端付近のエアノズル６３，６３…の口径を大にす
る方法などが挙げられる。

【００８９】また、エアノズル６３，６３…の気体流出
角度を変化させる方法としては、例えば、熱処理盤５８
のエアパイプ６４に近い部分（図４中の左側部分）の温
度低下が著しい場合に、エアノズル６３，６３…のうち
の中心付近のエアノズル６３の角度を直角から排気口６
５ａ又は６５ｂの方向に傾けて気体が直接熱処理盤５８
のエアパイプ６４に近い部分に当接するのを抑制する方
法が挙げられる。

【００９０】また同様の観点から気体供給系や排気系
と、上記検出した熱処理盤５８の温度とをリンクさせて
制御することも有効な方法である。例えば、上記検出し
た熱処理盤５８の温度が低すぎる場合には気体供給系や
排気系の能力を加減して熱処理盤５８の温度低下を防止
する方法が考えられる。

【００９１】更に、上記検出した熱処理盤５８の温度か
ら熱処理盤５８上に温度の不均衡が認められる場合に気
体供給系や排気系の能力を加減して熱処理盤５８の温度
の不均衡を防止する方法も有効な方法として挙げられ
る。

【００９２】遮蔽板５５の下には、遮蔽板５５、両側壁
５３および底板７２によって機械室７４が形成されてお
り、室内には熱処理盤支持板７６、シャッタアーム７
８、支持ピンアーム８０、シャッタアーム昇降駆動用シ
リンダ８２、支持ピンアーム昇降駆動用シリンダ８４が
設けられている。

【００９３】図４に示すように、ウエハＷの外周縁部が
載るべき熱処理盤５８の表面位置に複数個たとえば４個
のウエハＷ案内支持突起部８６が設けられている。

【００９４】また、熱処理盤５８上面のウエハＷ載置部
分には図示しない小突起が複数設けられており、ウエハ
Ｗの下面がこれら小突起の頂部に載置される。そのため
ウエハＷ下面と熱処理盤５８上面との間に微小な隙間が
形成され、ウエハＷ下面が熱処理盤５８上面と直接接触
するのが避けられ、この間に塵などがある場合でもウエ
ハＷ下面が汚れたり、傷ついたりすることがないように
なっている。

【００９５】また上述したように、熱処理盤５８内部に
は熱媒が封入された空洞が設けられており、この空洞内
に配設されたヒータで上記熱媒を加熱することにより発
生する熱媒蒸気をこの空洞内で循環させて熱処理盤５８
を所定温度に維持するようになっている。

【００９６】図７は本実施形態に係る熱処理ユニットの
制御系を示したブロック図である。図７に示したよう
に、熱処理盤５８内に配設したヒータＨ、熱処理盤５８
の温度を検出するセンサＳ、エアパイプ６４へ気体を供
給する気体供給系９１、排気口６５ａ，６５ｂから流入
した気体をユニット外へ排出する排気系９２、排気口６
５ａ及び排気口６５ｂのうちの一方と排気系９２とを選
択的に接続する切換え装置９３が制御装置９４と接続さ
れており、この制御装置９４で統括的に制御されてい
る。

【００９７】なお、図７では省略したが、熱処理盤５８
の上面から出入りするピン６２やハウジング開口部５０
Ａ，５０Ｂを開閉する扉を駆動する駆動系もこの制御装
置９４に接続されており、主ウエハＷ搬送機構も同様に
この制御装置９４に接続されている。

【００９８】次に、この熱処理ユニットをベーキングユ
ニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）及びクーリングユニット（Ｃ
ＯＬ）として用いる場合の操作について以下に説明す
る。

【００９９】まず、載置台２０上にセットされたウエハ
カセットＣＲ内からウエハ搬送体２１によりウエハＷが
取り出され、次いでウエハ搬送体２１から主ウエハ搬送
機構２２にウエハＷが引き渡される。主ウエハ搬送機構
２２は受け取ったウエハＷをレジスト塗布ユニット（Ｃ
ＯＴ）内に搬送、セットし、ここでウエハＷにレジスト
塗布を行なう。次いで、このウエハＷをレジスト塗布ユ
ニット（ＣＯＴ）内から主ウエハ搬送機構２２がウエハ
Ｗを取り出し、上記熱処理ユニット内まで搬送し、熱処
理盤５８の上にウエハＷをセットする。

