JP3176800B2 - Resin composition - Google Patents

Resin composition

Info

Publication number
JP3176800B2
JP3176800B2 JP14611794A JP14611794A JP3176800B2 JP 3176800 B2 JP3176800 B2 JP 3176800B2 JP 14611794 A JP14611794 A JP 14611794A JP 14611794 A JP14611794 A JP 14611794A JP 3176800 B2 JP3176800 B2 JP 3176800B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
parts
weight
epoxy
resin
aromatic ring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP14611794A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0834834A (en
Inventor
博美 本田
敏郎 竹田
澄也 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP14611794A priority Critical patent/JP3176800B2/en
Publication of JPH0834834A publication Critical patent/JPH0834834A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3176800B2 publication Critical patent/JP3176800B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、硬化性に優れ、かつ常
温における保存性のよい電子、電気部品用樹脂組成物に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin composition for electronic and electric parts which has excellent curability and good storage stability at room temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、IC、LSIなどの半導体素子や
電気部品などの封止用材料として、特性やコストのバラ
ンスの点から、エポキシ樹脂組成物が一般的に用いられ
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, epoxy resin compositions have been generally used as sealing materials for semiconductor elements such as ICs and LSIs and electric parts from the viewpoint of balance between properties and costs.

【0003】このようなエポキシ樹脂封止材において、
従来用いられている硬化促進剤は、2−メチルイミダゾ
ール、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン
(以下DBUと略す)、トリフェニルホスフィンなどが
挙げられるが、これらの硬化促進剤を用いたエポキシ樹
脂封止材は常温における保存性が悪く、そのため、常温
で保存すると流れ性の低下から、成形時に未充填不良が
発生したり、ICチップの金ワイヤーが断線し、導通不
良が発生するなどの問題点があった。
In such an epoxy resin sealing material,
Conventionally used curing accelerators include 2-methylimidazole, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (hereinafter abbreviated as DBU), triphenylphosphine, and the like. The epoxy resin encapsulant using the accelerating agent has poor storage stability at room temperature. Therefore, when stored at room temperature, the flowability deteriorates, causing unfilling failure during molding, breaking the gold wire of the IC chip, and conducting. There were problems such as occurrence of defects.

【0004】このため現在は、エポキシ樹脂封止材を冷
蔵保存する必要があり、冷蔵保存、冷蔵輸送に多大なコ
ストがかかっているのが現状である。
[0004] For this reason, at present, it is necessary to store the epoxy resin sealing material in a refrigerated state, and at present, enormous costs are required for refrigerated storage and refrigerated transportation.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、硬化性に優れ、かつ常温における保存性のよい
電子、電気部品用樹脂組成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a resin composition for electronic and electric parts which has excellent curability and good storage stability at room temperature.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)1分子
内にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、(B)
1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有するフェノ
ール樹脂、(C)一般式(1)で示されるホスホニウム
イオン
The present invention provides (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule;
A phenolic resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, (C) a phosphonium ion represented by the general formula (1)

【0007】[0007]

【化1】 Embedded image

【0008】(以下単にホスホニウムイオンと略す。ま
た、式中の 1 、R 2 、及びR 3 、のうち少なくとも1個
以上が1価の芳香環を含む有機基であり、かつR 4 、R 5
及びR 6 のうち少なくとも1個以上が1価の芳香環を含
む有機基を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよ
く、式中のRは2価の芳香環を含む有機基及び2価の脂
肪族残基よりなる群より選ばれた置換基を表す)と、
香族カルボン酸、イソシアヌル酸、もしくは1,2,3−
ベンゾトリアゾールのイオン対を形成し得る有機アニオ
ン(a)とのイオン結合体(以下単にイオン結合体と略
す)、及び(D)無機充填剤、を含有し、エポキシ樹脂
(A)のエポキシ基とフェノール樹脂(B)のフェノー
ル性水酸基の当量比が0.5以上2以下であり、イオン
結合体(C)の重量比が(A)+(B)100重量部に
対し、0.4重量部以上20重量部以下であり、無機充
填剤(D)の重量比が(A)+(B)100重量部に対
し、40重量部以上2400重量部以下であることを特
徴とする樹脂組成物である。
(Hereinafter abbreviated simply as “phosphonium ion.” Also, at least one of R 1 , R 2 and R 3 in the formula
The above is an organic group containing a monovalent aromatic ring, and R 4 , R 5
And at least one of R 6 contains a monovalent aromatic ring.
Represents a non-organic group, may be the same as or different from each other, R in the formula represents an organic group and a divalent substituent selected from the group consisting of aliphatic residue containing bivalent aromatic ring) and , Good
Aromatic carboxylic acid, isocyanuric acid, or 1,2,3-
It contains an ionic bond (hereinafter simply abbreviated as an ionic bond) with an organic anion (a) capable of forming an ion pair of benzotriazole , and (D) an inorganic filler. The equivalent ratio of the phenolic hydroxyl group of the phenolic resin (B) is 0.5 or more and 2 or less, and the weight ratio of the ionic complex (C) is 0.4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (A) + (B). 20 parts by weight or less, and the weight ratio of the inorganic filler (D) is 40 parts by weight or more and 2400 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of (A) + (B). is there.

