JP3164798B2 - Electronic equipment - Google Patents

Electronic equipment

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JP3164798B2
JP3164798B2 JP08225099A JP8225099A JP3164798B2 JP 3164798 B2 JP3164798 B2 JP 3164798B2 JP 08225099 A JP08225099 A JP 08225099A JP 8225099 A JP8225099 A JP 8225099A JP 3164798 B2 JP3164798 B2 JP 3164798B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、セラミックス等の
絶縁基体と金属蓋体とから成る容器の内部に圧電振動子
や半導体素子等の電子部品を気密に収容して成る電子装
置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic device in which electronic components such as a piezoelectric vibrator and a semiconductor element are hermetically housed in a container formed of an insulating base such as ceramics and a metal cover. .

【0002】[0002]

【従来の技術】圧電振動子や半導体素子等の電子部品
は、この電子部品を収容するための容器内に気密に収容
されることによって製品としての電子装置となる。
2. Description of the Related Art Electronic components such as a piezoelectric vibrator and a semiconductor element are air-tightly accommodated in a container for accommodating the electronic components to become an electronic device as a product.

【0003】かかる電子装置において最も信頼性の高い
とされるものは、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミ
ックスから成り、上面中央部に電子部品が搭載される搭
載部を有する絶縁基体と、この絶縁基体の上面に搭載部
を取り囲むようにして取着された鉄−ニッケル合金や鉄
−ニッケル−コバルト合金から成る金属枠体と、この金
属枠体にシーム溶接により接合される鉄−ニッケル合金
や鉄−ニッケル−コバルト合金から成る金属蓋体とから
構成される容器内部に電子部品を気密に封止したタイプ
のものである。
[0003] Among the electronic devices, the most reliable one is an insulating base made of ceramics such as an aluminum oxide sintered body and having a mounting portion for mounting electronic components at the center of the upper surface. A metal frame made of an iron-nickel alloy or an iron-nickel-cobalt alloy attached to the upper surface of the base so as to surround the mounting portion; and an iron-nickel alloy or iron joined to the metal frame by seam welding. -An electronic component is hermetically sealed inside a container composed of a metal cover made of a nickel-cobalt alloy.

【0004】このタイプの電子装置は、絶縁基体の搭載
部に電子部品を搭載した後、絶縁基体に取着された金属
枠体に金属蓋体を載置して、この金属蓋体の外周縁にシ
ーム溶接機の一対のローラー電極を接触させながら転動
させるとともにこのローラー電極間に溶接のための大電
流を流し、金属枠体に金属蓋体をシーム溶接することに
よって製作される。
In an electronic device of this type, after mounting an electronic component on a mounting portion of an insulating base, a metal lid is mounted on a metal frame attached to the insulating base, and an outer peripheral edge of the metal lid is mounted. The roller is rolled while a pair of roller electrodes of a seam welding machine are brought into contact with each other, a large current for welding is passed between the roller electrodes, and a metal lid is seam-welded to a metal frame.

【0005】なお、このタイプの電子装置においては、
通常は金属枠体および金属蓋体の表面に予めニッケルめ
っき膜および金めっき膜が被着されており、シーム溶接
の熱によりこれらのニッケルめっき膜および金めっき膜
の一部を溶融させることによって金属枠体と金属蓋体と
が溶接される。
In this type of electronic device,
Normally, a nickel plating film and a gold plating film are previously applied to the surfaces of the metal frame and the metal lid, and a part of the nickel plating film and the gold plating film is melted by the heat of seam welding. The frame and the metal lid are welded.

【0006】しかしながら、このタイプの電子装置で
は、金属枠体に金属蓋体をシーム溶接する際に金属枠体
および金属蓋体に被着させたニッケルめっき膜および金
めっき膜を溶融させる必要があることから、溶接部に約
1000℃を超える高温が印加される。このような約1000℃
を超える高温が溶接部に印加されると、これが大きな熱
衝撃として絶縁基体に伝わり、その結果、この大きな熱
衝撃により絶縁基体にクラックが発生してしまいやすい
という問題点を有していた。
However, in this type of electronic device, it is necessary to melt the nickel plating film and the gold plating film adhered to the metal frame and the metal cover when the metal cover is seam-welded to the metal frame. Therefore, about
High temperatures exceeding 1000 ° C are applied. About 1000 ℃ like this
Is applied to the welded portion, a high thermal shock is transmitted to the insulating substrate as a large thermal shock. As a result, there is a problem that the large thermal shock easily causes cracks in the insulating substrate.

