JP3164800B2 - Electronic component storage package - Google Patents

Electronic component storage package

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JP3164800B2
JP3164800B2 JP26059699A JP26059699A JP3164800B2 JP 3164800 B2 JP3164800 B2 JP 3164800B2 JP 26059699 A JP26059699 A JP 26059699A JP 26059699 A JP26059699 A JP 26059699A JP 3164800 B2 JP3164800 B2 JP 3164800B2
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    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、セラミックス等の
絶縁基体と金属蓋体とから成るパッケージの内部に圧電
振動子や半導体素子等の電子部品を気密に収容するよう
になした電子部品収納用パッケージに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a package for an electronic component, such as a piezoelectric vibrator or a semiconductor element, which is hermetically accommodated in a package comprising an insulating base such as ceramics and a metal cover. It is about packages.

【0002】[0002]

【従来の技術】圧電振動子や半導体素子等の電子部品
は、これらの電子部品を気密に収容するための電子部品
収納用パッケージ内に収容されて使用される。
2. Description of the Related Art Electronic components such as a piezoelectric vibrator and a semiconductor element are used by being housed in an electronic component housing package for hermetically housing these electronic components.

【0003】このような電子部品を気密に収容する電子
部品収納用パッケージにおいて、最も信頼性の高いとさ
れるものは、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミック
スから成り、上面中央部に電子部品が搭載される搭載部
を有するとともに搭載部から外表面に導出するメタライ
ズ配線導体を有する絶縁基体と、この絶縁基体の上面に
搭載部を取り囲むようにしてろう付けされた鉄−ニッケ
ル合金や鉄−ニッケル−コバルト合金から成る封止用の
金属枠体と、この金属枠体にシーム溶接により直接に接
合される鉄−ニッケル合金や鉄−ニッケル−コバルト合
金から成る金属蓋体とから構成されるタイプのものであ
る。
[0003] Among the electronic component storage packages for hermetically storing electronic components, the most reliable one is made of ceramics such as an aluminum oxide sintered body, and the electronic component is placed at the center of the upper surface. An insulating base having a mounting portion to be mounted and having a metallized wiring conductor extending to the outer surface from the mounting portion; and an iron-nickel alloy or iron-nickel brazed on the upper surface of the insulating base so as to surround the mounting portion. A metal frame for sealing made of a cobalt alloy and a metal lid made of an iron-nickel alloy or an iron-nickel-cobalt alloy directly joined to the metal frame by seam welding; Things.

【0004】このタイプの電子部品収納用パッケージの
場合には、絶縁基体の搭載部に電子部品を搭載するとと
もに電子部品の電極とメタライズ配線導体とを電気的に
接続した後、封止用の金属枠体に金属蓋体を載置し、こ
の金属蓋体の外周縁にシーム溶接機の一対のローラー電
極を接触させながら転動させてこのローラー電極間に溶
接のための大電流を流して金属枠体と金属蓋体とを直接
にシーム溶接することによって、内部に電子部品が気密
に収容されて製品としての電子装置となる。
In the case of this type of electronic component storage package, the electronic component is mounted on the mounting portion of the insulating base, the electrodes of the electronic component are electrically connected to the metallized wiring conductor, and then the sealing metal is formed. A metal lid is placed on the frame, and a pair of roller electrodes of a seam welding machine are rolled while being brought into contact with the outer peripheral edge of the metal lid. By directly seam-welding the frame and the metal lid, the electronic components are hermetically accommodated inside, thereby providing an electronic device as a product.

【0005】しかしながら、このタイプの電子部品収納
用パッケージでは、絶縁基体に金属蓋体をシーム溶接す
るための下地金属として封止用の金属枠体をろう付けし
ておく必要があり、そのため金属枠体の分だけ電子装置
の高さが高いものとなってしまい、近時の電子装置に要
求される薄型化への対応が困難であった。また、金属枠
体の分だけ高価なものとなってしまうという問題点も有
していた。
However, in this type of electronic component storage package, it is necessary to braze a metal frame for sealing as a base metal for seam welding a metal cover to an insulating base. The height of the electronic device is increased by the size of the body, and it has been difficult to respond to the recent demand for thinner electronic devices. In addition, there is a problem that the metal frame is expensive only.

【0006】なお、絶縁基体に金属枠体をろう付けする
には、絶縁基体にろう付け用の下地金属としての枠状メ
タライズ層を被着させておくとともに、この枠状メタラ
イズ層に金属枠体を銀ろう等のろう材を介してろう付け
する方法が採用されている。
In order to braze the metal frame to the insulating base, a frame-shaped metallized layer as a base metal for brazing is applied to the insulating base, and the metal frame is mounted on the frame-shaped metalized layer. Is brazed through a brazing material such as silver brazing.