【0009】ここで上記エポキシ樹脂(A)の具体例と
してはオルソクレゾールノボラックエポキシ、フェノー
ルノボラックエポキシ、ビスフェノールA型エポキシ、
ビフェニル型エポキシなどが挙げられるが、特にこれら
に限定されるものではない。更にフェノール樹脂(B)
としては、フェノールノボラック、クレゾールノボラッ
クなどが例示できる。この(A)、(B)において、エ
ポキシ基のフェノール性水酸基に対する当量比は0.5
以上2以下が好ましく、この範囲外ではガラス転移温度
の低下、硬化性の低下などの問題が発生する。
Specific examples of the epoxy resin (A) include orthocresol novolak epoxy, phenol novolak epoxy, bisphenol A type epoxy,
Examples thereof include a biphenyl type epoxy, but are not particularly limited thereto. Furthermore, phenolic resin (B)
Examples thereof include phenol novolak and cresol novolak. In these (A) and (B), the equivalent ratio of the epoxy group to the phenolic hydroxyl group is 0.5.
Above 2 is preferable, and if it is out of this range, problems such as lowering of glass transition temperature and lowering of curability occur.

【0010】硬化促進剤であるホスホニウムイオンと有
機アニオン(a)とのイオン結合体(C)は1分子中の
2個のホスホニウムイオンと有機アニオン(a)が少な
くとも1個のイオン対を各々形成すればよい。また、一
般式(1)で示されるホスホニウムイオンの置換基
1、R2、R3、R4、R5及びR6の例として、フェニ
ル、トリル、エチルフェニル、メトキシフェニル、ナフ
チル、ベンジル基などの芳香環を含む有機基や、エチ
ル、ブチル基などのアルキル基が例示できるが、硬化性
の面ではR1、R2及びR3のうち少なくとも1個以上が
1価の芳香環を含む有機基であり、かつR4、R5及びR
6のうち少なくとも1個以上が1価の芳香環を含む有機
基により構成されている方が優れており、より好まし
い。また、置換基R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそ
れぞれ同じであっても異なっていてもよく、さらに特定
の置換基の位置など何ら限定されるものではない。
In the ionic complex (C) of a curing accelerator, a phosphonium ion and an organic anion (a), two phosphonium ions and an organic anion (a) in one molecule each form at least one ion pair. do it. Examples of the substituents R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5, and R 6 of the phosphonium ion represented by the general formula (1) include phenyl, tolyl, ethylphenyl, methoxyphenyl, naphthyl, and benzyl groups. Examples thereof include an organic group containing an aromatic ring such as an alkyl group such as an ethyl and butyl group, but from the viewpoint of curability, at least one of R 1 , R 2 and R 3 contains a monovalent aromatic ring. An organic group and R 4 , R 5 and R
It is better and more preferable that at least one or more of the six groups be constituted by an organic group containing a monovalent aromatic ring. The substituents R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 may be the same or different, and the position of a specific substituent is not limited at all.