【0007】そこで、金属枠体と金属蓋体とをシーム溶
接する際に金属枠体と金属蓋体との間に融点が約800 ℃
以下のろう材を介在させて溶接した電子装置が提案され
ている。この電子装置によれば、シーム溶接の際に金属
枠体と金属蓋体との間に介在させた融点が約800 ℃以下
のろう材を溶融させることで金属枠体と金属蓋体とを接
合することができるので、溶接部に1000℃を超えるよう
な高温を印加する必要がない。したがって、金属枠体に
金属蓋体をシーム溶接する際に絶縁基体に大きな熱衝撃
が印加されることがなく、絶縁基体にクラックが発生す
ることを有効に防止することができる。
Therefore, when seam welding the metal frame and the metal lid, the melting point between the metal frame and the metal lid is about 800 ° C.
An electronic device welded with the following brazing material interposed has been proposed. According to this electronic device, the metal frame and the metal lid are joined by melting a brazing material having a melting point of about 800 ° C. or less interposed between the metal frame and the metal lid during seam welding. Therefore, it is not necessary to apply a high temperature exceeding 1000 ° C. to the welded portion. Therefore, a large thermal shock is not applied to the insulating base when the metal lid is seam-welded to the metal frame, and it is possible to effectively prevent the occurrence of cracks in the insulating base.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この金
属枠体と金属蓋体とを両者の間にろう材を介在させてシ
ーム溶接により接合した容器の内部に電子部品を気密に
収容したタイプの電子装置では、金属枠体と金属蓋体と
を間にろう材を介してシーム溶接する際に、シーム溶接
の熱により溶融したろう材の一部が容器内部に流れ出し
たり飛び散ったりしてしまう。このように、シーム溶接
の熱により溶融したろう材の一部が容器内部に流れ出し
たり飛び散ったりしてしまうと、金属枠体と金属蓋体と
を接合するろう材が不足してしまい、その結果、金属枠
体と金属蓋体との間に十分なろう材溜りを形成すること
ができずに金属枠体と金属蓋体との接合強度が弱いもの
となってしまう。そして、これに例えば電子部品が作動
する際に発生する熱等による応力や外部からの衝撃等に
よる応力が印加されると、そのような応力により金属蓋
体が金属枠体から剥離して容器の気密が破れてしまい、
内部に収容する電子部品を長期間にわたり正常かつ安定
に作動させることができなくなってしまうという問題点
を有していた。
However, an electronic component of a type in which electronic components are hermetically housed in a container in which the metal frame and the metal lid are joined by seam welding with a brazing material interposed therebetween. In the apparatus, when seam welding is performed between a metal frame and a metal lid via a brazing material therebetween, a part of the brazing material melted by the heat of seam welding flows out or scatters inside the container. In this way, if a part of the brazing material melted by the heat of seam welding flows out or scatters inside the container, the brazing material joining the metal frame and the metal lid becomes insufficient, and as a result, In addition, a sufficient brazing material pool cannot be formed between the metal frame and the metal lid, and the bonding strength between the metal frame and the metal lid becomes weak. When a stress due to heat or the like generated when the electronic component operates or a stress due to an external impact is applied thereto, the metal lid is peeled off from the metal frame by such stress, and the container is closed. The airtightness has been broken,
There has been a problem that the electronic components housed therein cannot be operated normally and stably for a long period of time.

【0009】本発明は、かかる問題点に鑑み案出された
ものであり、その目的は、金属蓋体の接合部に十分なろ
う材溜りを形成することにより金属蓋体を強固に接合す
ることができ、それにより内部に収容する電子部品を長
期間にわたり正常かつ安定に作動させることが可能な電
子装置を提供することにある。
The present invention has been devised in view of the above problems, and an object of the present invention is to form a sufficient brazing material reservoir at a joint portion of a metal lid and to firmly join the metal lid. Accordingly, it is an object of the present invention to provide an electronic device that can normally and stably operate electronic components housed therein for a long period of time.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の電子装置は、絶
縁基体の上面に取着された金属枠体の内側に電子部品を
搭載するとともに、前記金属枠体の上面にろう材を介し
てシーム溶接により金属蓋体を接合して成る電子装置で
あって、前記シーム溶接による前記ろう材の溶融領域の
内周縁が前記金属枠体の内周縁に対し0.05mm以上離間
しており、かつ前記金属蓋体の外周部が前記溶融領域に
対応する部位において下方に屈曲してその側面と前記金
属枠体の上面との間にろう材溜りが形成されていること
を特徴とするものである。
According to an electronic device of the present invention, an electronic component is mounted inside a metal frame attached to an upper surface of an insulating base and a brazing material is interposed on the upper surface of the metal frame. An electronic device in which a metal lid is joined by seam welding, wherein an inner peripheral edge of a molten region of the brazing material by the seam welding is separated from an inner peripheral edge of the metal frame by 0.05 mm or more, and An outer peripheral portion of the metal lid body is bent downward at a portion corresponding to the melting region, and a brazing material pool is formed between a side surface thereof and an upper surface of the metal frame body.