【0007】そこで、上述のような問題点を解消するた
めに、上面中央部に電子部品を搭載する搭載部を、およ
び上面外周部に搭載部を取り囲む封止用の枠状メタライ
ズ層を有するセラミック製の絶縁基体と、金属蓋体とか
ら構成され、絶縁基体の搭載部に電子部品を搭載した
後、枠状メタライズ層に金属蓋体を銀ろう等のろう材を
介してシーム溶接することにより絶縁基体と金属蓋体と
を接合して、内部に電子部品を気密に封止するようにな
した電子部品収納用パッケージが提案されている。
Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, a ceramic having a mounting portion for mounting an electronic component at the center of the upper surface and a frame-shaped metallization layer for sealing surrounding the mounting portion at the outer peripheral portion of the upper surface. After mounting the electronic component on the mounting portion of the insulating base, the metal cover is seam-welded to the frame-shaped metallized layer via a brazing material such as silver brazing. 2. Description of the Related Art There has been proposed an electronic component housing package in which an insulating base and a metal cover are joined to hermetically seal electronic components therein.

【0008】この封止用の枠状メタライズ層に金属蓋体
を銀ろう等のろう材を介してシーム溶接により接合させ
ることによって内部に電子部品を気密に収容するように
なした電子部品収納用パッケージは、枠状メタライズ層
と金属蓋体とをろう材を介してシーム溶接により接合さ
せることから溶接のための下地金属としての金属枠体を
絶縁基体にろう付けする必要がなく、その分、高さを低
くすることができ、かつ安価である。
A metal lid is bonded to the sealing frame-shaped metallized layer by seam welding through a brazing material such as silver brazing to allow the electronic components to be hermetically accommodated therein. Since the package is formed by joining the frame-shaped metallized layer and the metal lid body by seam welding via a brazing material, it is not necessary to braze the metal frame body as a base metal for welding to the insulating base. The height can be reduced and it is inexpensive.

【0009】なお、上述のような電子部品収納用パッケ
ージにおいては、絶縁基体は通常、セラミックグリーン
シート積層法により形成されており、具体的には、適当
な打ち抜き加工が施された複数枚のセラミックグリーン
シートを準備するとともに、これらのセラミックグリー
ンシートにメタライズ配線導体や枠状メタライズ層とな
る金属ペーストをスクリーン印刷法により印刷し、しか
る後、これらのセラミックグリーンシートを積層すると
ともに高温で焼成することによって製作される。
In the above-mentioned electronic component housing package, the insulating substrate is usually formed by a ceramic green sheet laminating method, and more specifically, a plurality of ceramic sheets which have been appropriately punched. Prepare the green sheets and print metallized wiring conductors and metal pastes to be the frame-shaped metallized layers on these ceramic green sheets by screen printing, and then laminate these ceramic green sheets and fire at high temperature. Produced by

【0010】また、ろう材は、その配置を容易とするた
めに、金属蓋体の下面の全面にめっき法や圧延法等によ
り予め所定の厚みに被着させておくことが一般的であ
る。
[0010] Further, in order to facilitate the arrangement of the brazing material, it is general that the brazing material is previously applied to the entire lower surface of the metal lid to a predetermined thickness by a plating method, a rolling method, or the like.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように金属蓋体を絶縁基体の枠状メタライズ層にろう材
を介してシーム溶接により接合するようになした電子部
品収納用パッケージによれば、絶縁基体の上面に被着さ
せた枠状メタライズ層は、金属ペーストをスクリーン印
刷法により所定の枠状に印刷塗布することにより形成さ
れており、そのため、金属ペーストの粘性に起因してそ
の幅方向における断面形状が、中央部が盛り上がった形
状となったり、あるいは内周縁近傍および外周縁近傍が
盛り上がった形状となりやすく、内周縁および外周縁か
らそれぞれ0.1 mm以上離れた中央領域が幅方向におい
て最大で10μm程度の高さの凹凸を有したものとなって
いる。なお、枠状メタライズ層の内周縁または外周縁か
ら0.1 mm以内の周辺領域は、一般的には、それぞれ内
周縁・外周縁に向かって層厚みが薄くなる(高さが低く
なる)形状となっている。
However, according to the electronic component housing package in which the metal lid is joined to the frame-shaped metallized layer of the insulating base by seam welding via a brazing material as described above, The frame-shaped metallized layer adhered to the upper surface of the insulating base is formed by printing and applying a metal paste in a predetermined frame shape by a screen printing method, and therefore, in the width direction due to the viscosity of the metal paste. In the cross-sectional shape, the central portion is likely to have a raised shape, or the inner peripheral edge and the outer peripheral edge are likely to have a raised shape, and the central region separated from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge by 0.1 mm or more is the largest in the width direction. It has irregularities with a height of about 10 μm. The peripheral region within 0.1 mm from the inner or outer peripheral edge of the frame-shaped metallized layer generally has a shape in which the layer thickness decreases (the height decreases) toward the inner or outer peripheral edge, respectively. ing.

