JP3200320B2 - 受光回路 - Google Patents

受光回路

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波/ミリ波サ
ブキャリア多重光伝送システムやコヒーレントヘテロダ
イン光通信方式の光受信装置に係り、特に該装置に用い
られる受光回路に関する。
【0002】
【従来の技術】受光素子を増幅器等のトランジスタ回路
と同一半導体基板上にモノリシック集積化することは、
光受信装置の小型化、低コスト化、無調整化、高性能化
に有効である。しかしながら、受光素子とトランジスタ
を高性能化するためには、それぞれに異なる最適な素子
構造があり、高性能な特性を同一半導体基板上に集積化
した形態で両立させようとすると、非常に高度で複雑な
プロセス技術が要求されるうえに、それぞれの素子を別
のプロセスで製作したものと比較して必然的に性能およ
び歩留りの劣化を招き、その動作周波数も10GHz程
度に留まっており、結果として集積化のメリットを生じ
にくい問題点がある。一方、高性能なトランジスタ製作
プロセスを一切変更することなく、受光素子を同一半導
体基板上に集積化する手法として、トランジスタ自身を
受光素子として利用する方法もある。このトランジスタ
受光素子を利用すると、最高性能のトランジスタを同一
半導体基板上に何ら問題なく集積化できる利点がある。
一方、アイ・イー・イー・イー マイクロウェーブ アン
ド ガイデッド ウェーブ レターズ、第3巻、第7号、
217〜218頁、1993年7月(IEEE Microw
ave and Guided Wave Letters,vol.3,no.7,
pp.217〜218,July 1993)に記載されてい
る図12に示す従来例では、バイポーラ型のトランジス
タ受光素子のベース端子は、抵抗値50Ωの抵抗6aで
終端されている。ここで、該トランジスタ受光素子は、
ベース/コレクタ接合フォトダイオードとトランジスタ
増幅器が一体化された構成と考えられるため、該ベース
端子の負荷は、ベース/コレクタ接合フォトダイオード
の負荷にもなっている。従って、当該負荷を抵抗値50
Ωの抵抗6aにより形成した場合、光応答特性は、トラ
ンジスタのトランスインピーダンス利得特性を強く反映
するため、図13に示すように周波数の増加とともに6
dB/octaveで検出効率が落ちていく。このため、後段
に高性能な等化器なしに、これらのトランジスタ受光素
子をそのまま適用して、広帯域なマイクロ波/ミリ波サ
ブキャリア多重光伝送システムやコヒーレントヘテロダ
イン光通信方式用の数GHz以上の超高周波帯で動作す
る広帯域光受信回路を形成することは困難であり、さら
に後段の増幅器などと同一半導体基板上にモノリシック
集積化した光受信回路を実現することは困難であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の異種デバイスを集積化する形態で10GHz以上の超
高周波帯で動作する受光回路を形成することが困難な問
題点や、また、トランジスタ受光素子の周波数が高くな
るにつれ顕著に信号検出レベルが低下するという問題点
を解決し、マイクロ波/ミリ波サブキャリア多重光伝送
システムやコヒーレントヘテロダイン光通信方式用の数
GHz以上の超高周波帯で動作する小型・低コストな広
帯域の受光回路を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、フォトトランジスタを備えた受光回路に
おいて、前記フォトトランジスタのベースまたはゲート
端子を、誘導性の素子および抵抗を介して高周波接地
し、前記誘導性の素子は、前記フォトトランジスタのベ
ース(またはゲート)/コレクタ接合容量および寄生容
量との間でピーキング効果を生じるインダクタンス値を
有し、前記抵抗は、前記フォトトランジスタのピーキン
グ周波数近傍での光検出レベルをP paak 、前記フォ
トトランジスタの利得をAとする時、A×R=P
paak を満たす抵抗値Rを有することを特徴とする。
【0005】また、本発明は、上記の受光回路におい
て、上記誘導性の素子のインダクタンス値と、前記抵抗
