JP2002192090A - Cleaning method - Google Patents

Cleaning method

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JP2002192090A
JP2002192090A JP2000396788A JP2000396788A JP2002192090A JP 2002192090 A JP2002192090 A JP 2002192090A JP 2000396788 A JP2000396788 A JP 2000396788A JP 2000396788 A JP2000396788 A JP 2000396788A JP 2002192090 A JP2002192090 A JP 2002192090A
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JP
Japan
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solvent
cleaning method
rinsing
cleaned
molecular weight
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Pending
Application number
JP2000396788A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Saito
健司 齋藤
Shigeo Santo
茂夫 山藤
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Momentive Performance Materials Japan LLC
Original Assignee
GE Toshiba Silicones Co Ltd
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Publication date
Application filed by GE Toshiba Silicones Co Ltd filed Critical GE Toshiba Silicones Co Ltd
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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning method by which dried stains do not remain in the subject to be cleaned. SOLUTION: This cleaning method comprises a step to clean the subject to be cleaned with a cleaning liquid, a step to rinse the cleaned subject with water, a step to finish rinsing the eater-rinsed subject with a rinse-finishing agent consisting of a poly basic alcohol capable of dissolving an inorganic compound, a step to subject the rinse-finished subject to solvent displacement with a volatile solvent for displacement having the compatibility with the rinse- finishing agent and a step to dry the solvent-displaced subject.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は洗浄方法に係り、更
に詳細には、半導体や、液晶用カラーフィルタ、光学レ
ンズ等の高い表面清浄度が求められる精密部品等の洗浄
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning method, and more particularly, to a method for cleaning semiconductors, precision parts such as color filters for liquid crystals, optical lenses, etc., which require high surface cleanliness.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体や液晶のカラーフィル
ターのような精密乾燥が必要な分野では、洗浄および純
水リンスの後に、アルコールのような親水性溶媒に浸漬
したり、蒸気に晒すことにより水切り乾燥する方法が行
なわれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in fields where precise drying is required, such as color filters for semiconductors and liquid crystals, after washing and rinsing with pure water, immersion in a hydrophilic solvent such as alcohol or exposure to steam is required. A method of draining and drying is performed.

【0003】現在このような親水性溶媒としては、主に
イソプロピルアルコール(IPA)が使用されている。
即ち、被洗浄体をIPAに浸漬して水切りした後、温風
乾燥、ランプ乾燥、減圧乾燥、IPA蒸気乾燥、あるい
はハロゲン化炭化水素を用いた蒸気乾燥等が行なわれて
いる。
At present, isopropyl alcohol (IPA) is mainly used as such a hydrophilic solvent.
That is, after the object to be cleaned is immersed in IPA and drained, hot air drying, lamp drying, reduced pressure drying, IPA steam drying, steam drying using a halogenated hydrocarbon, and the like are performed.

【0004】しかしながら、IPA等の親水性溶媒は水
切り性能には優れているものの、以前用いられていたフ
ロンに比べて蒸発潜熱や気化熱が大きいため乾燥時には
部品からより多くの熱を奪うと同時に部品を冷却して、
空気中の有機物質の再吸着を招きやすく、しかも吸湿に
より乾燥ジミがより顕著になるという問題を有してい
る。
[0004] However, although a hydrophilic solvent such as IPA is excellent in drainage performance, since it has a large latent heat of vaporization and heat of vaporization compared to the previously used fluorocarbon, it takes more heat from the parts during drying, Cool the parts,
There is a problem that organic substances in the air are likely to be re-adsorbed, and moreover, dry spots become more noticeable due to moisture absorption.

【0005】またIPAやハロゲン化炭化水素のように
極性が高い溶媒による蒸気乾燥は、ソルベントアタック
と言われるプラスチック部品や樹脂被膜の白化やクラッ
クを発生させる傾向にある。
[0005] Steam drying using a highly polar solvent such as IPA or a halogenated hydrocarbon tends to cause whitening and cracking of plastic parts and resin coatings referred to as solvent attack.

【0006】さらにIPA蒸気乾燥では、持ち込まれた
水分はIPAと、水:IPAの比が12.6:87.4
のとき、共沸混合物を形成し、共沸点80.3℃を有す
るようになる。その結果、蒸気槽中の水分濃度も増加し
やすくなる。これは、ウォーターマークやパーティクル
の発生につながり、乾燥性低下の原因になる。
Further, in the IPA vapor drying, the introduced water has a ratio of water: IPA of 12.6: 87.4.
At this time, an azeotropic mixture is formed, having an azeotropic point of 80.3 ° C. As a result, the water concentration in the steam tank also tends to increase. This leads to the generation of watermarks and particles, which causes the drying property to decrease.

【0007】また、上述したように、IPAは水を取り
込んでしまうため、IPAの再利用率も自ずと低下す
る。
Further, as described above, since IPA takes in water, the reuse rate of IPA naturally decreases.

