JP3202015B2 - フレキシブルプリント基板 - Google Patents
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Description
を有するフレキシブルプリント基板に関する。
ング後、エッチング乾燥処理工程において寸法に変化を
生じるため、回路設計の際、以後の工程の寸法変化をあ
らかじめ考慮し設計する必要があった。この寸法の変化
量は、フレキシブルプリント基板のパターンの種類によ
って異なり、このためフレキシブルプリント基板の製造
工程は複雑化しており、更には製品の歩どまりを低下さ
せる大きな要因となっている。
る。例えば特開昭60−243120号公報に記載の方法では、
絶縁材の熱膨張係数を低下させることには成功している
ものの、同時に該絶縁材の可撓性が失われ、その結果、
該絶縁材は非常に脆弱となり、フレキシブルプリント基
板特有のフレキシビリティや耐折り曲げ強度が劣化する
ため、この種の改良は実用に供されるに至っていない。
報には、フレキシビリティを損なう。ことなく寸法安定
性を改良したフレキシブルプリント基板が示されてい
る。しかし、この場合、絶縁材はピロメリット系のポリ
イミドが用いられており、そのため、吸湿・吸水性の点
で問題があった。吸湿・吸水性が高いと、フレキシブル
プリント基板の製造工程において、吸湿・吸水による寸
法変化が大きい、吸水に伴いイオン性不純物をとりこむ
可能性がある、等の問題が生じる。
燥に至る工程での寸法変化が大きく、また吸水に伴い電
気的信頼性に問題のあった従来のフレキシブルプリント
基板の欠点を、フレキシビリティを大きく損なうことな
く改良するものである。
フレキシブルプリント基板において、絶縁材が下記一般
(I) で表わされる構造単位を有する寸法安定性が改良された
ポリイミドからなることを特徴とするフレキシブルプリ
ント基板を内容とする。
法安定性と、フレキシビリティ及び耐湿性を兼ね備えた
ものである。
の間に接着剤を介して貼り合わされたもの、あるいは、
絶縁層にスパッタや蒸着により導体層を形成させたも
の、及びこれらにパターニング、エッチング処理等を施
されたものをいい、該接着剤は通常のフレキシブルプリ
ント基板の製造に用いられる接着剤を用いることが可能
である。
等の金属、あるいは金属箔に代表されるものであるが、
導体性と加工性のバランスから、銅を用いるのが好まし
い。
その他の構造を有するポリイミドとの共重合物あるいは
ブレンド物も使用可能である。また、この絶縁材には、
各種の有機の添加剤、無機のフィラー類、あるいは各種
の強化材を複合することも可能である。
溶液より得られるが、ポリアミド酸の製造方法として公
知の方法を用いることが出来る。即ち、例えばパラフェ
ニレンジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、パラフェニ
レンジアミンと実質的に等モル量となる3,3′,4,4′−
ジフェニルスルフォンテトラカルボン酸二無水物を反応
させることによって得られる。
溶媒としては、例えばジメチルスルフォキシド、ジエチ
ルスルフォキシド等のスルフォキシド系溶媒、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド等の
ホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N
−ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒、N−
メチル−2−ピロリドン等のピロリドン系溶媒、フェノ
ール、o−、m−、又はp−クレゾール、キシレノー
ル、ハロゲン化フェノール、カテコール等のフェノール
系溶媒、あるいはヘキサメチレンフォスフォルアミド、
γ−ブチロラクトン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等を挙げることができ、これらを単独又は混合物
として用いるのが望ましいが、更にはキシレン、トルエ
ンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。
媒中に5〜40重量%、好ましくは10〜30重量%溶解され
ているのが、取扱いの面からも望ましい。
有機絶縁膜を製造する方法については、従来公知の方法
を用いることができる。即ち、i)熱的にポリイミドに
転化する、ii)脱水剤及び触媒を用いて化学的にポリイ
ミドに転化する方法等が採用される。ここでいう脱水剤
としては、例えば無水酢酸等の脂肪族酸無水物、フタル
酸無水物等の芳香族酸無水物等が挙げられる。また触媒
としては、例えばトリエチルアミン等の脂肪族三級アミ
ン類、N,N−ジメチルアニリン等の芳香族第三級アミン
類、ピリジン、ピコリン、イソキノリン、キノリン等の
複素環式第三級アミン類等が挙げられる。
導体を積層することによって得られる。代表例を以下に
説明するが、この方法に限定されるものではないことは
勿論である。
銅などの金属箔を加圧下で熱ラミネートし、所定のポス
トキュアを行ない、フレキシブル基板を得ることができ
る。更に金属箔に所望の回路をパターニングし、次にエ
ッチング、水洗乾燥工程を経た後、パターン化されたフ
レキシブル基板を得ることができる。接着剤としてはエ
ポキシ/ナイロン系接着剤など通常フレキシブル基板の
製造に用いられる接着剤を使用することができる。
化とは、上述のパターニング後からフレキシブルプリン
ト基板に至る過程での寸法変化を指すものである。
説明するが、本発明はこれらにより何ら制限を受けるも
のではない。
ェニルスルフォンテトラカルボン酸二無水物、を、p−
PDAはパラフェニレンジアミンを、PMDAはピロメリット
酸二無水物を、BTDAは3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物を、ODAは4,4′−ジアミノフェ
ニルエーテルを、DMAcはジメチルアセトアミドを表す。
量%のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液
をガラス板上に流延塗布し、約100℃にて約60分間乾燥
した後、生成したポリアミド酸塗膜をガラス板より剥
し、これを支持枠に固定した。その後、約100℃で約30
分間、続いて約200℃で約60分間、続いて約300℃で約60
分間加熱し、脱水閉環、乾燥した後、上記支持枠より取
り外し、約20μmの厚みを有するポリイミド絶縁材を得
た。この絶縁材の線膨張係数は1.5×10-5/℃であった。
また、この絶縁材の吸水率は約0.3%であった。
塗布乾燥した後、銅箔を加圧熱ラミネートし、これにポ
ストキュアを施した後、フレキシブル銅張板を得た。
の二点を刻印し、このAB間の長さを測定し、これをL0と
した。
ニングを行ない、続いてエッチング水洗乾燥処理を施
し、フレキシブルプリント基板を得た。
離を測定し、これをL1とした。
0.1%であった。また、得られたフレキシブルプリント
基板の耐折回数は2000回であった。
酸溶液を得た。以下実施例1と同様の操作により、約20
μmの厚みを有するポリイミド絶縁材を得た。この絶縁
材の線膨張係数は2.5×10-5/℃であった。またこの絶縁
材の吸水率は2.0%であった。
の寸法変化率を求めた結果、0.4%であった。また得ら
れたフレキシブルプリント基板の耐折強度は約2500回で
あった。
ミド酸溶液を得た。以下実施例1と同様の操作により、
約20μmの厚みを有するポリイミド絶縁材を得た。この
絶縁材の線膨張係数は2.1×10-5/℃であった。また、こ
の絶縁材の吸水率は1.8%であった。
の寸法変化率を求めた結果0.3%であった。また得られ
たフレキシブルプリント基板の耐折強度は約2000回であ
った。
よる寸法変化が小さく、しかも信頼性に優れ、従って、
より高密度な配線パターンを実現することが可能であ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】少なくとも導体と絶縁材とを包含するフレ
キシブルプリント基板において、絶縁材が下記一般式
(I) で表わされる構造単位を有する寸法安定性が改良された
ポリイミドからなることを特徴とするフレキシブルプリ
ント基板。 - 【請求項2】導体が銅箔である請求項1記載のフレキシ
ブルプリント基板。
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1990
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