JP2951862B2 - Cleaning method - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【発明の技術分野】本発明は、電子部品や光学部品等
の、精密な洗浄の要求される分野に適用可能な洗浄方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning method applicable to fields requiring precise cleaning of electronic parts and optical parts.
【0002】[0002]
【発明の技術的背景とその問題点】従来、半導体、実装
基板などの電子部品や、レンズなどの光学部品の洗浄に
フロンが多用されていたが、フロンにはオゾン層破壊等
の問題があった。そこで、フロンを代替する洗浄剤およ
び洗浄方法として種々の検討がなされ、近年、半導体や
液晶のカラーフィルターのような精密洗浄が必要な分野
を中心に、水系洗浄剤による洗浄を行った後、アルコー
ルのような親水性の有機溶媒により蒸気乾燥を行う洗浄
方法が実施されるようになった。しかしながら、前述の
水系洗浄剤による洗浄を行った後、親水性の有機溶媒に
より蒸気乾燥を行う洗浄方法では、沸点に近い高温度の
有機溶媒の蒸気にさらされる関係からソルベントアタッ
ク、すなわちプラスチック部品や樹脂被膜を白化させた
りクラックを発生させやすいという問題や、凝縮熱が大
きい関係から被洗浄物表面で生ずる凝縮液の量が少ない
ため洗浄が不十分になりやすいことに加え、アルコール
などの親水性溶媒は水を溶解しやすい関係から被洗浄物
の上に残滓(シミ)を発生しやすいという問題があっ
た。Technical Background of the Invention and Problems Thereof Conventionally, chlorofluorocarbon has been frequently used for cleaning electronic components such as semiconductors and mounting substrates and optical components such as lenses, but fluorocarbon has problems such as destruction of the ozone layer. Was. Therefore, various studies have been made on a cleaning agent and a cleaning method that substitute for CFCs, and in recent years, cleaning has been carried out with an aqueous cleaning agent, especially in fields requiring precise cleaning such as semiconductors and liquid crystal color filters, and then alcohol has been used. Cleaning methods of performing steam drying with a hydrophilic organic solvent such as described above have come to be implemented. However, in the cleaning method of performing steam drying with a hydrophilic organic solvent after performing the above-described cleaning with an aqueous cleaning agent, a solvent attack, that is, plastic parts or the like, is performed due to exposure to high-temperature organic solvent vapor near the boiling point. In addition to problems such as whitening and cracking of the resin film, and a large amount of heat of condensation, the amount of condensate generated on the surface of the object to be cleaned is small, so cleaning is likely to be insufficient, and hydrophilic properties such as alcohol Since the solvent easily dissolves water, there is a problem that residue (stain) is easily generated on the object to be cleaned.
【0003】[0003]
【発明の目的】本発明はかかる問題点に鑑みてなされた
もので、プラスチック部品や樹脂被膜を白化させたりク
ラックを発生させることなく、かつシミのない洗浄の可
能な洗浄方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a cleaning method capable of washing without causing whitening or cracking of a plastic part or a resin film and without causing stains. Aim.