【０１００】一方、電源投入と同時に熱処理盤５８内の
ヒータＨに電源が投入され加熱が開始され、センサＳで
熱処理盤５８の温度を検出しながら所定の温度で安定す
るように制御される。

【０１０１】熱処理盤５８の温度が所定の温度で安定す
ると、主ウエハ搬送機構２２がウエハＷを搬送して加熱
された熱処理盤５８の上に載置する。

【０１０２】次いで、気体供給系９１と排気系９２とが
作動を開始して熱処理盤５８の上部空間５９に気流が形
成される。

【０１０３】図８及び図９はこの上部空間５９を流れる
気体の流動状態を示した図である。このうち図８はエア
パイプ６４から排気口６５ａに向けて気体が流れる状態
を示した図であり、一方、図９はエアパイプ６４から排
気口６５ｂに向けて気体が流れる状態を示した図であ
る。

【０１０４】図８に示すように、図示しない気体供給系
からエアパイプ６４に供給された気体はエアパイプ６４
内を通ってエアノズル６３，６３…まで到達し、このエ
アノズル６３，６３…から排気口６５ａに向けて流出す
る。

【０１０５】エアノズル６３，６３…のそれぞれから流
出した気体は隣接するエアノズル６３から流出した気体
との間に一定の間隔を保ちながら排気口６５ａや排気口
６５ｂの配設されているＸ方向右向きに移動する。

【０１０６】このとき、切換装置９３は排気管６６ａと
排気系９２とを接続する状態となっているので、排気系
９２から与えられた負圧が排気口６５ａに作用する。そ
のためエアノズル６３，６３…のそれぞれから流出した
気体は図８の長い矢印で示したように排気口６５ａの方
を向いて流れる。

【０１０７】このとき熱処理盤５８に載置されたウエハ
Ｗの上面では気体が右斜め上方向に流れるが、それぞれ
の気流は直線的に流れており、隣接する気流とは互いに
ほぼ平行な状態を保ちながら流れる。即ち、ウエハＷの
上面には傾斜流が形成され、熱処理盤５８から与えられ
た熱量はウエハＷにほぼ均一に供給される。

【０１０８】次に、所定時間図８に示した状態で熱処理
行った後、切換装置９３を作動させて排気管６６ｂと排
気系９２とを接続させる。

【０１０９】図９はこの切換装置９３を切り換えた後の
状態を示した図である。

【０１１０】切換装置９３を切り換えると排気系９２か
らの負圧は排気管６６ｂに作用するため、上部空間で
は、エアノズル６３，６３…のそれぞれから流出した気
体が排気口６５ｂの方に吸引される。そのため図９に示
したように気体が右斜め下方向に流れ、図示したような
傾斜流が形成される。

【０１１１】このように切換装置９３を切り換えること
により気流の方向を変化させながら熱処理を行うと、図
８に示したような右上がりの傾斜流と図９に示したよう
な右下がりの傾斜流とが交互に形成される。これらの傾
斜流はそれぞれ単独で観察すると図中Ｘ方向に対してそ
れぞれ異なる角度で傾斜しているが、これらを交互に切
り換えることにより両者を組み合わせると傾斜角度は互
いに相殺して図中Ｘ方向に気流を流したのと近い状態が
得られる。

【０１１２】以下、このように二つの傾斜流を合成して
得られる流れを「疑似平行流」と呼ぶとすると、この疑
似平行流が上部空間５９に形成される結果、ウエハＷに
はＸ方向に流れる平行流をもって熱処理が行われたと同
じ効果が得られる。即ち、熱処理盤５８からの熱量が均
一にウエハＷに作用する結果、ウエハＷ上面全体にわた
って均一な熱処理が施される。

【０１１３】このように本実施形態に係る熱処理ユニッ
トでは、熱処理盤５８の上部空間５９に、熱処理盤５８
を挟むように排気口６５ａ，６５ｂとエアパイプ６４と
を配設し、熱処理盤５８の真上の位置には排気口６５
ａ，６５ｂがない構造としたので、エアパイプ６４から
排気口６５に向けて移動する気体に塵や埃などが混入し
た場合でも、その塵や埃などが混入した気体が排気口６
５ａ，６５ｂの手前で失速したり滞留してその気体から
塵や埃が脱落してウエハＷ上に落下、付着してパーティ
クルを生じることがない。