の抵抗値の少なくとも一方可変にできることを特徴と
する。
【0006】
【作用】上記の構成により、受光回路の受光素子である
フォトトランジスタのベースまたはゲート端子を、所定
のインダクタンス値を有する誘導性の素子および所定の
抵抗値を有する抵抗を介して高周波接地した場合は、該
受光素子のベース端子およびベース/コレクタ接合フォ
トダイードの負荷インピーダンスとしては、比較的周波
数が低い領域では上記抵抗成分が、また比較的周波数の
高い領域では上記インダクタンス成分が見え、さらに該
インダクタンスと該トランジスタの容量成分による共振
周波数近傍では、非常に高インピーダンスとなっている
ため、従来例であるベース端子を50Ω終端したトラン
ジスタ受光素子と比較して、低周波領域での検出レベル
は減少するものの、高周波領域での検出レベルを増大さ
せることにより、従来例と比較して大幅に受光帯域を拡
大できる。
【0007】 って、後段に特別な等化機能等を必要と
せず、通常の広帯域トランジスタ増幅器を接続しても広
帯域な受光回路を実現できるため、光受信装置を簡易に
構成できる。
【0008】また、本発明による受光回路は、上述の受
光回路における、上記所定のインダクタンス値を有する
誘導性の素子の等価インダクタンス値と、上記所定の抵
抗値を有する抵抗の抵抗値の少なくとも一方を可変にで
きるため、該受光回路の利得および帯域を制御でき、汎
用的な超高速・広帯域光通信用モノリシック光受信回路
の実現に寄与できる。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る実施例に
ついて説明する。
【0010】図1、図2は本発明の第1の実施例に係る
受光回路の高周波等価回路図である。図1では所定のイ
ンダクタンスを有する誘導性の素子がインダクタ5であ
るのに対し、図2では伝送線路10であり、その他の構
成は同じである。図3は本実施例による周波数と検出レ
ベルの関係を示す特性図である。なお、図1、図2に示
した本実施例は、その動作原理はほぼ同様であるので、
代表して図1に示した実施例で説明を行う。
【0011】本実施例の受光回路は、バイポーラトラン
ジスタ1において、エミッタ端子4は直接アース7に接
地され、ベース端子2はインダクタ5および所定の抵抗
値を有する抵抗6aを介してアース7に接地されてい
る。また、コレクタ端子3には、所定のインピーダンス
の負荷6bが接続されている。従って、本受光回路は、
比較的周波数の低い領域では抵抗6aの抵抗値が、周波
数が高くなるにつれインダクタ5のインダクタンス値
が、ベース端子およびベース/コレクタ接合フォトダイ
オードの負荷インピーダンスを主に決定する。ここで、
インダクタ5のインダクタンス値とベース/コレクタ接
合フォトダイオードの接合容量、寄生容量等の間でピー
キング効果が生じ、該ピーキング周波数近傍で光検出レ
ベルがPからPpaakへと増大する。ここで、DC近
傍の光検出レベルは、抵抗6aの抵抗値Rとトランジス
タの利得Aの積、A×Rでほぼ与えられるため、A×R
=Ppaakとなるように、抵抗値Rを設定することに
より、図3に示したように受光帯域を大幅に拡大でき
る。インダクタ5のインダクタンス値を大きくすれば、
paakの値も大きくできる一方、ピーキング周波数
は小さくなるため、利得と帯域の積はほぼ一定となる。
従って、従来例と比較して、超高周波帯で動作するトラ
ンジスタをなんら特別なプロセスを必要とすることなし
に受光素子をモノリシック集積化できるという利点を保
ったまま、後段に高性能な等化器がなくても広帯域な特
性が実現できるため、10Gb/s程度以上の超高速・
広帯域光通信用モノリシック光受信回路の実現に寄与で
きる。また、本実施例に示した回路要素は、モノリシッ
クマイクロ波集積回路(MMIC)技術により、なんら
特殊なプロセス技術を必要とすることなく半導体基板上
に集積できるため、超小型広帯域光検出器を実現できる
のみならず、後段に接続される増幅器なども一体的に集
積化した超小型・低コストな広帯域モノリシック光受信
回路の実現に寄与できる。なお、図2に示した実施例に