【0004】[0004]
【発明の構成】上記目的を達成するために、本発明者ら
は鋭意検討を行った結果、被洗浄物を水系洗浄剤で洗浄
し、次いで水好ましくは純水ですすぎを行い、親水性溶
媒で水切りを行った後、揮発性オルガノシロキサンで蒸
気乾燥を行う洗浄方法において、親水性溶媒および揮発
性オルガノシロキサンとして、特定の組み合わせのもの
を使用すること、具体的には、揮発性オルガノシロキサ
ンとして、沸点が160 ℃未満で、かつ親水性溶媒の沸点
もしくは共沸する場合はその共沸温度よりも15℃以上高
いものを選択使用することが有効であることを見出し、
先に特許出願をするに至った(特願平6−319647号)。
この方法によれば、一般的な被洗浄材に対しては良好な
洗浄性を得ることが可能であるが、その後の検討によれ
ば、形状が複雑などの理由により前工程の液の次工程の
槽への持込み量の多い被洗浄材の洗浄や、短時間で多量
の被洗浄材を洗浄しようとする場合には、蒸気乾燥槽に
短時間に多量の親水性溶媒が持ち込まれるため、その揮
散除去がうまく行えず、そのためソルベントアタックや
シミが発生しやすいという問題があることが判明した。
そこで本発明者らは更に検討を行った結果、被洗浄物を
水系洗浄剤で洗浄し、次いで水好ましくは純水ですすぎ
を行い、親水性溶媒で水切りを行った後、揮発性オルガ
ノシロキサンで蒸気乾燥を行う洗浄方法において、揮発
性オルガノシロキサンとして、沸点が160 ℃未満で、か
つ(c) の親水性溶媒の沸点もしくは共沸する場合はその
共沸温度よりも15℃以上高いものを使用する上述の洗浄
方法において、親水性溶媒による水切りと揮発性オルガ
ノシロキサンによる蒸気乾燥の工程の間に更に揮発性オ
ルガノシロキサンによるすすぎの工程を設けることによ
り、上述の問題点が解決できることを見出し、本発明を
完成するに至った。即ち本発明は、被洗物に付着する汚
れ成分を除去することを目的として、 (1) (a) 水系洗浄剤で洗浄する工程 (2) (b) 水ですすぎを行う工程 (3) (c) 親水性溶媒で水切りを行う工程 (4) (d) 揮発性オルガノシロキサンですすぎを行う工程 (5) 上記(d) と同種の揮発性オルガノシロキサンで蒸気
乾燥を行う工程 からなる工程にて順次処理を行う洗浄方法であって、
(d) の揮発性オルガノシロキサンとして、沸点が160 ℃
未満で、かつ(c) の親水性溶媒の沸点もしくは共沸する
場合はその共沸温度よりも15℃以上高いものを使用する
ことを特徴とする洗浄方法である。The present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object. As a result, the object to be cleaned is washed with a water-based cleaning agent and then rinsed with water, preferably pure water, to obtain a hydrophilic solvent. In the washing method of performing steam drying with a volatile organosiloxane after draining with, using a specific combination of a hydrophilic solvent and a volatile organosiloxane, specifically, as a volatile organosiloxane It has been found that it is effective to select and use a solvent having a boiling point of less than 160 ° C. and a boiling point of a hydrophilic solvent or, in the case of azeotropic boiling, at least 15 ° C. higher than its azeotropic temperature,
We have filed a patent application earlier (Japanese Patent Application No. 6-319647).
According to this method, it is possible to obtain a good cleaning property for a general material to be cleaned. When cleaning a large amount of material to be washed into the tank or cleaning a large amount of material in a short time, a large amount of hydrophilic solvent is brought into the steam drying tank in a short time. It was found that volatilization and removal could not be performed well, and there was a problem that solvent attack and spots were likely to occur.
Therefore, the present inventors further studied, and as a result, the object to be washed was washed with a water-based detergent, then rinsed with water, preferably pure water, drained with a hydrophilic solvent, and then with a volatile organosiloxane. In the washing method of performing steam drying, use a volatile organosiloxane having a boiling point of less than 160 ° C and a boiling point of the hydrophilic solvent (c) or at least 15 ° C higher than the azeotropic temperature in the case of azeotropic boiling. In the above-mentioned washing method, it was found that the above-mentioned problem can be solved by further providing a step of rinsing with a volatile organosiloxane between the step of draining with a hydrophilic solvent and the step of steam drying with a volatile organosiloxane. The invention has been completed. That is, the present invention aims at removing dirt components adhering to the object to be washed, (1) (a) a step of washing with a water-based detergent (2) (b) a step of rinsing with water (3) ( c) Step of draining with a hydrophilic solvent (4) (d) Step of rinsing with a volatile organosiloxane (5) Step of steam drying with a volatile organosiloxane of the same type as (d) above A cleaning method that performs sequential processing,
As the volatile organosiloxane (d), the boiling point is 160 ° C.
The washing method is characterized by using a solvent having a boiling point of less than or less than (c) a boiling point or an azeotropic temperature of at least 15 ° C. higher than the azeotropic temperature.
