JP3189288B2 - Cleaning method - Google Patents

Cleaning method

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品、光学部品や
機構部品等の洗浄方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for cleaning electronic parts, optical parts and mechanical parts.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、基体の洗浄を行う方法は、フロン
113、トリクロロエチレン(以下トリクレンと称
す)、トリクロロエタン(同トリエタン)或いは塩化メ
チレン(同塩メチ)を用いた超音波洗浄が用いられてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for cleaning a substrate, ultrasonic cleaning using Freon 113, trichloroethylene (hereinafter referred to as tricrene), trichloroethane (the same triethane), or methylene chloride (the same salt as methyl) is used. .

【0003】フロン113は、オゾン層破壊物質である
ことから早急な代替化が求められている。又、トリクレ
ン、トリエタン或いは塩メチは発ガン性の物質である可
能性が高く、漏洩した場合にたいへん危険であることか
ら使用削減・禁止が叫ばれている。代替の洗浄剤も多く
開発されているが、コストが高く、上記の各溶剤に比べ
満足のいく洗浄性が確保できない等さまざまな問題点が
多く、上記各溶剤の置き換えは容易ではない。
Since chlorofluorocarbon 113 is an ozone-depleting substance, immediate replacement is required. Also, use of trichlene, triethane or salt methoxide is highly likely to be a carcinogenic substance, and is extremely dangerous when leaked. Although many alternative cleaning agents have been developed, there are many problems such as high cost, and satisfactory cleaning properties cannot be secured as compared with the above-mentioned solvents, and replacement of the above-mentioned solvents is not easy.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来技術では、環境破
壊、人体に対する危険性やコストのアップ及び洗浄品質
の低下等の問題点を有する。
The prior art has problems such as environmental destruction, danger to the human body, an increase in cost, and a decrease in cleaning quality.

【0005】そこで本発明はこのような問題点を解決す
るもので、その目的とするところは、環境破壊及び人体
に対する危険性がない洗浄剤を用い、高い洗浄品質を安
価に実現させる洗浄方法を提供することである。
Accordingly, the present invention is to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a cleaning method for realizing high cleaning quality at a low cost by using a cleaning agent which has no danger to the environment and the human body. To provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、モ
ノマー、オリゴマー或いはポリマーの少なくとも一種が
付着した基体の洗浄方法において、少なくとも水溶液を
用いたシャワー洗浄を行う工程、少なくとも界面活性剤
を含む溶液に浸漬する工程、少なくとも界面活性剤を含
み、且つ溶存ガス濃度を7ppm以上に保たれた水溶液
を用いた超音波洗浄を行う工程、少なくとも水と自由混
合する有機溶媒を含む溶液を用い浸漬・超音波洗浄、或
いは浸漬・ジェット洗浄を行う工程、遠心分離、熱風或
いは純水引き上げによって乾燥する工程を有することを
特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method for cleaning a substrate to which at least one of a monomer, an oligomer and a polymer is adhered, the method comprising at least a step of performing shower cleaning using an aqueous solution, and at least a surfactant. A step of immersing in a solution, a step of performing ultrasonic cleaning using an aqueous solution containing at least a surfactant and having a dissolved gas concentration of 7 ppm or more, and immersing in a solution containing at least an organic solvent freely mixed with water. It is characterized by having a step of performing ultrasonic cleaning or immersion / jet cleaning, a step of drying by centrifugation, hot air or pure water pulling up.

【0007】シャワー洗浄の工程について、この工程は
基体に付着した比較的密着力の小さい汚れをより簡潔に
落とすための工程である。
[0007] Regarding the shower cleaning step, this step is a step for more simply removing dirt having a relatively low adhesion to the substrate.

【0008】界面活性剤については、陽イオン界面活性
剤、陰イオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界
面活性剤のいずれについても使用できるが、特に非イオ
ン界面活性剤について良好な結果を示す。
As for the surfactant, any of a cationic surfactant, an anionic surfactant, an amphoteric surfactant and a nonionic surfactant can be used. Particularly, a good result is obtained for a nonionic surfactant. Show.