【０１１４】また、この熱処理ユニットでは、エアパイ
プ６４の長手方向両端にそれぞれ対向する位置に排気口
６５ａ及び６５ｂを配設し、排気系９２とこれら排気口
６５ａ及び６５ｂを選択的に接続して互いに流動方向の
異なる二種類の傾斜流を形成する。そして、これらを合
成することで傾斜流が平行流に劣る点を相殺せしめ、平
行流と同等の均一な熱量分散能を備えた疑似平行流が得
られるようにした。

【０１１５】そのため、平行流を用いた場合とおなじよ
うに、被処理基板上で空気が滞留することがなく、ウエ
ハＷの不均一な加熱が防止される。

【０１１６】更に、この熱処理ユニットでは、エアパイ
プ６４から排気口６５ａ，６５ｂに向けて気体を熱処理
盤５８（ウエハＷ）の上面に平行に気体を移動させるの
で、熱処理盤５８の上部空間５９の上下方向の寸法は小
さくて済む。そのため、熱処理ユニット全体の上下方向
の寸法を小さくすることができるため、熱処理ユニット
全体を小形化することができる。

【０１１７】次に、本発明に係る実施形態として上記第
１の実施形態とは異なる第２の実施形態について説明す
る。なお、上記第１の実施形態と共通する部分について
は説明を省略する。

【０１１８】図１０は本発明の第２の実施形態に係る熱
処理ユニットの概略構成を示した平面図である。

【０１１９】図１０に示すようにこの熱処理ユニットで
は、上部空間５９の図中右端にエアパイプ６４の長手方
向にわたって多数の排気口、例えば７つの排気口６７ａ
〜６７ｇが設けられている。これらの排気口６７ａ〜６
７ｇの先には排気系（図示省略）が接続されており、こ
の排気系と排気口６７ａ〜６７ｇとの間には開閉装置９
５が取り付けられている。この開閉装置９５は排気口６
７ａ〜６７ｇのそれぞれと排気系との間の連通を開閉さ
せるものであり、制御装置からの信号に基づいて６７ａ
〜６７ｇの各排気口と排気系との間を別個独立して開閉
する。

【０１２０】この熱処理ユニットによれば、排気口６７
ａ〜６７ｇの任意の排気口を用いて排気することができ
る。例えば、図１０に示したように６７ａ〜６７ｄまで
の４つ排気口を作動させることにより、気流が流れる領
域を台形にすることができる。

【０１２１】このような台形の形で気流を流すことは、
排気口６７ａだけを用いる場合と比較して、エアパイプ
６４の長手方向に対して排気側の幅を広くでき、その
分、渦などが発生しにくくなるので好ましい。

【０１２２】また、６７ａから６７ｂ、６７ｂから６７
ｃ、同様に６８ｄ、６８ｅ、…６７ｇというように端か
ら順番に作動させる排気口をずらしていくことにより気
流の方向をすこしずつ変えてゆくことも可能である。こ
のように気流の方向を連続的に変えるのは気流が安定す
るので、均一に熱処理をする上で好ましい。

【０１２３】次に、本発明に係る実施形態として上記第
１及び第２の実施形態とは異なる第３の実施形態につい
て説明する。なお、上記第１及び第２の実施形態と共通
する部分については説明を省略する。

【０１２４】図１１は本発明の第３の実施形態に係る熱
処理ユニットの概略構成を示した平面図である。

【０１２５】図１１に示すようにこの熱処理ユニットで
は、排気管６６ＡがＹ方向に沿って移動できるようにな
っており、制御装置からの信号に基づいて駆動する駆動
機構（図示省略）により駆動される。また排気管６６Ａ
と排気系（図示省略）とは可撓性のパイプ９６により接
続されており、排気管６６Ａがどの位置にあっても排気
管６６Ａに負圧を作用させられるようになっている。

【０１２６】従って、排気管６６Ａを上部空間５９の図
中右上の位置にセットして熱処理を行った後、排気管６
６Ａを上部空間５９の図中右下の位置に移動し、セット
して熱処理を行ってもよく、また、熱処理を行いながら
排気管６６Ａを上部空間５９の図中右上の位置から図中
右下の位置まで移動させることも可能である。

【０１２７】このように連続的に排気管６６Ａの位置を
移動させることにより、気流の方向がゆっくり変わるの
で、渦などができにくくなり、均一な熱処理を行う上で
好ましい。

【０１２８】次に、本発明に係る実施形態として上記第
１〜第３の実施形態とは異なる第４の実施形態について
説明する。なお、上記第１〜第３の実施形態と共通する
部分については説明を省略する。