おいては、図1の実施例中のインダクタ5に代わり等価
インダクタンスLを有する伝送線路10を使用してお
り、全く同様な機能が実現される。
【0012】図4は本発明の第2の実施例に係る受光回
路の高周波等価回路図である。図5は本実施例による周
波数と検出レベルの関係を示す特性図である。
【0013】本実施例の受光回路は、バイポーラ型トラ
ンジスタ1において、エミッタ端子4は直接アース7に
接地され、ベース端子2は可変インダクタ11および可
変抵抗12を介してアース7に接地されている。また、
コレクタ端子3には、所定のインピーダンスの負荷6が
接続されている。従って、本受光回路においては、可変
インダクタ11のインダクタンス値および可変抵抗12
の抵抗値を制御することにより、図5に示すように検出
特性の利得および帯域を制御できる。従って、従来例と
比較して、超高周波帯で動作するトランジスタをなんら
特別なプロセスを必要とすることなしに受光素子をモノ
リシック集積化できるという利点は保ったまま、後段に
高性能な等化器がなくても広帯域な特性が実現できるう
え、伝送速度や伝送方式に適応した利得、受光帯域を設
定できるので汎用的な光受信装置の実現に寄与できる。
本実施例に示した回路要素も、可変抵抗素子として、例
えばベース接地型バイポーラトランジスタやゲート接地
型電界効果トランジスタなどを使用することなどによ
り、モノリシックマイクロ波集積回路(MMIC)技術
により、なんら特殊なプロセス技術を必要とすることな
く半導体基板上に集積できるため、超小型広帯域光検出
器を実現できるのみならず、後段に接続される増幅器な
ども一体的に集積化した超小型・低コストな広帯域モノ
リシック光受信回路の実現に寄与できる。
【0014】さらに、図6に示すように、第1の実施例
として示した図1の受光回路のコレクタ端子3と負荷6
の間に整合回路13を加えることにより、後段の回路と
の整合を容易に図ることができる。なお、本手法は図
2,4に示した他の全ての実施例においても、当然なが
ら適用できる。なお、この整合回路は、周知のように伝
送線路などの分布定数素子やキャパシタ、インダクタな
どの集中定数素子を組み合わせることにより実現でき、
これらの素子もなんら問題なくモノリシックマイクロ波
集積回路(MMIC)技術により半導体基板上に集積で
きる。
【0015】図7、図8は本発明に関連する第1の参考
例に係る受光回路の等価回路図である。なお、図7、図
8に示した本参考例は、その動作原理はほぼ同様である
ので、代表して図7に示した参考例で説明を行う。
【0016】本参考例の受光回路は、バイポーラトラン
ジスタ型受光素子であるフォトトランジスタ21におい
て、エミッタ端子は直接接地され、ベース端子は、キャ
パシタ23が受光回路の動作周波数ではショートになる
よう十分大きな値の容量値であるため、高周波的には所
定のインダクタンス値Lを有するインダクタ22を介し
て接地されている。また、コレクタ端子は、トランジス
タ増幅回路27の入力端子に接続されている。ここで、
フォトトランジスタ21の入力容量をCとすると、イン
ダクタ22のインダクタンス値Lにより、トランジスタ
増幅回路27を除く本受光回路の受光周波数特性は、図
9に示すように、
【0017】
【数1】 を満たす周波数fpeak近傍で、従来例である図12に示
したベース端子を50Ω終端したフォトトランジスタと
比較して、受光利得を増大できるうえ、fpeak近傍の受
光周波数特性の平坦化も図ることができる。従って、後
段に接続されるトランジスタ増幅回路27に特別な等化
機能を必要とせず、広帯域設計された通常のトランジス
タ増幅回路を接続しても広帯域な受光回路を実現でき
る。従って、光受信装置の簡易化、広帯域化を容易に図
ることができる。また、図8に示した参考例において
は、インダクタ22に代わり、等価インダクタンスLを
有する伝送線路29を使用しており、図7に示した参考
例と同様な機能が実現できる。なお、ここで示したトラ
ンジスタ増幅回路27は、一つの例に過ぎず、多段その
他の回路構成を採ることができる。
【0018】また、本参考例においては、受光素子およ
び増幅用トランジスタとしてバイポーラトランジスタを