【0008】液のライフタイムや処理回数に応じた液交
換や、液の比抵抗などにより、IPA中の水分濃度が管
理されているが、IPAとしての効力を発揮できる水分
含有量は僅かである。IPA再生装置等の開発も検討さ
れているが多大な投資が必要とされる。
[0008] The water concentration in IPA is controlled by liquid exchange according to the lifetime of the liquid and the number of treatments, and the specific resistance of the liquid, but the water content that can exert the effect as IPA is small. . The development of an IPA playback device and the like is also being studied, but a large investment is required.

【0009】このIPAに代わるものとして、揮発性に
優れたシロキサンを用いることが提案されている。例え
ば、特開平2000−38598号には、低分子シロキ
サンと親水性溶媒の混合液を用いる乾燥法が開示されて
いる。
As an alternative to the IPA, it has been proposed to use a siloxane having excellent volatility. For example, JP-A-2000-38598 discloses a drying method using a mixed solution of a low-molecular siloxane and a hydrophilic solvent.

【0010】しかし、この方法を用いても被洗浄体表面
に現れる乾燥ジミを完全に無くすることはできないとい
う問題がある。
However, there is a problem that even when this method is used, dry spots appearing on the surface of the object to be cleaned cannot be completely eliminated.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題を解決するためになされた発明である。即ち本発明
は、被洗浄体に対して乾燥ジミの残らない洗浄方法を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems. That is, an object of the present invention is to provide a cleaning method in which dry spots do not remain on a cleaning target.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、被
洗浄体を洗浄液で洗浄する工程と、前記被洗浄体を水で
濯ぐ工程と、前記被洗浄体を無機化合物に対する溶解性
を備えた多価アルコールからなる仕上げ濯ぎ剤で仕上げ
濯ぎする工程と、前記被洗浄体を、前記仕上げ濯ぎ剤と
の相溶性を備えた揮発性の置換溶媒で溶媒置換する工程
と、前記被洗浄体を乾燥する工程とを具備する。
According to the present invention, there is provided a cleaning method comprising the steps of: cleaning a body to be cleaned with a cleaning solution; rinsing the body to be cleaned with water; and dissolving the body to be cleaned in an inorganic compound. A step of finishing rinsing with a finishing rinse made of a polyhydric alcohol provided, a step of solvent-exchanging the object to be cleaned with a volatile substitution solvent having compatibility with the finishing rinse, Drying step.

【0013】上記洗浄方法において、前記無機化合物に
対する溶解性を備えた多価アルコールとは、塩化ナトリ
ウム、塩化亜鉛、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸
化カルシウムなどの無機化合物に対する溶解性を備えた
多価アルコールをいう。例えばエチレングリコールやジ
エチレングリコールなどが挙げられる。
In the above-mentioned washing method, the polyhydric alcohol having a solubility in the inorganic compound is a polyhydric alcohol having a solubility in an inorganic compound such as sodium chloride, zinc chloride, potassium carbonate, potassium hydroxide, and calcium hydroxide. Refers to a hydric alcohol. Examples include ethylene glycol and diethylene glycol.

【0014】仕上げ濯ぎ剤としてエチレングリコールを
用いる場合には、イオン交換樹脂を通すことにより繰り
返し使用できるという利点がある。
When ethylene glycol is used as the finishing rinse, there is an advantage that it can be repeatedly used by passing it through an ion exchange resin.

【0015】上記方法において、前記水で濯ぐ工程と、
前記仕上げ濯ぎする工程との間に、前記無機化合物に対
する溶解性を備えた多価アルコールと水との混合物で予
備濯ぎする予備濯ぎ工程を更に一工程以上具備していて
もよい。この場合の前記無機化合物に対する溶解性を備
えた多価アルコールと水との混合割合は、例えば前記無
機化合物に対する溶解性を備えた多価アルコール:水の
混合比=60:30〜80:20の間が好ましい。また
この混合比を変えてニ工程以上予備濯ぎ工程を設けても
良い。
In the above method, the step of rinsing with the water;
Between the final rinsing step and the final rinsing step, one or more preliminary rinsing steps of preliminary rinsing with a mixture of a polyhydric alcohol having solubility for the inorganic compound and water may be further provided. In this case, the mixing ratio of the polyhydric alcohol having solubility to the inorganic compound and water is, for example, a mixing ratio of polyhydric alcohol having water to the inorganic compound: water = 60: 30 to 80:20. Between is preferred. Further, two or more preliminary rinsing steps may be provided by changing the mixing ratio.

【0016】また、上記方法において、前記置換溶媒と
して、親水性溶媒、揮発性シリコーン組成物と親水性溶
媒との混合物、フッ素系溶剤、又は、フッ素系溶剤と親
水性溶媒との混合物が挙げられる。
In the above method, the substitution solvent may be a hydrophilic solvent, a mixture of a volatile silicone composition and a hydrophilic solvent, a fluorinated solvent, or a mixture of a fluorinated solvent and a hydrophilic solvent. .