【0012】しかしながら、この枠状メタライズ層の上
に金属蓋体を間に所定厚みのろう材を挟んで載置し、枠
状メタライズ層と金属蓋体とをろう材を介してシーム溶
接すると、枠状メタライズ層の中央領域の凹凸の形状や
大きさによってろう材の過不足が発生しやすいという問
題点があった。そのため、例えば枠状メタライズ層が極
めて平坦である場合にはろう材が過多となり、シーム溶
接時に溶融したろう材がパッケージ内部に飛び散って内
部に収容する電子部品に付着し、これが電子部品の正常
な作動を妨げてしまいやすいという問題点があった。他
方、枠状メタライズ層の凹凸が大きな場合には、ろう材
が不足してシーム溶接時に溶融したろう材により枠状メ
タライズ層の凹凸を十分に埋めることができずに、枠状
メタライズ層と金属蓋体との間に多量の空隙が形成され
てパッケージの気密信頼性が低いものとなりやすいとい
う問題点があった。したがって、その結果、内部に収容
する電子部品を正常かつ安定に作動させることができな
い場合があるという解決すべき課題を有していた。
However, when a metal lid is placed on the frame-shaped metallized layer with a brazing material of a predetermined thickness interposed therebetween, and the frame-shaped metallized layer and the metal lid are seam-welded via the brazing material, There is a problem that the excess or deficiency of the brazing filler metal tends to occur depending on the shape and size of the unevenness in the central region of the frame-shaped metallized layer. Therefore, for example, when the frame-shaped metallization layer is extremely flat, the amount of brazing material becomes excessive, and the brazing material melted during seam welding scatters inside the package and adheres to the electronic components housed therein. There is a problem that the operation is easily hindered. On the other hand, when the unevenness of the frame-shaped metallized layer is large, the brazing material is insufficient, and the unevenness of the frame-shaped metallized layer cannot be sufficiently filled with the brazing material melted during seam welding. There is a problem that a large amount of voids are formed between the cover and the lid, and the airtight reliability of the package tends to be low. Therefore, as a result, there is a problem to be solved that the electronic components housed therein cannot be normally and stably operated.

【0013】本発明はかかる課題に鑑み案出されたもの
であり、その目的は、枠状メタライズ層と金属蓋体とを
シーム溶接する際に、内部に収容する電子部品へのろう
材の付着がなく、かつ枠状メタライズ層と金属蓋体との
間に多量の空隙が形成されることがなく気密信頼性が高
く、内部に収容する電子部品を常に正常かつ安定に作動
させることが可能な電子部品収納用パッケージを提供す
ることにある。
The present invention has been devised in view of the above problems, and has as its object to attach a brazing material to an electronic component housed therein when seam welding a frame-shaped metallized layer and a metal lid. No air gaps are formed between the frame-shaped metallized layer and the metal lid, and the airtight reliability is high, and the electronic components housed therein can always operate normally and stably. An object of the present invention is to provide a package for storing electronic components.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の電子部品収納用
パッケージは、上面に電子部品が搭載される搭載部およ
びこの搭載部を取り囲むようにして被着された封止用の
枠状メタライズ層を有する絶縁基体と、下面にろう材が
被着され、枠状メタライズ層にこのろう材を介してシー
ム溶接により接合される金属蓋体とから成る電子部品収
納用パッケージであって、枠状メタライズ層はその内周
縁および外周縁から0.1mm以内の周辺領域の層厚みが
それぞれ内周縁および外周縁に向かって薄くなるととも
に内周縁および外周縁からそれぞれ0.1mm以上離れた
領域の幅方向における凹凸の高さが5μm以下であり、
かつ金属蓋体はその外形寸法が枠状メタライズ層の外周
縁より小さく、蓋体に被着させたろう材はその厚みが10
〜30μmであることを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a package for storing electronic components, wherein a mounting portion on which an electronic component is mounted on a top surface, and a frame-like metallization layer for sealing which is mounted so as to surround the mounting portion. An electronic component housing package comprising: an insulating base having: a metal cover body having a lower surface covered with a brazing material and joined to the frame-shaped metallization layer by seam welding via the brazing material. The thickness of the layer in the peripheral region within 0.1 mm from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge becomes thinner toward the inner peripheral edge and the outer peripheral edge, respectively, and the unevenness in the width direction of the region away from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge by 0.1 mm or more, respectively. The height is 5 μm or less,
In addition, the outer dimensions of the metal lid are smaller than the outer peripheral edge of the frame-shaped metallized layer, and the brazing material applied to the lid has a thickness of 10 mm.
3030 μm.

【0015】本発明の電子部品収納用パッケージによれ
ば、枠状メタライズ層はその内周縁および外周縁から0.
1mm以内の周辺領域の層厚みがそれぞれ内周縁および
外周縁に向かって薄くなるとともに内周縁および外周縁
からそれぞれ0.1mm以上離れた領域の幅方向における
凹凸の高さが5μm以上であることから、接合される枠
状メタライズ層とこの外周縁より外形寸法が小さい金属
蓋体との間に大きな隙間が形成されることはなく、した
がって、この枠状メタライズ層と金属蓋体とをシーム溶
接によりろう材を介して接合する際に、金属蓋体に被着
させた厚みが10〜30μmのろう材により枠状メタライズ
層の凹凸を良好に埋めて両者を気密信頼性高く接合させ
ることができる。
According to the electronic component housing package of the present invention, the frame-shaped metallized layer is 0.1 mm from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge thereof.
Since the layer thickness of the peripheral region within 1 mm becomes thinner toward the inner peripheral edge and the outer peripheral edge, respectively, and the height of the unevenness in the width direction of the region 0.1 mm or more away from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge is 5 μm or more, No large gap is formed between the frame-shaped metallized layer to be joined and the metal lid having an outer dimension smaller than the outer peripheral edge. Therefore, the frame-shaped metallized layer and the metal lid are soldered by seam welding. When joining via a material, the unevenness of the frame-shaped metallized layer can be satisfactorily filled with a brazing material having a thickness of 10 to 30 μm attached to the metal lid, and the two can be joined with high airtight reliability.