【0009】浸漬には濃度の濃いものを用いることが必
要だが、超音波洗浄はごく薄い濃度のものでかまわな
い。液温はできる限り高温にすることが望ましいが、非
イオン界面活性剤では曇点直下が最も望ましく、他の溶
液でも被洗浄基体へのダメージや作業環境性の問題から
摂氏80度以下が望ましい。
Although it is necessary to use a high concentration for the immersion, the ultrasonic cleaning may be a very low concentration. The liquid temperature is desirably as high as possible. However, the nonionic surfactant is most preferably just below the cloud point, and other solutions are desirably 80 degrees Celsius or less in view of damage to the substrate to be cleaned and work environment.

【0010】溶存ガス濃度を一定の値以上に保つ方法と
しては、ガスを直接液中に送り込む方法、半透膜を用い
る方法、渦流ポンプにより強制的にガスを送り込む方法
などがあるが、どの方法によっても良好で、特に渦流ポ
ンプを用いた方法が洗浄機構成の上でも優れている。溶
存ガス濃度は、超音波をかけた際、細かい気泡が見える
程度以上が必要で、例えば常温の水に空気をとけ込ませ
た場合で、溶存酸素濃度が7ppm以上は必要である。
As a method for maintaining the concentration of the dissolved gas at a certain value or more, there are a method of directly feeding gas into a liquid, a method of using a semi-permeable membrane, and a method of forcibly sending gas by a vortex pump. The method using a vortex pump is particularly excellent in terms of the structure of the washing machine. The dissolved gas concentration needs to be higher than the level at which fine bubbles can be seen when ultrasonic waves are applied. For example, when air is dissolved in water at room temperature, the dissolved oxygen concentration needs to be 7 ppm or higher.

【0011】超音波については、汚れの種類、基体の種
類によりさまざまな選択範囲があり、おおむね数10ミ
クロンからミリオーダーの汚れに対しては通常の28・
40kHzが良く、数10ミクロン以下の細かい汚れに
対しては100kHz以上のより高周波のものが効果的
であると思われる。
For the ultrasonic wave, there are various selection ranges depending on the type of dirt and the type of the substrate.
40 kHz is good, and a high frequency of 100 kHz or more seems to be effective for fine dirt of several tens of microns or less.

【0012】水と自由混合する有機溶媒は、低級アルコ
ール、ケトン類、セロソルブ類、グリコール類などが用
いられるが、特にN−メチル−2−ピロリドンは溶解力
が高く、前工程で落としきれない汚れがあったとしても
溶解して落とすため、仕上げ洗浄として効果的である。
水と自由混合しない有機溶媒は、その後のリンス工程に
おいて水が使用できない等の問題点が多く、あまり好ま
しくないが、界面活性材を用いて水に分散させやすくす
れば用いられる。
As the organic solvent which can be freely mixed with water, lower alcohols, ketones, cellosolves, glycols and the like are used. In particular, N-methyl-2-pyrrolidone has a high dissolving power and is a dirt which cannot be completely removed in the previous step. Even if there is, it dissolves and drops, so it is effective as a finish cleaning.
An organic solvent that is not freely mixed with water has many problems such as the inability to use water in the subsequent rinsing step, and is not so preferable. However, it is used if it can be easily dispersed in water using a surfactant.

【0013】乾燥工程は、平滑な形状で特に割れやすい
基体の場合には純水引き上げ乾燥方式が好ましく、平滑
な形状でも割れにくいもので、且つ小型のものについて
は遠心分離乾燥方式が好ましい。又従来からの熱風によ
る乾燥方式も使用できる。フロン113やイソプロピル
アルコール等を用いた蒸気乾燥も使用できるが、環境問
題や安全性などの問題点が多く、あまり好ましくない。
In the drying step, a pure water pull-up drying method is preferable in the case of a substrate having a smooth shape and particularly fragile, and a centrifugal drying method is preferable in the case of a substrate having a smooth shape and resistant to cracking and a small size. A conventional drying method using hot air can also be used. Steam drying using Freon 113, isopropyl alcohol, or the like can also be used, but is not preferred because it has many problems such as environmental problems and safety.

