JP3179380B2 - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q70/00—General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
- G01Q70/02—Probe holders
- G01Q70/04—Probe holders with compensation for temperature or vibration induced errors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y35/00—Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/86—Scanning probe structure
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査型原子間力顕
微鏡(AFM: Atomic Force Microscope)に代表され
る走査型プローブ顕微鏡に係り、特に、プローブ駆動系
に生じる共振振動を速やかに減衰させるようにした走査
型プローブ顕微鏡に関する。
微鏡(AFM: Atomic Force Microscope)に代表され
る走査型プローブ顕微鏡に係り、特に、プローブ駆動系
に生じる共振振動を速やかに減衰させるようにした走査
型プローブ顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】AFM等の走査型プローブ顕微鏡では、
試料表面とプローブとの間の相互作用を利用して試料表
面の微細な組織や構造を検出するために、片持ち梁の先
端に探針を装着したカンチレバーがプローブとして使用
される。試料表面と探針との間には、原子間力に基づく
引力または斥力が発生するので、探針を試料表面でXY
方向へ主および副走査させながら原子間力をカンチレバ
ーの歪量として検出し、この歪量すなわち試料表面と探
針との間隙が一定となるように試料ステージをZ軸方向
へ微動させれば、その際の微動信号、あるいは検出され
た歪量そのものが試料表面の形状を代表するようにな
る。
試料表面とプローブとの間の相互作用を利用して試料表
面の微細な組織や構造を検出するために、片持ち梁の先
端に探針を装着したカンチレバーがプローブとして使用
される。試料表面と探針との間には、原子間力に基づく
引力または斥力が発生するので、探針を試料表面でXY
方向へ主および副走査させながら原子間力をカンチレバ
ーの歪量として検出し、この歪量すなわち試料表面と探
針との間隙が一定となるように試料ステージをZ軸方向
へ微動させれば、その際の微動信号、あるいは検出され
た歪量そのものが試料表面の形状を代表するようにな
る。
【0003】プローブの主および副走査方向への走査機
構ならびにZ方向への微動機構としては、これまでステ
ッピングモータと差動ねじとを組み合わせた機構やPZ
T等の圧電アクチュエータを用いた機構が提案されてい
たが、大きさやコストの面で改善の余地が多々あった。
そこで、本出願人は、音響用スピーカに適用されている
ボイスコイルモータを用いてプローブを走査および微動
させる走査型プローブ顕微鏡を開発し、これを特許出願
した(特願平8−25201号)。
構ならびにZ方向への微動機構としては、これまでステ
ッピングモータと差動ねじとを組み合わせた機構やPZ
T等の圧電アクチュエータを用いた機構が提案されてい
たが、大きさやコストの面で改善の余地が多々あった。
そこで、本出願人は、音響用スピーカに適用されている
ボイスコイルモータを用いてプローブを走査および微動
させる走査型プローブ顕微鏡を開発し、これを特許出願
した(特願平8−25201号)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ボイスコイルモータを
走査手段や微動手段として採用した場合、プローブを支
持する支持機構と各ボイスコイルモータの可動子とは連
結部材を介して機械的に連結される。このとき、主およ
び副走査の周波数やZ微動の周波数(以下、これらを駆
動周波数と表現する場合もある)が、ボイスコイルモー
タや支持機構を含むプローブ駆動系の固有振動数と一致
してしまうと、プローブを駆動する際に駆動系が共振し
てプローブが大きく振動してしまう。このため、プロー
ブの駆動系は、その固有振動数f0 がプローブの主およ
び副走査周波数fx 、fy やZ微動周波数fz と一致し
ないように設計される。具体的には、プローブの駆動系
は、その固有振動数f0 が駆動周波数の5ないし10倍
以上となるように設計することが望ましい。
走査手段や微動手段として採用した場合、プローブを支
持する支持機構と各ボイスコイルモータの可動子とは連