【0005】以下、本発明の洗浄方法を順を追って説明
する。本発明では、先ず(1) の工程として、被洗物に付
着する汚れ成分を水系洗浄剤で洗浄する。被洗物として
は、半導体、実装基板などの電子部品や、レンズなどの
光学部品が挙げられ、素材的には、ガラス製、プラスチ
ック製等のものが挙げられ、特に後述のようにプラスチ
ック部分を持つ部品や樹脂皮膜の施された部品が好適で
ある。(1) の工程で用いられる(a) の水系洗浄剤として
は、界面活性剤の水溶液が一般的である。界面活性剤の
種類は特に限定されるものではなく、非イオン性界面活
性剤、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、
両性界面活性剤のいずれでもよい。具体的な例として
は、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エス
テル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン(以
下POEという)アルコールエーテル、POEアルキル
フェノールエーテル、POE脂肪酸エステル、POEグ
リセリン脂肪酸エステル、POEソルビタン脂肪酸エス
テル、POE脂肪酸アミド、POE・ポリオキシプロピ
レン(以下POPという)ブロック共重合体などの非イ
オン性界面活性剤;アルキルベンゼンスルフォン酸ナト
リウム、アルキルPOEスルフォン酸ナトリウム、アル
キルベンゼンPOEスルフォン酸ナトリウム、グリセリ
ン脂肪酸モノエステルソジウムホスフェートなどの陰イ
オン性界面活性剤;塩化テトラアルキルアンモニウム、
塩化トリメチルベンジルアンモニウムのような陽イオン
性界面活性剤;アルキルアミノアルカン酸、トリアルキ
ルアミノマレイン酸のような両性界面活性剤が例示され
る。洗浄方法は特に限定されるものではなく、浸漬、浸
漬揺動、浸漬超音波洗浄やシャワー洗浄などのいずれの
方法でもよい。この水系洗浄剤による洗浄は1槽のみで
行ってもよいし、複数槽で行っても良い。Hereinafter, the cleaning method of the present invention will be described step by step. In the present invention, first, as a step (1), dirt components adhering to an object to be washed are washed with an aqueous detergent. Examples of objects to be washed include electronic components such as semiconductors and mounting boards, and optical components such as lenses.The materials include glass and plastic, and especially plastic parts as described below. It is preferable to use a component having the resin component or a component provided with a resin film. As the aqueous detergent (a) used in the step (1), an aqueous solution of a surfactant is generally used. The type of the surfactant is not particularly limited, and a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant,
Any of the amphoteric surfactants may be used. Specific examples include glycerin fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, sucrose fatty acid ester, polyoxyethylene (hereinafter referred to as POE) alcohol ether, POE alkylphenol ether, POE fatty acid ester, POE glycerin fatty acid ester, POE sorbitan fatty acid ester, POE Nonionic surfactants such as fatty acid amide, POE / polyoxypropylene (hereinafter referred to as POP) block copolymers; sodium alkylbenzene sulfonate, sodium alkyl POE sulfonate, sodium alkylbenzene POE sulfonate, sodium glycerin fatty acid monoester sodium phosphate Anionic surfactants such as tetraalkylammonium chloride,
Examples include cationic surfactants such as trimethylbenzylammonium chloride; amphoteric surfactants such as alkylaminoalkanoic acid and trialkylaminomaleic acid. The cleaning method is not particularly limited, and any method such as immersion, immersion rocking, immersion ultrasonic cleaning, and shower cleaning may be used. The cleaning with the aqueous cleaning agent may be performed in only one tank, or may be performed in a plurality of tanks.