【0017】上記方法において、上記親水性溶媒は、上
記仕上げ濯ぎ剤と相溶性を有し、揮発性であることが求
められる。
In the above method, the hydrophilic solvent is required to be compatible with the finish rinsing agent and to be volatile.

【0018】更に上記親水性溶媒としては、例えば、分
子量130以下の脂肪族アルコール類、ケトン類、エス
テル類またはグリコール類から選ばれた少なくとも1種
類のものが挙げられる。
The hydrophilic solvent includes, for example, at least one selected from aliphatic alcohols, ketones, esters and glycols having a molecular weight of 130 or less.

【0019】上記親水性溶媒の具体的な例としては、メ
タノール、エタノール、1−プロパノール(n−プロパ
ノール)、2−プロパノール(イソプロパノール)、1
−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノール、te
rt−ブタノール、tert−ペンタノール、3−メチ
ル−2−ブタノ一ル、シクロヘキサノール、アセトン、
メチルエチルケトン(MEK)、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、プロピオン酸メチ
ル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、2−ペ
ンタノン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタ
ノール、2−(メトキシメトキシ)エタノール、2−イ
ソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル等を
挙げることができる。これらの親水性溶媒は、単独、ま
たは組み合せて使用することができる。
Specific examples of the hydrophilic solvent include methanol, ethanol, 1-propanol (n-propanol), 2-propanol (isopropanol),
-Butanol, 2-butanol, isobutanol, te
rt-butanol, tert-pentanol, 3-methyl-2-butanol, cyclohexanol, acetone,
Methyl ethyl ketone (MEK), ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, pentyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, 2-pentanone, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2- (methoxymethoxy) ethanol , 2-isopropoxyethanol, 2-butoxyethanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, polypropylene glycol monomethyl ether, and the like. . These hydrophilic solvents can be used alone or in combination.

【0020】上記洗浄方法において、前記フッ素系溶剤
として、パーフルオロカーボン、ハイドロフルオロエー
テル、又は、トリフルオロエタノールが挙げられる。
In the above-mentioned cleaning method, examples of the fluorine-based solvent include perfluorocarbon, hydrofluoroether, and trifluoroethanol.

【0021】また、上記方法において前記揮発性シリコ
ーン組成物として、SiO単位が1〜6の低分子量ポリ
オルガノシロキサンが挙げられる。
In the above method, the volatile silicone composition includes a low molecular weight polyorganosiloxane having 1 to 6 SiO units.

【0022】更に、前記低分子量ポリオルガノシロキサ
ンは、
Further, the low molecular weight polyorganosiloxane is

【化3】 (式中、Rは同一または異なる置換または非置換の1価
の有機基を、lは0〜5の整数を示す)で表される直鎖
状ポリオルガノシロキサンおよび一般式
Embedded image (Wherein, R represents the same or different substituted or unsubstituted monovalent organic group, l represents an integer of 0 to 5) and a linear polyorganosiloxane represented by the general formula:

【化4】 (式中、Rは同一または異なる置換または非置換の1価
の有機基を、mは3〜7の整数を示す)で表される環状
ポリオルガノシロキサンから選ばれた少なくとも1種の
低分子量ポリオルガノシロキサンが挙げられる。
Embedded image (Wherein, R represents the same or different substituted or unsubstituted monovalent organic group, and m represents an integer of 3 to 7) at least one low molecular weight polyorganosiloxane selected from the group consisting of: And organosiloxanes.

【0023】さらに前記低分子量ポリオルガノシロキサ
ンの例として具体的には、オクタメチルトリシロキサン
(MDM)、デカメチルテトラシロキサン(MD2
M)、ドデカメチルペンタシロキサン(MD3M)、オ
クタメチルシクロテトラシロキサン(D4)、デカメチ
ルシクロペンタシロキサン(D5)、ドデカメチルシク
ロヘキサシロキサン(D6)等を挙げることができる。
これらの中でも沸点の高いD4、D5、D6、MD2
M、MD3Mが好ましい。これら低分子量ポリオルガノ
シロキサンは単独、または組み合せて使用することがで
きる。
Examples of the low molecular weight polyorganosiloxane include octamethyltrisiloxane (MDM) and decamethyltetrasiloxane (MD2).
M), dodecamethylpentasiloxane (MD3M), octamethylcyclotetrasiloxane (D4), decamethylcyclopentasiloxane (D5), dodecamethylcyclohexasiloxane (D6) and the like.
Among them, D4, D5, D6, MD2 having a high boiling point
M and MD3M are preferred. These low molecular weight polyorganosiloxanes can be used alone or in combination.

【0024】低分子量ポリオルガノシロキサンとして
は、少ない配合量で良好な溶媒置換性が得られることか
らD4、D5が好ましく、1〜20重量%、特に1〜1
0重量%とすることが好ましい。またD4、D5は、良
好な効果が得られることから、脂肪族アルコールと組み
合わせて使用することが好ましい。
As the low molecular weight polyorganosiloxane, D4 and D5 are preferred because good solvent substitution can be obtained with a small blending amount.
It is preferably 0% by weight. D4 and D5 are preferably used in combination with an aliphatic alcohol since a good effect is obtained.