【0016】また、金属蓋体に被着させたろう材はその
厚みが10〜30μmであることから、たとえ枠状メタライ
ズ層が極めて平坦な場合であってもろう材が過多となる
ことはなく、したがって、枠状メタライズ層と金属蓋体
とをシーム溶接によりろう材を介して接合する際に、ろ
う材がパッケージ内部に飛び散って内部の電子部品に付
着するようなことはない。
Since the thickness of the brazing material applied to the metal lid is 10 to 30 μm, the brazing material does not become excessive even when the frame-shaped metallized layer is extremely flat. Therefore, when the frame-shaped metallized layer and the metal lid are joined to each other via the brazing material by seam welding, the brazing material does not scatter inside the package and adhere to the internal electronic components.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】次に、本発明の電子部品収納用パ
ッケージを添付の図面を基に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an electronic component storage package according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0018】図1は本発明の電子部品収納用パッケージ
の実施の形態の一例を示した断面図であり、同図におい
て1は絶縁基体、2は金属蓋体、3は電子部品である。
そして、絶縁基体1と金属蓋体2とから成るパッケージ
の内部に例えば圧電振動子や半導体素子等の電子部品3
が気密に封止されることによって製品としての電子装置
となる。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an electronic component storage package according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes an insulating base, 2 denotes a metal cover, and 3 denotes an electronic component.
Then, an electronic component 3 such as a piezoelectric vibrator or a semiconductor element is placed inside a package including the insulating base 1 and the metal lid 2.
Is hermetically sealed to form an electronic device as a product.

【0019】絶縁基体1は、電子部品3を支持するため
の支持体であり、酸化アルミニウム質焼結体や窒化アル
ミニウム質焼結体等のセラミックスから成り、その上面
中央部に電子部品3を収容するための凹部Aを有してい
る。そして、凹部Aの底面は電子部品3を搭載するため
の搭載部1aを形成しており、この搭載部1aに電子部
品3が搭載される。
The insulating substrate 1 is a support for supporting the electronic component 3 and is made of a ceramic such as an aluminum oxide sintered body or an aluminum nitride sintered body. To form a concave portion A. The bottom surface of the recess A forms a mounting portion 1a for mounting the electronic component 3, and the electronic component 3 is mounted on the mounting portion 1a.

【0020】なお、絶縁基体1は、例えば酸化アルミニ
ウム質焼結体から成る場合であれば、酸化アルミニウム
・酸化珪素・酸化マグネシウム・酸化カルシウム等の原
料粉末に適当な有機バインダ・溶剤を添加混合して泥漿
状となすとともに、これを従来周知のドクターブレード
法やカレンダーロール法を採用することによってセラミ
ックグリーンシートとなし、しかる後、このセラミック
グリーンシートに適当な打ち抜き加工を施すとともに複
数枚積層し、高温で焼成することによって製作される。
When the insulating substrate 1 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, a suitable organic binder and a solvent are added to a raw material powder such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide and calcium oxide. A ceramic green sheet is formed by adopting a well-known doctor blade method or a calendar roll method, and thereafter, a plurality of ceramic green sheets are subjected to appropriate punching and laminated, It is manufactured by firing at high temperature.

【0021】また、絶縁基体1には、搭載部1aの上面
から絶縁基体1の下面にかけて導出するタングステンや
モリブデン等の金属粉末焼結体から成るメタライズ配線
導体4が被着形成されている。
Further, a metallized wiring conductor 4 made of a sintered metal powder such as tungsten or molybdenum, which extends from the upper surface of the mounting portion 1a to the lower surface of the insulating substrate 1, is formed on the insulating substrate 1.

【0022】メタライズ配線導体4は、電子部品3の各
電極を外部に電気的に導出するための導電路として機能
し、通常であれば、その露出する表面に1〜20μm程度
の厚みのニッケルめっきと0.1 〜3.0 μm程度の厚みの
金めっきとが施されている。
The metallized wiring conductor 4 functions as a conductive path for electrically leading each electrode of the electronic component 3 to the outside. Normally, the exposed surface of the metalized wiring conductor 4 is plated with nickel having a thickness of about 1 to 20 μm. And gold plating having a thickness of about 0.1 to 3.0 μm.

【0023】そして、その搭載部1a上面部位には電子
部品3の電極が例えば導電性接着剤を介して電気的に接
続され、メタライズ配線導体4の絶縁基体1の下面に導
出した部位は、外部電気回路基板(図示せず)の配線導
体に例えば半田を介して電気的に接続される。
Electrodes of the electronic component 3 are electrically connected to the upper surface of the mounting portion 1a via, for example, a conductive adhesive, and the portion of the metallized wiring conductor 4 that extends to the lower surface of the insulating base 1 is connected to the outside. It is electrically connected to a wiring conductor of an electric circuit board (not shown) via, for example, solder.