【0006】次いで(2) の工程として、(b) の水ですす
ぎを行い、被洗物に残留する先の水系洗浄剤の成分であ
る界面活性剤などを除去する。(b) の水としては純水を
用いるのが好ましい。(b) によるすすぎは1槽のみで行
ってもよいし、複数槽で行っても良いが、特に精密な洗
浄が要求される場合には複数槽とし、浮遊微粒子やイオ
ン成分を除去した純水を少なくとも最終すすぎ槽に使用
することが好ましい。すすぎ方法は特に限定されるもの
ではなく、浸漬、浸漬揺動、浸漬超音波すすぎやシャワ
ーすすぎなどいずれの方法でもよい。水または純水です
すいだ段階で乾燥を行おうとすると、その蒸発速度が遅
いため乾燥に時間を要するだけでなくシミが発生しやす
いため、次の工程(3) として(c) の親水性溶媒で被洗物
の表面の水を除去、すなわち水切りを行う。水切り方法
は特に限定されるものではなく、浸漬、浸漬揺動、浸漬
超音波洗浄やシャワーなどいずれの方法でもよい。親水
性溶媒で水切りを終えた段階で乾燥を行おうとすると、
親水性溶媒は表面張力が一般に大きいため凝縮しやす
く、また、蒸発熱が大きい関係から乾燥に時間を要する
だけでなくシミが発生しやすい。そこで、次の工程でい
きなり(d) の揮発性オルガノシロキサンで蒸気乾燥を行
おうとすると、前述の如く、形状が複雑などの理由によ
り(c) の親水性溶媒の次工程の槽への持込み量の多い被
洗浄材の洗浄や、短時間で多量の被洗浄材を洗浄しよう
とする場合には、蒸気乾燥槽に短時間に多量の親水性溶
媒が持ち込まれるため、その揮散除去がうまく行えず、
そのためソルベントアタックやシミの発生を完全に防ぐ
ことができない。そこで本発明では、蒸気乾燥の前に
(4) の工程、即ち(d) の揮発性オルガノシロキサンによ
るすすぎ工程を設けることにより、(5) の蒸気乾燥工程
への(c) の親水性溶媒の持ち込み量を減少させるもので
ある。この(4) の工程における(d) の揮発性オルガノシ
ロキサンによるすすぎの方法は特に限定されるものでは
なく、浸漬、浸漬揺動、浸漬超音波すすぎやシャワーす
すぎなどいずれの方法でもよい。(4) の工程は1槽のみ
で行ってもよいし、複数槽で行っても良いが、複数槽を
設けることにより本発明の特徴であるソルベントアタッ
クやシミのない良好な洗浄を行うことができる。[0006] Next, in the step (2), rinsing with the water of the step (b) is performed to remove the surfactant and the like, which are components of the water-based detergent remaining on the article to be washed. As the water in (b), it is preferable to use pure water. The rinsing according to (b) may be performed in only one tank or in multiple tanks. However, if particularly precise cleaning is required, use multiple tanks and use pure water from which suspended particulates and ionic components have been removed. Is preferably used in at least the final rinsing tank. The rinsing method is not particularly limited, and any method such as immersion, immersion rocking, immersion ultrasonic rinsing, and shower rinsing may be used. If drying is attempted at the stage of rinsing with water or pure water, the evaporation rate is slow and not only takes time to dry, but also stains easily occur, so the hydrophilic solvent of (c) is used as the next step (3). To remove water from the surface of the object to be washed, that is, to drain water. The draining method is not particularly limited, and any method such as immersion, immersion rocking, immersion ultrasonic cleaning, and showering may be used. If you try to dry after draining with a hydrophilic solvent,
A hydrophilic solvent generally has a large surface tension and thus is easily condensed. Further, since the heat of evaporation is large, not only time is required for drying but also stains are easily generated. Therefore, in the next step, when the vapor drying is performed with the volatile organosiloxane (d), as described above, the amount of the hydrophilic solvent (c) brought into the tank in the next step due to the complicated shape, etc. When cleaning a large amount of material to be cleaned or a large amount of material to be cleaned in a short period of time, a large amount of hydrophilic solvent is brought into the steam drying tank in a short period of time, so that volatilization and removal cannot be performed successfully. ,
Therefore, the occurrence of solvent attack and spots cannot be completely prevented. Therefore, in the present invention, before steam drying,
By providing the step (4), ie, the step (d) of rinsing with the volatile organosiloxane, the amount of the hydrophilic solvent (c) brought into the steam drying step (5) is reduced. The method of rinsing with the volatile organosiloxane (d) in the step (4) is not particularly limited, and any method such as immersion, immersion rocking, immersion ultrasonic rinsing, or shower rinsing may be used. The step (4) may be performed in only one tank, or may be performed in a plurality of tanks. By providing a plurality of tanks, it is possible to perform good cleaning without a solvent attack or a stain which is a feature of the present invention. it can.