【0014】[0014]

【作用】本発明によれば、まずシャワー洗浄を行うが、
この工程は基体に付着した比較的密着力の小さい汚れを
より簡潔に落とすための工程である。この工程により、
次槽の少なくとも界面活性剤を含む溶液の劣化を最小限
にすることが可能になる。次に、少なくとも界面活性剤
を含む溶液に浸漬を行なうが基体をまず浸漬する事によ
り、基体と汚れとの界面に界面活性剤が入り込み、その
ことにより基体と汚れとの付着力を低下せしめることが
できる。更に超音波洗浄により汚れは基体より引き剥さ
れるが、この時溶存ガス濃度を液中に細かな気泡が表れ
る濃度以上に保っておくことにより、汚れは気泡に包ま
れるようにしてより早く基体表面から剥離する。ここま
ででほとんどの汚れは基体上から剥離しているが、より
強力に付着している汚れがあった場合に次の水と自由混
合する有機溶媒で溶解される。有機溶媒は高価で有るか
ら、それ以前の工程でできる限り汚れを落としておくこ
とが必要である。これらのことから洗浄時間の短縮が図
られ、コストの低下が図れる。
According to the present invention, first, shower cleaning is performed.
This step is a step for more simply removing dirt having a relatively low adhesion to the substrate. By this process,
Deterioration of the solution containing at least the surfactant in the next tank can be minimized. Next, the substrate is immersed in a solution containing at least a surfactant. By immersing the substrate first, the surfactant enters the interface between the substrate and the dirt, thereby reducing the adhesive force between the substrate and the dirt. Can be. Furthermore, the dirt is peeled off from the substrate by ultrasonic cleaning.At this time, by keeping the concentration of the dissolved gas at a level higher than that at which fine bubbles appear in the liquid, the dirt is wrapped in the bubbles and the substrate becomes faster. Peel from the surface. Up to this point, most of the stains have been peeled off from the substrate, but if any of the stains adhere more strongly, they are dissolved in the next organic solvent that is freely mixed with water. Since organic solvents are expensive, it is necessary to remove dirt as much as possible in the previous steps. For these reasons, the cleaning time can be reduced, and the cost can be reduced.

【0015】[0015]

【実施例】【Example】

(実施例1から9)次に、本発明の実施例1から9に係
る洗浄方法について説明する。
(Examples 1 to 9) Next, a cleaning method according to Examples 1 to 9 of the present invention will be described.

【0016】まず、ジエチレングリコールビス(アリル
カーボネート)を主原料として重合によって製造した直
径65mm、厚さ3.6mmのプラスチックフラットレンズ
を被洗浄基体とした。
First, a plastic flat lens having a diameter of 65 mm and a thickness of 3.6 mm produced by polymerization using diethylene glycol bis (allyl carbonate) as a main raw material was used as a substrate to be cleaned.

【0017】汚れは基体を製造する際に基体に付着する
原料モノマー・オリゴマー・ポリマーである。
Soil is a raw material monomer / oligomer / polymer that adheres to the substrate when the substrate is manufactured.

【0018】シャワーは毎分20リットルの市水で行な
った。浸漬液の界面活性剤は非イオン系(ジョンソン
アルカリクリーナーM−6000)とし、濃度は10%
とした。超音波洗浄液は浸漬液と同じ界面活性剤を用
い、濃度は1%とした。超音波は、周波数28kHz、
出力500Wのもの(島田理化工業 MODEL ET
50S−7)を用いた。洗浄液中の溶存ガス濃度は、溶
存酸素計(堀場製作所DO−8F)およびDO電極(堀
場製作所5410)を用い、溶存酸素濃度に置き換えて
測定した。溶存酸素濃度及び使用した有機溶剤の種類を
表1に示す。
The shower was performed with 20 liters of city water per minute. Surfactants in the immersion liquid are nonionic (Johnson
Alkaline cleaner M-6000) with a concentration of 10%
And The same cleaning agent as the immersion liquid was used for the ultrasonic cleaning liquid, and the concentration was 1%. The ultrasonic wave has a frequency of 28 kHz,
500W output (Shitada Rika Model ET
50S-7) was used. The dissolved gas concentration in the cleaning solution was measured using a dissolved oxygen meter (Horiba Seisakusho DO-8F) and a DO electrode (Horiba Seisakusho 5410), replacing the dissolved oxygen concentration with the dissolved oxygen concentration. Table 1 shows the dissolved oxygen concentration and the type of the organic solvent used.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】乾燥は摂氏60度の温純水から基体を3mm
/Secで引き上げた後温風にて乾燥した。
Drying is performed by heating the substrate to a depth of 3 mm from hot pure water at 60 degrees Celsius.
After being pulled up at / Sec, it was dried with warm air.

