JP2002273358A - Method for cleaning optical element - Google Patents

Method for cleaning optical element

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JP2002273358A
JP2002273358A JP2001082808A JP2001082808A JP2002273358A JP 2002273358 A JP2002273358 A JP 2002273358A JP 2001082808 A JP2001082808 A JP 2001082808A JP 2001082808 A JP2001082808 A JP 2001082808A JP 2002273358 A JP2002273358 A JP 2002273358A
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Japan
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cleaning
optical element
ultrasonic
lens
water
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Withdrawn
Application number
JP2001082808A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsura Imamura
桂 今村
Naoyasu Hanamura
尚容 花村
Kunihisa Koo
邦寿 小尾
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure a high cleaning quality without generating a latent flaw and also generating a cleaning failure to remove the scum residue of an abrasive or a stain, even when an optical element is less water-resistant and detergent- resistant. SOLUTION: This method for cleaning an optical element comprises an abrasive removing step to sprinkle and run a fluid to which an ultrasonic wave is applied over the optical element to be cleaned, a step to soak the optical element in a semi-water based solvent, a step to soak the optical element in a cleaning solution and perform its finish cleaning process, a step to rinse the optical element with pure water, a step to drain the moisture by means of a hydrophilic alcohol solution, a step to perform a finish cleaning process by the help of a hydrocarbon solvent and a drying step using a hot blast.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ等の光学素
子の洗浄方法に関し、特に、耐水性、耐洗浄性が小さな
硝材からなる光学素子の洗浄方法に関する。
The present invention relates to a method for cleaning an optical element such as a lens, and more particularly, to a method for cleaning an optical element made of a glass material having low water resistance and low cleaning resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】レンズやプリズム等の光学素子の生産で
は、研磨工程で付着した研磨材やガラスの微粉を十分に
洗浄して次の工程に送る必要がある。この洗浄の一般的
な方法として、洗浄液に浸漬した超音波による洗浄があ
る。これは、各洗浄槽に収納されたアルカリ洗浄液や市
水、純水や溶剤等の洗浄液に超音波を印加し、被洗浄物
を一定時間浸漬して、超音波の物理力を用いて汚れを除
去する方法である。
2. Description of the Related Art In the production of optical elements such as lenses and prisms, it is necessary to sufficiently wash abrasives and fine glass powder adhered in a polishing step before sending them to the next step. As a general method of this cleaning, there is cleaning by ultrasonic waves immersed in a cleaning liquid. In this method, ultrasonic waves are applied to a cleaning liquid such as an alkaline cleaning liquid, city water, pure water, or a solvent stored in each cleaning tank, and the object to be cleaned is immersed for a certain period of time. It is a method of removing.

【0003】また、別の洗浄方法として、アルカリ洗浄
剤によりガラスの表面を若干侵食して、ガラスの表面に
食い付き状に付着している酸化セリウム等の研磨材を除
去ことが行われている。
As another cleaning method, the surface of glass is slightly eroded by an alkaline cleaning agent to remove abrasives such as cerium oxide which are stuck on the glass surface in a biting manner. .

【0004】さらに、アルカリ洗浄剤を使用しないで、
塩素系洗浄剤や炭化水素系溶剤に代表される非水系洗浄
剤や、アルコール類に代表される準水系洗浄剤のみを用
いて洗浄を行なうこともなされている。
Further, without using an alkaline cleaning agent,
Cleaning has also been performed using only non-aqueous cleaning agents typified by chlorine-based cleaning agents and hydrocarbon solvents, and quasi-water-based cleaning agents typified by alcohols.

【0005】一般的には、やむを得ず、求める洗浄品質
を得るため、クリーニングペーパーや布等を用いて、ク
リーニングペーパーや布等にアルコール等の溶剤を染み
込ませて、手で拭き上げる方法がなされている。
[0005] In general, in order to obtain the required cleaning quality, a method of using a cleaning paper or cloth to impregnate a solvent such as alcohol into the cleaning paper or cloth and wiping it by hand has been used. .

【0006】特開平9−234431号公報には、研磨
後にレンズを回転させながら、拭き取り具によって洗浄
する方法が記載されている。
[0006] Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-234431 discloses a method of cleaning with a wiping tool while rotating a lens after polishing.

【0007】特開平6−262151号公報には、人の
手による拭き作業に代えて、ロボットを用いて拭き取り
作業を行なうことにより、生産性を向上させることが記
載されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-262151 describes that productivity is improved by performing a wiping operation using a robot instead of a manual wiping operation.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような従来の洗浄方法では、次のような問題を有してい
る。
However, the conventional cleaning method as described above has the following problems.