【0011】また、本発明の電子装置は、絶縁基体の上
面に被着された枠状のメタライズ金属層の内側に電子部
品を搭載するとともに、前記メタライズ金属層の上面に
ろう材を介してシーム溶接により金属蓋体を接合して成
る電子装置であって、前記シーム溶接による前記ろう材
の溶融領域の内周縁が前記メタライズ金属層の内周縁に
対し0.05mm以上離間しており、かつ前記金属蓋体の外
周部が前記溶融領域に対応する部位において下方に屈曲
してその側面と前記メタライズ金属層の上面との間にろ
う材溜りが形成されていることを特徴とするものであ
る。
In the electronic device of the present invention, an electronic component is mounted inside a frame-shaped metallized metal layer adhered to an upper surface of an insulating base, and a seam is formed on the upper surface of the metallized metal layer via a brazing material. An electronic device comprising a metal lid joined by welding, wherein an inner peripheral edge of a fusion region of the brazing material by the seam welding is separated from an inner peripheral edge of the metallized metal layer by 0.05 mm or more, and the metal An outer peripheral portion of the lid body is bent downward at a portion corresponding to the melting region, and a brazing material pool is formed between a side surface thereof and an upper surface of the metallized metal layer.

【0012】本発明の電子装置によれば、ろう材の溶融
領域の内周縁が金属枠体やメタライズ金属層の内周縁に
対し0.05mm以上離間していることから、金属蓋体を絶
縁基体に取着された金属枠体や絶縁基体のメタライズ金
属層に間にろう材を介してシーム溶接する際にシーム溶
接の熱により溶融したろう材の一部が容器内部に流れ出
そうとしたり飛び散ろうとしても、その流れ出しや飛び
散りは金属枠体やメタライズ金属層の内周縁側の溶融し
ていないろう材によって有効に防止されるとともに、ろ
う材の溶融幅に対応する部位で金属蓋体の外周部が下方
に屈曲していることから、この下方に屈曲した金属蓋体
の外周部と金属枠体やメタライズ金属層との間のろう材
が外側に押し出されて金属蓋体の側面と金属枠体やメタ
ライズ金属層の上面との間に大きなろう材溜りを形成
し、このろう材の溜りによって金属蓋体の接合強度が強
いものとなる。
According to the electronic device of the present invention, the inner peripheral edge of the molten region of the brazing material is separated from the inner peripheral edge of the metal frame or the metallized metal layer by 0.05 mm or more. When seam welding is performed between the attached metal frame and the metallized metal layer of the insulating substrate via a brazing material, a part of the brazing material melted by the heat of the seam welding will try to flow into the container or scatter. However, the flow-out and splashing are effectively prevented by the unmelted brazing material on the inner peripheral edge side of the metal frame or the metallized metal layer, and the outer peripheral portion of the metal lid is formed at a portion corresponding to the melting width of the brazing material. Is bent downward, so that the brazing material between the outer peripheral portion of the metal lid body bent downward and the metal frame or the metallized metal layer is pushed outward, and the side surface of the metal lid body and the metal frame body are bent. Or top surface of metallized metal layer And a large pool of brazing material is formed between them, and the pooling of the brazing material increases the bonding strength of the metal lid.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】次に、本発明の電子装置を添付の
図面を基に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an electronic device according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0014】図1は、本発明の電子装置の実施の形態の
一例を示した断面図である。同図において1は絶縁基
体、2は絶縁基体1に取着された金属枠体、3は金属蓋
体、4は例えば圧電振動子や半導体素子等の電子部品で
ある。そして、金属枠体2が取着された絶縁基体1と金
属蓋体3とから成る容器の内部に電子部品4を気密に収
容することによって電子装置が構成されている。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment of an electronic device of the present invention. In the figure, 1 is an insulating base, 2 is a metal frame attached to the insulating base 1, 3 is a metal lid, and 4 is an electronic component such as a piezoelectric vibrator or a semiconductor element. The electronic device is configured by hermetically housing the electronic component 4 in a container including the insulating base 1 to which the metal frame 2 is attached and the metal lid 3.