【0021】洗浄評価は目視検査とレーザー光散乱法に
よる表面異物欠陥装置(日立,GI―1100)を用
い、0.2ミクロン以上の塵埃粒子数の測定を行った。
結果を表2に示す。
For cleaning evaluation, the number of dust particles having a diameter of 0.2 μm or more was measured using a visual inspection and a surface foreign matter defect device (Hitachi, GI-1100) by a laser light scattering method.
Table 2 shows the results.

【0022】[0022]

【表2】 [Table 2]

【0023】表2に示すとおり、実施例1から9に係る
洗浄方法において、溶存酸素濃度が7ppm以上であれば
有機溶剤の種類にかかわらず洗浄結果は良好である。一
方、比較例1から6においては十分な清浄度は得られて
いない。
As shown in Table 2, in the cleaning methods according to Examples 1 to 9, as long as the dissolved oxygen concentration is 7 ppm or more, the cleaning results are good regardless of the type of the organic solvent. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 6, sufficient cleanliness was not obtained.

【0024】また、比較例6に示すように、有機溶剤で
の洗浄工程を省略した場合にも十分な清浄度は得られて
いない。
Further, as shown in Comparative Example 6, even when the washing step with an organic solvent was omitted, sufficient cleanliness was not obtained.

【0025】(実施例10から18)次に、実施例1か
ら9に対して、界面活性剤を変えた実施例10から18
に係る洗浄方法について説明する。
(Examples 10 to 18) Next, Examples 10 to 18 in which the surfactant was changed from Examples 1 to 9 were used.
Will be described.

【0026】実施例1から9の洗浄方法に対して変更し
たのは浸漬液、超音波洗浄液の種類だけであり、そのほ
かの条件等は実施例1に準ずる。浸漬・超音波液に使用
した界面活性剤の種類を表3に示す。
The only difference between the cleaning methods of Examples 1 to 9 is the type of the immersion liquid and the ultrasonic cleaning liquid, and other conditions are the same as in Example 1. Table 3 shows the types of surfactants used in the immersion / ultrasonic liquid.

【0027】[0027]

【表3】 [Table 3]

【0028】乾燥及び評価方法も実施例1から9に準ず
る。評価結果を表4に示す。
The drying and evaluation methods are the same as in Examples 1 to 9. Table 4 shows the evaluation results.

【0029】[0029]

【表4】 [Table 4]

【0030】表4に示すように、実施例10から18に
係る洗浄方法において、界面活性剤の種類にかかわらず
洗浄結果は良好である。
As shown in Table 4, in the cleaning methods according to Examples 10 to 18, the cleaning results are good regardless of the type of the surfactant.

【0031】(実施例19から24)次に、洗浄基体と
汚れの種類を変えた実施例19から24に係る洗浄方法
について説明する。
(Embodiments 19 to 24) Next, a description will be given of a cleaning method according to Embodiments 19 to 24 in which the types of the cleaning substrate and the stain are changed.

【0032】実施例1の洗浄方法にて表5に示す6種類
の基体と汚れについて洗浄した。
The six types of substrates and dirt shown in Table 5 were cleaned by the cleaning method of Example 1.

【0033】[0033]

【表5】 [Table 5]

【0034】乾燥及び評価方法は実施例1から9に準ず
る。評価結果を表6に示す。
The drying and evaluation methods are the same as in Examples 1 to 9. Table 6 shows the evaluation results.