【０１２９】図１２は本発明の第４の実施形態に係る熱
処理ユニットの概略構成を示した平面図である。

【０１３０】図１２に示すようにこの熱処理ユニットで
は、上部空間５９の左右両端にエアパイプ６４ａ，６４
ｂをそれぞれ一本ずつ備えており、これらのエアパイプ
６４ａの長手方向の両端に隣接して排気管６８ａ及び６
８ｂがそれぞれ配設されており、同様にエアパイプ６４
ｂの両端には排気管６８ｃ及び６８ｄがそれぞれ配設さ
れている。

【０１３１】そしてエアパイプ６４ａと排気管６８ａ及
び６８ｂが連動するようになっており、エアパイプ６４
ｂと排気管６８ｃ及び６８ｄが連動するようになってい
る。即ち、エアパイプ６４ａから気体を流す場合には排
気管６８ａ及び６８ｂを交互に作動させて図中右向きの
疑似平行流を形成する。反対にエアパイプ６４ｂから気
体を流す場合には排気管６８ｃ及び６８ｄを交互に作動
させて図中左向きの疑似平行流を形成する。これらの切
換え動作はエアパイプ６４ａ及び６４ｂと気体供給系、
排気管６８ａ〜６８ｄと排気系との間に配設された切換
装置（図示省略）を作動させることにより行われ、制御
装置（図示省略）からの信号に基づいて行われる。

【０１３２】本実施形態に係る熱処理ユニットによれ
ば、疑似平行流の方向についても正逆反転することがで
きるので、気流の上流側と下流側との間で熱的な不均衡
が起こるのが防止され、より均一な熱処理を行うことが
できる。

【０１３３】次に、本発明に係る実施形態として上記第
１〜第４の実施形態とは異なる第５の実施形態について
説明する。なお、上記第１〜第４の実施形態と共通する
部分については説明を省略する。

【０１３４】図１３は本発明の第５の実施形態に係る熱
処理ユニットの概略構成を示した平面図である。

【０１３５】図１３に示すようにこの熱処理ユニットで
は、上部空間５９の図中右端にＹ方向に一列に複数のノ
ズル６９ａ，６９ｂ，６９ｃ…６９ｏが配設されてお
り、一方、左端には同じくＹ方向に一列に複数のノズル
７０ａ，７０ｂ，７０ｃ…７０ｏが配設されている。

【０１３６】これらのノズル６９ａ，６９ｂ，６９ｃ…
６９ｏ、７０ａ，７０ｂ，７０ｃ…７０ｏにはそれぞれ
気体供給系（図示省略）と排気系（図示省略）とが接続
されており、これらのノズルと気体供給系や排気系との
間には図示しない切換え装置が接続され、制御装置から
の信号に基づいてそれぞれ独立別個に開閉したり切り換
えたりできるようになっている。

【０１３７】本実施形態に係る熱処理ユニットによれ
ば、疑似平行流の方向についても正逆反転することがで
きるので、気流の上流側と下流側との間で熱的な不均衡
が起こるのが防止され、より均一な熱処理を行うことが
できる。

【０１３８】また、この熱処理ユニットでは、エアパイ
プの機能と排気管の機能とをノズルと気体供給系と排気
系との切換えにより兼用できるようにしているのでエア
ノズルと排気管とを別々に設ける必要がなく、装置の構
造を簡略化でき、装置を小型化することができる。

【０１３９】なお、本発明は上記の実施形態の内容に限
定されるものではない。

【０１４０】例えば、上記実施形態では内部に熱媒蒸気
を循環させることにより均一に加熱される熱処理盤を用
いてウエハＷを加熱する装置について説明したが、内部
にニクロム線ヒータを内蔵し、温度センサなどにより温
度制御する熱盤を用いるものでもよい。

【０１４１】また、上記実施の形態ではウエハＷを加熱
する加熱型の熱処理ユニットを例にして説明したが、冷
却型の熱処理ユニットにも適用できる。

【０１４２】更に、上記実施の形態ではウエハＷについ
ての塗布現像処理システム１を例にして説明したが、本
発明はこれ以外の処理装置、例えば、ＬＣＤ基板用処理
装置などにも適用できることは言うまでもない。

【０１４３】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１記載の本
発明によれば、前記熱処理盤を挟んで気体流出手段と排
気手段とを配設しており、被処理基板が載置される熱処
理盤上には排気口が設けられていないので、塵や埃を含
む空気流が排気口の手前で減速しても、その塵や埃が被
処理基板上に落下してパーティクルを生じるのを防止で
きる。