結部材を介して機械的に連結される。このとき、主およ
び副走査の周波数やZ微動の周波数(以下、これらを駆
動周波数と表現する場合もある)が、ボイスコイルモー
タや支持機構を含むプローブ駆動系の固有振動数と一致
してしまうと、プローブを駆動する際に駆動系が共振し
てプローブが大きく振動してしまう。このため、プロー
ブの駆動系は、その固有振動数f0 がプローブの主およ
び副走査周波数fx 、fy やZ微動周波数fz と一致し
ないように設計される。具体的には、プローブの駆動系
は、その固有振動数f0 が駆動周波数の5ないし10倍
以上となるように設計することが望ましい。
【0005】しかしながら、本発明者の実験によれば、
たとえプローブの駆動周波数とプローブ駆動系の固有振
動数とが一致していなくても、主および副走査の折り返
し時には、本来の走査周波数よりも高い周波数成分を含
む振動が発生するため、プローブ駆動系がこれに共振し
て大きく振動することがある。図3は、ボイスコイルモ
ータに入力される走査信号と、実際の探針の走査位置と
の関係を比較して示した図であり、特に同図(a) は、プ
ローブを主走査方向へ走査するための主走査信号(駆動
電流IX )を表し、同図(b) は、主走査信号IX に応答
して走査された探針の主走査方向に関する実際の位置
(縦軸)を表している。
たとえプローブの駆動周波数とプローブ駆動系の固有振
動数とが一致していなくても、主および副走査の折り返
し時には、本来の走査周波数よりも高い周波数成分を含
む振動が発生するため、プローブ駆動系がこれに共振し
て大きく振動することがある。図3は、ボイスコイルモ
ータに入力される走査信号と、実際の探針の走査位置と
の関係を比較して示した図であり、特に同図(a) は、プ
ローブを主走査方向へ走査するための主走査信号(駆動
電流IX )を表し、同図(b) は、主走査信号IX に応答
して走査された探針の主走査方向に関する実際の位置
(縦軸)を表している。
【0006】プローブ駆動系は、走査開始直後から最初
の折り返しまでは共振せず、プローブの走査位置は主走
査信号Ix に正確に追従している。しかしながら、プロ
ーブが折り返し動作をすると、走査方向が瞬間的に変わ
ることから、本来の走査周波数よりも高い周波数成分を
含む振動が生じ、これによって駆動系に共振振動が生じ
る。したがって、折り返し後は駆動系が比較的大きく振
動して走査位置が不安定になる。その後は共振が徐々に
減衰して安定方向に向かうものの、次に再び折り返し動
作が行われると、前記と同様にプローブが再び共振して
走査位置が不安定になる。
の折り返しまでは共振せず、プローブの走査位置は主走
査信号Ix に正確に追従している。しかしながら、プロ
ーブが折り返し動作をすると、走査方向が瞬間的に変わ
ることから、本来の走査周波数よりも高い周波数成分を
含む振動が生じ、これによって駆動系に共振振動が生じ
る。したがって、折り返し後は駆動系が比較的大きく振
動して走査位置が不安定になる。その後は共振が徐々に
減衰して安定方向に向かうものの、次に再び折り返し動
作が行われると、前記と同様にプローブが再び共振して
走査位置が不安定になる。
【0007】このように、従来技術ではプローブの走査
折り返し時に発生する振動によるプローブ駆動系の共振
が考慮されていなかったため、プローブを安定して走査
することができず、観察像が不鮮明になってしまうとい
う問題があった。本発明の目的は、上記した従来技術の
問題点を解決し、プローブ走査によって生じるプローブ
駆動系の共振振動を速やかに減衰させるようにした走査
型プローブ顕微鏡を提供することにある。
折り返し時に発生する振動によるプローブ駆動系の共振
が考慮されていなかったため、プローブを安定して走査
することができず、観察像が不鮮明になってしまうとい
う問題があった。本発明の目的は、上記した従来技術の
問題点を解決し、プローブ走査によって生じるプローブ
駆動系の共振振動を速やかに減衰させるようにした走査
型プローブ顕微鏡を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明では、試料表面に探針を近接させ、両者
の間隙が予定値に保たれるように、探針をZ方向へ微動
させながらXY方向へ走査する走査型プローブ顕微鏡に
おいて、自由端に探針が形成された片持ち梁式の走査プ
ローブを主および副走査方向ならびにZ方向へ駆動する
各駆動手段の少なくとも一つをボイスコイルモータによ
って構成し、当該ボイスコイルモータの固定子と可動子
との間に、その共振振動のQを小さく抑える粘性流体を
充填するようにした。
ために、本発明では、試料表面に探針を近接させ、両者
の間隙が予定値に保たれるように、探針をZ方向へ微動
させながらXY方向へ走査する走査型プローブ顕微鏡に
おいて、自由端に探針が形成された片持ち梁式の走査プ