【0009】耐水性,耐洗剤性が小さな硝材からなる光
学素子では、アルカリ洗浄剤に浸漬するとガラス表面が
容易に侵食されるため、研磨工程中に形成された微細な
傷が拡大されて表面に顕在化してくる「潜傷(洗傷)」
と呼ばれる不具合が発生する。この潜傷は、より高い洗
浄度を得るために、超音波洗浄を併用した場合には、超
音波の物理力により、さらに拡大する問題がある。ま
た、この洗浄方法では、一旦、光学素子から剥離された
研磨材等の汚れが、洗浄槽内での浸漬中に再付着して洗
浄性が低下している。洗浄性を上げるためには、洗浄槽
の槽数を増やすして洗浄液の清浄度を確保しなくてはな
らず、結果として、装置の大型化、洗浄時間の長期化、
また洗浄時間が長くなることによる潜傷の悪化を招いて
いる。
[0009] In an optical element made of a glass material having low water resistance and detergent resistance, the glass surface is easily eroded when immersed in an alkaline cleaning agent. "Latent wounds (washing)" that become apparent
This causes a problem called When ultrasonic cleaning is used in combination to obtain a higher degree of cleaning, there is a problem that the latent wound is further enlarged by the physical force of ultrasonic waves. Further, in this cleaning method, the dirt such as the abrasive material once separated from the optical element is reattached during immersion in the cleaning tank, and the cleaning property is reduced. In order to improve the cleaning performance, the number of cleaning tanks must be increased to ensure the cleanliness of the cleaning liquid, resulting in an increase in the size of the apparatus, a longer cleaning time,
In addition, the lengthening of the cleaning time leads to deterioration of latent scratches.

【0010】また、ガラス表面に食い付き状に付着して
いる研磨材や手脂等に対しては、アルカリ洗浄剤を使用
しないで除去することは困難である。
[0010] It is difficult to remove abrasives, hand grease, and the like that have bitely adhered to the glass surface without using an alkaline cleaning agent.

【0011】非水系洗浄剤や、アルコール類に代表され
る準水系洗浄剤のみを用いて洗浄を行なう方法では、例
えば次工程で光学素子の表面に蒸着膜を成膜する場合に
高い清浄度が求められるが、この清浄度を満足する洗浄
品質が得られない。 クリーニングペーパーや布等に
アルコール等の溶剤を染み込ませて、人手で拭き上げる
方法は、面倒であると共に時間がかかり生産性が悪いも
のとなる。さらに、光学素子の全面を清浄に拭き上げる
ためには、ある程度の作業者の熟練が必要であり、習熟
していない人が行なう場合には、拭き残りができる問題
がある。
In a method in which cleaning is performed using only a non-aqueous cleaning agent or a quasi-aqueous cleaning agent represented by alcohols, for example, high cleanliness is required when a vapor deposition film is formed on the surface of an optical element in the next step. Although required, cleaning quality satisfying this cleanliness cannot be obtained. The method of impregnating a solvent such as alcohol into a cleaning paper or cloth and wiping it by hand is cumbersome, time-consuming, and results in poor productivity. Furthermore, in order to wipe the entire surface of the optical element cleanly, a certain level of skill is required by an operator, and there is a problem that unskilled persons may leave unwiped parts.

【0012】特開平6−262151号公報の洗浄方法
では、研磨材や手脂の洗浄に体いてはある程度有効であ
るが、拭き取り具の汚れ等により、完全な除去が困難で
あり、高い清浄度は望めない。
The cleaning method disclosed in JP-A-6-262151 is effective to some extent for cleaning abrasives and grease, but it is difficult to completely remove it due to dirt on a wiping tool, and high cleanliness is required. Can not hope.

【0013】特開平9−234431号公報の洗浄方法
のように、ロボットを用いても、形状が異なる光学素子
が頻繁に流れる生産工程では、ロボットの制御が複雑に
なったり、その光学素子専用のロボットを何台も用意し
なくてはならないなど多額の費用が必要である。また、
ロボットでは、習熟した作業者の手で拭き上げるような
高い清浄度を得ることは困難である。
In a production process in which optical elements having different shapes frequently flow even when a robot is used, as in the cleaning method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-234431, the control of the robot becomes complicated or a dedicated optical element is used. It requires a lot of expense, such as having to prepare many robots. Also,
With a robot, it is difficult to obtain a high degree of cleanliness that can be wiped by a skilled worker's hand.

【0014】以上に加えて、研磨後に研磨材がレンズに
付着した状態で光学素子を空中に放置すると、ヤケやシ
ミの原因になることは周知の事実である。その対策とし
て、油系の水切り剤に研磨後のレンズを浸漬させるが、
その油系水切り剤が後工程の洗浄液に持ち込まれること
により洗浄液の劣化が早まる原因となっている。また、
洗浄液中に取り込まれた油が光学素子に再付着すること
により洗浄不良も発生する。
[0014] In addition to the above, it is a well-known fact that leaving an optical element in the air with polishing material adhered to a lens after polishing may cause burns and spots. As a countermeasure, the polished lens is immersed in an oil-based draining agent.
When the oil-based draining agent is carried into the cleaning liquid in the subsequent process, the deterioration of the cleaning liquid is accelerated. Also,
When the oil taken into the cleaning liquid adheres to the optical element again, poor cleaning occurs.