【0011】有機アニオン(a)の具体的な例として
、安息香酸、安息香酸の芳香核に官能基を有するもの
芳香族カルボン酸やフタル酸、トリメリット酸、ピロメ
リット酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸などの多官能
芳香族カルボン酸、ポリアクリル酸などの各種高分子化
したカルボン酸アニオン、イソシアヌル酸、1,2,3−
ベンゾトリアゾールアニオンなどが例示でき、芳香族カ
ルボン酸類、イソシアヌル酸及び1,2,3−ベンゾトリ
アゾールアニオンは、樹脂組成物の硬化性や電気特性の
面でより好ましい。
[0011] Specific examples of the organic anion (a), Ahn Ikikosan, aromatic carboxylic acid or phthalic acid as an aromatic nucleus to functional groups benzoic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, 2, Polyfunctional aromatic carboxylic acids such as 6-naphthalenedicarboxylic acid, various polymerized carboxylic anions such as polyacrylic acid, isocyanuric acid, 1,2,3-
Benzotriazole anion can be exemplified, Fang aromatic carboxylic acids, isocyanuric acid and 1,2,3-benzotriazole anion is more preferred in view of curability and electrical properties of the resin composition.

【0012】更に、この硬化促進剤(C)の添加量はエ
ポキシ樹脂(A)及びフェノール樹脂(B)の総重量1
00重量部に対し、0.4重量部以上20重量部以下が
好ましい。0.4重量部より少ないと硬化性の低下を生
じ、20重量部より多いと硬化が速すぎて成形時に未充
填不良などの問題が生ずる。
Further, the amount of the curing accelerator (C) to be added is 1% of the total weight of the epoxy resin (A) and the phenol resin (B).
It is preferably from 0.4 to 20 parts by weight based on 00 parts by weight. If the amount is less than 0.4 part by weight, the curability is lowered. If the amount is more than 20 parts by weight, the curing is too fast, and problems such as insufficient filling during molding occur.

【0013】本発明に用いられる無機充填剤(D)はア
ルミナ、溶融シリカ、結晶シリカ、クレー、タルクなど
が例示されるが、特にこれらに限定されるものではな
い。この無機充填剤(D)の添加量は、樹脂成分
(A)、(B)の総重量100重量部に対し、40重量
部以上2400重量部以下が好ましく、40重量部より
少ないと成形材料にした場合、強度の低下を招くなどの
問題が生じ、2400重量部より多いと流動性が低下
し、成形時に未充填不良などの問題が生ずる。
Examples of the inorganic filler (D) used in the present invention include alumina, fused silica, crystalline silica, clay and talc, but are not particularly limited thereto. The amount of the inorganic filler (D) to be added is preferably 40 parts by weight or more and 2400 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total weight of the resin components (A) and (B). In such a case, problems such as a decrease in strength are caused. If the amount is more than 2400 parts by weight, fluidity is reduced, and problems such as insufficient filling during molding are caused.

【0014】本発明で用いられる樹脂成分(A)、
(B)、硬化促進剤(C)及び無機充填剤(D)以外に
も、特性の低下を伴わない限りにおいて、離型剤、着色
剤、酸化防止剤、カップリング剤などの各種添加剤を配
合できることは言うまでもない。
The resin component (A) used in the present invention,
In addition to (B), the curing accelerator (C) and the inorganic filler (D), various additives such as a release agent, a colorant, an antioxidant, and a coupling agent are used as long as the properties are not deteriorated. It goes without saying that it can be blended.

【0015】[0015]

【作用】本発明に用いられるホスホニウムイオンと有機
アニオン(a)とのイオン結合体(C)は1分子中に2
個のホスホニウムイオンと有機アニオン(a)が少なく
とも1個のイオン対を各々形成したものであるが、この
硬化促進剤(C)は常温においてはホスホニウムイオン
と有機アニオン(a)とのイオン結合体が安定に存在し
ており、ホスホニウムイオンの触媒作用を抑制し、高温
にさらされる成形時にはこのイオン結合体がすみやかに
解離し、ホスホニウムイオンが活性化し、硬化を促進す
る作用を有するものである。この硬化促進剤(C)はエ
ポキシ樹脂(A)、フェノール樹脂(B)の総重量10
0重量部に対し、0.4重量部以上20重量部以下が好
ましく、0.4重量部より少ないと硬化性の低下を生
じ、20重量部より多いと硬化が速すぎて成形時に流動
性の低下により、未充填不良などの問題が生ずる。
The ionic conjugate (C) of the phosphonium ion and the organic anion (a) used in the present invention is 2 in one molecule.
Of the phosphonium ion and the organic anion (a) each form at least one ion pair, and the curing accelerator (C) is an ionic complex of the phosphonium ion and the organic anion (a) at room temperature. Are present in a stable manner, suppress the catalytic action of phosphonium ions, rapidly dissociate this ionic complex during molding when exposed to high temperatures, activate the phosphonium ions, and have the effect of promoting curing. This curing accelerator (C) has a total weight of 10% of the epoxy resin (A) and the phenol resin (B).
The amount is preferably from 0.4 part by weight to 20 parts by weight with respect to 0 part by weight. If the amount is less than 0.4 part by weight, the curability is lowered. The decrease causes problems such as unfilled defects.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、実施例及び比較例で用いた触媒、
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the catalysts used in Examples and Comparative Examples,