【0015】絶縁基体1は、電子部品4を支持する支持
体として機能するものであり、酸化アルミニウム質焼結
体や窒化アルミニウム質焼結体等のセラミックスから成
り、例えばその上面中央部に電子部品4を収容するため
の凹部Aを有している。そして、凹部Aの底面は電子部
品4を搭載するための搭載部1aを形成しており、搭載
部1aに電子部品4が搭載されている。
The insulating substrate 1 functions as a support for supporting the electronic component 4 and is made of a ceramic such as an aluminum oxide sintered body or an aluminum nitride sintered body. 4 has a recess A for accommodating the same. The bottom surface of the concave portion A forms a mounting portion 1a for mounting the electronic component 4, and the electronic component 4 is mounted on the mounting portion 1a.

【0016】絶縁基体1は、例えば酸化アルミニウム質
焼結体から成る場合であれば、酸化アルミニウム・酸化
珪素・酸化マグネシウム・酸化カルシウム等の原料粉末
に適当な有機バインダ・溶剤を添加混合して泥漿状とな
すとともに、これを従来周知のドクターブレード法やカ
レンダーロール法を採用することによってセラミックグ
リーンシートとなし、しかる後、このセラミックグリー
ンシートに適当な打ち抜き加工を施すとともに複数枚積
層し、高温で焼成することによって製作される。
If the insulating substrate 1 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, an appropriate organic binder and a solvent are added to a raw material powder of aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, etc., and the mixture is mixed. The ceramic green sheet is formed by adopting a doctor blade method or a calender roll method, which is well known in the art, and thereafter, a plurality of ceramic green sheets are subjected to appropriate punching and laminated at a high temperature. It is manufactured by firing.

【0017】また、絶縁基体1には、搭載部1aの上面
から絶縁基体1の下面にかけて導出するタングステンや
モリブデン等の金属粉末メタライズから成るメタライズ
配線層5が被着形成されている。
Further, a metallized wiring layer 5 made of metal powder of metal such as tungsten or molybdenum which is led out from the upper surface of the mounting portion 1a to the lower surface of the insulating substrate 1 is formed on the insulating substrate 1.

【0018】メタライズ配線層5は、電子部品4の各電
極を外部に電気的に導出するための導電路として機能
し、その搭載部1a上面の部位には電子部品4の電極が
例えば導電性接着剤を介して電気的に接続されている。
そして、メタライズ配線層5の絶縁基体1の下面に導出
した部位は、外部電気回路基板(図示せず)の配線導体
に例えば半田を介して電気的に接続される。
The metallized wiring layer 5 functions as a conductive path for electrically leading each electrode of the electronic component 4 to the outside. It is electrically connected via the agent.
The portion of the metallized wiring layer 5 extending to the lower surface of the insulating base 1 is electrically connected to a wiring conductor of an external electric circuit board (not shown) via, for example, solder.

【0019】メタライズ配線層5は、例えばタングステ
ン粉末メタライズから成る場合であれば、タングステン
粉末に適当な有機バインダ・溶剤を添加混合して得たタ
ングステンペーストを絶縁基体1となるセラミックグリ
ーンシートに従来周知のスクリーン印刷法により所定パ
ターンに印刷塗布し、これを絶縁基体1となるセラミッ
クグリーンシートとともに焼成することによって、絶縁
基体1の搭載部1a上面から下面にかけて所定パターン
に被着導出される。
If the metallized wiring layer 5 is made of, for example, metallized tungsten powder, a tungsten paste obtained by adding and mixing an appropriate organic binder and solvent to the tungsten powder is conventionally known on a ceramic green sheet to be used as the insulating substrate 1. Is printed and applied in a predetermined pattern by the screen printing method described above, and is fired together with the ceramic green sheet to be the insulating base 1, so that the insulating base 1 is attached and derived in a predetermined pattern from the upper surface to the lower surface of the mounting portion 1a.