【0025】また、前記シリコーン組成物は、さらに、
有機溶媒、界面活性剤および/または安定化剤を含んで
いても良い。
The silicone composition further comprises:
Organic solvents, surfactants and / or stabilizers may be included.

【0026】本発明で使用する低分子量ポリオルガノシ
ロキサンよりも分子量の高いポリオルガノシロキサンを
使用するとシロキサンが残留しやすく、被洗浄体表面の
清浄度が損なわれる。
When a polyorganosiloxane having a higher molecular weight than the low-molecular-weight polyorganosiloxane used in the present invention is used, the siloxane tends to remain and the cleanliness of the surface to be cleaned is impaired.

【0027】本発明で使用する置換溶媒は、浸漬により
良好な溶媒置換性を示す。さらには脱脂性があることか
ら、軽度な油分や、パーティクルを除去することが可能
である。また、超音波・機械的攪拌を併用することがよ
り好ましい。
The substitution solvent used in the present invention shows good solvent substitution property by immersion. Furthermore, since it has degreasing properties, it is possible to remove light oil and particles. It is more preferable to use ultrasonic and mechanical stirring together.

【0028】本発明に係る置換溶媒による溶媒置換浸漬
槽は、単層あるいは複数槽からなる。複数槽から構成さ
れる場合は、同一または異なる混合液を使用してもよ
い。またカスケード方式を採用して、搬送方向とは逆に
置換溶媒がオーバーフローするような構造とすることが
好ましい。
The solvent substitution immersion tank with the substitution solvent according to the present invention comprises a single layer or a plurality of tanks. When it is composed of a plurality of tanks, the same or different mixed liquids may be used. In addition, it is preferable to adopt a cascade system so that the substitution solvent overflows in the direction opposite to the transport direction.

【0029】更に、置換溶媒として低分子量ポリオルガ
ノシロキサンと親水性有機溶媒との混合物を使用する場
合には、液切り法を用いることが出来る。
When a mixture of a low-molecular-weight polyorganosiloxane and a hydrophilic organic solvent is used as the substitution solvent, a draining method can be used.

【0030】本発明の洗浄方法では、置換溶媒に被洗浄
体を浸漬する他に、置換溶媒を被洗浄体に吹き付けた
り、あるいは被洗浄体を置換溶媒を蒸気化したガスに晒
すことによって、被洗浄体の表面に存在する仕上げ濯ぎ
剤と、置換溶媒とを溶媒置換することが可能である。
In the cleaning method of the present invention, in addition to immersing the cleaning object in the replacement solvent, the cleaning solvent is sprayed on the cleaning object, or the cleaning object is exposed to a gas in which the replacement solvent is vaporized. It is possible to solvent-replace the finishing rinse present on the surface of the cleaning body with the replacement solvent.

【0031】また窒素雰囲気中で蒸気化したガスに晒す
ことで、大気中の酸素を遮断し、ウォーターマークの発
生をより防ぐことができ、安全性も大きくなる。
Further, by exposing to a vaporized gas in a nitrogen atmosphere, oxygen in the atmosphere can be shut off, the generation of watermarks can be further prevented, and the safety can be increased.

【0032】本発明の洗浄方法によれば、上記方法で溶
媒置換を施した後、すばやく均一に乾燥させることで被
洗浄体表面を乾燥できる。
According to the cleaning method of the present invention, the surface of the object to be cleaned can be dried by quickly and uniformly drying after the solvent replacement by the above method.

【0033】本発明の洗浄方法では、仕上げ濯ぎする工
程で用いる仕上げ濯ぎ剤の作用により乾燥ジミの元とな
る無機類が除去されると考えられる。即ち、先行する洗
浄工程で用いる洗浄液等の成分と、水に含まれるイオン
とが残存していると乾燥工程でNaClやKCl等の塩
を生成し、これが乾燥ジミを惹起するものと考えられ
る。
In the cleaning method of the present invention, it is considered that the inorganic substance which is a source of dry spots is removed by the action of the finish rinsing agent used in the finish rinsing step. That is, if the components such as the cleaning liquid used in the preceding cleaning step and the ions contained in the water remain, salts such as NaCl and KCl are generated in the drying step, and this is considered to cause dry spots.

【0034】本発明の洗浄方法では、仕上げ濯ぎする工
程で用いるエチレングリコール等の無機化合物に対する
溶解性を備えた多価アルコールからなる仕上げ濯ぎ剤の
作用により各種陽イオンや塩素イオンが除去されるの
で、被処理体表面に各種陽イオンや塩素イオンが残って
おらず、そのために乾燥後に被処理体表面に乾燥ジミが
形成されないと考えられる。
In the cleaning method of the present invention, various cations and chlorine ions are removed by the action of the finishing rinse made of a polyhydric alcohol having a solubility in inorganic compounds such as ethylene glycol used in the finishing rinsing step. It is considered that various cations and chlorine ions do not remain on the surface of the object to be processed, and therefore, no drying spots are formed on the surface of the object after drying.