ローブを主および副走査方向ならびにZ方向へ駆動する
各駆動手段の少なくとも一つをボイスコイルモータによ
って構成し、当該ボイスコイルモータの固定子と可動子
との間に、その共振振動のQを小さく抑える粘性流体を
充填するようにした。
【0009】上記した構成によれば、主および副走査の
折り返し時に、本来の走査周波数よりも高い周波数成分
を含む振動が発生してプローブの駆動系に伝達され、そ
の結果、ボイスコイルモータを含む駆動系が共振振動し
ても、これを速やかに減衰させることができる。
折り返し時に、本来の走査周波数よりも高い周波数成分
を含む振動が発生してプローブの駆動系に伝達され、そ
の結果、ボイスコイルモータを含む駆動系が共振振動し
ても、これを速やかに減衰させることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。図1は、本発明の一実施形態の走査プロ
ーブ顕微鏡の主要部の構成を示した図である。筐体1の
上部には第1の永久磁石2が装着され、永久磁石2の中
央部には、環状溝5で囲まれた心棒部3が形成されてい
る。永久磁石2の心棒部3にはキャップ状の可動子4が
遊嵌され、可動子4の外周部にはボイスコイル6が巻回
されている。環状溝5内には、コロイド状の磁性材料を
含む粘性流体(磁性流体)7が充填されており、永久磁
石2、心棒部3、可動子4およびボイスコイル6は、音
響用スピーカ等で使用されているボイスコイルモータを
形成している。
細に説明する。図1は、本発明の一実施形態の走査プロ
ーブ顕微鏡の主要部の構成を示した図である。筐体1の
上部には第1の永久磁石2が装着され、永久磁石2の中
央部には、環状溝5で囲まれた心棒部3が形成されてい
る。永久磁石2の心棒部3にはキャップ状の可動子4が
遊嵌され、可動子4の外周部にはボイスコイル6が巻回
されている。環状溝5内には、コロイド状の磁性材料を
含む粘性流体(磁性流体)7が充填されており、永久磁
石2、心棒部3、可動子4およびボイスコイル6は、音
響用スピーカ等で使用されているボイスコイルモータを
形成している。
【0011】前記可動子4の閉塞端4aの中央部には、
z方向に延びるスピンドル8の一端が固着されている。
スピンドル8の他端には、固定端が中筒13によって支
持された片持ち梁14の自由端が固着されている。片持
ち梁14には支持台12を介してプローブ10のカンチ
レバー10bが固定されており、カンチレバー10bの
自由端には探針10aが形成されている。
z方向に延びるスピンドル8の一端が固着されている。
スピンドル8の他端には、固定端が中筒13によって支
持された片持ち梁14の自由端が固着されている。片持
ち梁14には支持台12を介してプローブ10のカンチ
レバー10bが固定されており、カンチレバー10bの
自由端には探針10aが形成されている。
【0012】前記筐体1の側面には、また、第2の永久
磁石21が装着され、永久磁石21の中央部には、環状
溝28で囲まれた心棒部22が形成されている。心棒部
22にはキャップ状の可動子23が遊嵌され、可動子2
3の外周部にはボイスコイル25が巻回されている。環
状溝28内には前記と同様に粘性流体26が充填されて
おり、第2の永久磁石21、心棒部22、可動子23お
よびボイスコイル25は前記と同様のボイスコイルモー
タを形成している。なお、図示していないが、環状溝
5、28には溝外部と連通する開口が形成されており、
粘性流体7,26を当該溝5、28内へ充填する際に溝
内部の空気が当該開口から排気され、粘性流体を容易に
充填することができる。
磁石21が装着され、永久磁石21の中央部には、環状
溝28で囲まれた心棒部22が形成されている。心棒部
22にはキャップ状の可動子23が遊嵌され、可動子2
3の外周部にはボイスコイル25が巻回されている。環
状溝28内には前記と同様に粘性流体26が充填されて
おり、第2の永久磁石21、心棒部22、可動子23お
よびボイスコイル25は前記と同様のボイスコイルモー
タを形成している。なお、図示していないが、環状溝
5、28には溝外部と連通する開口が形成されており、
粘性流体7,26を当該溝5、28内へ充填する際に溝
内部の空気が当該開口から排気され、粘性流体を容易に
充填することができる。
【0013】可動子23にはx方向のスピンドル27の
一端が固着され、スピンドル27の他端は中筒13の側
部に固着されている。このボイスコイルモータは主走査
方向(X方向)のスピンドル27に作用するが、図示さ
れていない同構成のボイスコイルモータが90°回転し
た位置に設けられており、副走査方向(Y方向)のスピ
ンドルに作用する。そして、前記主および副走査方向の
ボイスコイルモータを駆動することにより、前記探針1
0aは試料表面に対してラスタ走査される。前記探針1
0aと対向する位置には試料台31が設けられ、試料台