【0020】なお、メタライズ配線層5は、その露出す
る表面にニッケル・金等の耐食性に優れ、かつ半田との
濡れ性に優れる金属をめっき法により1〜20μmの厚み
に被着させておくと、メタライズ配線層5の酸化腐食を
有効に防止することができるとともに、メタライズ配線
層5と外部電気回路基板の配線導体との接続を強固なも
のとなすことができる。従って、メタライズ配線層5の
表面にはニッケル・金等の耐食性に優れ、かつ半田との
濡れ性に優れる金属をめっき法により1〜20μmの厚み
に被着させておくことが好ましい。
The metallized wiring layer 5 is preferably provided with a metal having excellent corrosion resistance such as nickel and gold and excellent wettability with solder to a thickness of 1 to 20 μm by plating on the exposed surface. In addition, oxidation corrosion of the metallized wiring layer 5 can be effectively prevented, and the connection between the metallized wiring layer 5 and the wiring conductor of the external electric circuit board can be made strong. Therefore, it is preferable that a metal having excellent corrosion resistance, such as nickel and gold, and having excellent wettability with solder is applied to the surface of the metallized wiring layer 5 to a thickness of 1 to 20 μm by plating.

【0021】さらに、絶縁基体1の上面外周部には、幅
が0.3 〜0.5 mm程度で、厚みが10〜50μm程度の枠状
のメタライズ金属層6が、搭載部1aを取り囲むように
して被着形成されている。このメタライズ金属層6には
金属枠体2が銀−銅ろう等のろう材7を介して取着され
ている。
Further, a frame-shaped metallized metal layer 6 having a width of about 0.3 to 0.5 mm and a thickness of about 10 to 50 μm is attached to the outer peripheral portion of the upper surface of the insulating base 1 so as to surround the mounting portion 1a. Is formed. The metal frame 2 is attached to the metallized metal layer 6 via a brazing material 7 such as silver-copper brazing.

【0022】メタライズ金属層6は、絶縁基体1に金属
枠体2を接合させるための下地金属として機能し、タン
グステンやモリブデン等の金属粉末メタライズから成
る。例えばタングステン粉末メタライズから成る場合で
あれば、タングステン粉末に適当な有機バインダ・溶剤
を添加混合して得たタングステンペーストを絶縁基体1
となるセラミックグリーンシートに従来周知のスクリー
ン印刷法を採用して予め所定厚み、所定パターンに印刷
塗布し、これを絶縁基体1となるセラミックグリーンシ
ートとともに焼成することによって、絶縁基体1の上面
に搭載部1aを取り囲むようにして枠状に被着形成され
る。
The metallized metal layer 6 functions as a base metal for joining the metal frame 2 to the insulating base 1 and is made of a metal powder such as tungsten or molybdenum. For example, in the case of a metallized tungsten powder, a tungsten paste obtained by adding and mixing an appropriate organic binder and solvent to the tungsten powder is used as the insulating substrate 1.
The ceramic green sheet to be formed is applied and printed in a predetermined thickness and a predetermined pattern in advance by using a conventionally known screen printing method, and is fired together with the ceramic green sheet to be the insulating base 1 to be mounted on the upper surface of the insulating base 1 It is formed in a frame shape so as to surround the portion 1a.

【0023】なお、メタライズ金属層6はその表面にニ
ッケル・金等の耐食性に優れ、かつろう材7との濡れ性
に優れる金属をめっき法により1〜20μmの厚みに被着
させておくと、メタライズ金属層6が酸化腐食するのを
有効に防止することができるとともに、メタライズ金属
層6へのろう材7を介した金属枠体2の取着を強固なも
のとなすことができる。従って、メタライズ金属層6の
表面には、ニッケルや金等の耐食性に優れ、かつろう材
7との濡れ性に優れる金属をめっき法により1〜20μm
の厚みに被着させておくことが好ましい。
When the metallized metal layer 6 is coated with a metal having excellent corrosion resistance, such as nickel and gold, and excellent wettability with the brazing material 7 to a thickness of 1 to 20 μm by plating, The metallized metal layer 6 can be effectively prevented from being oxidized and corroded, and the metal frame 2 can be firmly attached to the metallized metal layer 6 via the brazing material 7. Therefore, on the surface of the metallized metal layer 6, a metal having excellent corrosion resistance, such as nickel or gold, and having excellent wettability with the brazing material 7 is applied to the surface by 1 to 20 μm by plating.
It is preferable to adhere to a thickness of.