【0017】[0017]

【化2】 Embedded image

【0018】[0018]

【化3】 Embedded image

【0019】[0019]

【化4】 Embedded image

【0020】[0020]

【化5】 は常法に従い作成した。Embedded image Was prepared in accordance with a conventional method.

【0021】(実施例1)軟化点が65℃でエポキシ当
量210のオルソクレゾールノボラックエポキシ(日本
化薬(株)製EOCN−1025−65)67部(以下
重量部をすべて部と略す)、軟化点が105℃で水酸基
当量104のフェノールノボラック(住友デュレズ
(株)製PR−51470)33部、硬化促進剤として
TPPE−BA2.3部、溶融シリカ300部、カルナ
バワックス2部を配合し、熱ロールで90℃8分間混練
して成形材料を得た。この成形材料のトランスファー成
形による175℃のスパイラルフローは76cm、175
℃キュラストメータにおける90秒後のトルクは71kg
f-cmであった。なお、スパイラルフローは流動性のパラ
メーターであり、値が大きい方が流れ性がよい。またキ
ュラストメータにおけるトルクは硬化性のパラメーター
であり、値の大きい方が硬化性がよい。
(Example 1) Orthocresol novolak epoxy having a softening point of 65 ° C. and an epoxy equivalent of 210 (EOCN-1025-65 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 67 parts (hereinafter, all parts by weight are abbreviated as parts), and softening 33 parts of phenol novolac (PR-51470 manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.) having a hydroxyl group equivalent of 104 at 105 ° C., 2.3 parts of TPPE-BA as a curing accelerator, 300 parts of fused silica, and 2 parts of carnauba wax were blended. The mixture was kneaded with a roll at 90 ° C. for 8 minutes to obtain a molding material. The spiral flow at 175 ° C. by transfer molding of this molding material is 76 cm, 175
The torque after 90 seconds in a 70 ° C curast meter is 71 kg.
f-cm. The spiral flow is a parameter of fluidity, and the larger the value, the better the fluidity. The torque in the curast meter is a parameter of curability, and the larger the value, the better the curability.

【0022】次にこの材料の25℃、6ケ月間保存後の
スパイラルフローを測定した。その結果、スパイラルフ
ローは72cmであり、フロー残存率(25℃6ケ月間保
存後フロー/初期フロー×100(%))は95%であ
った。
Next, the spiral flow of this material after storage at 25 ° C. for 6 months was measured. As a result, the spiral flow was 72 cm, and the residual flow rate (flow after storage at 25 ° C. for 6 months / initial flow × 100 (%)) was 95%.

【0023】(実施例2)実施例1の硬化促進剤TPP
E−BA 2.3部に替えて、硬化促進剤にBDPB−
BA 2.4部使用する以外はすべて実施例1と同様の
操作で材料化した。この材料のスパイラルフローは68
cm、90秒後のトルクは70kgf-cmであった。また、2
5℃6ケ月間保存後のスパイラルフローは63cmで、フ
ロー残存率は93%であった。
(Example 2) The curing accelerator TPP of Example 1
Instead of 2.3 parts of E-BA, BDPB-
Except for using 2.4 parts of BA, the material was made by the same operation as in Example 1. The spiral flow of this material is 68
After 90 seconds, the torque was 70 kgf-cm. Also, 2
The spiral flow after storage at 5 ° C. for 6 months was 63 cm, and the residual flow rate was 93%.