【0035】また、本発明では仕上げ濯ぎした後に溶媒
置換して前記仕上げ濯ぎ剤を揮発し易い溶媒に置換して
から乾燥するので、速やかに乾燥することが出来る。
Further, in the present invention, the solvent is replaced after the finish rinsing, and the finish rinsing agent is replaced with a volatile solvent, followed by drying.

【0036】本発明の洗浄方法は、各種被洗浄体に対し
て適用可能であり、被洗浄体の材質は特に限定されるも
のでなく、金属、半金属、セラミックス、プラスチック
材料等が挙げられる。例えば、金属、半金属としては
鉄、アルミニウム、シリコン、銅、ステンレス等がセラ
ミックスとしては窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化アルミ
ニウム、ガラス、磁器等が、プラスチックとしては、ポ
リアミド、ポリイミド、エポキシ、ポリオレフィン、ポ
リエステル、アクリル樹脂等が例示され、またこれらの
複合材料であってもよい。具体的にはプリント基板や実
装部品等の電予部品、被洗浄体、半導体部品、金属部
品、表面処理部品、精密機器部品、被洗浄体、ガラス部
品、セラミックス部品、プラスチック部品等が挙げられ
る。
The cleaning method of the present invention is applicable to various objects to be cleaned, and the material of the object to be cleaned is not particularly limited, and examples thereof include metals, metalloids, ceramics, and plastic materials. For example, metals, metalloids are iron, aluminum, silicon, copper, stainless steel, etc., ceramics are silicon nitride, silicon carbide, aluminum oxide, glass, porcelain, etc., and plastics are polyamide, polyimide, epoxy, polyolefin, polyester. , Acrylic resin and the like, and a composite material thereof may be used. Specific examples include electronic components such as printed circuit boards and mounting components, objects to be cleaned, semiconductor components, metal components, surface treatment components, precision equipment components, objects to be cleaned, glass components, ceramic components, plastic components, and the like.

【0037】[0037]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0038】図1は本発明の洗浄方法の各工程の操作を
示したフローチャートであり、表1〜表4は図1の各工
程の処理条件を各工程ごとに纏めた表である。
FIG. 1 is a flowchart showing the operation of each step of the cleaning method of the present invention. Tables 1 to 4 are tables summarizing the processing conditions of each step in FIG. 1 for each step.

【0039】[0039]

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【表4】 [Table 4]

【0040】ステップ1〜11の各工程では、処理槽内
で超音波を発振すると同時に処理液を機械的に揺動し
て、洗浄や濯ぎなどの操作を促進しながら各工程を行な
った。
In each of the steps 1 to 11, each step was performed while oscillating ultrasonic waves in the processing tank and mechanically oscillating the processing liquid to promote operations such as washing and rinsing.

【0041】テストサンプルは一眼レフレンズ用の規格
に合致したガラスレンズ型のテストサンプルを使用し、
このテストサンプルについて表1に記載した条件、及
び、図1のフローに従ってガラスレンズの洗浄を行なっ
た。
As the test sample, a glass lens type test sample that conforms to the standard for a single-lens reflex lens is used.
With respect to this test sample, the glass lens was cleaned in accordance with the conditions described in Table 1 and the flow of FIG.

【0042】即ち、被洗浄体テストサンプルとしてガラ
スレンズ(材質:レンズ用ガラス、厚さ:5mm、直径:
75mm)を用意した。このテストサンプルに対し、Na
OHを用いてアルカリ洗浄(ステップ1)した後、市水
でリンスした(ステップ2)。
That is, a glass lens (material: glass for lens, thickness: 5 mm, diameter:
75 mm). For this test sample, Na
After alkali cleaning using OH (step 1), the substrate was rinsed with city water (step 2).

【0043】更にこの後界面活性剤(サンウォッシュ。
(商品名)/(株)花王製)を溶解した水溶液中にテス
トサンプルを45秒間浸漬し(ステップ3)、更に同じ
組成の溶液が満たされた洗浄槽に移して同様の洗浄を行
なった(ステップ4)。
After this, a surfactant (Sunwash.
The test sample was immersed in an aqueous solution in which (trade name) / (Kao Co., Ltd.) was dissolved for 45 seconds (step 3), and transferred to a washing tank filled with a solution having the same composition, and subjected to the same washing ( Step 4).

【0044】界面活性剤水溶液での洗浄後、市水でのリ
ンスを処理槽を変えて2回行ない(ステップ5〜6)、
次いで純水を用いてリンスした(ステップ7)。
After washing with the aqueous surfactant solution, rinsing with city water is performed twice by changing the treatment tank (steps 5 to 6).
Next, rinsing was performed using pure water (step 7).