【0007】最後に(5) の工程、即ち上記(d) と同種の
揮発性オルガノシロキサンで蒸気乾燥を行う工程にて洗
浄を完了するが、この時被洗物に付着した(c) が(d) の
凝縮液により洗い落とされることにより、洗浄回数を増
すにつれて(d) の中に(c) が持ち込まれる。(d) の揮発
性オルガノシロキサンは濡れ拡がり性が良好で乾燥速度
が速く、また凝縮温度においてもプラスチックにソルベ
ントアタックを起こすことがないが、(c) の親水性溶媒
はそのような高温度ではプラスチックにソルベントアタ
ックを起こし、また濡れ拡がり性が劣り乾燥速度が遅い
ため被洗物にシミを発生させやすい。したがって前述の
ようにして(d) に持ち込まれる(c) が(d) 中に蓄積する
とソルベントクラックやシミが発生しやすくなる。Finally, the washing is completed in the step (5), that is, the step of performing steam drying with the same kind of volatile organosiloxane as the above (d). At this time, (c) adhering to the article to be washed is (C) By being washed off by the condensate of d), (c) is introduced into (d) as the number of washings increases. The volatile organosiloxane (d) has good wet-spreadability and a high drying rate, and does not cause solvent attack on the plastic even at the condensation temperature.However, the hydrophilic solvent (c) cannot be used at such a high temperature. It causes solvent attack on the plastic, and has poor wet-spreading properties and a low drying speed, so that stains are easily generated on the object to be washed. Therefore, as described above, if (c) brought into (d) accumulates in (d), solvent cracks and spots are likely to occur.
【0008】本発明はこれらの問題を防ぐために(c) お
よび(d) を次のような条件を満たすように選定する。即
ち、(d) の揮発性オルガノシロキサンとして、その沸点
が160 ℃未満好ましくは110 ℃未満で、かつ(c) の親水
性溶媒の沸点もしくは(c) の親水性溶媒と共沸する場合
はその共沸温度よりも15℃以上好ましくは20℃以上高い
ものを選ぶことにより前述の問題を防ぐことができる。
この温度差は蒸気洗浄の継続中に優先的に(c) の親水性
溶媒を揮散させ、(d) の揮発性オルガノシロキサン中に
(c) を蓄積させないために必要な温度差である。温度差
がこれより小さいと前述したように、蒸気乾燥操作の継
続に伴い(c) が(d) 中に蓄積するとソルベントアタック
やシミが発生しやすくなる。かつ、また(d) の沸点を16
0 ℃未満好ましくは110℃未満とする理由は、沸点がこ
れより高いと、蒸気乾燥中にプラスチック部品を軟化変
形させたり、ガラスなどの熱衝撃に弱い部品を破損させ
る恐れがあるからである。In the present invention, in order to prevent these problems, (c) and (d) are selected so as to satisfy the following conditions. That is, when the volatile organosiloxane (d) has a boiling point of less than 160 ° C., preferably less than 110 ° C. and azeotropes with the boiling point of the hydrophilic solvent of (c) or the hydrophilic solvent of (c), The above problem can be prevented by selecting a material having a temperature higher than the azeotropic temperature by 15 ° C. or more, preferably by 20 ° C. or more.
This temperature difference preferentially volatilizes the hydrophilic solvent of (c) during the steam cleaning and causes the volatile organosiloxane of (d) to evaporate.
(c) is the temperature difference required to prevent accumulation. If the temperature difference is smaller than this, as described above, if (c) and (d) accumulate in (d) with the continuation of the steam drying operation, solvent attack and spots are likely to occur. And the boiling point of (d) is 16
The reason why the boiling point is lower than 0 ° C., preferably lower than 110 ° C. is that if the boiling point is higher than this, plastic parts may be softened and deformed during steam drying or parts that are vulnerable to thermal shock such as glass may be damaged.