【0015】本発明は、このような従来の問題点を考慮
してなされたものであり、研磨材等の汚れ残り及びシミ
等の洗浄不良が発生せず、しかも耐水性,耐洗剤性が小
さな硝材からなる光学素子に対しても、潜傷を発生させ
ることなく、高い洗浄品質を得ることができる洗浄方法
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of such conventional problems, and does not cause poor cleaning such as residual stains of abrasives and stains, and has low water resistance and detergent resistance. It is an object of the present invention to provide a cleaning method capable of obtaining high cleaning quality without causing latent scratches on an optical element made of a glass material.

【0016】[0016]

【問題点を解決するための手段】上記問題点を解決する
ため、請求項1の発明は、洗浄される光学素子に対し、
超音波を印加した流体を掛け流す研磨材落とし工程と、
光学素子を準水系溶剤中に浸漬する工程と、洗浄液に浸
漬して仕上げ洗浄を行う工程と、純水によるリンス工程
と、親水性アルコール液による水切り工程と、炭化水素
系溶剤による仕上げ洗浄工程と、熱風による乾燥工程か
らなることを特徴とする。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 provides an optical element to be cleaned with:
An abrasive removal step of flowing a fluid to which ultrasonic waves are applied,
A step of immersing the optical element in a quasi-aqueous solvent, a step of immersing in a cleaning liquid to perform a finish cleaning, a rinsing step with pure water, a draining step with a hydrophilic alcohol solution, and a finish cleaning step with a hydrocarbon solvent. And drying by hot air.

【0017】この発明では、超音波を印加した流体を掛
け流すことにより、光学素子に付着している研磨材を除
去するため、研磨材除去のために光学素子をアルカリ洗
浄剤に浸漬する必要がなく、潜傷の発生を防止すること
ができる。
According to the present invention, it is necessary to immerse the optical element in an alkaline cleaning agent to remove the abrasive because the abrasive applied to the optical element is removed by flowing the fluid to which the ultrasonic wave is applied. And the occurrence of latent scratches can be prevented.

【0018】また、その後に準水系溶剤に浸漬すること
により、光学素子の空中放置をなくしている。これによ
り、ヤケやシミの発生を防止することができる。
Further, by subsequently immersing the optical element in a quasi-aqueous solvent, the optical element is not left in the air. Thereby, the occurrence of burns and spots can be prevented.

【0019】そして、その後の仕上げ洗浄の工程、リン
ス工程、水切り工程、炭化水素系溶剤による洗浄工程、
乾燥工程を経ることにより、光学素子の洗浄が終了す
る。
Then, a finishing cleaning step, a rinsing step, a draining step, a cleaning step using a hydrocarbon solvent,
After the drying step, the cleaning of the optical element is completed.

【0020】このような手順による洗浄では、研磨材等
の汚れ残りやシミ等の洗浄不良が発生することがなく、
しかも耐水性,耐洗剤性が小さな硝材からなる光学素子
であっても潜傷が発生することなく、高い洗浄品質とす
ることができる。
In the cleaning by such a procedure, there is no occurrence of poor cleaning such as residual stains of abrasives and stains.
In addition, even if the optical element is made of a glass material having low water resistance and detergent resistance, high cleaning quality can be achieved without causing latent scratches.

【0021】請求項2の発明は、請求項1記載の光学素
子の洗浄方法であって、前記洗浄液として中性の洗浄液
を使用することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the method for cleaning an optical element according to the first aspect, wherein a neutral cleaning liquid is used as the cleaning liquid.

【0022】このように中性の洗浄液を仕上げ洗浄に用
いることにより、仕上げ洗浄を良好に行うことができる
と共に、後工程のリンス工程で洗浄液を簡単に除去する
ことができる。これにより、洗浄品質が向上する。
By using the neutral cleaning liquid for the final cleaning as described above, the final cleaning can be performed well and the cleaning liquid can be easily removed in the subsequent rinsing step. Thereby, cleaning quality is improved.

【0023】請求項3の発明は、請求項1記載の光学素
子の洗浄方法であって、前記純水によるリンス工程の際
に、高周波数の超音波を併用することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the method for cleaning an optical element according to the first aspect, wherein a high-frequency ultrasonic wave is used in the rinsing step with the pure water.

【0024】このようにリンス工程で高周波数の超音波
を併用することにより、洗浄液へのリンス力が増大す
る。このため、洗浄液のリンスを確実に行うことができ
る。
By using high-frequency ultrasonic waves in the rinsing step, the rinsing force to the cleaning liquid increases. Therefore, the rinsing of the cleaning liquid can be performed reliably.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)図1は、本発明
の実施形態1の洗浄方法のフローチャートを示す。この
実施の形態では、洗浄される光学素子として、潜傷が発
生し易い硝材(商品名「FPL51(小原光学製)」か
らなる直径32mmの両側凸面のレンズを用いた。
(Embodiment 1) FIG. 1 shows a flowchart of a cleaning method according to Embodiment 1 of the present invention. In this embodiment, as the optical element to be cleaned, a lens with a diameter of 32 mm and a convex surface on both sides made of a glass material (trade name “FPL51 (manufactured by Ohara Kogaku)”) in which latent scratches easily occur is used.