【0045】このガラスレンズをテストサンプルとして
使用し、表1中の実施例1〜4および比較例1〜20に
示す各仕上げ濯ぎ剤を使用し、仕上げ濯ぎ工程(ステッ
プ8)で各仕上げ濯ぎ剤に30℃で45秒間、浸漬およ
び揺動することによって被洗浄体に付着した純水を溶解
除去あるいは脱離・沈降させて除去した後、今度は置換
溶媒で溶媒置換を2回行い(ステップ9〜10)、その
後乾燥を行った(ステップ11)。
Using this glass lens as a test sample, using each of the finishing rinses shown in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 20 in Table 1, in the finishing rinsing step (Step 8), The pure water adhering to the object to be cleaned is removed by dissolution or elimination / sedimentation by immersion and rocking at 30 ° C. for 45 seconds, and then solvent replacement is performed twice with a replacement solvent (step 9). To 10), and then dried (step 11).

【0046】ステップ11の乾燥工程では、置換溶媒を
満たした浸漬槽からレンズを引上げ、垂直に保持し液が
切れた後、端部の液溜りを除去するため、溶媒置換に用
いた置換溶媒(IPA,低分子ポリシロキサン組成物、
トリフルオロエタノール)を用いて加熱下に蒸気乾燥を
45秒間行なった。
In the drying step of step 11, the lens is pulled up from the immersion tank filled with the replacement solvent, held vertically, and after the liquid has run out, the liquid pool at the end is removed. IPA, low molecular weight polysiloxane composition,
Using trifluoroethanol), steam drying was performed for 45 seconds while heating.

【0047】乾燥が完了したテストサンプル表面の評価
方法は、処理の終了したガラスレンズ型テストサンプル
の表面にハロゲンランプを光源とする光を当てて、レン
ズ表面の状態を目視で評価した。使用した物質と評価結
果を表5に示す。
In the method of evaluating the dried test sample surface, the surface of the treated glass lens type test sample was exposed to light using a halogen lamp as a light source, and the condition of the lens surface was visually evaluated. Table 5 shows the substances used and the evaluation results.

【0048】[0048]

【表5】 [Table 5]

【0049】(実施例1〜4)実施例1では、ステップ
8の仕上げ濯ぎ工程で、仕上げ濯ぎ剤としてエチレング
リコールを使用した。その後のステップ9〜10の溶媒
置換工程では置換溶媒としてIPA(イソプロピルアル
コール)を使用して溶媒置換を行なった。
(Examples 1 to 4) In Example 1, in the finishing rinsing step of Step 8, ethylene glycol was used as a finishing rinsing agent. In the subsequent solvent replacement process in steps 9 to 10, solvent replacement was performed using IPA (isopropyl alcohol) as a replacement solvent.

【0050】実施例2では、仕上げ濯ぎ剤としてジエチ
レングリコールを使用した。その後の溶媒置換工程では
置換溶媒としてIPA(イソプロピルアルコール)を使
用して液切りを行なった。
In Example 2, diethylene glycol was used as the finishing rinse. In the subsequent solvent replacement step, liquid removal was performed using IPA (isopropyl alcohol) as a replacement solvent.

【0051】実施例3では、仕上げ濯ぎ剤としてエチレ
ングリコールを使用した。その後の溶媒置換では置換溶
媒として低分子ポリシロキサン組成物を使用した。この
置換溶媒は、低分子ポリシロキサンとしてのデカメチル
シクロペンタシロキサン(D5)10重量部と、親水性
有機溶媒としてのセカンダリーブタノール90重量部と
の混合物である。また、溶媒置換後の乾燥工程では、8
0℃で温風乾燥した。
In Example 3, ethylene glycol was used as the finishing rinse. In the subsequent solvent replacement, a low molecular weight polysiloxane composition was used as a replacement solvent. This substitution solvent is a mixture of 10 parts by weight of decamethylcyclopentasiloxane (D5) as a low molecular weight polysiloxane and 90 parts by weight of secondary butanol as a hydrophilic organic solvent. In the drying step after the solvent replacement, 8
It was dried with hot air at 0 ° C.

【0052】実施例4では、仕上げ濯ぎ剤としてジエチ
レングリコールを使用した。その後の溶媒置換工程では
置換溶媒としてトリフルオロエタノールを使用して溶媒
置換を行なった。また、溶媒置換後の乾燥工程では、7
4℃でトリフルオロエタノールのベーパー雰囲気で乾燥
した。
In Example 4, diethylene glycol was used as the finishing rinse. In the subsequent solvent replacement step, solvent replacement was performed using trifluoroethanol as a replacement solvent. In the drying step after solvent replacement, 7
Dry at 4 ° C. in a trifluoroethanol vapor atmosphere.