【0024】(実施例3)実施例1の硬化促進剤TPP
E−BA 2.3部に替えて、硬化促進剤にTPPB−
ICA 2.4部使用する以外はすべて実施例1と同様
の操作で材料化した。この材料のスパイラルフローは7
0cm、90秒後のトルクは72kgf-cmであった。また、
25℃6ケ月間保存後のスパイラルフローは69cmで、
フロー残存率は98%であった。
Example 3 Curing accelerator TPP of Example 1
Instead of 2.3 parts of E-BA, TPPB-
Except for using 2.4 parts of ICA, all materials were made in the same manner as in Example 1. The spiral flow of this material is 7
The torque after 90 seconds at 0 cm was 72 kgf-cm. Also,
Spiral flow after storage at 25 ° C for 6 months is 69cm,
The residual flow rate was 98%.

【0025】(実施例4)実施例1の硬化促進剤TPP
E−BA 2.3部に替えて、硬化促進剤にTPPE−
BZ 2.1部使用する以外はすべて実施例1と同様の
操作で材料化した。この材料のスパイラルフローは75
cm、90秒後のトルクは75kgf-cmであった。また、2
5℃6ケ月間保存後のスパイラルフローは72cmで、フ
ロー残存率は96%であった。
Example 4 Curing accelerator TPP of Example 1
Instead of 2.3 parts of E-BA, TPPE-
Except for using 2.1 parts of BZ, the material was converted into a material by the same operation as in Example 1. The spiral flow of this material is 75
After 90 seconds, the torque was 75 kgf-cm. Also, 2
The spiral flow after storage at 5 ° C. for 6 months was 72 cm, and the residual flow rate was 96%.

【0026】(実施例5)ビフェニル型エポキシ(油化
シェルエポキシ(株)製YX−4000H)67部、軟化
点が95℃で水酸基当量103のフェノールノボラック
(住友デュレズ(株)製PR−51714)33部、硬化
促進剤としてTPPE−BA 4.6部、溶融シリカ2
300部を使用する以外は実施例1と同様の操作で材料
化した。この材料のスパイラルフローは50cm、90秒
後のトルクは58kgf-cmであった。また、25℃6ケ月
間保存後のスパイラルフローは45cmで、フロー残存率
は90%であった。
Example 5 Phenol novolak having 67 parts of a biphenyl type epoxy (YX-4000H manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) having a softening point of 95 ° C. and a hydroxyl equivalent of 103 (PR-51714 manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.) 33 parts, 4.6 parts of TPPE-BA as a curing accelerator, fused silica 2
Except for using 300 parts, a material was produced in the same manner as in Example 1. The spiral flow of this material was 50 cm, and the torque after 90 seconds was 58 kgf-cm. The spiral flow after storage at 25 ° C. for 6 months was 45 cm, and the residual flow rate was 90%.

【0027】(比較例1)実施例1の硬化促進剤TPP
E−BA 2.3部に替えて、硬化促進剤にトリフェニ
ルホスフィン(以下TPPと略す)0.8部を使用する
以外はすべて実施例1と同様の操作で材料化した。この
材料のスパイラルフローは70cm、90秒後のトルクは
74kgf-cmであった。また、25℃6ケ月間保存後のス
パイラルフローは48cmで、フロー残存率は69%であ
った。
Comparative Example 1 Curing accelerator TPP of Example 1
A material was produced in the same manner as in Example 1 except that 0.8 parts of triphenylphosphine (hereinafter abbreviated as TPP) was used as a curing accelerator instead of 2.3 parts of E-BA. The spiral flow of this material was 70 cm, and the torque after 90 seconds was 74 kgf-cm. The spiral flow after storage at 25 ° C. for 6 months was 48 cm, and the residual flow rate was 69%.