使用しているが、増幅用トランジスタとして電界効果ト
ランジスタを用いても構わない。
【0019】図10は本発明に関連する第2の参考例に
係る受光回路に使用されるフォトトランジスタとトラン
ジスタ増幅回路のトランジスタの構造断面図であり、フ
ォトトランジスタとしてヘテロ接合バイポーラトランジ
スタ31と全く同一の半導体層構成で、エミッタ電極導
体31に受光用の窓を設けたヘテロ接合フォトトランジ
スタ30を使用する参考例を示している。ヘテロ接合バ
イポーラトランジスタは、ベース層35やコレクタ層3
4よりバンドギャップの広いエミッタ層36で構成する
ことを特長とし、超高周波帯まで利得がある高性能なト
ランジスタであり、またそのベース層35およびコレク
タ層34は光吸収層としても利用できる素子である。例
えば半絶縁性基板32にGaAsを使用し、エミッタ層3
6/ベース層35をAlGaAs/GaAsで構成する素子
においては、光信号9として0.8μm帯などの短波長
を使用した場合、エミッタ層36を透過させることがで
き、また、半絶縁性基板32にInPを使用し、エミッ
タ層36/ベース層35をInP/InGaAsで構成する
素子においては、光信号9として1.3μmや1.55
μm帯などの長波長を使用した場合、同様にエミッタ層
36を透過させることができるため、エミッタ電極導体
37に受光用の窓を設けるだけで、光吸収層である、ベ
ース層35/コレクタ層34に光を導くことができる。
従って、トランジスタ製作プロセスのみを用いて受光素
子、能動素子を製作できることから、高性能なトランジ
スタをそのまま使用できるのみならず、受光回路の高歩
留り化も達成できる。また、キャパシタ、インダクタ、
伝送線路などの受動素子も含めた受光回路全体をモノリ
シックマイクロ波集積回路(MMIC)技術などにより
半導体基板上に一体集積できるため、第1の参考例の図
7に示した受光回路を半導体基板上に集積化できるた
め、個別素子をワイヤボンディングするハイブリッド構
成と比較して、高周波化、広帯域化を容易に図ることが
できるとともに、受光回路の超小型・無調整化・低コス
ト化も実現できる。
【0020】図11は実際に図7に示した回路をモノリ
シック集積回路の形態で実現した受光回路の周波数特性
の測定値である。比較のために図7に示したインダクタ
22を除去し、フォトトランジスタ21のベース端子を
50Ω終端した受光回路および、従来例であるベース端
子を50Ω終端した単体のフォトトランジスタの周波数
特性の測定値を示す。ベース回路にインダクタ22を適
用した回路の優位性は明らかであり、3dB帯域とし
て、8.5〜20.5GHzの超広帯域・超高周波動作が
実現できていることがわかる。
【0021】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明に係る受光
回路によれば、フォトトランジスタにおいて、ベースま
たはゲート端子は、誘導性の素子および抵抗を介して高
周波接地され、前記誘導性の素子は、前記フォトトラン
ジスタのベース(またはゲート)/コレクタ接合容量お
よび寄生容量との間でピーキング効果を生じるインダク
タンス値を有し、前記抵抗は、前記フォトトランジスタ
のピーキング周波数近傍での光検出レベルを
paak 、前記フォトトランジスタの利得をAとする
時、A×R=P paak を満たす抵抗値Rを有している
ため、比較的周波数の低い領域では前記抵抗の抵抗値
が、周波数が高くなるにつれ前記インダクタのインダク
タンス値が、ベース端子またはゲート端子の負荷インピ
ーダンスを決定し、周波数が高くなるにつれ前記インダ
クタによるインピーダンスが増加し、前記インダクタと
該トランジスタの容量成分との間の共振周波数程度まで
検出信号レベルを増大でき、さらに該インダクタンス値
と抵抗値を所定の値に設定することにより、前記トラン
ジスタに照射される光信号により生じ、コレクタ端子よ
り出力される電気信号の帯域を大幅に拡大できる。
【0022】さらに、該誘導性の素子および抵抗として
可変特性を有するものを使用し、インダクタンス値およ
び抵抗値を制御することにより、検出特性の利得および