【0024】なお、メタライズ配線導体4は、例えばタ
ングステン粉末焼結体から成る場合であれば、タングス
テン粉末に適当な有機バインダ・溶剤を添加混合して得
たタングステンペーストを絶縁基体1となるセラミック
グリーンシートに従来周知のスクリーン印刷法により所
定パターンに印刷塗布し、これを絶縁基体1となるセラ
ミックグリーンシートとともに焼成することによって、
絶縁基体1の搭載部1a上面から下面にかけて所定のパ
ターンに被着形成される。
If the metallized wiring conductor 4 is made of, for example, a tungsten powder sintered body, a tungsten paste obtained by adding and mixing an appropriate organic binder and a solvent to the tungsten powder is used as a ceramic green for the insulating substrate 1. By printing and applying a predetermined pattern on the sheet by a conventionally known screen printing method, and firing this together with a ceramic green sheet serving as the insulating substrate 1,
The mounting portion 1a of the insulating base 1 is formed in a predetermined pattern from the upper surface to the lower surface.

【0025】さらに、絶縁基体1の上面外周部には、タ
ングステンやモリブデン等の金属粉末焼結体から成り、
幅が0.4 mm程度で厚みが10〜50μm程度の封止用の枠
状メタライズ層5が搭載部1aを取り囲むようにして被
着形成されている。
Further, a metal powder sintered body of tungsten, molybdenum or the like is formed on the outer peripheral portion of the upper surface of the insulating base 1,
A sealing metallization layer 5 having a width of about 0.4 mm and a thickness of about 10 to 50 μm is formed so as to surround the mounting portion 1a.

【0026】この枠状メタライズ層5は、絶縁基体1に
金属蓋体2を接合させるための下地金属として機能し、
その内周縁および外周縁から0.1mm以内の周辺領域の
層厚みがそれぞれ内周縁および外周縁に向かって薄くな
るとともに、その内周縁および外周縁からそれぞれ0.1
mm以上離れた中央領域の幅方向における凹凸の高さが
5μm以下となっている。そして、通常であれば、その
露出する表面に1〜20μm程度の厚みのニッケルめっき
と0.1〜3.0μm程度の厚みの金めっきとが施されてお
り、その上には金属蓋体2がろう材6を介してシーム溶
接により接合される。
The frame-shaped metallized layer 5 functions as a base metal for bonding the metal cover 2 to the insulating base 1,
The layer thickness of the peripheral region within 0.1 mm from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge is reduced toward the inner peripheral edge and the outer peripheral edge, respectively, and the layer thickness is 0.1 mm from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge, respectively.
The height of the unevenness in the width direction of the central region separated by not less than mm is 5 μm or less. Usually, the exposed surface is plated with nickel having a thickness of about 1 to 20 μm and gold plating having a thickness of about 0.1 to 3.0 μm. 6 through seam welding.

【0027】枠状メタライズ層5は、その内周縁および
外周縁からそれぞれ0.1mm以上離れた中央部の領域の
幅方向における凹凸の高さが5μm以下となっているこ
とから、その上面に外形寸法が枠状メタライズ層5の外
周縁より小さい金属蓋体2をろう材6を介してシーム溶
接する際に枠状メタライズ層5と金属蓋体2との間に大
きな隙間が形成されることがない。従って、後述するよ
うに金属蓋体2に被着させた厚みが10〜30μmのろう材
6で枠状メタライズ層5と金属蓋体2との間の隙間を良
好に埋めることができ、これにより、パッケージに高い
気密信頼性を付与することを可能としている。
Since the height of the unevenness in the width direction of the central portion of each of the frame-shaped metallized layers 5 which is 0.1 mm or more away from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge is 5 μm or less, the outer dimensions are formed on the upper surface. When the metal lid 2 smaller than the outer peripheral edge of the frame-shaped metallized layer 5 is seam-welded via the brazing material 6, a large gap is not formed between the frame-shaped metallized layer 5 and the metal lid 2. . Therefore, the gap between the frame-shaped metallized layer 5 and the metal lid 2 can be satisfactorily filled with the brazing material 6 having a thickness of 10 to 30 μm adhered to the metal lid 2 as described later. This makes it possible to impart high airtight reliability to the package.

【0028】なお、枠状メタライズ層5は、その内周縁
および外周縁からそれぞれ0.1 mm以上離れた領域の幅
方向における凹凸の高さが5μmを超えると、その上面
に金属蓋体2をろう材6を介してシーム溶接する際に、
後述するように蓋体2の下面に被着させた厚みが10〜30
μmのろう材6によって枠状メタライズ層5と金属蓋体
2との間の隙間を良好に埋めることが困難となってしま
う傾向がある。したがって、枠状メタライズ層5の内周
縁および外周縁からそぞれ0.1 mm以上離れた領域の幅
方向における凹凸の高さは5μm以下に特定される。
When the height of the irregularities in the width direction of the region 0.1 mm or more away from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge of the frame-shaped metallized layer 5 exceeds 5 μm, the metal cover 2 is attached to the upper surface thereof by the brazing material. When seam welding through 6,
The thickness of the cover 2 attached to the lower surface of the cover 2 is 10 to 30 as described later.
There is a tendency that it is difficult to satisfactorily fill the gap between the frame-shaped metallized layer 5 and the metal lid 2 with the brazing material 6 of μm. Therefore, the height of the unevenness in the width direction of the region 0.1 mm or more away from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge of the frame-shaped metallized layer 5 is specified to be 5 μm or less.