【0028】(比較例2)実施例1のフェノールノボラ
ック33部、硬化促進剤TPPE−BA 2.3部に替
えて、フェノールノボラック31.1部、硬化促進剤に
DBU30%含有フェノールノボラック2.7部(サン
アプロ(株)製SA841)使用する以外はすべて実施
例1と同様の操作で材料化した。この材料のスパイラル
フローは73cm、90秒後のトルクは70kgf-cmであっ
た。また、25℃6ケ月間保存後のスパイラルフローは
49cmで、フロー残存率は67%であった。
(Comparative Example 2) In place of 33 parts of phenol novolak and 2.3 parts of TPPE-BA curing accelerator of Example 1, 31.1 parts of phenol novolak and 2.7 parts of phenol novolak containing 30% of DBU as a curing accelerator were used. Except for using a part (SA841 manufactured by San Apro Co., Ltd.), a material was produced in the same manner as in Example 1. The spiral flow of this material was 73 cm, and the torque after 90 seconds was 70 kgf-cm. The spiral flow after storage at 25 ° C. for 6 months was 49 cm, and the residual flow rate was 67%.

【0029】(比較例3)実施例1のオルソクレゾール
ノボラックエポキシ67部、フェノールノボラック33
部に替えて、オルソクレゾールノボラックエポキシ30
部、フェノールノボラック70部使用する以外はすべて
実施例1と同様の操作で材料化した。この材料のスパイ
ラルフローを測定しようとしたが、硬化不良で測定不能
であった。
(Comparative Example 3) Orthocresol novolak epoxy of Example 1 67 parts, phenol novolak 33
Orthocresol novolak epoxy 30
Parts, and 70 parts of phenol novolak were used, and the same procedure was followed as in Example 1 to produce a material. An attempt was made to measure the spiral flow of this material, but the measurement was impossible due to poor curing.

【0030】(比較例4)実施例1の硬化促進剤TPP
E−BA 2.3部に替えて、硬化促進剤にTPPE−
BAを30部使用する以外はすべて実施例1と同様の操
作で材料化したが、硬化が速すぎ成形不能であった。
(Comparative Example 4) The curing accelerator TPP of Example 1
Instead of 2.3 parts of E-BA, TPPE-
Except for using 30 parts of BA, the material was made in the same manner as in Example 1, but the curing was too fast and molding was impossible.

【0031】(比較例5)実施例1の溶融シリカ300
部に替えて、溶融シリカを2500部使用する以外はす
べて実施例1と同様の操作で材料化したが、流動性がほ
とんどなく成形不能であった。
Comparative Example 5 Fused Silica 300 of Example 1
Parts were replaced with materials except that 2500 parts of fused silica were used, but the material was made in the same manner as in Example 1; however, there was almost no fluidity and molding was impossible.

【0032】実施例1〜5、比較例1〜5の結果をまと
めて表1に示す。
The results of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 are summarized in Table 1.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明による樹脂組成物は硬化性に優
れ、かつ常温における保存性が非常によく、本発明によ
る樹脂組成物を電子、電気部品用材料として用いれば、
冷蔵保存、冷蔵輸送が不要になるなど産業へのメリット
は大きい。
The resin composition according to the present invention has excellent curability and excellent storage stability at room temperature. If the resin composition according to the present invention is used as a material for electronic and electric parts,
The merit for industry is great, such as refrigerated storage and refrigerated transportation are not required.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 23/31 (56)参考文献 特開 平5−148343(JP,A) 特開 平4−268322(JP,A) 特開 平4−89818(JP,A) 特開 平3−296526(JP,A) 特開 平2−240132(JP,A) 特開 平2−206667(JP,A) 特開 昭61−204954(JP,A) 特開 昭54−58795(JP,A) 特開 昭63−248823(JP,A) 特開 平2−240133(JP,A) 国際公開93/15126(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 59/62 C08G 59/68 C08L 63/00 - 63/10 H01L 23/29 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H01L 23/31 (56) References JP-A-5-148343 (JP, A) JP-A-4-268322 (JP, A) JP-A-4-89818 (JP, A) JP-A-3-296526 (JP, A) JP-A-2-240132 (JP, A) JP-A-2-206667 (JP, A) JP-A-61-204954 ( JP, A) JP-A-54-58795 (JP, A) JP-A-63-248823 (JP, A) JP-A-2-240133 (JP, A) WO 93/15126 (WO, A1) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C08G 59/62 C08G 59/68 C08L 63/00-63/10 H01L 23/29