【０１４４】また、被処理基板上では前記排気手段を前
記熱処理盤の全幅方向に移動させることにより、気流の
方向が異なる二種類の傾斜流を交互に形成して疑似平行
流を形成するので、被処理基板上で空気が滞留すること
がなく、被処理基板の不均一な加熱が防止される。

【０１４５】更に、被処理基板上では板面の垂直方向に
関して平行に気体が流れ、熱処理盤上部に上下方向に大
きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の上下
方向の寸法を小さく抑えることができる。

【０１４６】請求項２の本発明によれば、前記排気口と
前記エアパイプとは前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板が載置される熱処理盤
上には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排
気口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に
落下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【０１４７】また、被処理基板上では前記排気系と前記
２つの排気口のいずれかとの接続関係を切り換えること
により、気流の方向が異なる二種類の傾斜流を交互に形
成して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気
が滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防
止される。

【０１４８】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【０１４９】請求項３の本発明によれば、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板が載置される熱処理盤
上には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排
気口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に
落下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【０１５０】また、被処理基板上では前記排気系と前記
３つ以上の排気口との接続を切り換えることにより、気
流の異なる傾斜流を次々に形成して疑似平行流を形成す
るので、被処理基板上で空気が滞留することがなく、被
処理基板の不均一な加熱が防止される。

【０１５１】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【０１５２】請求項４の本発明によれば、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【０１５３】また、被処理基板上では前記排気系と前記
３つ以上の排気口との接続を切り換えることにより、気
流の異なる傾斜流を次々に形成して疑似平行流を形成す
るので、被処理基板上で空気が滞留することがなく、被
処理基板の不均一な加熱が防止される。

【０１５４】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【０１５５】特に、前記３つ以上の排気口のうち一方の
端の排気口から連続する所定の排気口までの排気口と排
気系とを部分的に接続させるので、より平行流に近い気
流が得られる。

【０１５６】請求項５の本発明によれば、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【０１５７】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された排気口を前記エアパイプの長手方向にわたって移
動させることにより、気流の異なる傾斜流を次々に形成
して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気が
滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防止
される。

【０１５８】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【０１５９】請求項６の本発明によれば、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【０１６０】また、被処理基板上では前記排気系と前記
３つ以上の排気口の一つとの接続を切り換えることによ
り、気流の異なる傾斜流を次々に形成して疑似平行流を
形成するので、被処理基板上で空気が滞留することがな
く、被処理基板の不均一な加熱が防止される。

【０１６１】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【０１６２】加えて、熱処理操作時に前記切換手段を作
動させて前記気体の流動方向が連続的に変化するように
制御しているので、気流が安定して被処理基板の不均一
加熱がより確実に防止される。

【０１６３】請求項７の本発明によれば、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【０１６４】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された排気口を前記エアパイプの長手方向にわたって移
動させることにより、気流の異なる傾斜流を次々に形成
して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気が
滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防止
される。

【０１６５】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【０１６６】加えて、熱処理操作時に前記切換手段を作
動させて前記気体の流動方向が連続的に変化するように
制御しているので、気流が安定して被処理基板の不均一
加熱がより確実に防止される。

【０１６７】請求項８の本発明によれば、前記排気口と
前記エアパイプとが前記熱処理盤を挟むように配設され
ており、この排気口が被処理基板を載置する熱処理盤上
には設けられていないので、塵や埃を含む空気流が排気
口の手前で減速しても、その塵や埃が被処理基板上に落
下してパーティクルを生じるのを防止できる。

【０１６８】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された排気口を前記第１排気口と前記第２排気口との
間、或いは前記第３排気口と前記第４排気口との間で切
り換えることにより、気流の方向が異なる二種類の傾斜
流を交互に形成して疑似平行流を形成するので、被処理
基板上で空気が滞留することがなく、被処理基板の不均
一な加熱が防止される。

【０１６９】更に、被処理基板上では前記エアパイプか
ら前記排気口に向かって、板面の垂直方向に関して被処
理基板面に平行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向
に大きい空間を確保する必要がないので、熱処理装置の
上下方向の寸法を小さく抑えることができる。

【０１７０】加えて、前記第１エアパイプから前記第１
排気口や前記第２排気口に流れる気流と、前記第２エア
パイプから前記第３排気口や前記第４排気口に流れる気
流と、を切り換えて被処理基板上の気流の方向を反転す
るようになっているので、気流の上流側と下流側との間
で供給熱量が不均一になるのが防止され、より均一な熱
処理が可能となる。