【0009】(c) の親水性溶媒としては特に限定される
ものではないが、親水性が高く水切り性に優れ、かつ、
(d) の揮発性オルガノシロキサンとの相溶性に優れるこ
とからメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ルのようなアルコール系溶媒が推奨される。また、(d)
の揮発性オルガノシロキサンとしては、160 ℃未満好ま
しくは110 ℃未満という沸点を満足する意味で、ヘキサ
メチルジシロキサンおよびオクタメチルトリシロキサン
が例示され、ヘキサメチルジシロキサンが特に好まし
い。これら(c) と(d) の組み合わせとして以下が例示さ
れる。ヘキサメチルジシロキサン(沸点;100 ℃)とメ
タノール(ヘキサメチルジシロキサンと58.7℃で共
沸)、ヘキサメチルジシロキサンとエタノール(沸点;
78℃)、ヘキサメチルジシロキサンとイソプロピルアル
コール(ヘキサメチルジシロキサンと76.4℃で共沸)、
オクタメチルトリシロキサン(沸点;149 ℃)とメタノ
ール、オクタメチルトリシロキサンとエタノール、オク
タメチルトリシロキサンとイソプロピルアルコール。The hydrophilic solvent (c) is not particularly limited, but has a high hydrophilicity and excellent drainability, and
Alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol are recommended because of excellent compatibility with the volatile organosiloxane (d). (D)
Examples of the volatile organosiloxanes include hexamethyldisiloxane and octamethyltrisiloxane in the sense of satisfying the boiling point of less than 160 ° C, preferably less than 110 ° C, and hexamethyldisiloxane is particularly preferred. The following are examples of combinations of these (c) and (d). Hexamethyldisiloxane (boiling point; 100 ° C) and methanol (azeotrope with hexamethyldisiloxane at 58.7 ° C), hexamethyldisiloxane and ethanol (boiling point;
78 ° C), hexamethyldisiloxane and isopropyl alcohol (azeotrope with hexamethyldisiloxane at 76.4 ° C),
Octamethyltrisiloxane (boiling point: 149 ° C) and methanol, octamethyltrisiloxane and ethanol, octamethyltrisiloxane and isopropyl alcohol.
【0010】本発明では洗浄を継続しても、(5) の工程
で用いられる蒸気洗浄槽中の(d) の揮発性オルガノシロ
キサンに(c) の親水性溶媒が蓄積することがないため、
蒸気洗浄槽中の(d) は交換や再生を行う必要はなく、単
に消耗量を追加するだけでよい。尚、(4) の工程で用い
られるすすぎ槽中の(d) の揮発性オルガノシロキサンに
は(c) の親水性溶媒が持ち込まれるため、定期的に液の
交換や再生を行うことが好ましい。In the present invention, even if the washing is continued, the hydrophilic solvent of (c) does not accumulate in the volatile organosiloxane of (d) in the steam washing tank used in the step (5).
It is not necessary to replace or regenerate (d) in the steam cleaning tank, and it is only necessary to add consumption. Since the hydrophilic solvent of (c) is carried into the volatile organosiloxane of (d) in the rinsing tank used in the step (4), it is preferable to periodically exchange and regenerate the liquid.