【0026】第一工程は、超音波流水洗浄工程である。
この工程では、超音波を印加した流体をレンズに掛け流
すことにより、超音波の物理力で研磨材をレンズ表面か
ら剥離させて流し落とす。
The first step is an ultrasonic running water washing step.
In this step, the fluid to which the ultrasonic wave is applied is flowed over the lens, so that the abrasive is peeled off from the lens surface by the physical force of the ultrasonic wave and flows down.

【0027】第二工程は、準水系溶剤ストック工程であ
る。この工程では、レンズを次の洗浄剤へ投入する前
に、一時的にレンズを準水系溶剤内に浸漬させ、超音波
流水洗浄が終了したレンズを空中に放置することによる
ヤケ、シミなどの品質不具合の発生を防止する。
The second step is a quasi-aqueous solvent stock step. In this process, before pouring the lens into the next cleaning agent, the lens is temporarily immersed in a semi-aqueous solvent and the quality of burns, stains, etc. due to leaving the lens that has been washed with ultrasonic running water in the air is considered. Prevent the occurrence of defects.

【0028】第三の工程は、洗浄剤洗浄工程である。こ
の工程では、レンズに付着した油脂類を落すための中性
洗浄剤による洗浄を行う。
The third step is a cleaning agent cleaning step. In this step, cleaning with a neutral detergent is performed to remove oils and fats attached to the lens.

【0029】第四の工程は、純水リンス工程である。こ
の工程では、純水により中性洗剤をリンスして除去す
る。
The fourth step is a pure water rinsing step. In this step, the neutral detergent is rinsed and removed with pure water.

【0030】第五の工程は、親水性アルコール液による
水切り工程である。この工程は、レンズ表面に付着して
いる水を次工程で用いる炭化水素系溶剤に可溶な親水性
アルコール液に置換する。用いる親水性アルコール液と
しては、イソプロピルアルコール(IPA)が良好であ
る。
The fifth step is a draining step using a hydrophilic alcohol solution. In this step, water adhering to the lens surface is replaced with a hydrophilic alcohol solution that is soluble in the hydrocarbon solvent used in the next step. As a hydrophilic alcohol solution to be used, isopropyl alcohol (IPA) is preferable.

【0031】第六工程は、炭化水素系溶剤洗浄工程であ
る。この工程では、乾燥性の良好な炭化水素系溶剤に浸
漬させることにより、後工程の乾燥時間を短縮させて乾
燥シミの発生を抑える。
The sixth step is a hydrocarbon solvent cleaning step. In this step, by dipping in a hydrocarbon-based solvent having good drying properties, the drying time in the subsequent step is reduced, and the occurrence of dry spots is suppressed.

【0032】第七工程は、熱風による乾燥工程である。The seventh step is a drying step using hot air.

【0033】図2は第一工程の超音波流水洗浄工程で用
いられる洗浄装置1を示す。超音波が印加された超音波
流水を発生させる第1の超音波流水発生装置2及び第2
の超音波流水発生装置3が上下位置で対向するように保
持具4に取り付けられている。
FIG. 2 shows a cleaning apparatus 1 used in the first ultrasonic cleaning step. A first ultrasonic flowing water generator 2 for generating ultrasonic flowing water to which ultrasonic waves are applied;
Are attached to the holder 4 so as to face each other at the vertical position.

【0034】これらの超音波流水発生装置2,3は、そ
の内部に超音波発振器2a、3aがそれぞれ配置されて
いる。また、超音波流水を吐出するノズル2b、3bが
レンズ6に対向するように臨んでいる。これにより、超
音波流水は相互に衝突するように吐出される。
These ultrasonic flowing water generators 2 and 3 have ultrasonic oscillators 2a and 3a respectively disposed therein. In addition, the nozzles 2 b and 3 b that discharge the ultrasonic flowing water face the lens 6. Thereby, the ultrasonic flowing water is discharged so as to collide with each other.

【0035】超音波流水発生装置2,3を保持する保持
具4は可動装置5に取り付けられている。可動装置5は
振幅運動を行うようになっており、これにより、超音波
流水発生装置2,3は振幅運動を行うことができる。
A holder 4 for holding the ultrasonic flowing water generators 2 and 3 is attached to a movable device 5. The movable device 5 performs an amplitude motion, whereby the ultrasonic flowing water generators 2 and 3 can perform an amplitude motion.

【0036】洗浄されるレンズ5はレンズ保持具7に保
持されることより、第1の超音波流水発生装置2及び第
2の超音波流水発生装置3のノズル2b、3b間の中央
位置に配置されている。
The lens 5 to be cleaned is held at the lens holder 7 and is arranged at a central position between the nozzles 2b and 3b of the first ultrasonic flowing water generator 2 and the second ultrasonic flowing water generator 3. Have been.