【０１７１】請求項９の本発明によれば、前記第１開口
列及び前記第２開口列が前記熱処理盤を挟むように配設
されており、排気口に当たる開口部が被処理基板を載置
する熱処理盤上には設けられていないので、塵や埃を含
む空気流が開口部の手前で減速しても、その塵や埃が被
処理基板上に落下してパーティクルを生じるのを防止で
きる。

【０１７２】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された開口部を開口列の一方の端と他方の端との間で切
り換えることにより、気流の異なる傾斜流を次々に形成
して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気が
滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防止
される。

【０１７３】更に、被処理基板上では一つの開口列から
これに対向するもう一つの開口列の端に位置する開口部
に向かって、板面の垂直方向に関して被処理基板面に平
行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向に大きい空間
を確保する必要がないので、熱処理装置の上下方向の寸
法を小さく抑えることができる。

【０１７４】加えて、前記第１開口列から前記第２開口
列側に流れる気流と、前記第２開口列から前記第１開口
列側に流れる気流と、を切り換えて被処理基板上の気流
の方向を反転するようになっているので、気流の上流側
と下流側との間で供給熱量が不均一になるのが防止さ
れ、より均一な熱処理が可能となる。

【０１７５】更に、前記第１開口列及び前記第２開口列
をバルブの切換えにより気体を供給するための配管とし
てり機能と排気口としての機能を併用させたので、気体
を供給するための配管と排気口とを別個に設ける必要が
無くなり、装置を小形化できる。

【０１７６】請求項１０の本発明によれば、前記第１開
口列及び前記第２開口列が前記熱処理盤を挟むように配
設されており、排気口に当たる開口部が被処理基板を載
置する熱処理盤上には設けられていないので、塵や埃を
含む空気流が開口部の手前で減速しても、その塵や埃が
被処理基板上に落下してパーティクルを生じるのを防止
できる。

【０１７７】また、被処理基板上では前記排気系に接続
された開口部を開口列の一方の端と他方の端との間で切
り換えることにより、気流の異なる傾斜流を次々に形成
して疑似平行流を形成するので、被処理基板上で空気が
滞留することがなく、被処理基板の不均一な加熱が防止
される。

【０１７８】更に、被処理基板上では一つの開口列から
これに対向するもう一つの開口列の端に位置する開口部
に向かって、板面の垂直方向に関して被処理基板面に平
行に空気が流れ、熱処理盤上部に上下方向に大きい空間
を確保する必要がないので、熱処理装置の上下方向の寸
法を小さく抑えることができる。

【０１７９】加えて、前記第１開口列から前記第２開口
列側に流れる気流と、前記第２開口列から前記第１開口
列側に流れる気流と、を切り換えて被処理基板上の気流
の方向を反転するようになっているので、気流の上流側
と下流側との間で供給熱量が不均一になるのが防止さ
れ、より均一な熱処理が可能となる。更に、前記第１開
口列及び前記第２開口列をバルブの切換えにより気体を
供給するための配管としてり機能と排気口としての機能
を併用させたので、気体を供給するための配管と排気口
とを別個に設ける必要が無くなり、装置を小形化でき
る。

【０１８０】また、開口部が並んだ開口列のうち、端の
開口部から連続する所定の開口部までを排気系と部分的
に接続させることにより排気口として機能する開口部全
体の幅を比較的広くとっているので、より平行流に近い
気流が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る塗布現像処理システム
の全体構成を示す平面図である。