帯域を制御できるため、伝送速度や伝送方式に適応した
汎用的な光受信装置の実現に寄与できる。
【0023】従って、従来例であるベース端子を50Ω
終端したトランジスタ受光素子と比較して、超高周波帯
で動作するトランジスタをなんら特別なプロセスを必要
とすることなしに受光素子をモノリシック集積化できる
利点は保ったまま、受光帯域を大幅に拡大でき、さらに
利得および帯域を可変にできるため、後段に接続される
増幅器など他のコンポーネントへの要求条件を大幅に緩
和でき、これらの機能をも含んだ超小型・低コストな広
帯域モノリシック光受信回路が容易に実現できる。従っ
て、当該トランジスタ受光回路は、10Gb/s程度以
上の超高速・広帯域光通信システムの小型化・低コスト
化に寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る受光回路の一つの
高周波等価回路図である。
【図2】本発明の第1の実施例に係る受光回路の他の高
周波等価回路図である。
【図3】第1の実施例による周波数と検出レベルの関係
を示す特性図である。
【図4】本発明の第2の実施例に係る受光回路の高周波
等価回路図である。
【図5】本発明の第2の実施例による周波数と検出レベ
ルの関係を示す特性図である。
【図6】コレクタ端子と負荷の間に整合回路を加えた受
光回路の高周波等価回路図である。
【図7】本発明に関連する第1の参考例に係る受光回路
の一つの高周波等価回路図である。
【図8】本発明に関連する第1の参考例に係る受光回路
の他の高周波等価回路図である。
【図9】本発明に関連する第1の参考例による周波数と
検出レベルの関係を示す特性図である。
【図10】本発明に関連する第2の参考例に係る受光回
路に使用されるフォトトランジスタとトランジスタ増幅
回路のトランジスタの構造断面図である。
【図11】本発明に関連する第1の参考例に係る図7に
示した回路をモノシリック集積回路で実現した受光回路
の周波数特性図である。
【図12】従来例に係るトランジスタ受光回路の高周波
等価回路図である。
【図13】従来例による周波数と検出レベルの関係を示
す特性図である。
【符号の説明】 1…トランジスタ 2…ベース端子 3…コレクタ端子 4…エミッタ端子 5…インダクタ 6,6a,6b…抵抗 7…アース 8…出力端子 9…光信号 10…伝送線路 11…可変インダクタ 12…可変抵抗 13…整合抵抗 21…フォトトランジスタ 22…インダクタ 23…キャパシタ 25…トランジスタ 27…トランジスタ増幅回路 29…伝送線路 30…ヘテロ接合フォトトランジスタ 31…ヘテロ接合バイポーラトランジスタ 32…半絶縁性基板 33…サブコレクタ層 34…コレクタ層 35…ベース層 36…エミッタ層 37…エミッタ電極導体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H04B 10/14 10/26

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フォトトランジスタを備えた受光回路にお
    いて、前記フォトトランジスタのベースまたはゲート端
    子を、誘導性の素子および抵抗を介して高周波接地し、 前記誘導性の素子は、前記フォトトランジスタのベース
    (またはゲート)/コレクタ接合容量および寄生容量と
    の間でピーキング効果を生じるインダクタンス値を有
    し、 前記抵抗は、前記フォトトランジスタのピーキング周波
    数近傍での光検出レベルをP paak 、前記フォトトラ
    ンジスタの利得をAとする時、A×R=P paak を満
    たす抵抗値Rを有する ことを特徴とする受光回路。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の受光回路において、前記
    誘導性の素子のインダクタンス値と、前記抵抗の抵抗値
    の少なくとも一方可変にできることを特徴とする受光
    回路。
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