【0037】この洗浄装置1では、超音波流水発生装置
2,3が可動装置3の駆動により振幅運動して、レンズ
5の両面及び端面に付着した研磨材を剥離させると共
に、剥離した研磨材を含む洗浄水を自由落下させる。こ
れにより、研磨材の再付着を防止して洗浄効果を高める
ことができる。
In the cleaning device 1, the ultrasonic flowing water generators 2 and 3 make amplitude movements by the driving of the movable device 3 to peel off the abrasives attached to both surfaces and end surfaces of the lens 5, and to remove the abrasives removed. Free fall the washing water containing. This can prevent the abrasive from re-adhering and enhance the cleaning effect.

【0038】図3は、第二工程の準水系溶剤浸漬工程で
用いられる洗浄装置を示す。レンズ6に対する超音波流
水による洗浄が終了すると、レンズ6はこの洗浄装置の
ストック槽11に移送される。このストック槽11に
は、準水系溶剤12が貯留されている。
FIG. 3 shows a cleaning apparatus used in the quasi-aqueous solvent immersion step of the second step. When cleaning of the lens 6 with the ultrasonic flowing water is completed, the lens 6 is transferred to the stock tank 11 of the cleaning device. The quasi-aqueous solvent 12 is stored in the stock tank 11.

【0039】準水系溶剤浸漬工程では、超音波流水によ
る洗浄が終了したレンズ6を洗浄カゴ13に並べる。洗
浄カゴ13には、網目状の仕切り板13aが適宜間隔で
設けられており、この仕切り板13aの間に挿入してレ
ンズ6を並べる。このように仕切り板13aを有するこ
とにより、レンズ6は相互に接触することがなくなり、
その全体を準水系溶剤12に浸漬することができる。洗
浄カゴ13をストック槽11の準水系溶剤12内に沈め
ることにより、レンズ6は準水系溶剤12に浸漬され、
これにより、超音波流水による洗浄が完了したレンズ6
は空気に触れることを最小限に抑えられるため、ヤケ、
シミの発生を防ぐことができる。
In the quasi-aqueous solvent immersion step, the lenses 6 that have been washed with ultrasonic flowing water are arranged in a washing basket 13. The washing basket 13 is provided with mesh-like partition plates 13a at appropriate intervals, and the lenses 6 are arranged by inserting between the partition plates 13a. By having the partition plate 13a in this manner, the lenses 6 do not contact each other,
The whole can be immersed in the semi-aqueous solvent 12. The lens 6 is immersed in the semi-aqueous solvent 12 by submerging the cleaning basket 13 in the semi-aqueous solvent 12 of the stock tank 11.
As a result, the lens 6 that has been cleaned by the ultrasonic flowing water is completed.
Minimizes exposure to air,
The occurrence of spots can be prevented.

【0040】このような実施の形態では、超音波を印加
した流体を掛け流して、光学素子に付着している研磨材
を除去するため、光学素子をアルカリ洗浄剤に浸漬する
必要がなく、潜傷の発生を防止することができる。ま
た、その後に準水系溶剤に浸漬して光学素子の空中放置
をなくしているため、、ヤケやシミの発生を防止するこ
とができる。
In such an embodiment, since the fluid to which the ultrasonic wave is applied is flowed to remove the abrasive attached to the optical element, it is not necessary to immerse the optical element in an alkaline cleaning agent. The occurrence of scratches can be prevented. Further, since the optical element is not immersed in the air by subsequently immersing it in a semi-aqueous solvent, the occurrence of burns and spots can be prevented.

【0041】従って、この実施の形態では、研磨材等の
汚れ残りやシミ等の洗浄不良が発生することがなく、し
かも耐水性,耐洗剤性が小さな硝材からなる光学素子で
あっても潜傷が発生することなく、高い洗浄品質とする
ことができる。
Therefore, in this embodiment, there is no occurrence of poor cleaning such as residual stains of abrasives and stains, and even if the optical element is made of a glass material having low water resistance and small detergent resistance, latent scratches may occur. High cleaning quality can be achieved without generation of odor.

【0042】(実施の形態2及び3)図4は実施の形態
2及び3で用いる洗浄ラインを示し、以下、この洗浄ラ
インを用いた洗浄を説明する。
(Embodiments 2 and 3) FIG. 4 shows a cleaning line used in Embodiments 2 and 3, and the cleaning using this cleaning line will be described below.

【0043】研磨が完了したレンズを用いて、超音波流
水洗浄後に準水系溶剤に浸漬させ、中性洗剤により洗浄
した場合と、研磨が完了したレンズを油系の水切り剤に
浸漬した後に、アルカリ系の洗浄剤で洗浄する従来の洗
浄(比較例)による洗浄性及び潜傷性の比較を行った。
Using the polished lens, the lens is immersed in a quasi-aqueous solvent after washing with ultrasonic running water and then washed with a neutral detergent. A comparison was made between the cleaning performance and the latent scratching performance by the conventional cleaning (comparative example) in which the cleaning was performed with a system cleaning agent.