【図２】本発明の実施形態に係る塗布現像処理システム
の正面図である。

【図３】本発明の実施形態に係る塗布現像処理システム
の背面図である。

【図４】本発明の実施形態に係る熱処理ユニットの構成
を示す平面図である。

【図５】本発明の実施形態に係る熱処理ユニットの垂直
断面図である。

【図６】本実施形態に係る熱処理ユニット内の上部空間
を示した水平断面図である。

【図７】本実施形態に係る熱処理ユニットの制御系を示
したブロック図である。

【図８】本実施形態に係る熱処理ユニット内の気流の状
態を示した平面図である。

【図９】本実施形態に係る熱処理ユニット内の気流の状
態を示した平面図である。

【図１０】本発明の第２の実施形態に係る熱処理ユニッ
トの概略を示した平面図である。

【図１１】本発明の第３の実施形態に係る熱処理ユニッ
トの概略を示した平面図である。

【図１２】本発明の第４の実施形態に係る熱処理ユニッ
トの概略を示した平面図である。

【図１３】本発明の第５の実施形態に係る熱処理ユニッ
トの概略を示した平面図である。

【図１４】従来の熱処理ユニットの垂直断面図である。

【符号の説明】

Ｗ ウエハ ５８ 熱処理盤 ６５ａ，６５ｂ 排気口 ６６ａ，６６ｂ 排気管 ６４ エアパイプ ６３ エアノズル ９３ 切換装置 ９１ 気体供給系 ９２ 排気系 Ｓ センサ Ｈ ヒータ ２２ 主ウエハ搬送機構（メインアーム） ９４ 制御装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−127516（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−71221（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−297179（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−229050（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−196837（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤の横方向から、この熱処理盤の全幅方向に
   わたって気体を流す気体流出手段と、 前記熱処理盤に関して前記気体流出手段と対向する位置
   に配設され、前記熱処理盤上を通過した気体を排気する
   排気手段と、 前記排気手段を前記熱処理盤の全幅方向に移動させる手
   段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
2. 【請求項２】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接配置され、前記熱処理盤の全幅方向
   にわたって気体を流すエアパイプと、 前記熱処理盤に関して前記エアパイプと対向する位置に
   配設され、前記エアパイプの長手方向両端にそれぞれ対
   応する位置に配設された２つの排気口と、 前記排気口と接続され、気体を装置外へ排出する排気系
   と、 前記排気系と前記２つの排気口のいずれかとの接続関係
   を切り換える切換手段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
3. 【請求項３】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接配置され、前記熱処理盤の全幅方向
   にわたって気体を流すエアパイプと、 前記熱処理盤に関して前記エアパイプと対向する位置に
   配設され、前記エアパイプの長手方向にわたって配設さ
   れた３つ以上の排気口と、 前記排気口と接続され、気体を装置外へ排出する排気系
   と、 前記排気系と前記排気口との接続を切り換える手段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
4. 【請求項４】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接配置され、前記熱処理盤の全幅方向
   にわたって気体を流すエアパイプと、 前記熱処理盤に関して前記エアパイプと対向する位置に
   配設され、前記エアパイプの長手方向にわたって配設さ
   れた３つ以上の排気口と、 前記排気口と接続され、気体を装置外へ排出する排気系
   と、 前記排気系と、前記３つ以上の排気口のうち一端の排気
   口から連続する所定の排気口までの排気口とを部分的に
   接続させる第１接続手段と、 前記排気系と、前記３つ以上の排気口のうち他端の排気
   口から連続する所定の排気口までの排気口とを部分的に
   断続させる第２接続手段と、 前記第１接続手段と前記第２接続手段とを切り換える手
   段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
5. 【請求項５】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接配置され、前記熱処理盤の全幅方向
   にわたって気体を流すエアパイプと、 前記熱処理盤に関して前記エアパイプと対向する位置に
   配設され、前記エアパイプの長手方向にわたって移動可
   能な排気口と、 前記排気口と接続され、気体を装置外へ排出する排気系
   と、 前記排気口を移動させる手段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
6. 【請求項６】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接配置され、前記熱処理盤の全幅方向
   にわたって気体を流すエアパイプと、 前記熱処理盤に関して前記エアパイプと対向する位置に
   配設され、前記エアパイプの長手方向にわたって配設さ
   れた３つ以上の排気口と、 前記排気口と接続され、気体を装置外へ排出する排気系
   と、 前記排気系と前記排気口との接続を切り換える切換手段