【0011】[0011]
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1〜2および比較例1〜3 アクリル系フォトレジスト剤を塗布した10cm×10cmのガ
ラス板を試験体とし、その10枚を網籠に入れ、表1に示
す組成からなる水系洗浄剤にて洗浄した後、上水ですす
ぎを行い、さらに純水ですすぎを行った。次いで、やは
り表1に示す親水性溶媒で水切りを行った後、表1に示
す揮発性オルガノシロキサンですすぎを行い、更に同じ
揮発性オルガノシロキサンにて図2に示す蒸気乾燥槽で
1分間蒸気乾燥を行った。最初の洗浄後およびこの洗浄
を10回および100 回繰り返した後の試験体の表面状態の
観察と、蒸気乾燥槽中の液組成をガスクロマトグラフで
分析して、水切り槽から持ち込まれた水切り剤の蓄積量
を測定した結果をやはり表1に示す。なお、比較例1は
水切りの後に直接蒸気乾燥を行った比較例、比較例2は
水切りに用いた親水性溶媒の沸点と蒸気乾燥に用いた揮
発性オルガノシロキサンとの沸点との関係が本発明の範
囲を外れている比較例、比較例3は蒸気乾燥剤として揮
発性オルガノシロキサンの代わりにイソプロピルアルコ
ールを使用した比較例である。なお、本実施例の洗浄工
程の概略図を図1に、揮発性オルガノシロキサンの蒸気
乾燥に用いた蒸気乾燥槽を図2に示す。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto. Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 3 A 10 cm × 10 cm glass plate coated with an acrylic photoresist agent was used as a test specimen, and ten sheets were placed in a net basket. After rinsing with water, rinsing was performed with tap water and then with pure water. Next, after draining with the hydrophilic solvent shown in Table 1, rinsing with the volatile organosiloxane shown in Table 1 was performed, and steam drying was performed for one minute in the steam drying tank shown in FIG. 2 using the same volatile organosiloxane. Was done. Observation of the surface condition of the test specimen after the initial cleaning and after repeating the cleaning 10 times and 100 times, and analyzing the liquid composition in the steam drying tank by gas chromatography to determine the draining agent brought in from the draining tank Table 1 also shows the measurement results of the accumulated amount. Comparative Example 1 is a comparative example in which steam drying was directly performed after draining, and Comparative Example 2 is a relationship between the boiling point of the hydrophilic solvent used in draining and the boiling point of the volatile organosiloxane used in steam drying. Comparative Example 3 and Comparative Example 3 are comparative examples in which isopropyl alcohol was used instead of volatile organosiloxane as a steam drying agent. FIG. 1 is a schematic diagram of the cleaning step of this embodiment, and FIG. 2 shows a steam drying tank used for steam drying of a volatile organosiloxane.
【0012】実施例3〜5および比較例4〜6 エポキシ樹脂を塗布した10cm×10cmのガラス板を試験体
とし、その10枚を網籠に入れ、表2に示す水系洗浄剤に
て洗浄した後、上水ですすぎを行い、さらに純水ですす
ぎを行った。次いで、やはり表2に示す親水性溶媒で水
切りを行った後、表2に示す揮発性オルガノシロキサン
ですすぎを行い、更に同じ揮発性オルガノシロキサンに
て図2に示す蒸気乾燥槽で1分間蒸気乾燥を行った。最
初の洗浄後およびこの洗浄を10回および100 回繰り返し
た後の試験体の表面状態の観察と、蒸気乾燥槽中の液組
成をガスクロマトグラフで分析して、水切り槽から持ち
込まれた水切り剤の蓄積量を測定した結果をやはり表2
に示す。なお、比較例4は水切りの後に直接蒸気乾燥を
行った比較例、比較例5は水切りに用いた親水性溶媒の
沸点と蒸気乾燥に用いた揮発性オルガノシロキサンとの
沸点との関係が本発明の範囲を外れている比較例、比較
例6は蒸気乾燥剤として揮発性オルガノシロキサンの代
わりにイソプロピルアルコールを使用した比較例であ
る。尚、洗浄工程は実施例1〜2の場合と同じである。Examples 3 to 5 and Comparative Examples 4 to 6 A 10 cm × 10 cm glass plate coated with an epoxy resin was used as a test specimen, and ten sheets were placed in a net basket and washed with an aqueous detergent shown in Table 2. After that, they were rinsed with tap water and then with pure water. Next, after draining with a hydrophilic solvent also shown in Table 2, rinsing with a volatile organosiloxane shown in Table 2 was performed, and steam drying was performed for 1 minute in the steam drying tank shown in FIG. 2 with the same volatile organosiloxane. Was done. Observation of the surface condition of the test specimen after the initial cleaning and after repeating the cleaning 10 times and 100 times, and analyzing the liquid composition in the steam drying tank by gas chromatography to determine the draining agent brought in from the draining tank Table 2 shows the measurement results of the accumulated amount.
Shown in Comparative Example 4 is a comparative example in which steam drying was performed directly after draining, and Comparative Example 5 shows the relationship between the boiling point of the hydrophilic solvent used in draining and the boiling point of the volatile organosiloxane used in steam drying. Comparative Example 6 and Comparative Example 6 are comparative examples using isopropyl alcohol instead of volatile organosiloxane as a steam drying agent. Note that the washing process is the same as in Examples 1 and 2.
【0013】[0013]
【表1】 [Table 1]
【0014】[0014]
【表2】 [Table 2]
【0015】[0015]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の洗浄方法
によれば、次工程の槽への持込み量の多い被洗浄材の洗
浄や、短時間で多量の被洗浄材を洗浄しようとする場合
においても、被洗浄材にシミを残すことなく、またプラ
スチック部分や樹脂被膜の施された被洗浄材においては
それらにソルベントアタックを起こすことなく洗浄を行
うことが可能である。As described above, according to the cleaning method of the present invention, it is intended to clean a large amount of the material to be cleaned brought into the tank in the next step or to clean a large amount of the material in a short time. Even in this case, it is possible to perform cleaning without leaving stains on the material to be cleaned, and without causing solvent attack on the plastic material or the material to be cleaned coated with a resin film.
【図1】 本発明の実施例における洗浄工程の概略を示
す図である。FIG. 1 is a view schematically showing a cleaning step in an embodiment of the present invention.
【図2】 実施例で使用した蒸気乾燥槽を示す略示図で
ある。FIG. 2 is a schematic view showing a steam drying tank used in an example.
【符号の説明】 1…蒸気乾燥剤(100ml) 2…ガラス容器(円筒状) 3…チラー(内径3mm鋼管、冷媒5℃水) 4…蒸気相 5…加熱器[Explanation of Signs] 1 ... Steam desiccant (100ml) 2 ... Glass container (cylindrical) 3 ... Chiller (3mm inside diameter steel pipe, refrigerant 5 ° C water) 4 ... Steam phase 5 ... Heating device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山藤 茂夫 東京都港区六本木6丁目2番31号 東芝 シリコーン株式会社内 (56)参考文献 特開 平8−173919(JP,A) 特開 平7−265817(JP,A) 特開 平4−124289(JP,A) 特開 平6−238244(JP,A) 特開 平7−179897(JP,A) 特開 平6−134444(JP,A) 特許2723359(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B08B 3/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Shigeo Yamafuji 6-2-31 Roppongi, Minato-ku, Tokyo Toshiba Silicone Co., Ltd. (56) References JP-A-8-173919 (JP, A) JP-A-7 -265817 (JP, A) JP-A-4-124289 (JP, A) JP-A-6-238244 (JP, A) JP-A-7-179897 (JP, A) JP-A-6-134444 (JP, A) ) Patent 2723359 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B08B 3/08
Claims (2)
とを目的として、 (1) (a) 水系洗浄剤で洗浄する工程 (2) (b) 水ですすぎを行う工程 (3) (c) 親水性溶媒で水切りを行う工程 (4) (d) 揮発性オルガノシロキサンですすぎを行う工程 (5) 上記(d) と同種の揮発性オルガノシロキサンで蒸気
乾燥を行う工程 からなる工程にて順次処理を行う洗浄方法であって、
(d) の揮発性オルガノシロキサンとして、沸点が160 ℃
未満で、かつ(c) の親水性溶媒の沸点もしくは共沸する
場合はその共沸温度よりも15℃以上高いものを使用する
ことを特徴とする洗浄方法。(1) (1) (a) a step of washing with a water-based cleaning agent (2) (b) a step of rinsing with water (3) ( c) Step of draining with a hydrophilic solvent (4) (d) Step of rinsing with a volatile organosiloxane (5) Step of steam drying with a volatile organosiloxane of the same type as (d) above A cleaning method that performs sequential processing,
As the volatile organosiloxane (d), the boiling point is 160 ° C.
A washing method characterized by using a solvent having a boiling point or an azeotrope of at least 15 ° C. higher than the azeotropic temperature of the hydrophilic solvent (c).
て、沸点が110 ℃未満で、かつ(c) 工程の親水性溶媒の
沸点もしくは共沸する場合はその共沸温度よりも20℃以
上高いものを使用する請求項1記載の洗浄方法。2. The volatile organosiloxane of (d) having a boiling point of less than 110 ° C. and a boiling point of the hydrophilic solvent in the step (c) or, in the case of azeotropic boiling, at least 20 ° C. higher than its azeotropic temperature. The cleaning method according to claim 1, wherein
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