【0053】これら実施例1〜4については、何れのテ
ストサンプルにも乾燥ジミは見られなかった。図1に実
施例1で示した洗浄方法により洗浄したレンズの写真を
示した。図1に示すように、実施例1の方法で洗浄した
レンズ表面には乾燥ジミは見られなかった。
With respect to Examples 1 to 4, no dry spot was observed on any of the test samples. FIG. 1 shows a photograph of the lens cleaned by the cleaning method described in Example 1. As shown in FIG. 1, no dry spots were observed on the lens surface cleaned by the method of Example 1.

【0054】(比較例1〜20)比較例1〜20では、
ステップ8の仕上げ濯ぎ工程で、仕上げ濯ぎ剤として表
2に記載した物質を使用した。その後のステップ9〜1
0の溶媒置換工程では置換溶媒としてIPA(イソプロ
ピルアルコール)を使用して溶媒置換を行なった。
(Comparative Examples 1 to 20) In Comparative Examples 1 to 20,
In the finishing rinsing step of step 8, the substances listed in Table 2 were used as finishing rinsing agents. Subsequent steps 9-1
In the solvent replacement step of 0, solvent replacement was performed using IPA (isopropyl alcohol) as a replacement solvent.

【0055】これらの比較例1〜20では、置換溶媒と
してIPAを使用して溶媒置換を行なったが、何れの場
合もテストサンプル上に乾燥ジミが白く現れた。図2に
比較例1で示した洗浄方法により洗浄したレンズの写真
を示した。図2に示すように、比較例1の方法で洗浄し
たレンズ表面には乾燥ジミが全面に現れた。
In these Comparative Examples 1 to 20, solvent substitution was performed using IPA as a substitution solvent, but in each case, white spots appeared on the test sample. FIG. 2 shows a photograph of the lens cleaned by the cleaning method shown in Comparative Example 1. As shown in FIG. 2, dry stains appeared on the entire surface of the lens cleaned by the method of Comparative Example 1.

【0056】以上、実施例1〜4と比較例1〜20の結
果が示すように、本発明の洗浄方法によれば、乾燥ジミ
を生じることなく被洗浄体の洗浄を行なうことができ
る。
As described above, according to the results of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 20, according to the cleaning method of the present invention, the object to be cleaned can be cleaned without causing dry spots.

【0057】本発明の洗浄方法では、仕上げ濯ぎする工
程で用いる仕上げ濯ぎ剤の作用により乾燥ジミの元とな
る無機類が除去されると考えられる。即ち、先行するア
ルカリ洗浄で用いるNaOH等のアルカリと、水に含ま
れる塩素とが残存していると乾燥工程でNaClやKC
l等の無機塩を生成し、これが乾燥ジミを惹起するもの
と考えられる。
In the cleaning method of the present invention, it is considered that the inorganic substance which is a source of dry spots is removed by the action of the finish rinsing agent used in the finish rinsing step. That is, if alkali such as NaOH used in the preceding alkali washing and chlorine contained in water remain, NaCl or KC
It is considered that an inorganic salt such as 1 is produced, which causes dry spots.

【0058】本発明の洗浄方法では、仕上げ濯ぎする工
程で用いるエチレングリコール等の低粘度多価アルコー
ルからなる仕上げ濯ぎ剤の作用によりアルカリイオンや
塩素イオンが除去されるので、被処理体表面にアルカリ
イオンや塩素イオンが残っておらず、そのために乾燥後
に被処理体表面に乾燥ジミが形成されないと考えられ
る。
In the cleaning method of the present invention, alkali ions and chlorine ions are removed by the action of the finishing rinse agent comprising a low-viscosity polyhydric alcohol such as ethylene glycol used in the finishing rinsing step. It is considered that no ions or chlorine ions remain, so that no dry spots are formed on the surface of the object after drying.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明の洗浄方法では、無機化合物に対
する溶解性を備えた仕上げ濯ぎ剤で仕上げ濯ぎする工程
で乾燥ジミの元となる無機類が除去されるので、被洗浄
体表面から有効に乾燥ジミを消失させることが出来る。
また、仕上げ濯ぎ工程の後に溶媒置換してから乾燥する
ので、速やかに乾燥させることができる。
According to the cleaning method of the present invention, the inorganics which are the source of dry spots are removed in the step of finish rinsing with a finish rinsing agent having solubility for inorganic compounds. Dry spots can be eliminated.
Further, since the solvent is replaced after the final rinsing step and then the drying is performed, the drying can be performed quickly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の洗浄方法の工程を示したフローチャー
トである。
FIG. 1 is a flowchart showing steps of a cleaning method of the present invention.

【図2】本発明の実施例1の洗浄方法で洗浄したレンズ
の写真である。
FIG. 2 is a photograph of a lens cleaned by the cleaning method of Example 1 of the present invention.

【図3】比較例1の方法で洗浄したレンズの写真であ
る。
FIG. 3 is a photograph of a lens cleaned by the method of Comparative Example 1.