31上には観察対象の試料32が載置されている。該試
料台31は試料ステージ33上に設置されている。
一端が固着され、スピンドル27の他端は中筒13の側
部に固着されている。このボイスコイルモータは主走査
方向(X方向)のスピンドル27に作用するが、図示さ
れていない同構成のボイスコイルモータが90°回転し
た位置に設けられており、副走査方向(Y方向)のスピ
ンドルに作用する。そして、前記主および副走査方向の
ボイスコイルモータを駆動することにより、前記探針1
0aは試料表面に対してラスタ走査される。前記探針1
0aと対向する位置には試料台31が設けられ、試料台
31上には観察対象の試料32が載置されている。該試
料台31は試料ステージ33上に設置されている。
【0014】前記各ボイスコイルモータに充填された粘
性流体は、それぞれの可動子およびこれに連結された駆
動系の固有振動のQを低く抑えるダンパーとして作用す
る。このため、充填する粘性流体の粘性率(粘度)を高
くし過ぎると、ダンパーとしての機能は向上するものの
可動子の応答性が低下してしまう。反対に粘性率を低く
し過ぎるとダンパーとしての機能が低下してしまう。こ
のため、粘性流体の粘性率としては500〜1500セ
ンチポアズの範囲であることが望ましい。
性流体は、それぞれの可動子およびこれに連結された駆
動系の固有振動のQを低く抑えるダンパーとして作用す
る。このため、充填する粘性流体の粘性率(粘度)を高
くし過ぎると、ダンパーとしての機能は向上するものの
可動子の応答性が低下してしまう。反対に粘性率を低く
し過ぎるとダンパーとしての機能が低下してしまう。こ
のため、粘性流体の粘性率としては500〜1500セ
ンチポアズの範囲であることが望ましい。
【0015】各ボイスコイルモータに充填する粘性流体
の粘性率は上記した範囲内で同じでも良いが、各ボイス
コイルモータは駆動周波数が異なるので、それぞれの駆
動周波数に適した粘性率の粘性流体を充填することが望
ましい。例えば、Z微動の周波数は主および副走査の周
波数よりも十分に高く、Z微動用ボイスコイルモータに
充填する粘性流体の粘性率を高くし過ぎると微動信号に
対する微動の応答性が低下してしまうので、Z微動用ボ
イスコイルモータに充填する粘性流体の粘性率は、主お
よび副走査用ボイスコイルモータのそれよりも低くする
ことが望ましい。同様の観点から、主走査用ボイスコイ
ルモータに充填する粘性流体の粘性率は、副走査用ボイ
スコイルモータのそれよりも低くすることが望ましい。
の粘性率は上記した範囲内で同じでも良いが、各ボイス
コイルモータは駆動周波数が異なるので、それぞれの駆
動周波数に適した粘性率の粘性流体を充填することが望
ましい。例えば、Z微動の周波数は主および副走査の周
波数よりも十分に高く、Z微動用ボイスコイルモータに
充填する粘性流体の粘性率を高くし過ぎると微動信号に
対する微動の応答性が低下してしまうので、Z微動用ボ
イスコイルモータに充填する粘性流体の粘性率は、主お
よび副走査用ボイスコイルモータのそれよりも低くする
ことが望ましい。同様の観点から、主走査用ボイスコイ
ルモータに充填する粘性流体の粘性率は、副走査用ボイ
スコイルモータのそれよりも低くすることが望ましい。
【0016】図2は、図1の走査プローブ顕微鏡と接続
される駆動回路系のブロック図であり、図1と同一の符
号は同一または同等部分を表している。探針10aの変
位、例えばプローブ10の撓み量が変位検出器9で検出
されると、その検出信号が基準値発生器42から出力さ
れる基準値と差動増幅器41によって比較される。該基
準値は、探針10aと試料面との距離が所定値になった
時に変位検出器9から出力される値と等しいので、探針
10aと試料面との距離が所定値からずれている時に
は、差動増幅器41はずれ量に応じた大きさの信号を出
力する。
される駆動回路系のブロック図であり、図1と同一の符
号は同一または同等部分を表している。探針10aの変
位、例えばプローブ10の撓み量が変位検出器9で検出
されると、その検出信号が基準値発生器42から出力さ
れる基準値と差動増幅器41によって比較される。該基
準値は、探針10aと試料面との距離が所定値になった
時に変位検出器9から出力される値と等しいので、探針
10aと試料面との距離が所定値からずれている時に
は、差動増幅器41はずれ量に応じた大きさの信号を出
力する。
【0017】差動増幅器41から出力された差分信号は
積分回路43および比例回路44により処理され、V−
I変換器45に入力される。V−I変換器45は、入力
された電圧信号を電流信号に変換してボイスコイル6へ
供給する。すなわち、変位検出器9、差動増幅器41、
積分回路43、比例回路44およびV−I変換器45は
フィードバック回路を構成している。
積分回路43および比例回路44により処理され、V−
I変換器45に入力される。V−I変換器45は、入力