【0024】また、メタライズ金属層6に取着された金
属枠体2は、鉄−ニッケル合金や鉄−ニッケル−コバル
ト合金等の金属から形成されており、例えば幅が0.2 〜
0.5mm程度、厚みが0.2 〜0.5 mm程度である。
The metal frame 2 attached to the metallized metal layer 6 is made of a metal such as an iron-nickel alloy or an iron-nickel-cobalt alloy.
The thickness is about 0.5 mm and the thickness is about 0.2 to 0.5 mm.

【0025】金属枠体2は、絶縁基体1に金属蓋体3を
溶接するための下地金属部材として機能し、その上面に
は金属蓋体3が間にろう材8を介してシーム溶接されて
いる。
The metal frame 2 functions as a base metal member for welding the metal cover 3 to the insulating base 1. The metal cover 3 is seam-welded to the upper surface thereof with a brazing material 8 interposed therebetween. I have.

【0026】なお、金属枠体2は、その表面にニッケル
や金等の耐食性に優れ、かつろう材8との濡れ性に優れ
る金属をめっき法により1〜20μmの厚みに被着させて
おくと、金属枠体2が酸化腐食するのを有効に防止する
ことができるとともに、金属枠体2へのろう材8を介し
た金属蓋体3のシーム溶接を強固なものとなすことがで
きる。従って、金属枠体2の表面には、ニッケルや金等
の耐食性に優れ、かつろう材8との濡れ性に優れる金属
をめっき法により1〜20μmの厚みに被着させておくこ
とが好ましい。
The metal frame 2 is preferably provided with a metal having excellent corrosion resistance, such as nickel or gold, and excellent wettability with the brazing material 8 on its surface to a thickness of 1 to 20 μm by plating. In addition, the metal frame 2 can be effectively prevented from being oxidized and corroded, and the seam welding of the metal lid 3 to the metal frame 2 via the brazing material 8 can be made strong. Therefore, it is preferable to apply a metal having excellent corrosion resistance, such as nickel or gold, and excellent wettability with the brazing material 8 to a thickness of 1 to 20 μm on the surface of the metal frame 2 by plating.

【0027】また、金属枠体2にシーム溶接された金属
蓋体3は、厚みが0.1 mm程度の鉄−ニッケル合金板あ
るいは鉄−ニッケル−コバルト合金板から成り、絶縁基
体1に取着された金属枠体2に間にろう材8を介してシ
ーム溶接により接合されることにより、絶縁基体1との
間で電子部品4を気密に封止している。
The metal lid 3 seam-welded to the metal frame 2 is made of an iron-nickel alloy plate or an iron-nickel-cobalt alloy plate having a thickness of about 0.1 mm, and is attached to the insulating base 1. The electronic component 4 is hermetically sealed with the insulating base 1 by being joined to the metal frame 2 by seam welding with the brazing material 8 interposed therebetween.

【0028】なお、金属蓋体3と金属枠体2とのシーム
溶接による接合は、平板状の金属蓋体2を絶縁基体1に
取着された金属枠体2に間にろう材8を配置して載置
し、しかる後、金属蓋体3の外周縁にシーム溶接機の一
対のローラー電極Rを接触させながら転動させるととも
にこのローラー電極R間に溶接のための大電流を流し、
ローラー電極Rと金属蓋体3との接触部をジュール発熱
させ、この熱を金属蓋体3の下面に伝達させてろう材8
の一部8aを溶融させることによって行われている。
The joining of the metal cover 3 and the metal frame 2 by seam welding is performed by disposing a brazing material 8 between the flat metal cover 2 and the metal frame 2 attached to the insulating base 1. After that, a pair of roller electrodes R of the seam welding machine are rolled while being in contact with the outer peripheral edge of the metal lid 3, and a large current for welding is passed between the roller electrodes R,
The contact portion between the roller electrode R and the metal cover 3 is caused to generate Joule heat, and this heat is transmitted to the lower surface of the metal cover 3 so that the brazing material 8 is formed.
Is carried out by melting a part 8a of the metal.