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Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被洗浄体を洗浄液で洗浄する工程と、 前記被洗浄体を水で濯ぐ工程と、 前記被洗浄体を無機化合物に対する溶解性を備えた多価
アルコールからなる仕上げ濯ぎ剤で仕上げ濯ぎする工程
と、 前記被洗浄体を、前記仕上げ濯ぎ剤との相溶性を備えた
揮発性の置換溶媒で溶媒置換する工程と、 前記被洗浄体を乾燥する工程と、を具備する洗浄方法。
1. A step of washing an object to be cleaned with a cleaning liquid; a step of rinsing the object to be cleaned with water; and a step of rinsing the object to be washed with a finishing rinse made of a polyhydric alcohol having solubility for an inorganic compound. A cleaning method comprising: a step of performing a final rinsing; a step of solvent-exchanging the object to be cleaned with a volatile substitution solvent having compatibility with the final rinsing agent; and a step of drying the object to be cleaned. .
【請求項2】 請求項1に記載の洗浄方法であって、前
記水で濯ぐ工程と、前記仕上げ濯ぎする工程との間に、
前記無機化合物に対する溶解性を備えた多価アルコール
と水との混合物で予備濯ぎする予備濯ぎ工程を更に一工
程以上具備することを特徴とする洗浄方法。
2. The cleaning method according to claim 1, wherein the step of rinsing with water and the step of finishing rinsing include:
A cleaning method, further comprising at least one preliminary rinsing step of preliminary rinsing with a mixture of a polyhydric alcohol having water solubility with respect to the inorganic compound and water.
【請求項3】 請求項1又は2に記載の洗浄方法であっ
て、前記揮発性溶媒が、 親水性溶媒、揮発性シリコーン組成物と親水性溶媒との
混合物、フッ素系溶剤、又は、フッ素系溶剤と親水性溶
媒との混合物であることを特徴とする洗浄方法。
3. The cleaning method according to claim 1, wherein the volatile solvent is a hydrophilic solvent, a mixture of a volatile silicone composition and a hydrophilic solvent, a fluorinated solvent, or a fluorinated solvent. A cleaning method comprising a mixture of a solvent and a hydrophilic solvent.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか一項に記載の洗
浄方法であって、前記低粘度多価アルコールが、エチレ
ングリコール、又は、ジエチレングリコールであること
を特徴とする洗浄方法。
4. The cleaning method according to claim 1, wherein the low-viscosity polyhydric alcohol is ethylene glycol or diethylene glycol.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の洗
浄方法であって、前記親水性溶媒が、分子量130以下
の脂肪族アルコール類、ケトン類、エステル類またはグ
リコール類から選ばれた少なくとも1種類であり、 前記揮発性シリコーン組成物が、SiO単位が1〜6の
低分子量ポリオルガノシロキサンであり、 前記フッ素系溶剤が、パーフルオロカーボン、ハイドロ
フルオロエーテル、又はトリフルオロエタノールである
ことを特徴とする洗浄方法。
5. The cleaning method according to claim 1, wherein the hydrophilic solvent is selected from aliphatic alcohols, ketones, esters, and glycols having a molecular weight of 130 or less. And the volatile silicone composition is a low molecular weight polyorganosiloxane having 1 to 6 SiO units, and the fluorine-based solvent is perfluorocarbon, hydrofluoroether, or trifluoroethanol. A cleaning method characterized by the above-mentioned.
【請求項6】 請求項5に記載の洗浄方法であって、
前記低分子量ポリオルガノシロキサンは、 【化1】 (式中、Rは同一または異なる置換または非置換の1価
の有機基を、lは0〜5の整数を示す)で表される直鎖
状ポリオルガノシロキサンおよび一般式 【化2】 (式中、Rは同一または異なる置換または非置換の1価
の有機基を、mは3〜7の整数を示す)で表される環状
ポリオルガノシロキサンから選ばれた少なくとも1種の
低分子量ポリオルガノシロキサンであることを特徴とす
る洗浄方法。
6. The cleaning method according to claim 5, wherein
The low molecular weight polyorganosiloxane is represented by the following formula: (Wherein R represents the same or different substituted or unsubstituted monovalent organic group, and l represents an integer of 0 to 5), and a linear polyorganosiloxane represented by the general formula: (Wherein, R represents the same or different substituted or unsubstituted monovalent organic group, and m represents an integer of 3 to 7) at least one low molecular weight polyorganosiloxane selected from the group consisting of: A washing method, which is an organosiloxane.
【請求項7】 請求項6に記載の洗浄方法であって、前
記低分子量ポリオルガノシロキサンが、オクタメチルト
リシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメ
チルペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロ
キサン、デカメチルシクロペンタシロキサンおよびドデ
カメチルシクロヘキサシロキサンから選ばれる少なくと
も1種であることを特徴とする洗浄方法。
7. The cleaning method according to claim 6, wherein the low molecular weight polyorganosiloxane is octamethyltrisiloxane, decamethyltetrasiloxane, dodecamethylpentasiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane. A cleaning method comprising at least one selected from siloxane and dodecamethylcyclohexasiloxane.
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