された電圧信号を電流信号に変換してボイスコイル6へ
供給する。すなわち、変位検出器9、差動増幅器41、
積分回路43、比例回路44およびV−I変換器45は
フィードバック回路を構成している。
【0018】一方、ラスタスキャナ46は主および副走
査方向の走査信号電流Ix ,Iy を、それぞれX方向可
動子23およびY方向可動子34に巻回されているボイ
スコイル25、35に供給する。また、ラスタスキャナ
46はCRT47にX,Y走査信号を供給する。試料表
面の形状、物理量等の検査情報は、V−I変換器45の
入力側から取り出されてCRT47に供給される。
査方向の走査信号電流Ix ,Iy を、それぞれX方向可
動子23およびY方向可動子34に巻回されているボイ
スコイル25、35に供給する。また、ラスタスキャナ
46はCRT47にX,Y走査信号を供給する。試料表
面の形状、物理量等の検査情報は、V−I変換器45の
入力側から取り出されてCRT47に供給される。
【0019】このような構成において、最初は探針10
aと試料表面との距離が大きいので、基準値発生器42
から出力される基準値と変位検出器9からの変位検出値
との差も大きく、差動増幅器41からは大きな信号電圧
が出力される。この信号電圧は積分回路43および比例
回路44により処理され、V−I変換器45により電流
Iz に変換されて、可動子4に巻回されたボイスコイル
6に供給される。
aと試料表面との距離が大きいので、基準値発生器42
から出力される基準値と変位検出器9からの変位検出値
との差も大きく、差動増幅器41からは大きな信号電圧
が出力される。この信号電圧は積分回路43および比例
回路44により処理され、V−I変換器45により電流
Iz に変換されて、可動子4に巻回されたボイスコイル
6に供給される。
【0020】永久磁石2の磁界と、ボイスコイル6に流
れる電流Iz によって発生する磁界とにより、可動子4
を下方に動かす力が発生する。この結果、可動子4に接
続されたスピンドル8は下降する力を受け、片持ち梁1
4が下方へ撓んでプローブ10も下方へ移動する。この
移動は、前記ボイスコイル6に流れる電流Iz が大きい
ために速やかに行われる。
れる電流Iz によって発生する磁界とにより、可動子4
を下方に動かす力が発生する。この結果、可動子4に接
続されたスピンドル8は下降する力を受け、片持ち梁1
4が下方へ撓んでプローブ10も下方へ移動する。この
移動は、前記ボイスコイル6に流れる電流Iz が大きい
ために速やかに行われる。
【0021】以上のようにして、探針10aが試料32
の表面に近付き両者の間が所定の距離になると、変位検
出器9からの変位検出値と基準値発生機42からの基準
値とがほぼ等しい大きさになるので、差動増幅器41か
ら出力される信号電圧は0付近の大きさになり、前記ボ
イスコイル6に流れる電流Iも小さくなる。以上のよう
にしてZ方向に関する粗動が終了すると、主および副走
査とZ微動とが同時に行われる。まず、主および副走査
機構およびその動作について説明する。なお、X方向の
走査とY方向の走査は同一または同等の機構により行わ
れるので、ここではX方向の走査機構に注目して説明す
る。
の表面に近付き両者の間が所定の距離になると、変位検
出器9からの変位検出値と基準値発生機42からの基準
値とがほぼ等しい大きさになるので、差動増幅器41か
ら出力される信号電圧は0付近の大きさになり、前記ボ
イスコイル6に流れる電流Iも小さくなる。以上のよう
にしてZ方向に関する粗動が終了すると、主および副走
査とZ微動とが同時に行われる。まず、主および副走査
機構およびその動作について説明する。なお、X方向の
走査とY方向の走査は同一または同等の機構により行わ
れるので、ここではX方向の走査機構に注目して説明す
る。
【0022】図1の永久磁石21の心棒部22に遊嵌さ
れた可動子23に巻回されているボイスコイル25に、
前記ラスタスキャナ46から主走査電流Ix が供給され
ると、可動子23に接続されているX方向のスピンドル
27がX方向の力を受ける。いま、前記ボイスコイル2
5に負方向の電流Ix が流れて、スピンドル27が図1
の左方向に押されたとすると中筒13も同方向に振られ
る。逆に、前記ボイスコイル25に正方向の電流Ix が
流れて、スピンドル27が図1の右方向に引かれたとす
ると、中筒13も同方向に振られる。このようにして、
中筒13が−Xから+X方向に振られると、探針10a
も試料表面で−Xから+X方向へ走査されることにな
る。
れた可動子23に巻回されているボイスコイル25に、
前記ラスタスキャナ46から主走査電流Ix が供給され
ると、可動子23に接続されているX方向のスピンドル
27がX方向の力を受ける。いま、前記ボイスコイル2
5に負方向の電流Ix が流れて、スピンドル27が図1
の左方向に押されたとすると中筒13も同方向に振られ