【0029】また、枠状メタライズ層5に施されるニッ
ケルめっきは、その厚みが5μm以上であると、枠状メ
タライズ層5に金属蓋体2をろう材6を介してシーム溶
接により接合する際に、シーム溶接の熱により絶縁基体
1に印加される熱衝撃をニッケルめっきにより良好に吸
収して絶縁基体1に熱衝撃による割れやクラックが発生
するのを有効に防止することができる。したがって、枠
状メタライズ層5に施されるニッケルめっきは、その厚
みを好ましくは5μm以上、より好ましくは8μm以上
としておくことが望ましい。
When the thickness of the nickel plating applied to the frame-shaped metallized layer 5 is 5 μm or more, when the metal lid 2 is joined to the frame-shaped metallized layer 5 via the brazing material 6 by seam welding. In addition, the thermal shock applied to the insulating substrate 1 by the heat of the seam welding can be favorably absorbed by the nickel plating, thereby effectively preventing the insulating substrate 1 from being cracked or cracked by the thermal shock. Therefore, it is desirable that the nickel plating applied to the frame-shaped metallized layer 5 has a thickness of preferably 5 μm or more, more preferably 8 μm or more.

【0030】なお、枠状メタライズ層5は、例えばタン
グステン粉末焼結体から成る場合であれば、タングステ
ン粉末に適当な有機バインダ・溶剤を添加混合して得た
タングステンペーストを絶縁基体1となるセラミックグ
リーンシート上に従来周知のスクリーン印刷法を採用し
て予め所定厚み・所定パターンに印刷塗布し、これを温
風乾燥機や赤外線乾燥機等により乾燥して溶剤を除去す
るとともに、プレス機により上面が平坦となるようにプ
レスした後、絶縁基体1となるセラミックグリーンシー
トとともに焼成することによって、絶縁基体1の上面に
搭載部1aを取り囲むようにして、その内周縁および外
周縁からそれぞれ0.1 mm以上離れた領域の幅方向にお
ける凹凸の高さが5μm以下となるように被着形成され
る。
When the frame-shaped metallized layer 5 is made of, for example, a tungsten powder sintered body, a tungsten paste obtained by adding an appropriate organic binder and solvent to the tungsten powder is mixed with a ceramic to be used as the insulating base 1. Conventionally, the screen printing method is applied on the green sheet in a predetermined thickness and a predetermined pattern by printing, and this is dried by a hot-air drier or an infrared drier to remove the solvent. Is pressed so as to be flat, and then fired together with a ceramic green sheet serving as the insulating substrate 1, so that the mounting portion 1a is surrounded on the upper surface of the insulating substrate 1 by 0.1 mm or more from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge thereof. It is formed so that the height of the unevenness in the width direction of the separated region is 5 μm or less.

【0031】他方、金属蓋体2は、鉄−ニッケル合金板
あるいは鉄−ニッケル−コバルト合金板から成る厚みが
0.1mm程度で外形寸法が枠状メタライズ層5の外周縁
より小さい平板であり、その下面の全面には、銀−銅共
晶ろう等のろう材6が10〜30μm程度の厚みに被着され
ている。そして、絶縁基体1の枠状メタライズ層5にろ
う材6を介してシーム溶接により接合されることによっ
て、絶縁基体1との間で電子部品3を気密に封止する。
On the other hand, the metal lid 2 has a thickness of an iron-nickel alloy plate or an iron-nickel-cobalt alloy plate.
It is a flat plate having a thickness of about 0.1 mm and an outer dimension smaller than the outer peripheral edge of the frame-shaped metallized layer 5. ing. Then, the electronic component 3 is hermetically sealed with the insulating base 1 by being joined to the frame-shaped metallized layer 5 of the insulating base 1 through the brazing material 6 by seam welding.

【0032】なお、金属蓋体2と絶縁基体1の枠状メタ
ライズ層5とのろう材6を介した接合は、図2に断面図
で示すように、金属蓋体2を絶縁基体1の枠状メタライ
ズ層5に間にろう材6を挟んで載置し、この金属蓋体2
の外周縁にシーム溶接機の一対のローラー電極20を接触
させながら転動させるとともに、このローラー電極20間
に溶接のための大電流を流し、ローラー電極20と金属蓋
体2との接触部をジュール発熱させ、この熱を金属蓋体
2の下面側に伝達させてろう材6の一部6aを溶融させ
ることによって行なわれる。
The joining of the metal cover 2 and the frame-shaped metallized layer 5 of the insulating base 1 via the brazing material 6 is performed by connecting the metal cover 2 to the frame of the insulating base 1 as shown in a sectional view of FIG. The metal cover 2 is placed on the metallized layer 5 with a brazing material 6 interposed therebetween.
Rolling while contacting a pair of roller electrodes 20 of the seam welding machine to the outer peripheral edge of the seam welding machine, a large current for welding is passed between the roller electrodes 20, and a contact portion between the roller electrode 20 and the metal lid 2 is formed. Joule heat is generated, and this heat is transmitted to the lower surface side of the metal lid 2 to melt a part 6 a of the brazing material 6.

【0033】このとき、金属蓋体2はその下面に被着さ
れたろう材6の厚みが10〜30μmであることから、絶縁
基体1の枠状メタライズ層5にろう材6を介してシーム
溶接により接合される際に、たとえ枠状メタライズ層5
が極めて平坦な場合であってもろう材6が過多となるこ
とはなく、したがって、溶融したろう材6aがパッケー
ジ内部に飛び散って内部の電子部品3に付着するような
ることはない。また、枠状メタライズ層5に凹凸がある
場合であっても、その凹凸は高さが5μm以下であるこ
とから、この凹凸を10〜30μmの厚みのろう材6で良好
に埋めることができ、これにより気密信頼性の高いパッ
ケージを得ることができる。
At this time, since the thickness of the brazing material 6 attached to the lower surface of the metal lid 2 is 10 to 30 μm, the metal lid 2 is seam-welded to the frame-shaped metallized layer 5 of the insulating base 1 via the brazing material 6. When joining, even if the frame-shaped metallized layer 5
Does not become excessive even when the surface is extremely flat, so that the molten brazing material 6a does not scatter inside the package and adhere to the electronic components 3 inside. In addition, even when the frame-shaped metallized layer 5 has irregularities, since the irregularities have a height of 5 μm or less, the irregularities can be satisfactorily filled with the brazing material 6 having a thickness of 10 to 30 μm. As a result, a package having high airtight reliability can be obtained.

【0034】なお、金属蓋体2の下面に被着されたろう
材6は、その厚みが10μm未満であると、金属蓋体2を
絶縁基体1の枠状メタライズ層5にろう材6を介してシ
ーム溶接により接合する際に、ろう材6が不足して枠状
メタライズ層5の内周縁および外周縁から0.1 mm以上
離れた領域の高さ5μm以下の凹凸を溶融したろう材6
aで良好に埋めることができずにパッケージの気密信頼
性が低いものとなってしまう危険性が大きなものとな
る。他方、30μmを超えると、枠状メタライズ層5の内
周縁および外周縁から0.1 mm以上離れた領域が極めて
平坦である場合等に、ろう材6が過多となって溶融した
ろう材6aがパッケージ内部に飛び散り、内部に収容す
る電子部品の機能を阻害してしまう危険性が大きなもの
となる。したがって、金属蓋体2の下面に被着されたろ
う材6の厚みは10〜30μmの範囲に特定される。
If the thickness of the brazing material 6 attached to the lower surface of the metal lid 2 is less than 10 μm, the metal lid 2 is connected to the frame-shaped metallized layer 5 of the insulating base 1 via the brazing material 6. When joining by seam welding, the brazing material 6 lacks the brazing material 6 and melts irregularities having a height of 5 μm or less in a region 0.1 mm or more away from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge of the frame-shaped metallized layer 5.
Therefore, there is a great danger that the package cannot be satisfactorily filled, and the hermetic reliability of the package becomes low. On the other hand, if the thickness exceeds 30 μm, the brazing material 6 becomes excessive and the brazing material 6a melted due to the excessive amount of There is a great danger that the electronic components will be scattered and hinder the function of the electronic components housed inside. Therefore, the thickness of the brazing material 6 attached to the lower surface of the metal lid 2 is specified in the range of 10 to 30 μm.

【0035】金属蓋体2は、鉄−ニッケル合金板あるい
は鉄−ニッケル−コバルト合金板の下面に銀−銅ろう等
のろう材箔を重ねて圧延することによって鉄−ニッケル
合金板あるいは鉄−ニッケル−コバルト合金板の下面に
厚みが10〜30μmのろう材が圧着された複合金属板を得
るとともに、この複合金属板を打ち抜き金型により打ち
抜くことによって、下面に厚みが10〜30μmのろう材6
が被着された所定の形状に製作される。
The metal lid 2 is made of an iron-nickel alloy sheet or an iron-nickel alloy sheet or an iron-nickel-cobalt alloy sheet by rolling a brazing material foil such as silver-copper solder on the lower surface of the iron-nickel-cobalt alloy sheet. Obtaining a composite metal plate having a brazing material having a thickness of 10 to 30 μm crimped on the lower surface of the cobalt alloy plate, and punching the composite metal plate with a punching die to form a brazing material 6 having a thickness of 10 to 30 μm on the lower surface;
Is manufactured in a predetermined shape to which is adhered.

【0036】かくして、本発明の電子部品収納用パッケ
ージによれば、絶縁基体1の搭載部1aに電子部品3を
搭載するとともに、封止用の枠状メタライズ層5に金属
蓋体2をろう材6を介してシーム溶接により接合する
と、溶融したろう材6aが封止用メタライズ層5の凹凸
を良好に埋めることができるとともに、パッケージの内
部に飛び散ることがなく、内部に収容する電子部品3を
常に正常に作動させることが可能な電子部品収納用パッ
ケージを提供することができる。
Thus, according to the electronic component housing package of the present invention, the electronic component 3 is mounted on the mounting portion 1a of the insulating base 1, and the metal lid 2 is mounted on the metal frame layer 5 for sealing. 6 by means of seam welding, the molten brazing material 6a can satisfactorily fill the irregularities of the metallizing layer 5 for sealing, and does not scatter into the package. It is possible to provide an electronic component storage package that can always operate normally.