【0044】光学素子としては、酸化セリウムからなる
研磨材が付着したガラスレンズを用いた。超音波流水装
置は、商品名「超音波ラインシャワー(島田理化(株)
製)」からなる超音波流水装置を用いた。この超音波流
水装置は、超音波発振器として、商品名「USG−30
1H−3AS」を有し,本体は商品名「UST−301
P−85−1A」である。
As the optical element, a glass lens to which an abrasive made of cerium oxide was adhered was used. The ultrasonic running water device is a product name "Ultrasonic line shower (Shimada Rika Corporation)
)) Was used. This ultrasonic water flowing device is a USG-30 as an ultrasonic oscillator.
1H-3AS ”and the main unit is“ UST-301 ”
P-85-1A ".

【0045】超音波流水洗浄液として市水を、研磨完了
したレンズをストックする準水系溶剤として商品名「フ
ァイントップS110(クラレ(株)製)」の原液を、
準水系溶剤ストック後の洗浄剤として商品名「EE11
10(オリンパス光学工業(株)製)」の3%希釈液
を、水切り剤としてIPAを、仕上げ洗浄用の炭化水素
系溶剤として、商品名「キョーワゾールC−900(協
和発酵(株)製)」を用いた。
City water as an ultrasonic running water cleaning solution, and a stock solution of “Fine Top S110 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.)” as a semi-aqueous solvent for stocking a polished lens,
"EE11" as a cleaning agent after stocking of semi-aqueous solvent
10 (manufactured by Olympus Optical Co., Ltd.), IPA as a draining agent, and a hydrocarbon-based solvent for finishing washing, "Kyowasol C-900 (manufactured by Kyowa Hakko Co., Ltd.)" Was used.

【0046】洗浄液は全て常温とし、洗浄剤「EE11
10」の洗浄槽、リンス洗浄槽、及びIPA槽には、4
0kHzの超音波発振器を設置した。また、比較例で
は、研磨完了したレンズをストックさせる油系の水切り
剤として、商品名「WRS(ユシロ化学(株)製)」
を、アルカリ洗浄液として、商品名「Nクール(ナショ
ナル貿易(株)製)」の3%希釈液を用いた。
The cleaning liquid was all at room temperature, and the cleaning agent "EE11
10 ”cleaning tank, rinsing cleaning tank and IPA tank have 4
A 0 kHz ultrasonic oscillator was installed. Further, in the comparative example, a trade name “WRS (produced by Yushiro Chemical Co., Ltd.)” is used as an oil-based draining agent for stocking the polished lens.
Was used as an alkaline cleaning solution, a 3% dilution of the brand name "N Cool (National Trading Co., Ltd.)".

【0047】超音波流水による洗浄時には、レンズ6を
レンズ保持具7により、ノズル2b、3bから20〜3
0mmの位置に固定し、5〜20秒間、超音波流水によ
る洗浄を行った。超音波流水装置1は可動装置5によ
り、100〜200mm/秒のスピードで振幅運動させ
た。なおレンズ6の取り扱いは全てピンセットで行い、
手脂等の汚れが付着することを防止した。
At the time of cleaning with ultrasonic flowing water, the lens 6 is moved from the nozzles 2b, 3b to
It was fixed at a position of 0 mm and washed with ultrasonic flowing water for 5 to 20 seconds. The ultrasonic water flowing device 1 was caused to perform an amplitude motion by the movable device 5 at a speed of 100 to 200 mm / sec. All handling of the lens 6 is performed with tweezers.
Dirt such as hand grease is prevented from adhering.

【0048】超音波流水洗浄後のレンズのストックとし
て、「ファイントップS110」を充填したストック槽
11を用いた。液温は常温とし、浸漬時間は1時間とし
た。洗浄剤による洗浄工程として、3%濃度に調整した
「EE1110」洗浄液中に30秒〜3分間浸漬させた
後、4槽からなる純水槽でリンスした。「EE111
0」洗浄槽及び純水の第1槽目のみに40kHzの超音
波を併用した。なお、純水によるリンス時間は1槽あた
り1分であり、合計4分のリンス洗浄を行った。
The stock tank 11 filled with "Fine Top S110" was used as stock of the lens after the ultrasonic running water washing. The liquid temperature was room temperature, and the immersion time was 1 hour. As a cleaning step using a cleaning agent, the substrate was immersed in an “EE1110” cleaning solution adjusted to a concentration of 3% for 30 seconds to 3 minutes, and then rinsed in a pure water tank composed of four tanks. "EE111
0 ”Ultrasonic wave of 40 kHz was used in combination only in the washing tank and the first tank of pure water. The rinsing time with pure water was 1 minute per tank, and the rinsing was performed for a total of 4 minutes.

【0049】IPAによる水切りは、40kHzの超音
波を備え付けた4槽からなるIPA槽で行った。洗浄時
間は、1槽あたり1分であり、合計4分の水切りを行っ
た。
Draining by IPA was performed in an IPA tank comprising four tanks equipped with 40 kHz ultrasonic waves. The washing time was 1 minute per tank, and draining was performed for a total of 4 minutes.

【0050】炭化水素系溶剤による仕上げ洗浄は、2槽
からなる「C900」槽で行った。1槽あたり1分であ
り、合計2分の仕上げ洗浄を行った。
The finish cleaning with the hydrocarbon solvent was performed in a “C900” tank composed of two tanks. Finishing cleaning was performed for one minute per tank, for a total of two minutes.

【0051】洗浄後の乾燥は、75℃の熱風乾燥炉で3
分間行った。
Drying after washing is performed in a hot air drying oven at 75 ° C. for 3 hours.
Minutes.

【0052】比較例としては、研磨後のレンズを「WR
S」に1時間浸漬させた後、40kHzの超音波を備え
付けた「Nクール」槽で10秒〜3分間の洗浄を行っ
た。純水によるリンス以降は、上記実施の形態の工程と
同じである。
As a comparative example, the polished lens is referred to as “WR”.
After immersion in "S" for 1 hour, washing was performed for 10 seconds to 3 minutes in an "N-cool" tank equipped with 40 kHz ultrasonic waves. The steps after the rinsing with pure water are the same as the steps of the above embodiment.

【0053】表1に実施の形態の結果を、表2に比較例
の結果を示す。
Table 1 shows the results of the embodiment, and Table 2 shows the results of the comparative example.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】[0055]

【表2】 [Table 2]

【0056】比軟例では、「Nクール」の洗浄時間を短
くすることにより潜傷が改善されるが、同時に研磨材を
落とすことができなくなる。一方、実施の形態では、研
磨材の除去ができ、且つ、潜傷が発生することなく洗浄
ができた。
In the comparative example, the latent damage is improved by shortening the cleaning time of “N cool”, but at the same time, the abrasive cannot be dropped. On the other hand, in the embodiment, the abrasive could be removed, and the cleaning could be performed without generating latent scratches.

【0057】表1に示すように、実施の形態2では、超
音波流水洗浄時間が20秒、「EE1110」での洗浄
が1分で研磨材の除去ができ、潜傷が発生しなかった。
実施の形態3では、「EE1110」の洗浄時間を30
秒に減らしても研磨材の除去性に変化は見られなかっ
た。
As shown in Table 1, in the second embodiment, the ultrasonic cleaning time was 20 seconds, the cleaning with "EE1110" was 1 minute, and the abrasive material could be removed, and no latent scratch was generated.
In the third embodiment, the cleaning time of “EE1110” is set to 30.
Even if it was reduced to seconds, there was no change in the removability of the abrasive.

【0058】表2に示すように、比較例1〜3では、
「Nクール」による洗浄時間を3分から10秒まで短縮
しても潜傷が発生した。また、「Nクール」による洗浄
時間を短縮することで、研磨材も除去できなくなった。
As shown in Table 2, in Comparative Examples 1 to 3,
Even if the cleaning time by "N Cool" was shortened from 3 minutes to 10 seconds, latent scratches occurred. Also, by shortening the cleaning time by "N Cool", the abrasive could not be removed.

【0059】(実施の形態4〜8)これらの実施の形態
では、実施の形態2及び3と同様の洗浄ラインを用い
た。また、これらの実施の形態では、図4における純水
リンス槽1の超音波の周波数を40kHz、100kH
z、200kHzに変更して洗浄を行った。純水リンス
工程以外の各工程の条件は、実施の形態2及び3と同じ
である。リンスは、超音波を併用した純水リンスを1槽
で行った後に、超音波を併用しない純水リンスを3槽で
行った。
(Embodiments 4 to 8) In these embodiments, the same cleaning lines as those in Embodiments 2 and 3 were used. Further, in these embodiments, the frequency of the ultrasonic wave in the pure water rinsing tank 1 in FIG.
The cleaning was performed by changing to z and 200 kHz. The conditions of each step other than the pure water rinsing step are the same as those in the second and third embodiments. Rinsing was performed in one tank with pure water rinsing using ultrasonic waves, and then in three tanks using pure water rinsing without using ultrasonic waves.

【0060】表3に実施の形態4〜8の結果を、表4に
比較例4,5の結果を示す。
Table 3 shows the results of Embodiments 4 to 8, and Table 4 shows the results of Comparative Examples 4 and 5.

【0061】[0061]

【表3】 [Table 3]

【0062】[0062]

【表4】 [Table 4]

【0063】比較例4,5では、超音波を併用した純水
リンス時間を短くすることにより潜傷が改善されるが、
1分でも潜傷が発生している。一方、実施の形態4〜8
では、研磨材の除去ができ、且つ、潜傷は発生すること
なく洗浄ができた。
In Comparative Examples 4 and 5, the latent wound was improved by shortening the pure water rinse time using ultrasonic waves.
Latent wound has occurred even for one minute. On the other hand, Embodiments 4 to 8
In the above, the abrasive could be removed, and cleaning could be performed without causing latent scratches.

【0064】表3に示すように、実施の形態4,5で
は、100kHzの超音波を用いリンスを行ったとこ
ろ、研磨材の除去性が良く、潜傷が発生しなかった。実
施の形態6〜8では、200kHzの超音波を用いリン
スを行ったが、研磨材の除去性が良く、潜傷が発生しな
かった。
As shown in Table 3, in Embodiments 4 and 5, when rinsing was performed using 100 kHz ultrasonic waves, the abrasive was easily removed and no latent scratch was generated. In Embodiments 6 to 8, rinsing was performed using ultrasonic waves of 200 kHz. However, the abrasive was easily removed, and no latent scratch was generated.

【0065】表4に示すように、比較例4,5では40
kHzの超音波を用いリンスを行ったが、潜傷が発生し
た。
As shown in Table 4, in Comparative Examples 4 and 5, 40
Rinsing was performed using ultrasonic waves of kHz, but latent scratches occurred.

【0066】[0066]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、研磨材等の汚
れ残りやシミ等の洗浄不良が発生することがなく、耐水
性,耐洗剤性が小さな硝材からなる光学素子であっても
潜傷が発生することなく、高い洗浄品質とすることがで
きる。
According to the first aspect of the present invention, even if the optical element is made of a glass material having low water resistance and small detergent resistance, there is no occurrence of poor cleaning such as residual stains and stains of abrasives and the like. High cleaning quality can be achieved without causing latent scratches.

【0067】請求項2の発明によれば、請求項1の発明
の効果に加えて、仕上げ洗浄を良好に行うことができ、
しかも仕上げ洗浄液を後工程で簡単に除去することがで
き、洗浄品質が向上する。
According to the second aspect of the present invention, in addition to the effects of the first aspect of the present invention, the finish cleaning can be performed well,
In addition, the finishing cleaning liquid can be easily removed in a later step, and the cleaning quality is improved.

【0068】請求項3の発明によれば、請求項1の発明
の効果に加えて、洗浄液へのリンス力が増大するため、
洗浄液のリンスを確実に行うことができる。
According to the third aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect of the present invention, the rinsing force for the cleaning liquid is increased.
Rinsing of the cleaning liquid can be performed reliably.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施の形態1の洗浄フローを示すブロック図で
ある。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a cleaning flow according to a first embodiment.

【図2】(a)及び(b)は、超音波流水工程を行う洗
浄装置の側面図及び正面図である。
FIGS. 2A and 2B are a side view and a front view of a cleaning apparatus that performs an ultrasonic flowing water process.

【図3】浸漬工程を行う洗浄装置の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a cleaning device that performs an immersion step.

【図4】実施の形態2〜8の洗浄ラインのブロック図で
ある。
FIG. 4 is a block diagram of a cleaning line according to Embodiments 2 to 8;

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小尾 邦寿 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2号 オリ ンパス光学工業株式会社内 Fターム(参考) 3B201 AA01 AB45 BB02 BB21 BB83 BB92 BB93 BB94 BB95 CB15 CC01 CC12  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Kunihisa Obi 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo F-term in Olympus Optical Co., Ltd. 3B201 AA01 AB45 BB02 BB21 BB83 BB92 BB93 BB94 BB95 CB15 CC01 CC12

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 洗浄される光学素子に対し、超音波を印
加した流体を掛け流す研磨材落とし工程と、光学素子を
準水系溶剤中に浸漬する工程と、洗浄液に浸漬して仕上
げ洗浄を行う工程と、純水によるリンス工程と、親水性
アルコール液による水切り工程と、炭化水素系溶剤によ
る仕上げ洗浄工程と、熱風による乾燥工程からなること
を特徴とする光学素子の洗浄方法。
An optical element to be cleaned is washed with a fluid to which an ultrasonic wave is applied, a polishing agent is removed, an optical element is immersed in a semi-aqueous solvent, and a final cleaning is performed by immersing the optical element in a cleaning liquid. A method for cleaning an optical element, comprising: a step; a rinsing step with pure water; a draining step with a hydrophilic alcohol solution; a finishing cleaning step with a hydrocarbon solvent; and a drying step with hot air.
【請求項2】 前記洗浄液として中性の洗浄液を使用す
ることを特徴とする請求項1記載の光学素子の洗浄方
法。
2. The method for cleaning an optical element according to claim 1, wherein a neutral cleaning liquid is used as said cleaning liquid.
【請求項3】 前記純水によるリンス工程の際に、高周
波数の超音波を併用することを特徴とする請求項1記載
の光学素子の洗浄方法。
3. The method for cleaning an optical element according to claim 1, wherein a high frequency ultrasonic wave is used in the rinsing step with the pure water.
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