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (A)1分子内に、エポキシ基を2個以
上有するエポキシ樹脂、(B)1分子内に、フェノール
性水酸基を2個以上有するフェノール樹脂、(C)硬化
促進剤として、一般式(1)で示されるホスホニウムイ
オン 【化1】 (以下単にホスホニウムイオンと略す。また、式中の
1 、R 2 、及びR 3 、のうち少なくとも1個以上が1価の
芳香環を含む有機基であり、かつR 4 、R 5 及びR 6 のう
ち少なくとも1個以上が1価の芳香環を含む有機基を表
し、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、式中
のRは2価の芳香環を含む有機基及び2価の脂肪族残基
よりなる群より選ばれた置換基を表す)と、芳香族カル
ボン酸、イソシアヌル酸、もしくは1,2,3−ベンゾト
リアゾールのイオン対を形成し得る有機アニオン(a)
とのイオン結合体(以下単にイオン結合体と略す)、及
び(D)無機充填剤、を含有し、エポキシ樹脂(A)の
エポキシ基とフェノール樹脂(B)のフェノール性水酸
基の当量比が0.5以上2以下であり、イオン結合体
(C)の重量比が(A)+(B)100重量部に対し、
0.4重量部以上20重量部以下であり、無機充填剤
(D)の重量比が(A)+(B)100重量部に対し、
40重量部以上2400重量部以下であることを特徴と
する樹脂組成物。
(A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (B) a phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and (C) a curing accelerator. Phosphonium ion represented by the general formula (1) (Hereinafter simply abbreviated as phosphonium ion. In the formula, R
At least one of R 1 , R 2 and R 3 is monovalent
An organic group containing an aromatic ring, and R 4, R 5 and R 6
Wherein at least one or more of them represents an organic group containing a monovalent aromatic ring, and may be the same or different, and R in the formula represents an organic group containing a divalent aromatic ring and a divalent aliphatic group and represents a substituent selected from the group consisting of residues), aromatic Cal
Bonic acid, isocyanuric acid, or 1,2,3-benzoto
Organic anion (a) capable of forming a lyazole ion pair
And an inorganic filler (D), wherein the equivalent ratio of the epoxy group of the epoxy resin (A) to the phenolic hydroxyl group of the phenol resin (B) is 0. 0.5 or more and 2 or less, and the weight ratio of the ionic conjugate (C) is (A) + (B) 100 parts by weight,
0.4 to 20 parts by weight, and the weight ratio of the inorganic filler (D) is 100 parts by weight of (A) + (B).
A resin composition characterized by being at least 40 parts by weight and not more than 2400 parts by weight.
JP14611794A 1994-05-17 1994-06-28 Resin composition Expired - Fee Related JP3176800B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14611794A JP3176800B2 (en) 1994-05-17 1994-06-28 Resin composition

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10252294 1994-05-17
JP6-102522 1994-05-17
JP14611794A JP3176800B2 (en) 1994-05-17 1994-06-28 Resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0834834A JPH0834834A (en) 1996-02-06
JP3176800B2 true JP3176800B2 (en) 2001-06-18

Family

ID=26443236

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14611794A Expired - Fee Related JP3176800B2 (en) 1994-05-17 1994-06-28 Resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3176800B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69733232T2 (en) * 1996-09-13 2006-01-19 Sumitomo Chemical Co., Ltd. Epoxy resin composition and process for its preparation
JP4288940B2 (en) * 2002-12-06 2009-07-01 日亜化学工業株式会社 Epoxy resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0834834A (en) 1996-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4163162B2 (en) Latency catalyst for epoxy resin, epoxy resin composition and semiconductor device
JP4128420B2 (en) Hardener composition for epoxy resin, epoxy resin composition using the hardener composition, and semiconductor device
JP3176800B2 (en) Resin composition
JP3233382B2 (en) Resin composition
JPH0841290A (en) Resin composition
JPH08151427A (en) Epoxy resin composition
JP2867471B2 (en) Resin composition
JP3582771B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP3003887B2 (en) Resin composition for semiconductor encapsulation
JPH07188395A (en) Resin composition
JP5098125B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH0892355A (en) Resin composition
JPH1045872A (en) Epoxy resin composition
JP3212075B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP2001158852A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH06107911A (en) Resin composition for semiconductor sealing use
JP4040370B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP3064636B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP2938080B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP2002053732A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2001226463A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH0764918B2 (en) Semiconductor device
JP3235799B2 (en) Epoxy resin composition
JP2690992B2 (en) Epoxy resin composition
JP4617532B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees