JP3194816B2 - ラクトン類の製造方法 - Google Patents
ラクトン類の製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はラクトン類の製造法に関
するものであり、特にγ−ブチロラクトンの製造法に関
する。γ−ブチロラクトンは、有機電気伝導溶液の溶媒
やピロリドン類等の合成原料として有用な化合物であ
る。
するものであり、特にγ−ブチロラクトンの製造法に関
する。γ−ブチロラクトンは、有機電気伝導溶液の溶媒
やピロリドン類等の合成原料として有用な化合物であ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、飽和及び／又は不飽和ジカルボン
酸誘導体を液相で水素化してラクトン類を製造する方法
に関しては、多くの提案がなされている。
酸誘導体を液相で水素化してラクトン類を製造する方法
に関しては、多くの提案がなされている。
【０００３】例えば触媒として、シリカに担持したコバ
ルト−パラジウム系触媒を用いる方法（例えば特公昭５
８−２９１４２号公報）が知られている。コバルト−パ
ラジウム系触媒を使用する方法は、触媒の費用が比較的
安価という利点はあるものの、反応条件が２５０℃、１
５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇと苛酷であるため、設備費が高くな
り工業的な操業を考慮すると好ましくない。
ルト−パラジウム系触媒を用いる方法（例えば特公昭５
８−２９１４２号公報）が知られている。コバルト−パ
ラジウム系触媒を使用する方法は、触媒の費用が比較的
安価という利点はあるものの、反応条件が２５０℃、１
５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇと苛酷であるため、設備費が高くな
り工業的な操業を考慮すると好ましくない。
【０００４】特公昭４５−３２０６１号公報には、ケイ
ソウ土に担持したニッケル−レニウム系触媒を用いた例
が報告されている。しかし、本公報においても反応条件
が２５０℃、１２０ｋｇ／ｃｍ2Ｇと苛酷であるという
問題があり、さらに環状エーテルの生成や脱炭酸等の副
反応が進行し、ラクトン類の選択性は満足のいくもので
はない。
ソウ土に担持したニッケル−レニウム系触媒を用いた例
が報告されている。しかし、本公報においても反応条件
が２５０℃、１２０ｋｇ／ｃｍ2Ｇと苛酷であるという
問題があり、さらに環状エーテルの生成や脱炭酸等の副
反応が進行し、ラクトン類の選択性は満足のいくもので
はない。
【０００５】また、特開平２−９８７３号公報において
は、ニッケルおよびパラジウムを５０ｍ2／ｇ以上の高
い比表面積を有するシリカに担持させることにより、高
選択的にラクトン類を合成している。本公報は反応条件
が２３５℃、９５ｋｇ／ｃｍ2Ｇと苛酷であることから
好ましい方法とは言えないが、担体の種類と比表面積が
非常に重要であることが示されている。即ち、本公報の
少なくとも５０ｍ2／ｇの比表面積を有するシリカ担体
は、従来より知られているシリカ、シリカアルミナ、ア
ルミナ、ケイソウ土等の担体に比較して、高い活性と選
択性を与える好ましい担体であることが示されている。
特にニッケルとパラジウムという同じ触媒成分からなる
ケイソウ土に担持した触媒（特公昭４６−３３０３０号
公報）と比較しても、本公報の反応結果は著しく改善さ
れており、担体の選択が非常に重要であることが解る。
は、ニッケルおよびパラジウムを５０ｍ2／ｇ以上の高
い比表面積を有するシリカに担持させることにより、高
選択的にラクトン類を合成している。本公報は反応条件
が２３５℃、９５ｋｇ／ｃｍ2Ｇと苛酷であることから
好ましい方法とは言えないが、担体の種類と比表面積が
非常に重要であることが示されている。即ち、本公報の
少なくとも５０ｍ2／ｇの比表面積を有するシリカ担体
は、従来より知られているシリカ、シリカアルミナ、ア
ルミナ、ケイソウ土等の担体に比較して、高い活性と選
択性を与える好ましい担体であることが示されている。
特にニッケルとパラジウムという同じ触媒成分からなる
ケイソウ土に担持した触媒（特公昭４６−３３０３０号
公報）と比較しても、本公報の反応結果は著しく改善さ
れており、担体の選択が非常に重要であることが解る。
【０００６】更に、ジルコニアに担持したパラジウムと
レニウムから成る触媒を用いる方法（特開昭６３−２１
８６３６号公報）が知られている。しかし本公報では、
原料の転化率を高くすると、ブタンジオールやテトラヒ
ドロフラン等の副生成物が多くなり、一方、目的とする
γ−ブチロラクトンの選択率を高くするためには、転化
率を低くしなければならないという問題がある。
レニウムから成る触媒を用いる方法（特開昭６３−２１
８６３６号公報）が知られている。しかし本公報では、
原料の転化率を高くすると、ブタンジオールやテトラヒ
ドロフラン等の副生成物が多くなり、一方、目的とする
γ−ブチロラクトンの選択率を高くするためには、転化
率を低くしなければならないという問題がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、原料
として飽和或いは不飽和どちらのジカルボン酸誘導体を
用いた場合においても、従来知られている触媒よりも温
和な条件下、高収率でラクトン類、特にγ−ブチロラク
トンを製造する方法を提供することにある。
として飽和或いは不飽和どちらのジカルボン酸誘導体を
用いた場合においても、従来知られている触媒よりも温
和な条件下、高収率でラクトン類、特にγ−ブチロラク
トンを製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決するために鋭意研究を行った結果、比表面積が
５０ｍ2／ｇ以上のジルコニアに担持されたニッケルと
ＶＩＩＩ族の貴金属からなるニッケル系触媒に、レニウ
ムを組み合わせた触媒を用いて水素化反応を行うと、原
料の飽和及び／又は不飽和ジカルボン酸誘導体を、温和
な条件下で高収率でラクトン類に変換できることを見い
だし本発明を完成するに至った。
点を解決するために鋭意研究を行った結果、比表面積が
５０ｍ2／ｇ以上のジルコニアに担持されたニッケルと
ＶＩＩＩ族の貴金属からなるニッケル系触媒に、レニウ
ムを組み合わせた触媒を用いて水素化反応を行うと、原
料の飽和及び／又は不飽和ジカルボン酸誘導体を、温和
な条件下で高収率でラクトン類に変換できることを見い
だし本発明を完成するに至った。
【０００９】即ち本発明は、飽和及び／又は不飽和ジカ
ルボン酸誘導体を水素化するにあたり、比表面積が５０
ｍ2／ｇ以上のジルコニアに担持されたニッケルとＶＩ
ＩＩ族貴金属からなるニッケル系触媒に、レニウムを組
み合わせた触媒を用いることを特徴とするラクトン類の
製造方法に関するものである。以下本発明について詳細
に説明する。
ルボン酸誘導体を水素化するにあたり、比表面積が５０
ｍ2／ｇ以上のジルコニアに担持されたニッケルとＶＩ
ＩＩ族貴金属からなるニッケル系触媒に、レニウムを組
み合わせた触媒を用いることを特徴とするラクトン類の
製造方法に関するものである。以下本発明について詳細
に説明する。
【００１０】本発明で用いられる原料は、飽和及び／又
は不飽和ジカルボン酸誘導体である。具体的には、無水
マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水シト
ラコン酸、無水メチルコハク酸、無水グルタル酸等の飽
和及び／又は不飽和ジカルボン酸の無水物、マレイン
酸、コハク酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、
メサコン酸、メチルコハク酸、グルタル酸等の飽和及び
／又は不飽和ジカルボン酸が挙げられる。特にγ−ブチ
ロラクトンを目的とする場合は無水マレイン酸、マレイ
ン酸、無水コハク酸、コハク酸、フマル酸が挙げられ
る。
は不飽和ジカルボン酸誘導体である。具体的には、無水
マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水シト
ラコン酸、無水メチルコハク酸、無水グルタル酸等の飽
和及び／又は不飽和ジカルボン酸の無水物、マレイン
酸、コハク酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、
メサコン酸、メチルコハク酸、グルタル酸等の飽和及び
／又は不飽和ジカルボン酸が挙げられる。特にγ−ブチ
ロラクトンを目的とする場合は無水マレイン酸、マレイ
ン酸、無水コハク酸、コハク酸、フマル酸が挙げられ
る。
【００１１】また、これら原料である飽和または不飽和
のジカルボン酸誘導体は、水素化生成物が同じであるな
らばどの様な比率で混合されていても良い。
のジカルボン酸誘導体は、水素化生成物が同じであるな
らばどの様な比率で混合されていても良い。
【００１２】本発明の方法においては、飽和及び／又は
不飽和ジカルボン酸誘導体は、好ましくは溶媒に溶解さ
せた後、反応に供する。この溶媒としては、水素化反応
に不活性で、また、生成物であるラクトン類と反応しな
いものであれば特に制限はなく、例えばジエチルエーテ
ル、ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸メ
チル、酢酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル等
のエステル類、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノー
ル、ｉｓｏ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１，
４−ブタンジオール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン、
シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、酢酸等の酸性溶
媒、γ−ブチロラクトン等のラクトン類、２−ピロリド
ン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類等が挙げられ
る。
不飽和ジカルボン酸誘導体は、好ましくは溶媒に溶解さ
せた後、反応に供する。この溶媒としては、水素化反応
に不活性で、また、生成物であるラクトン類と反応しな
いものであれば特に制限はなく、例えばジエチルエーテ
ル、ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸メ
チル、酢酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル等
のエステル類、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノー
ル、ｉｓｏ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１，
４−ブタンジオール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン、
シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、酢酸等の酸性溶
媒、γ−ブチロラクトン等のラクトン類、２−ピロリド
ン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類等が挙げられ
る。
【００１３】溶媒の使用量は、反応温度において原料が
溶解する程度であれば、全く限定されない。
溶解する程度であれば、全く限定されない。
【００１４】本発明では担体としてジルコニアを用いる
が、ジルコニアの比表面積は、少なくとも５０ｍ2／
ｇ、好ましくは少なくとも７０ｍ2／ｇのものである。
５０ｍ2／ｇより比表面積の小さいジルコニアを用いる
と、触媒の活性が充分でなく、好ましくない。ジルコニ
アは、調製の際の原料や調製時の熱処理条件により、種
々の結晶構造のものが得られるが、本発明においては、
結晶構造は、準安定正方晶、単斜晶、正方晶、立方晶の
いずれでも良く、さらに無定型でも良い。
が、ジルコニアの比表面積は、少なくとも５０ｍ2／
ｇ、好ましくは少なくとも７０ｍ2／ｇのものである。
５０ｍ2／ｇより比表面積の小さいジルコニアを用いる
と、触媒の活性が充分でなく、好ましくない。ジルコニ
アは、調製の際の原料や調製時の熱処理条件により、種
々の結晶構造のものが得られるが、本発明においては、
結晶構造は、準安定正方晶、単斜晶、正方晶、立方晶の
いずれでも良く、さらに無定型でも良い。
【００１５】ジルコニアを調製する方法に特に制限はな
く、ジルコニウム化合物の加水分解等で調製したものを
用いればよい。ジルコニウム原料にも特に制限はなく、
各種の無機、有機のジルコニウム化合物を用いることが
できる。無機のジルコニウム化合物としては、硝酸ジル
コニウム、酸化塩化ジルコニウム、酸化硝酸ジルコニウ
ム、酸化過塩素酸ジルコニウム、硫酸ジルコニウム等を
例として挙げることができる。又、有機のジルコニウム
化合物としては、ジルコニウムテトラプロポキシド、ジ
ルコニウム−２，４−ペンタジオネート等が例として挙
げられる。
く、ジルコニウム化合物の加水分解等で調製したものを
用いればよい。ジルコニウム原料にも特に制限はなく、
各種の無機、有機のジルコニウム化合物を用いることが
できる。無機のジルコニウム化合物としては、硝酸ジル
コニウム、酸化塩化ジルコニウム、酸化硝酸ジルコニウ
ム、酸化過塩素酸ジルコニウム、硫酸ジルコニウム等を
例として挙げることができる。又、有機のジルコニウム
化合物としては、ジルコニウムテトラプロポキシド、ジ
ルコニウム−２，４−ペンタジオネート等が例として挙
げられる。
【００１６】ジルコニアの比表面積は、ジルコニア調製
時の熱処理方法、なかでも熱処理温度に大きく影響され
る。しかしながら、ジルコニアの原料や調製方法によっ
て、得られるジルコニアの結晶形態が異なるため、熱処
理方法は一概にその範囲を決めるのは難しい。従って、
最終的に得られるジルコニアの比表面積が、少なくとも
５０ｍ2／ｇとなる温度で熱処理温度を調節することが
重要である。あえて温度範囲を決めるならば、１０００
℃までの熱処理がよい。
時の熱処理方法、なかでも熱処理温度に大きく影響され
る。しかしながら、ジルコニアの原料や調製方法によっ
て、得られるジルコニアの結晶形態が異なるため、熱処
理方法は一概にその範囲を決めるのは難しい。従って、
最終的に得られるジルコニアの比表面積が、少なくとも
５０ｍ2／ｇとなる温度で熱処理温度を調節することが
重要である。あえて温度範囲を決めるならば、１０００
℃までの熱処理がよい。
【００１７】ジルコニアの形状には特に制限はなく、反
応形式に応じて粉末のまま、若しくは成形して用いるこ
とができる。懸濁床では粉末或いは顆粒を、固定床では
タブレットの打錠成形品、球状或いは棒柱状の押し出し
成形品等が用いられる。
応形式に応じて粉末のまま、若しくは成形して用いるこ
とができる。懸濁床では粉末或いは顆粒を、固定床では
タブレットの打錠成形品、球状或いは棒柱状の押し出し
成形品等が用いられる。
【００１８】本発明においては、比表面積が５０ｍ2／
ｇ以上のジルコニアに担持されたニッケルとＶＩＩＩ族
貴金属からなるニッケル系触媒に、レニウムを組み合わ
せた触媒を用いる。ニッケル系触媒を調製するにあたり
使用できるニッケル化合物としては、水素化反応中ある
いは反応に用いる前に金属状のニッケルに変化できるも
のであれば特に制限はない。具体的には、炭酸ニッケ
ル、塩化ニッケル、水酸化ニッケル、硝酸ニッケル、酸
化ニッケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル、シュウ酸ニ
ッケル等の各種の無機、有機のニッケル化合物を用いる
ことができる。
ｇ以上のジルコニアに担持されたニッケルとＶＩＩＩ族
貴金属からなるニッケル系触媒に、レニウムを組み合わ
せた触媒を用いる。ニッケル系触媒を調製するにあたり
使用できるニッケル化合物としては、水素化反応中ある
いは反応に用いる前に金属状のニッケルに変化できるも
のであれば特に制限はない。具体的には、炭酸ニッケ
ル、塩化ニッケル、水酸化ニッケル、硝酸ニッケル、酸
化ニッケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル、シュウ酸ニ
ッケル等の各種の無機、有機のニッケル化合物を用いる
ことができる。
【００１９】また、ニッケルとＶＩＩＩ族貴金属からな
るニッケル系触媒に組み合わせるレニウムの原料として
は、水素化反応中あるいは反応に用いる前に、少なくと
も一部が金属状のレニウムに変化できるものであれば特
に制限はなく、塩化レニウム、酸化レニウム、過レニウ
ム酸、過レニウム酸アンモニウム等を例示できる。
るニッケル系触媒に組み合わせるレニウムの原料として
は、水素化反応中あるいは反応に用いる前に、少なくと
も一部が金属状のレニウムに変化できるものであれば特
に制限はなく、塩化レニウム、酸化レニウム、過レニウ
ム酸、過レニウム酸アンモニウム等を例示できる。
【００２０】本発明で使用するニッケル系触媒は、ニッ
ケルにルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウ
ム、プラチナなどのＶＩＩＩ族貴金属を組み合わせた触
媒である。中でも、ニッケルにパラジウムを組み合わせ
た触媒が好ましい。この時、ニッケルに組み合わせるパ
ラジウムの原料としては、その原料が水素化反応中ある
いは反応に用いる前に、０価の金属に変化できるもので
あれば特に制限はないが、具体的に例示すると、ヘキサ
クロロパラジウム酸アンモニウム、テトラクロロパラジ
ウム酸アンモニウム、ジニトロジアミンパラジウム、ク
ロロカルボニルパラジウム、塩化パラジウム、硝酸パラ
ジウム、酸化パラジウム、硫酸パラジウム、酢酸パラジ
ウム、パラジウムアセチルアセトナ−ト、ジニトロサル
ファイトパラジウム酸カリウム、ヘキサクロロパラジウ
ム酸カリウム、テトラクロロパラジウム酸ナトリウム、
テトラアンミンパラジウム塩化物、テトラアンミンパラ
ジウム硝酸塩、ジクロロジアミンパラジウム、ジクロロ
（エチレンジアミン）パラジウム、テトラシアノパラジ
ウム酸カリウム等が挙げられる。
ケルにルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウ
ム、プラチナなどのＶＩＩＩ族貴金属を組み合わせた触
媒である。中でも、ニッケルにパラジウムを組み合わせ
た触媒が好ましい。この時、ニッケルに組み合わせるパ
ラジウムの原料としては、その原料が水素化反応中ある
いは反応に用いる前に、０価の金属に変化できるもので
あれば特に制限はないが、具体的に例示すると、ヘキサ
クロロパラジウム酸アンモニウム、テトラクロロパラジ
ウム酸アンモニウム、ジニトロジアミンパラジウム、ク
ロロカルボニルパラジウム、塩化パラジウム、硝酸パラ
ジウム、酸化パラジウム、硫酸パラジウム、酢酸パラジ
ウム、パラジウムアセチルアセトナ−ト、ジニトロサル
ファイトパラジウム酸カリウム、ヘキサクロロパラジウ
ム酸カリウム、テトラクロロパラジウム酸ナトリウム、
テトラアンミンパラジウム塩化物、テトラアンミンパラ
ジウム硝酸塩、ジクロロジアミンパラジウム、ジクロロ
（エチレンジアミン）パラジウム、テトラシアノパラジ
ウム酸カリウム等が挙げられる。
【００２１】本発明で使用される、ニッケルとＶＩＩＩ
族貴金属からなるニッケル系触媒のニッケル担持量は、
担体を含む触媒総重量に対してニッケル金属として１〜
６０重量％、好ましくは２〜５０重量％である。また、
ニッケルに組み合わせるＶＩＩＩ族貴金属の担持量は、
原子比（例えばＰｄ／Ｎｉ原子比）として、０．３以下
とすることが好ましい。原子比が０．３を越えると、Ｖ
ＩＩＩ族貴金属の性質が強くなり、脱カルボニル反応等
の副反応が生じるおそれがある。更に、上記ニッケル系
触媒に組み合わせるレニウムの担持量は、原子比（Ｒｅ
／Ｎｉ原子比）として、０．１以下とすることが好まし
く、この原子比が０．１を越えると、レニウムの性質が
強くなり、ラクトン類のエ−テル類或いはジオ−ル類へ
の水素化等が進行するおそれがある。
族貴金属からなるニッケル系触媒のニッケル担持量は、
担体を含む触媒総重量に対してニッケル金属として１〜
６０重量％、好ましくは２〜５０重量％である。また、
ニッケルに組み合わせるＶＩＩＩ族貴金属の担持量は、
原子比（例えばＰｄ／Ｎｉ原子比）として、０．３以下
とすることが好ましい。原子比が０．３を越えると、Ｖ
ＩＩＩ族貴金属の性質が強くなり、脱カルボニル反応等
の副反応が生じるおそれがある。更に、上記ニッケル系
触媒に組み合わせるレニウムの担持量は、原子比（Ｒｅ
／Ｎｉ原子比）として、０．１以下とすることが好まし
く、この原子比が０．１を越えると、レニウムの性質が
強くなり、ラクトン類のエ−テル類或いはジオ−ル類へ
の水素化等が進行するおそれがある。
【００２２】本発明に使用される、ジルコニアに担持さ
れたニッケルとＶＩＩＩ族貴金属からなるニッケル系触
媒にレニウムを組み合わせた触媒の調製法は特に制限は
なく、公知の方法で調製したものを使用できる。例えば
沈澱法、混練法、含浸法、沈着法などで調製することが
でき、この時、全ての元素を同時に担持しても良いし、
逐次的に担持しても良い。例えば、含浸法で調製する場
合には、ニッケル化合物、パラジウム化合物及びレニウ
ム化合物を適当な溶媒に溶解し、ここに担体を加え、必
要ならば所定の時間静置した後、乾燥する。そして乾燥
後直接還元し調製して良いし、場合によっては焼成した
後に還元して調製しても差し支えない。もちろん反応系
中で還元しても構わない。
れたニッケルとＶＩＩＩ族貴金属からなるニッケル系触
媒にレニウムを組み合わせた触媒の調製法は特に制限は
なく、公知の方法で調製したものを使用できる。例えば
沈澱法、混練法、含浸法、沈着法などで調製することが
でき、この時、全ての元素を同時に担持しても良いし、
逐次的に担持しても良い。例えば、含浸法で調製する場
合には、ニッケル化合物、パラジウム化合物及びレニウ
ム化合物を適当な溶媒に溶解し、ここに担体を加え、必
要ならば所定の時間静置した後、乾燥する。そして乾燥
後直接還元し調製して良いし、場合によっては焼成した
後に還元して調製しても差し支えない。もちろん反応系
中で還元しても構わない。
【００２３】このとき金属状のニッケル、パラジウム及
び少なくとも一部が金属状のレニウムとして得られれ
ば、還元方法に特に制限はなく、例えば水素などを用い
て気相で還元しても、あるいはヒドラジン等を用いて液
相で還元しても構わない。還元温度については、原料と
して用いたニッケル化合物、パラジウム化合物及び少な
くとも一部のレニウム化合物が金属にまで還元されれば
特に制限はないが、通常６００℃までの温度で良い。
び少なくとも一部が金属状のレニウムとして得られれ
ば、還元方法に特に制限はなく、例えば水素などを用い
て気相で還元しても、あるいはヒドラジン等を用いて液
相で還元しても構わない。還元温度については、原料と
して用いたニッケル化合物、パラジウム化合物及び少な
くとも一部のレニウム化合物が金属にまで還元されれば
特に制限はないが、通常６００℃までの温度で良い。
【００２４】さらに沈着法で調製する場合には、ニッケ
ル化合物、パラジウム化合物及びレニウム化合物を適当
な溶媒、例えば水などに溶解し、担体を加え、攪拌しな
がら沈澱剤を徐々にあるいはいっきに加え、ニッケル、
パラジウム及びレニウム成分を沈着させ、得られた混合
物を乾燥し、以後は含浸法と同様の方法で触媒とするこ
とができる。
ル化合物、パラジウム化合物及びレニウム化合物を適当
な溶媒、例えば水などに溶解し、担体を加え、攪拌しな
がら沈澱剤を徐々にあるいはいっきに加え、ニッケル、
パラジウム及びレニウム成分を沈着させ、得られた混合
物を乾燥し、以後は含浸法と同様の方法で触媒とするこ
とができる。
【００２５】さらに、本発明に使用される触媒は、塩素
含有量が０．９重量％以下であることが好ましい。この
様な触媒は、塩素を含まない原料を使用するか、あるい
は調製のいずれかの段階で、例えば、アンモニア水等に
より洗浄することで調製することができる。塩素含有量
が０．９重量％より多いと、充分な触媒活性が得られな
いことがある。
含有量が０．９重量％以下であることが好ましい。この
様な触媒は、塩素を含まない原料を使用するか、あるい
は調製のいずれかの段階で、例えば、アンモニア水等に
より洗浄することで調製することができる。塩素含有量
が０．９重量％より多いと、充分な触媒活性が得られな
いことがある。
【００２６】本発明においては、反応は懸濁床による回
分、半回分、連続式でも、又固定床流通式でも実施でき
る。
分、半回分、連続式でも、又固定床流通式でも実施でき
る。
【００２７】本発明の方法による反応は、加温、水素加
圧下で実施される。反応温度は、１００〜２４０℃、好
ましくは１２０〜２４０℃、更に好ましくは１２０〜２
３０℃が選ばれる。これより高くしても副反応の進行が
増すだけであり、低くすると反応速度の点で不利にな
る。また、水素の圧力は、１０〜１４０ｋｇ／ｃｍ
2Ｇ、好ましくは１５〜１２０ｋｇ／ｃｍ2Ｇが選ばれ
る。本発明の方法では、この範囲内で望むべき反応が十
分進行するので、これを越える高圧は不必要であり、こ
れより低圧では反応速度の点で不利になる。
圧下で実施される。反応温度は、１００〜２４０℃、好
ましくは１２０〜２４０℃、更に好ましくは１２０〜２
３０℃が選ばれる。これより高くしても副反応の進行が
増すだけであり、低くすると反応速度の点で不利にな
る。また、水素の圧力は、１０〜１４０ｋｇ／ｃｍ
2Ｇ、好ましくは１５〜１２０ｋｇ／ｃｍ2Ｇが選ばれ
る。本発明の方法では、この範囲内で望むべき反応が十
分進行するので、これを越える高圧は不必要であり、こ
れより低圧では反応速度の点で不利になる。
【００２８】反応時間は、温度、圧力、触媒量等の設定
の仕方あるいは反応方法によって変わるため一概にその
範囲を決めることは困難であるが、懸濁床での回分式、
半回分式においては０．５時間以上が必要で、好ましく
は１〜２０時間が良い。また、懸濁床による連続式反応
あるいは固定床流通式反応においては、滞留時間は０．
１〜１０時間で良い。これより長くても構わないが、こ
の範囲内で反応は終了するので無意味である。これより
短いと高い転化率が得られないことがある。
の仕方あるいは反応方法によって変わるため一概にその
範囲を決めることは困難であるが、懸濁床での回分式、
半回分式においては０．５時間以上が必要で、好ましく
は１〜２０時間が良い。また、懸濁床による連続式反応
あるいは固定床流通式反応においては、滞留時間は０．
１〜１０時間で良い。これより長くても構わないが、こ
の範囲内で反応は終了するので無意味である。これより
短いと高い転化率が得られないことがある。
【００２９】使用する触媒量は特に限定されないが、好
ましくは原料に対し０．５〜２００重量％、更に好まし
くは１〜１５０重量％が良い。
ましくは原料に対し０．５〜２００重量％、更に好まし
くは１〜１５０重量％が良い。
【００３０】
【実施例】以下、本反応を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本反応がこれら実施例のみに限定されるもの
ではないことは言うまでもない。
明するが、本反応がこれら実施例のみに限定されるもの
ではないことは言うまでもない。
【００３１】触媒調製例１ １０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ
2（９８ｍ2／ｇ） 硝酸ニッケル（Ｎｉ（ＮＯ3）2・６Ｈ2Ｏ）７．４３
ｇ、硝酸パラジウム水溶液（Ｐｄ；４．４ｗｔ％）３．
０７ｇ及び過レニウム酸アンモニウム（ＮＨ4ＲｅＯ4）
０．１３ｇを５０ｍｌの水に加えた。この溶液に２００
メッシュ以下に粉砕した比表面積９８ｍ2／ｇのジルコ
ニア（ノートン社製；ＳａｍｐｌｅＮｕｍｂｅｒ ９１
１６２９３）１３．２８ｇを加えた。所定時間静置した
後、水分をロータリーエバポレーターで減圧下に除去
し、得られたペーストを減圧下に４０℃で１時間乾燥
し、さらに１２０℃で２時間乾燥させ粉体を得た。
2（９８ｍ2／ｇ） 硝酸ニッケル（Ｎｉ（ＮＯ3）2・６Ｈ2Ｏ）７．４３
ｇ、硝酸パラジウム水溶液（Ｐｄ；４．４ｗｔ％）３．
０７ｇ及び過レニウム酸アンモニウム（ＮＨ4ＲｅＯ4）
０．１３ｇを５０ｍｌの水に加えた。この溶液に２００
メッシュ以下に粉砕した比表面積９８ｍ2／ｇのジルコ
ニア（ノートン社製；ＳａｍｐｌｅＮｕｍｂｅｒ ９１
１６２９３）１３．２８ｇを加えた。所定時間静置した
後、水分をロータリーエバポレーターで減圧下に除去
し、得られたペーストを減圧下に４０℃で１時間乾燥
し、さらに１２０℃で２時間乾燥させ粉体を得た。
【００３２】上述の粉体をガス流通式還元装置に入れ、
窒素１３５ｍｌ／ｍｉｎと水素１５ｍｌ／ｍｉｎで混合
したガスを用いて、４００℃で１５時間還元し、１０％
Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2
／ｇ）触媒を得た。ＰｄとＮｉの原子比は０．０５、Ｒ
ｅとＮｉの原子比は０．０１９であった。また、蛍光Ｘ
線分析装置で測定した結果、塩素含有量は０．０５重量
％以下であった。
窒素１３５ｍｌ／ｍｉｎと水素１５ｍｌ／ｍｉｎで混合
したガスを用いて、４００℃で１５時間還元し、１０％
Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2
／ｇ）触媒を得た。ＰｄとＮｉの原子比は０．０５、Ｒ
ｅとＮｉの原子比は０．０１９であった。また、蛍光Ｘ
線分析装置で測定した結果、塩素含有量は０．０５重量
％以下であった。
【００３３】触媒調製例２ １０％Ｎｉ−０．６％Ｐｄ−０．３％Ｒｅ／ＺｒＯ
2（９８ｍ2／ｇ） 硝酸パラジウム水溶液（Ｐｄ；４．４ｗｔ％）を２．０
５ｇ、過レニウム酸アンモニウム（ＮＨ4ＲｅＯ4）を
０．０６５ｇ及びジルコニアを１３．３７ｇとした以外
は、触媒調製例１と同様の方法で触媒を調製した。得ら
れた触媒のＰｄとＮｉの原子比は０．０３、ＲｅとＮｉ
の原子比は０．００９であった。また蛍光Ｘ線分析装置
で測定した結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であ
った。
2（９８ｍ2／ｇ） 硝酸パラジウム水溶液（Ｐｄ；４．４ｗｔ％）を２．０
５ｇ、過レニウム酸アンモニウム（ＮＨ4ＲｅＯ4）を
０．０６５ｇ及びジルコニアを１３．３７ｇとした以外
は、触媒調製例１と同様の方法で触媒を調製した。得ら
れた触媒のＰｄとＮｉの原子比は０．０３、ＲｅとＮｉ
の原子比は０．００９であった。また蛍光Ｘ線分析装置
で測定した結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であ
った。
【００３４】触媒調製例３ １０％Ｎｉ−３．６％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ
2（９８ｍ2／ｇ） 硝酸パラジウム水溶液（Ｐｄ；４．４ｗｔ％）を１２．
２８ｇ、ジルコニアを１２．８７ｇとした以外は、触媒
調製例１と同様の方法で触媒を調製した。得られた触媒
のＰｄとＮｉの原子比は０．２、ＲｅとＮｉの原子比は
０．０１９であった。また、蛍光Ｘ線分析装置で測定し
た結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であった。
2（９８ｍ2／ｇ） 硝酸パラジウム水溶液（Ｐｄ；４．４ｗｔ％）を１２．
２８ｇ、ジルコニアを１２．８７ｇとした以外は、触媒
調製例１と同様の方法で触媒を調製した。得られた触媒
のＰｄとＮｉの原子比は０．２、ＲｅとＮｉの原子比は
０．０１９であった。また、蛍光Ｘ線分析装置で測定し
た結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であった。
【００３５】触媒調製例４ １０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−３．０％Ｒｅ／ＺｒＯ
2（９８ｍ2／ｇ） 過レニウム酸アンモニウム（ＮＨ4ＲｅＯ4）を０．６５
ｇ、ジルコニアを１２．９２ｇとした以外は、触媒調製
例１と同様の方法で触媒を調製した。得られた触媒のＰ
ｄとＮｉの原子比は０．０５、ＲｅとＮｉの原子比は
０．０９５であった。また、蛍光Ｘ線分析装置で測定し
た結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であった。
2（９８ｍ2／ｇ） 過レニウム酸アンモニウム（ＮＨ4ＲｅＯ4）を０．６５
ｇ、ジルコニアを１２．９２ｇとした以外は、触媒調製
例１と同様の方法で触媒を調製した。得られた触媒のＰ
ｄとＮｉの原子比は０．０５、ＲｅとＮｉの原子比は
０．０９５であった。また、蛍光Ｘ線分析装置で測定し
た結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であった。
【００３６】触媒調製例５ １０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ
2（１２ｍ2／ｇ） 担体としてノートン社製ジルコニア（Ｓａｍｐｌｅ Ｎ
ｕｍｂｅｒ ９０１６４３３；１２ｍ2／ｇ）を用いた
以外は、触媒調製例１と同様の方法で触媒を調製した。
蛍光Ｘ線分析装置で測定した結果、塩素含有量は０．０
５重量％以下であった。
2（１２ｍ2／ｇ） 担体としてノートン社製ジルコニア（Ｓａｍｐｌｅ Ｎ
ｕｍｂｅｒ ９０１６４３３；１２ｍ2／ｇ）を用いた
以外は、触媒調製例１と同様の方法で触媒を調製した。
蛍光Ｘ線分析装置で測定した結果、塩素含有量は０．０
５重量％以下であった。
【００３７】触媒調製例６ １０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＳｉＯ
2（１８０ｍ2／ｇ） 担体として富士デヴィソン社製シリカ（ＣＡＲｉＡＣＴ
−１５；１８０ｍ2／ｇ）を用いた以外は、触媒調製例
１と同様の方法で触媒を調製した。蛍光Ｘ線分析装置で
測定した結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であっ
た。
2（１８０ｍ2／ｇ） 担体として富士デヴィソン社製シリカ（ＣＡＲｉＡＣＴ
−１５；１８０ｍ2／ｇ）を用いた以外は、触媒調製例
１と同様の方法で触媒を調製した。蛍光Ｘ線分析装置で
測定した結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であっ
た。
【００３８】触媒調製例７ １０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ケイソウ土
（３５ｍ2／ｇ） 担体としてＪｏｈｎｓ−Ｍａｎｖｉｌｌｅ社製ケイソウ
土（ＨＳＣ；３５ｍ2／ｇ）を用いた以外は、触媒調製
例１と同様の方法で触媒を調製した。蛍光Ｘ線分析装置
で測定した結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であ
った。
（３５ｍ2／ｇ） 担体としてＪｏｈｎｓ−Ｍａｎｖｉｌｌｅ社製ケイソウ
土（ＨＳＣ；３５ｍ2／ｇ）を用いた以外は、触媒調製
例１と同様の方法で触媒を調製した。蛍光Ｘ線分析装置
で測定した結果、塩素含有量は０．０５重量％以下であ
った。
【００３９】触媒調製例８ １０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ） ジルコニアを１３．３７ｇとしたこと及び過レニウム酸
アンモニウム（ＮＨ4ＲｅＯ4）を加えなかったこと以外
は、触媒調製例１と同様の方法で触媒を調製した。得ら
れた触媒のＰｄとＮｉの原子比は、０．０５であった。
また、蛍光Ｘ線分析装置で測定した結果、塩素含有量は
０．０５重量％以下であった。
アンモニウム（ＮＨ4ＲｅＯ4）を加えなかったこと以外
は、触媒調製例１と同様の方法で触媒を調製した。得ら
れた触媒のＰｄとＮｉの原子比は、０．０５であった。
また、蛍光Ｘ線分析装置で測定した結果、塩素含有量は
０．０５重量％以下であった。
【００４０】触媒調製例９ ０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ） ジルコニアを１４．７８ｇとしたこと及び硝酸ニッケル
（Ｎｉ（ＮＯ3）2・６Ｈ2Ｏ）を加えなかったこと以外
は、触媒調製例１と同様の方法で触媒を調製した。ま
た、蛍光Ｘ線分析装置で測定した結果、塩素含有量は
０．０５重量％以下であった。
（Ｎｉ（ＮＯ3）2・６Ｈ2Ｏ）を加えなかったこと以外
は、触媒調製例１と同様の方法で触媒を調製した。ま
た、蛍光Ｘ線分析装置で測定した結果、塩素含有量は
０．０５重量％以下であった。
【００４１】実施例１ ２００ｍｌのステンレス製オートクレーブに、コハク酸
３５．４３ｇ（３００ｍｍｏｌ）、触媒調製例１で調製
した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ
2（９８ｍ2／ｇ）３．０ｇ及びＴＨＦ４５ｍｌを仕込
み、系内を水素で十分置換した後、５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ
になるように水素を圧入した。加熱撹拌しながら２００
℃に昇温し、水素圧を一定に保ちながら３時間水素化反
応を行った。反応終了後、オートクレーブを室温まで冷
却し、続いて水素をパージし反応液を取り出した。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した結果、γ−ブチロラクトンの収率は原料のコ
ハク酸に対して、５１．３ｍｏｌ％であった。
３５．４３ｇ（３００ｍｍｏｌ）、触媒調製例１で調製
した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ
2（９８ｍ2／ｇ）３．０ｇ及びＴＨＦ４５ｍｌを仕込
み、系内を水素で十分置換した後、５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ
になるように水素を圧入した。加熱撹拌しながら２００
℃に昇温し、水素圧を一定に保ちながら３時間水素化反
応を行った。反応終了後、オートクレーブを室温まで冷
却し、続いて水素をパージし反応液を取り出した。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した結果、γ−ブチロラクトンの収率は原料のコ
ハク酸に対して、５１．３ｍｏｌ％であった。
【００４２】実施例２ ２００ｍｌのステンレス製オートクレーブに、無水コハ
ク酸２４．０ｇ（２４０ｍｍｏｌ）、コハク酸７．１ｇ
（６０ｍｍｏｌ）、触媒調製例１で調製した１０％Ｎｉ
−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／
ｇ）３．０ｇ及びＴＨＦ４５ｍｌを仕込み、系内を水素
で十分置換した後、５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇになるように水
素を圧入した。加熱撹拌しながら２００℃に昇温し、水
素圧を一定に保ちながら３時間水素化反応を行った。反
応終了後、オートクレーブを室温まで冷却し、続いて水
素をパージし反応液を取り出した。触媒等をろ別してか
ら、ろ液をガスクロマトグラフィーにより分析した結
果、γ−ブチロラクトンの収率は原料の無水コハク酸及
びコハク酸の合計量に対して、８０．４ｍｏｌ％であっ
た。
ク酸２４．０ｇ（２４０ｍｍｏｌ）、コハク酸７．１ｇ
（６０ｍｍｏｌ）、触媒調製例１で調製した１０％Ｎｉ
−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／
ｇ）３．０ｇ及びＴＨＦ４５ｍｌを仕込み、系内を水素
で十分置換した後、５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇになるように水
素を圧入した。加熱撹拌しながら２００℃に昇温し、水
素圧を一定に保ちながら３時間水素化反応を行った。反
応終了後、オートクレーブを室温まで冷却し、続いて水
素をパージし反応液を取り出した。触媒等をろ別してか
ら、ろ液をガスクロマトグラフィーにより分析した結
果、γ−ブチロラクトンの収率は原料の無水コハク酸及
びコハク酸の合計量に対して、８０．４ｍｏｌ％であっ
た。
【００４３】実施例３ ２００ｍｌのステンレス製オートクレーブに、無水コハ
ク酸３０．０ｇ（３００ｍｍｏｌ）、触媒調製例１で調
製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／Ｚｒ
Ｏ2（９８ｍ2／ｇ）３．０ｇ及びＴＨＦ４５ｍｌを仕込
み、系内を水素で十分置換した後、５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ
になるように水素を圧入した。加熱撹拌しながら２００
℃に昇温し、水素圧を一定に保ちながら３時間水素化反
応を行った。反応終了後、オートクレーブを室温まで冷
却し、続いて水素をパージし反応液を取り出した。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した結果、γ−ブチロラクトンの収率は原料の無
水コハク酸に対して、８４．９ｍｏｌ％であった。
ク酸３０．０ｇ（３００ｍｍｏｌ）、触媒調製例１で調
製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐｄ−０．６％Ｒｅ／Ｚｒ
Ｏ2（９８ｍ2／ｇ）３．０ｇ及びＴＨＦ４５ｍｌを仕込
み、系内を水素で十分置換した後、５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ
になるように水素を圧入した。加熱撹拌しながら２００
℃に昇温し、水素圧を一定に保ちながら３時間水素化反
応を行った。反応終了後、オートクレーブを室温まで冷
却し、続いて水素をパージし反応液を取り出した。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した結果、γ−ブチロラクトンの収率は原料の無
水コハク酸に対して、８４．９ｍｏｌ％であった。
【００４４】実施例４ 触媒を触媒調製例２で調製した１０％Ｎｉ−０．６％Ｐ
ｄ−０．３％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外
は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表１に
示す。
ｄ−０．３％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外
は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表１に
示す。
【００４５】実施例５ 触媒を触媒調製例３で調製した１０％Ｎｉ−３．６％Ｐ
ｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外
は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表１に
示す。
ｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外
は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表１に
示す。
【００４６】実施例６ 触媒を触媒調製例４で調製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐ
ｄ−３．０％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外
は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表１に
示す。
ｄ−３．０％Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外
は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表１に
示す。
【００４７】実施例７ 反応温度を１８０℃にしたこと以外は、実施例３と同様
にして反応を行った。結果を表１に示す。
にして反応を行った。結果を表１に示す。
【００４８】比較例１ 触媒を触媒調製例８で調製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐ
ｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例１と
同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
ｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例１と
同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
【００４９】比較例２ 触媒を触媒調製例８で調製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐ
ｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例２と
同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
ｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例２と
同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
【００５０】比較例３ 触媒を触媒調製例８で調製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐ
ｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例３と
同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
ｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例３と
同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
【００５１】比較例４ 触媒を触媒調製例８で調製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐ
ｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例７と
同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
ｄ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例７と
同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
【００５２】比較例５ 触媒を触媒調製例７で調製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐ
ｄ−０．６％Ｒｅ／ケイソウ土（３５ｍ2／ｇ）にした
以外は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表
１に示す。
ｄ−０．６％Ｒｅ／ケイソウ土（３５ｍ2／ｇ）にした
以外は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表
１に示す。
【００５３】比較例６ 触媒を触媒調製例５で調製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐ
ｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（１２ｍ2／ｇ）にした以外
は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表１に
示す。
ｄ−０．６％Ｒｅ／ＺｒＯ2（１２ｍ2／ｇ）にした以外
は、実施例３と同様にして反応を行った。結果を表１に
示す。
【００５４】比較例７ 触媒を触媒調製例６で調製した１０％Ｎｉ−０．９％Ｐ
ｄ−０．６％Ｒｅ／ＳｉＯ2（１８０ｍ2／ｇ）にした以
外は、実施例７と同様にして反応を行った。結果を表１
に示す。
ｄ−０．６％Ｒｅ／ＳｉＯ2（１８０ｍ2／ｇ）にした以
外は、実施例７と同様にして反応を行った。結果を表１
に示す。
【００５５】比較例８ 触媒を触媒調製例９で調製した０．９％Ｐｄ−０．６％
Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例３
と同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例３
と同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
【００５６】比較例９ 触媒を触媒調製例９で調製した０．９％Ｐｄ−０．６％
Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例１
と同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
Ｒｅ／ＺｒＯ2（９８ｍ2／ｇ）にした以外は、実施例１
と同様にして反応を行った。結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
【００５８】なお表中の略語は、以下のものを示す。
【００５９】ＴＨＦ：テトラヒドロフラン ＳＡＮ：無水コハク酸 ＳＡＣ：コハク酸
【００６０】
【発明の効果】本発明によれば、飽和及び／又は不飽和
ジカルボン酸誘導体を水素化するにあたり、ジルコニア
に担持されたニッケルとＶＩＩＩ族貴金属からなるニッ
ケル系触媒にレニウムを組み合わせた触媒を用いて水素
化反応を行うことにより、従来公知の担体に担持した不
均一系触媒と比較し、温和な条件下で高収率でラクトン
類を製造することができる。
ジカルボン酸誘導体を水素化するにあたり、ジルコニア
に担持されたニッケルとＶＩＩＩ族貴金属からなるニッ
ケル系触媒にレニウムを組み合わせた触媒を用いて水素
化反応を行うことにより、従来公知の担体に担持した不
均一系触媒と比較し、温和な条件下で高収率でラクトン
類を製造することができる。
【００６１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−143865（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 307/33 B01J 23/656 B01J 23/89 C07B 61/00 300 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】飽和及び／又は不飽和ジカルボン酸誘導体
を水素化するにあたり、比表面積が５０ｍ2／ｇ以上の
ジルコニアに担持されたニッケルとＶＩＩＩ族貴金属か
らなるニッケル系触媒に、レニウムを組み合わせた触媒
を用いることを特徴とするラクトン類の製造方法。 - 【請求項２】ＶＩＩＩ族の貴金属がパラジウムである請
求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】触媒の塩素含有量が０．９重量％以下であ
る請求項１または２に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16157993A JP3194816B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | ラクトン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16157993A JP3194816B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | ラクトン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0753539A JPH0753539A (ja) | 1995-02-28 |
| JP3194816B2 true JP3194816B2 (ja) | 2001-08-06 |
Family
ID=15737811
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16157993A Expired - Fee Related JP3194816B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | ラクトン類の製造方法 |
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| JP (1) | JP3194816B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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