【0029】また、金属蓋体3と金属枠体2との間に配
されるろう材8は、銀−銅合金や金−錫合金・鉛−錫合
金・アルミニウム−シリコン合金・銅−亜鉛合金・銀−
銅−リン合金あるいは銀−インジウム−錫合金等から成
り、金属蓋体3を金属枠体2に接合するための接合材と
して機能し、金属蓋体3の外周縁とローラー電極との接
触部に発生するジュール発熱による熱が金属蓋体3の下
面外周部に伝達されることによって、この熱に応じた溶
融領域をもってその一部8aが溶融する。
The brazing material 8 disposed between the metal lid 3 and the metal frame 2 is made of silver-copper alloy, gold-tin alloy, lead-tin alloy, aluminum-silicon alloy, copper-zinc alloy.・ Silver
It is made of a copper-phosphorus alloy or a silver-indium-tin alloy and functions as a joining material for joining the metal lid 3 to the metal frame 2, and is provided at a contact portion between the outer peripheral edge of the metal lid 3 and the roller electrode. When the heat generated by the generated Joule heat is transmitted to the outer peripheral portion of the lower surface of the metal lid 3, a part 8a of the metal lid 3 is melted with a melting region corresponding to the heat.

【0030】なお、ろう材8は、金属蓋体3と金属枠体
2との間に配置させる際に、その配置の作業性を良好と
するために、予め金属蓋体3の下面にクラッド法やめっ
き法等により厚みが10〜50μm程度に被着されている。
When the brazing material 8 is disposed between the metal lid 3 and the metal frame 2, the lower surface of the metal lid 3 is clad in advance in order to improve the workability of the arrangement. And a thickness of about 10 to 50 μm by plating or the like.

【0031】そして、本発明の電子装置においては、こ
の時の金属蓋体3の外周縁から内側へのろう材8aの溶
融領域W1の内周縁を金属枠体2の内周縁に対し0.05m
m以上離間したものとし、かつろう材8aの溶融領域W
1に対応する部位において、図1中に金属蓋体3の屈曲
部をKで示すように、金属蓋体3の外周部を下方に屈曲
させることが重要である。
In the electronic device of the present invention, the inner peripheral edge of the molten region W1 of the brazing material 8a from the outer peripheral edge of the metal cover 3 to the inner side at this time is 0.05 m from the inner peripheral edge of the metal frame 2.
m or more, and the melting region W of the brazing material 8a
It is important to bend the outer peripheral portion of the metal lid 3 downward at the portion corresponding to 1 as indicated by K at the bent portion of the metal lid 3 in FIG.

【0032】金属蓋体3の外周縁から内側へのろう材8
aの溶融領域W1の内周縁を金属枠体2の内周縁に対し
0.05mm以上離間させていることで、金属枠体2に金属
蓋体3を間にろう材8を介してシーム溶接する際に、溶
融したろう材8aの一部が絶縁基体1の凹部1a内に流
れ出ようとしたり飛び散ろうとしても、その流れ出しや
飛び散りは、溶融したろう材8aの内側にある溶融して
いないろう材8が障壁となって有効に阻止される。ま
た、この時、ろう材8aの溶融領域W1に対応する金属
蓋体3の外周部を下方に屈曲することによって、この屈
曲した金属蓋体3の外周部(屈曲部K)と金属枠体2と
の間の溶融したろう材8aが外側に押し出されて金属蓋
体3の側面と金属枠体2の上面との間に大きなろう材溜
りを形成し、これによって金属蓋体3が金属枠体2に極
めて強固に接合される。
The brazing material 8 extends from the outer peripheral edge of the metal lid 3 to the inside.
a with respect to the inner peripheral edge of the metal frame 2
When the metal cover 3 is seam-welded to the metal frame 2 via the brazing material 8 by being separated by 0.05 mm or more, a part of the molten brazing material 8a is in the concave portion 1a of the insulating base 1. Even if an attempt is made to flow out or scatter, the flow out or scatter is effectively prevented by the unmelted brazing material 8 inside the molten brazing material 8a serving as a barrier. At this time, by bending the outer peripheral portion of the metal cover 3 corresponding to the melting region W1 of the brazing material 8a downward, the outer peripheral portion (bent portion K) of the bent metal cover 3 and the metal frame 2 are bent. The molten brazing material 8a is extruded outward to form a large brazing material reservoir between the side surface of the metal lid 3 and the upper surface of the metal frame 2, whereby the metal lid 3 is 2 is very strongly bonded.