【0037】なお、本発明は上述の実施の形態の一例に
限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範
囲であれば種々の変更が可能であることはいうまでもな
い。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the scope of the present invention.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明の電子部品収納用パッケージによ
れば、枠状メタライズ層はその内周縁および外周縁から
0.1mm以内の周辺領域の層厚みがそれぞれ内周縁およ
び外周縁に向かって薄くなるとともに内周縁および外周
縁からそれぞれ0.1mm以上離れた領域の幅方向におけ
る凹凸の高さが5μm以上であることから、枠状メタラ
イズ層とこの外周縁より外形寸法が小さい金属蓋体との
間に大きな隙間が形成されることはなく、したがって、
この枠状メタライズ層と金属蓋体とをシーム溶接により
ろう材を介して接合する際に、金属蓋体に被着させた厚
みが10〜30μmのろう材により枠状メタライズ層の凹凸
を良好に埋めて両者を気密信頼性高く接合させることが
できる。
According to the electronic component housing package of the present invention, the frame-shaped metallized layer is formed from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge thereof.
Since the thickness of the layer in the peripheral region within 0.1 mm decreases toward the inner peripheral edge and the outer peripheral edge, respectively, and the height of the unevenness in the width direction of the region separated from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge by 0.1 mm or more is 5 μm or more. Therefore, no large gap is formed between the frame-shaped metallized layer and the metal lid body whose outer dimensions are smaller than the outer peripheral edge.
When joining the frame-shaped metallized layer and the metal lid through a brazing material by seam welding, the thickness of the brazed material having a thickness of 10 to 30 μm adhered to the metal lid can improve the unevenness of the frame-shaped metallized layer. By burying, both can be joined with high airtight reliability.

【0039】また、金属蓋体に被着させたろう材はその
厚みが10〜30μmであることから、たとえ枠状メタライ
ズ層が極めて平坦な場合であっても、ろう材が過多とな
ることはなく、したがって、枠状メタライズ層と金属蓋
体とをシーム溶接によりろう材を介して接合する際に、
ろう材がパッケージ内部に飛び散って内部の電子部品に
付着するようなことはない。
Since the thickness of the brazing material applied to the metal lid is 10 to 30 μm, even if the frame-shaped metallized layer is extremely flat, the brazing material does not become excessive. Therefore, when joining the frame-shaped metallized layer and the metal lid through a brazing material by seam welding,
The brazing material does not scatter inside the package and adhere to the internal electronic components.

【0040】その結果、内部に収容する電子部品の機能
を阻害することなく容器の気密封止を完全とし、内部に
収容する電子部品を常に正常かつ安定に作動させること
が可能な電子部品収納用パッケージを提供することがで
きる。
As a result, the hermetic sealing of the container is completed without impairing the function of the electronic components housed therein, and the electronic component housing can always operate normally and stably. Package can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電子部品収納用パッケージの実施の形
態の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an embodiment of an electronic component storage package according to the present invention.

【図2】図1に示す電子部品収納用パッケージの絶縁基
体1と金属蓋体2とのシーム溶接による接合を説明する
ための断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining joining of the insulating base 1 and the metal lid 2 of the electronic component housing package shown in FIG. 1 by seam welding.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・絶縁基体 1a・・・・搭載部 2・・・・・金属蓋体 3・・・・・電子部品 5・・・・・枠状メタライズ層 6・・・・・ろう材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating base 1a ... Mounting part 2 ... Metal cover 3 ... Electronic components 5 ... Frame-shaped metallized layer 6 ... Brazing material

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 上面に電子部品が搭載される搭載部およ
び該搭載部を取り囲むようにして被着された封止用の枠
状メタライズ層を有する絶縁基体と、下面にろう材が被
着され、前記枠状メタライズ層に前記ろう材を介してシ
ーム溶接により接合される金属蓋体とから成る電子部品
収納用パッケージであって、前記枠状メタライズ層はそ
の内周縁および外周縁から0.1mm以内の周辺領域の層
厚みがそれぞれ内周縁および外周縁に向かって薄くなる
とともに内周縁および外周縁からそれぞれ0.1mm以上
離れた領域の幅方向における凹凸の高さが5μm以下で
あり、かつ前記金属蓋体はその外形寸法が前記枠状メタ
ライズ層の外周縁より小さく、前記ろう材はその厚みが
10〜30μmであることを特徴とする電子部品収納用パッ
ケージ。
1. An insulating base having a mounting portion on which an electronic component is mounted on an upper surface, a frame-like metallization layer for sealing applied so as to surround the mounting portion, and a brazing material on a lower surface. An electronic component storage package comprising: a metal lid joined to the frame-shaped metallized layer by seam welding via the brazing material, wherein the frame-shaped metallized layer is within 0.1 mm from an inner peripheral edge and an outer peripheral edge thereof. Layer around the area
The thickness decreases toward the inner and outer edges, respectively
In addition, the height of the unevenness in the width direction of each of the regions 0.1 mm or more from the inner peripheral edge and the outer peripheral edge is 5 μm or less, and the outer dimensions of the metal lid are the frame-shaped meta.
Smaller than the outer periphery of the rise layer, the brazing material has a thickness
An electronic component storage package having a thickness of 10 to 30 μm.
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