【0035】[0035]

【表6】 [Table 6]

【0036】表6に示すように実施例19から24に係
る洗浄方法において、基体の種類および汚れの種類にか
かわらず洗浄結果は良好である。
As shown in Table 6, in the cleaning methods according to Examples 19 to 24, the cleaning results were good regardless of the type of the substrate and the type of dirt.

【0037】次に、シャワー工程・浸漬工程を省略した
場合の洗浄性について述べる。
Next, the cleaning property when the shower step and the immersion step are omitted will be described.

【0038】(実施例25から27)シャワー工程を省
略したときの比較例7から9を説明するための実施例2
5から27に係る洗浄方法について説明する。
(Examples 25 to 27) Example 2 for explaining Comparative Examples 7 to 9 when the shower step was omitted.
The cleaning method according to 5 to 27 will be described.

【0039】実施例1の洗浄方法で洗浄を行ったが、実
施例25から27はそれぞれ同じ洗浄液を用いて洗浄し
た10枚目・20枚目・30枚目である。実施例28は
実施例1からシャワー工程を省略して洗浄した1枚目で
ある。同様に比較例7から9は、実施例1からシャワー
工程を省略して洗浄した10枚目・20枚目・30枚目
である。比較例10は、実施例1から浸漬工程を省略し
たものである。
The cleaning was performed by the cleaning method of Example 1. In Examples 25 to 27, the tenth, twentieth and thirty sheets were cleaned using the same cleaning liquid. Example 28 is the first sheet which was cleaned from Example 1 by omitting the shower step. Similarly, Comparative Examples 7 to 9 are the tenth, twentieth, and thirtieth sheets cleaned from Example 1 by omitting the shower step. In Comparative Example 10, the immersion step was omitted from Example 1.

【0040】乾燥及び評価方法は実施例1から9に準ず
る。評価結果を表7に示す。
The drying and evaluation methods are the same as in Examples 1 to 9. Table 7 shows the evaluation results.

【0041】[0041]

【表7】 [Table 7]

【0042】表7に示すように実施例25から27に係
る洗浄方法において、シャワー工程を行っていれば30
枚目でも表面の異物の数は少ないレベルのままである。
また、実施例28に係る洗浄方法において、シャワー工
程を省略しても1枚目であれば洗浄性は失われない。一
方、比較例7から9に係る洗浄方法において、シャワー
工程を省略すると10枚目ですでに満足のいく洗浄性は
得られなくなってしまう。
As shown in Table 7, in the cleaning method according to Examples 25 to 27, if the shower step was performed, 30
The number of foreign substances on the surface remains at a low level even in the second sheet.
Further, in the cleaning method according to Example 28, even if the shower step is omitted, the cleaning property is not lost as long as it is the first sheet. On the other hand, in the cleaning methods according to Comparative Examples 7 to 9, if the shower step is omitted, satisfactory cleaning properties cannot be obtained already on the tenth sheet.

【0043】図1は、実施例1(シャワー工程あり)及
び実施例28(シャワー工程なし)に係る洗浄方法にお
いて、N−メチル−2−ピロリドンの後のリンス槽にお
ける液中パーティクルの数を測定し洗浄枚数との相関を
取ったものである。液中パーティクルの測定は、シグマ
テック製TD−30液中パーティクルカウンターを用
い、1ml中の0.3ミクロン以上のパーティクル数と
して表した。
FIG. 1 shows the number of particles in a liquid in a rinsing tank after N-methyl-2-pyrrolidone in the cleaning method according to Example 1 (with a shower step) and Example 28 (without a shower step). This is a correlation with the number of cleanings. The measurement of particles in the liquid was expressed as the number of particles of 0.3 μm or more in 1 ml using a TD-30 liquid particle counter manufactured by Sigma-Tech.

【0044】図1に示すように、シャワー工程を行った
ものに対して行わなかったものは、表面異物欠陥装置に
よる測定値と同様、液中パーティクル数においても明ら
かに劣っている。このことから、シャワー工程があるこ
とによって、洗浄液の劣化をふせぐことができる。
As shown in FIG. 1, those not subjected to the showering step are clearly inferior in the number of particles in the liquid, similarly to the values measured by the surface foreign matter defect device. For this reason, the presence of the shower step can prevent deterioration of the cleaning liquid.