る。逆に、前記ボイスコイル25に正方向の電流Ix が
流れて、スピンドル27が図1の右方向に引かれたとす
ると、中筒13も同方向に振られる。このようにして、
中筒13が−Xから+X方向に振られると、探針10a
も試料表面で−Xから+X方向へ走査されることにな
る。
【0023】次に、前記主および副走査の間に行われる
z微動の動作を簡単に説明する。前記フィードバック回
路(図2参照)は、試料32の表面の凹凸に合わせてプ
ローブ10の撓み量が一定になるように可動子4を上下
に変位zだけ動かす。変位zはボイスコイル6に流れる
電流Iz に比例し、変位xは探針10aが試料32の表
面をトレースした時の変位量であるから、試料32の表
面の凹凸は前記電流Iz に比例する。すなわち、ボイス
コイル6に流れる電流Iz をモニタすると、試料32の
表面の凹凸を計測することができる。
z微動の動作を簡単に説明する。前記フィードバック回
路(図2参照)は、試料32の表面の凹凸に合わせてプ
ローブ10の撓み量が一定になるように可動子4を上下
に変位zだけ動かす。変位zはボイスコイル6に流れる
電流Iz に比例し、変位xは探針10aが試料32の表
面をトレースした時の変位量であるから、試料32の表
面の凹凸は前記電流Iz に比例する。すなわち、ボイス
コイル6に流れる電流Iz をモニタすると、試料32の
表面の凹凸を計測することができる。
【0024】図3(c) は、本発明において同図(a) の主
走査信号IX に応答して走査された探針の主走査方向に
関する実際の位置(縦軸)を表している。同図(b) と比
較すれば明らかなように、本実施形態によれば、走査折
り返し後は駆動系が共振するので走査位置が多少不安定
になるものの、粘性流体によって共振振動のQが低く抑
えられているので振動振幅が小さいことがわかる。しか
も、共振振動が素早く減衰されるので、共振の影響が表
れるのは折り返し直後のみで、その後は安定した走査が
可能になる。
走査信号IX に応答して走査された探針の主走査方向に
関する実際の位置(縦軸)を表している。同図(b) と比
較すれば明らかなように、本実施形態によれば、走査折
り返し後は駆動系が共振するので走査位置が多少不安定
になるものの、粘性流体によって共振振動のQが低く抑
えられているので振動振幅が小さいことがわかる。しか
も、共振振動が素早く減衰されるので、共振の影響が表
れるのは折り返し直後のみで、その後は安定した走査が
可能になる。
【0025】なお、上記した実施形態では粘性流体とし
て磁性流体を用いるものとして説明したが、本発明はこ
れのみに限定されず、磁性材料を含まないシリコーンオ
イル
て磁性流体を用いるものとして説明したが、本発明はこ
れのみに限定されず、磁性材料を含まないシリコーンオ
イル
【0026】等の他の粘性流体であっても良い。
【発明の効果】本発明によれば、以下のような効果が達
成される。 (1) 主および副走査手段ならびにZ方向微動手段の少な
くとも一つをボイスコイルモータによって構成すると共
に、当該ボイスコイルモータの固定子と可動子との間に
は、ボイスコイルモータに生じる共振振動のQを低く抑
える粘性流体を充填したので、主および副走査の折り返
し時に生じる比較的高周波の振動によってプローブ駆動
系に共振振動が生じても、これを素早く減衰させること
ができ、プローブの共振に起因した観察像の乱れを最小
限に抑えることができる。 (2) 主走査用のボイスコイルモータに充填する粘性流体
の粘性率と、副走査用のボイスコイルモータに充填する
粘性流体の粘性率と、Z微動用のボイスコイルモータに
充填する粘性流体の粘性率とを異ならせれば、各駆動系
の動作に影響を与えることなく、それぞれの共振振動の
Qを低下させることができる。 (3) 粘性流体が充填されて可動子が遊嵌されるように形
成された固定子の環状の溝内には、外部と連通する開口
を形成したので、粘性流体を当該溝内へ充填する際に溝
内部の空気が当該開口から排気され、粘性流体の充填が
容易になる。
成される。 (1) 主および副走査手段ならびにZ方向微動手段の少な
くとも一つをボイスコイルモータによって構成すると共
に、当該ボイスコイルモータの固定子と可動子との間に
は、ボイスコイルモータに生じる共振振動のQを低く抑
える粘性流体を充填したので、主および副走査の折り返
し時に生じる比較的高周波の振動によってプローブ駆動
系に共振振動が生じても、これを素早く減衰させること
ができ、プローブの共振に起因した観察像の乱れを最小
限に抑えることができる。 (2) 主走査用のボイスコイルモータに充填する粘性流体
の粘性率と、副走査用のボイスコイルモータに充填する
粘性流体の粘性率と、Z微動用のボイスコイルモータに
充填する粘性流体の粘性率とを異ならせれば、各駆動系
の動作に影響を与えることなく、それぞれの共振振動の