   と、 熱処理操作時に前記切換手段を作動させて前記気体の流
   動方向が連続的に変化するように制御する手段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
7. 【請求項７】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接配置され、前記熱処理盤の全幅方向
   にわたって気体を流すエアパイプと、 前記熱処理盤に関して前記エアパイプと対向する位置に
   配設され、前記エアパイプの長手方向にわたって移動可
   能な排気口と、 前記排気口と接続され、気体を装置外へ排出する排気系
   と、 前記排気口を移動させる移動手段と、 熱処理操作時に前記移動手段を作動させて前記気体の流
   動方向が連続的に変化するように制御する手段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
8. 【請求項８】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接配置され、この熱処理盤の全幅方向
   にわたって気体を流す第１エアパイプと、 前記熱処理盤に関して前記第１エアパイプと対向する位
   置に配設され、前記第１エアパイプの長手方向両端にそ
   れぞれ対応する位置に配設された第１排気口及び第２排
   気口と、 前記第１排気口及び第２排気口に対応する位置に配設さ
   れた第２エアパイプと、 前記熱処理盤に関して前記第２エアパイプと対向する位
   置に配設され、前記第２エアパイプの長手方向両端に対
   応する位置に配設された第３排気口及び第４排気口と、 前記第１エアパイプ及び第２エアパイプに接続され、こ
   れらに気体を供給する気体供給系と、 前記第１排気口〜第４排気口と接続され、これらから気
   体を装置外へ排出させる排気系と、 前記第１エアパイプ及び第２エアパイプと前記気体供給
   系との接続を切り換える第１切換装置と、 前記第１排気口〜第４排気口のそれぞれと前記排気系と
   を断続する第２切換装置と、 前記第１切換装置及び前記第２切換装置と接続され、 前記第１エアパイプから前記第１排気口へ気体を流す第
   １接続状態と前記第１エアパイプから前記第２排気口へ
   気体を流す第２接続状態とを交互に行う第１熱処理手段
   と、 前記第１切換装置及び前記第２切換装置と接続され、 前記第２エアパイプから前記第３排気口へ気体を流す第
   ３接続状態と前記第２エアパイプから前記第４排気口へ
   気体を流す第４接続状態とを交互に行う第２熱処理手段
   と、 前記第１熱処理手段と前記第２熱処理手段とを切り換え
   る手段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
9. 【請求項９】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接して一列に配設された複数の開口部
   からなる第１開口列と、 前記熱処理盤に関して前記第１開口群と対向して配設さ
   れた複数の開口部からなる第２開口列と、 前記第１開口列及び第２開口列の各開口部とそれぞれ接
   続された気体供給系と、 前記第１開口列及び第２開口列と各開口部とそれぞれ接
   続された排気系と、 前記各開口部と前記気体供給系、及び前記各開口部と排
   気系との間にそれぞれ配設されたバルブと、 前記各バルブと接続され、前記第１開口列の全開口部と
   前記気体供給系とを接続させるとともに前記第２開口列
   の一方の端の開口部とを接続させる第１接続手段と、 前記各バルブと接続され、前記第１開口列の全開口部と
   前記気体供給系とを接続させるとともに前記第２開口列
   の他方の端の開口部とを接続させる第２接続手段と、 前記各バルブと接続され、前記第２開口列の全開口部と
   前記気体供給系とを接続させるとともに前記第１開口列
   の一方の端の開口部とを接続させる第３接続手段と、 前記各バルブと接続され、前記第２開口列の全開口部と
   前記気体供給系とを接続させるとともに前記第１開口列
   の他方の端の開口部とを接続させる第４接続手段と、 前記第１〜第４接続手段を切り換える手段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。
10. 【請求項１０】 被処理基板が載置される熱処理盤と、 前記熱処理盤に隣接して一列に配設された複数の開口部
    からなる第１開口列と、 前記熱処理盤に関して前記第１開口群と対向して配設さ
    れた複数の開口部からなる第２開口列と、 前記第１開口列及び第２開口列の各開口部とそれぞれ接
    続された気体供給系と、 前記第１開口列及び第２開口列と各開口部とそれぞれ接
    続された排気系と、 前記各開口部と前記気体供給系、及び前記各開口部と排
    気系との間にそれぞれ配設されたバルブと、 前記各バルブと接続され、前記第１開口列の全開口部と
    前記気体供給系とを接続させるとともに前記第２開口列
    の全開口部のうち一方の端の開口部から連続する所定の
    開口部までを部分的に接続させる第１接続手段と、 前記各バルブと接続され、前記第１開口列の全開口部と
    前記気体供給系とを接続させるとともに前記第２開口列
    の全開口部のうち他方の端の開口部から連続する所定の
    開口部までを部分的に接続させる第２接続手段と、 前記各バルブと接続され、前記第２開口列の全開口部と
    前記気体供給系とを接続させるとともに前記第１開口列
    の全開口部のうち一方の端の開口部から連続する所定の
    開口部までを部分的に接続させる第３接続手段と、 前記各バルブと接続され、前記第２開口列の全開口部と
    前記気体供給系とを接続させるとともに前記第１開口列
    の全開口部のうち他方の端の開口部から連続する所定の
    開口部までを部分的に接続させる第４接続手段と、 前記第１〜第４接続手段を切り換える手段と、 を具備することを特徴とする熱処理装置。