【0045】又、表7の比較例10に示すように、浸漬
工程を省略したものも明らかに洗浄性が劣ってしまう。
Further, as shown in Comparative Example 10 in Table 7, the one in which the immersion step was omitted obviously had poor cleaning properties.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明は上記のごとく、シャワー洗浄に
より付着力の弱い汚れをあらかじめ落としておくことに
より、次槽以降の洗浄液の劣化を防ぎ、液寿命を延ばす
ことが出来る。次に超音波をかける前にあらかじめ浸漬
を行い、洗浄液中の溶存ガス濃度を一定の値以上に保つ
ことにより洗浄時間の短縮を図ることが出来る。次に水
と自由混合する有機溶媒を使用して仕上げ洗浄すること
により、洗浄品の品質を高めることが出来る。更に、洗
浄、乾燥ともフロン113、トリクレン、トリエタン或
いは塩メチ等の溶媒をいっさい使用せずに行えることか
ら環境問題に有利な条件で洗浄工程を行うことが出来
る。以上のようなさまざまな点からも優れた洗浄方式で
ある。
As described above, according to the present invention, by removing dirt having a weak adhesive force by shower cleaning in advance, deterioration of the cleaning liquid in the next bath and thereafter can be prevented and the liquid life can be extended. Next, immersion is performed in advance before applying ultrasonic waves, and the cleaning time can be reduced by maintaining the concentration of the dissolved gas in the cleaning liquid at a certain value or more. Next, the quality of the cleaned product can be improved by performing final cleaning using an organic solvent that is freely mixed with water. Further, since both washing and drying can be performed without using any solvent such as Freon 113, trichlene, triethane or salt methoxide, the washing step can be performed under conditions that are advantageous for environmental issues. It is an excellent cleaning method from various points as described above.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明におけるシャワー工程が、洗浄液の劣化
を防ぐことを示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing that a showering step in the present invention prevents deterioration of a cleaning liquid.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 モノマー、オリゴマー或いはポリマーの
少なくとも一種が付着した基体の洗浄方法において、 少なくとも水溶液を用いたシャワー洗浄を行う工程、 少なくとも界面活性剤を含む溶液に浸漬する工程、 少なくとも界面活性剤を含み、且つ溶存ガス濃度を7p
pm以上に保たれた水溶液を用いた超音波洗浄を行う工
程、 少なくとも水と自由混合する有機溶媒を含む溶液を用い
浸漬・超音波洗浄、或いは浸漬・ジェット洗浄を行う工
程、 遠心分離、熱風或いは純水引き上げによって乾燥する工
程を有することを特徴とする洗浄方法。
1. A method for cleaning a substrate to which at least one of a monomer, an oligomer and a polymer is attached, a step of performing shower cleaning using at least an aqueous solution, a step of immersing at least in a solution containing a surfactant, Includes and the dissolved gas concentration is 7p
Ultrasonic cleaning using an aqueous solution maintained at pm or more, immersion / ultrasonic cleaning or immersion / jet cleaning using a solution containing at least an organic solvent freely mixed with water, centrifugation, hot air or A cleaning method comprising a step of drying by pulling up pure water.
【請求項2】 基体が高分子体であることを特徴とする
請求項1記載の洗浄方法。
2. The cleaning method according to claim 1, wherein the substrate is a polymer.
【請求項3】 前記有機溶媒がN−メチル−2−ピロリ
ドンであることを特徴とする請求項1または2に記載の
洗浄方法。
3. The cleaning method according to claim 1, wherein the organic solvent is N-methyl-2-pyrrolidone.
【請求項4】 有機溶媒が、低級アルコール類、ケトン
類、セロソルブ類、グリコール類から選ばれる少なくと
も1種であることを特徴とする請求項1または2に記載
の洗浄方法。
4. The cleaning method according to claim 1, wherein the organic solvent is at least one selected from lower alcohols, ketones, cellosolves, and glycols.
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