Qを低下させることができる。 (3) 粘性流体が充填されて可動子が遊嵌されるように形
成された固定子の環状の溝内には、外部と連通する開口
を形成したので、粘性流体を当該溝内へ充填する際に溝
内部の空気が当該開口から排気され、粘性流体の充填が
容易になる。
【図1】本発明を適用した走査型プローブ顕微鏡の構成
図である。
図である。
【図2】本発明を適用した走査型プローブ顕微鏡の駆動
回路系のブロック図である。
回路系のブロック図である。
【図3】走査信号と実際の走査位置との関係を比較して
示した図である。
示した図である。
2 永久磁石 3 心棒部 4 可動子 5 環状溝 6 ボイスコイル 7 粘性流体 10 プローブ 10b カンチレバー 10a 探針 12 支持台 14 片持ち梁
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−196930(JP,A) 特開 平9−113519(JP,A) 国際公開96/7074(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 13/10 - 13/24 JICSTファイル(JOIS)
Claims (6)
- 【請求項1】 試料表面に探針を近接させ、両者の間隙
が予定値に保たれるように、探針をZ方向へ微動させな
がらXY方向へ走査する走査型プローブ顕微鏡におい
て、 自由端に前記探針が形成された片持ち梁式の走査プロー
ブと、主走査信号と副走査信号とを 発生する走査信号発生手段
と、前記 主走査信号に応答して前記探針が試料表面で主走査
されるように前記走査プローブを駆動する主走査手段
と、前記 副走査信号に応答して前記探針が前記試料表面で副
走査されるように前記走査プローブを駆動する副走査手
段と、前記 試料表面と前記探針との間隙が予定値に保たれるよ
うに前記走査プローブを試料に対してZ方向へ微動させ
るZ方向微動手段とを具備し、前記主走査手段と前記副走査手段と前記Z方向微動手段
とは、それぞれ ボイスコイルモータによって構成され、
前記それぞれのボイスコイルモータの固定子と可動子と
の間には、その共振振動のQを減衰させる粘性流体が充
填されており、前記主走査手段としての主走査ボイスコ
イルモータに充填される粘性流体と、前記副走査手段と
しての副走査ボイスコイルモータに充填される粘性流体
と、前記Z方向微動手段としてのZ方向ボイスコイルモ
ータに充填される粘性流体とは、それぞれ粘性率を異に
することを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項2】 前記Z方向ボイスコイルモータに充填さ
れる粘性流体の粘性率は、前記主走査ボイスコイルモー
タと前記副走査ボイスコイルモータとに充填される粘性
流体の粘性率よりも低いことを特徴とする請求項1記載
の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項3】 前記主走査ボイスコイルモータに充填さ
れる粘性流体の粘性率は、前記副走査ボイスコイルモー
タに充填される粘性流体の粘性率よりも低いことを特徴
とする請求項1又は2記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項4】 前記粘性流体は磁性流体であることを特
徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の走査型プロー
ブ顕微鏡。 - 【請求項5】 前記粘性流体の粘性率は500〜150
0センチポアズ の範囲であることを特徴とする請求項1
乃至4のいずれか記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項6】 前記ボイスコイルモータの可動子は、固
定子に形成された環状の溝内に遊嵌され、前記溝内には
粘性流体が充填され、前記溝内には溝外部と連通する開
口が形成されたことを特徴とする請求項1乃至5のいず
れか記載の走査型プローブ顕微鏡。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21632297A JP3179380B2 (ja) | 1997-08-11 | 1997-08-11 | 走査型プローブ顕微鏡 |
US09/131,456 US6291822B1 (en) | 1997-08-11 | 1998-08-10 | Scanning probe microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21632297A JP3179380B2 (ja) | 1997-08-11 | 1997-08-11 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1164346A JPH1164346A (ja) | 1999-03-05 |
JP3179380B2 true JP3179380B2 (ja) | 2001-06-25 |
Family
ID=16686720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21632297A Expired - Fee Related JP3179380B2 (ja) | 1997-08-11 | 1997-08-11 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6291822B1 (ja) |
JP (1) | JP3179380B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1929267B1 (de) * | 2005-09-29 | 2009-02-11 | JPK Instruments AG | Verfahren und Vorrichtung zum Positionieren eines verlagerbaren Bauteils in einem Untersuchungssystem |
US7886583B2 (en) * | 2006-07-11 | 2011-02-15 | Veeco Instruments Inc. | Apparatus and method of amplifying low voltage signals |
EP2665988B1 (en) | 2011-01-19 | 2015-08-12 | Renishaw Plc. | Analogue measurement probe for a machine tool apparatus |
TWI681193B (zh) * | 2014-10-06 | 2020-01-01 | 荷蘭商荷蘭Tno自然科學組織公司 | 掃描探針顯微鏡 |
US12091313B2 (en) | 2019-08-26 | 2024-09-17 | The Research Foundation For The State University Of New York | Electrodynamically levitated actuator |
KR102626928B1 (ko) * | 2021-08-03 | 2024-01-19 | 파크시스템스 주식회사 | 자기장 생성 장치 및 이를 가지는 원자 현미경 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4017694A (en) * | 1976-02-18 | 1977-04-12 | Essex Group, Inc. | Method for making loudspeaker with magnetic fluid enveloping the voice coil |
CH643397A5 (de) * | 1979-09-20 | 1984-05-30 | Ibm | Raster-tunnelmikroskop. |
US4906840A (en) * | 1988-01-27 | 1990-03-06 | The Board Of Trustees Of Leland Stanford Jr., University | Integrated scanning tunneling microscope |
US4894537A (en) * | 1988-07-21 | 1990-01-16 | Canadian Patents & Development Ltd. | High stability bimorph scanning tunneling microscope |
WO1996007074A1 (en) * | 1994-08-27 | 1996-03-07 | International Business Machines Corporation | Fine positioning apparatus with atomic resolution |
-
1997
- 1997-08-11 JP JP21632297A patent/JP3179380B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-08-10 US US09/131,456 patent/US6291822B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6291822B1 (en) | 2001-09-18 |
JPH1164346A (ja) | 1999-03-05 |
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