【0033】なお、ろう材8aの溶融領域W1の内周縁
を金属枠体2の内周縁に対し0.05mm以上離間したもの
とするには、金属蓋体3の外周縁にシーム溶接機のロー
ラー電極Rを接触させながら転動させるとともにこのロ
ーラー電極R間にシーム溶接のための電流を流してシー
ム溶接する際に、ローラー電極R間に流れる電流の大き
さやローラー電極Rの転動速度等をろう材8の種類や金
属蓋体3と金属枠体2との対向幅W2に応じて適当な値
に調整すればよい。また、ろう材8aの溶融領域W1に
対応する金属蓋体2の外周部を下方に屈曲させるには、
このシーム溶接の際に、金属蓋体3を屈曲し得るだけの
荷重をローラー電極Rを介して金属蓋体3の外周縁に上
方から印加しながらシーム溶接すればよい。このとき、
金属蓋体3は、ろう材8が溶融していない内側部分で
は、溶融していないろう材8により支持されて押し下げ
られないものの、溶融したろう材8aに対応する外周部
では溶融していないろう材8の厚みの分だけ押し下げら
れるので、この部分が下方に屈曲されて屈曲部Kとなる
とともに、溶融したろう材8aの一部が外側に押し出さ
れて、金属蓋体3の側面と金属枠体2の上面との間に大
きなろう材溜りが形成される。
In order to make the inner peripheral edge of the molten region W1 of the brazing material 8a away from the inner peripheral edge of the metal frame 2 by 0.05 mm or more, a roller electrode of a seam welding machine is mounted on the outer peripheral edge of the metal lid 3. When the roller is rolled while being in contact with it and a current for seam welding is passed between the roller electrodes R, the magnitude of the current flowing between the roller electrodes R and the rolling speed of the roller electrode R are controlled when seam welding is performed. It may be adjusted to an appropriate value according to the type of the material 8 and the facing width W2 between the metal lid 3 and the metal frame 2. Further, in order to bend the outer peripheral portion of the metal cover 2 corresponding to the melting region W1 of the brazing material 8a downward,
At the time of this seam welding, seam welding may be performed while applying a load sufficient to bend the metal cover 3 to the outer peripheral edge of the metal cover 3 from above via the roller electrode R. At this time,
The metal lid 3 is supported by the unmelted brazing material 8 at the inner portion where the brazing material 8 is not melted and cannot be pushed down, but is not melted at the outer peripheral portion corresponding to the molten brazing material 8a. Since this portion is pushed down by the thickness of the material 8, this portion is bent downward to form a bent portion K, and a part of the melted brazing material 8a is pushed out, and the side surface of the metal cover 3 and the metal frame A large brazing material pool is formed between the upper surface of the body 2.

【0034】なお、金属蓋体3の外周縁から内側におけ
るろう材8aの溶融領域W1の内周縁が金属枠体2の内
周縁に対し0.05mm未満に近接すると、シーム溶接時に
溶融したろう材8aの一部が絶縁基体1の凹部1a内に
露出して流れ出したり飛び散ったりして金属枠体2と金
属蓋体3とを接合するろう材が不足してしまうととも
に、溶融していないろう材8により金属蓋体3を支持す
ることができなくなるために金属蓋体3の外周部を下方
に屈曲させることができず、そのため金属枠体2と金属
蓋体3との間に十分なろう材溜りを形成することが困難
となる。したがって、ろう材8aの溶融領域W1の内周
縁は、金属枠体2の内周縁に対し0.05mm以上離間させ
ることが必要である。
When the inner peripheral edge of the molten region W1 of the brazing material 8a inside from the outer peripheral edge of the metal lid 3 is closer than 0.05 mm to the inner peripheral edge of the metal frame 2, the brazing material 8a melted during seam welding is formed. Is exposed in the concave portion 1a of the insulating base 1 and flows out or scatters, so that the brazing material for joining the metal frame 2 and the metal lid 3 becomes insufficient, and the brazing material 8 that is not melted As a result, the outer peripheral portion of the metal lid 3 cannot be bent downward because of the inability to support the metal lid 3, so that there is a sufficient brazing material pool between the metal frame 2 and the metal lid 3. Is difficult to form. Therefore, the inner peripheral edge of the molten region W1 of the brazing material 8a needs to be separated from the inner peripheral edge of the metal frame 2 by 0.05 mm or more.

【0035】かくして、本発明の電子装置によれば、金
属枠体2が取着された絶縁基体1と金属蓋体3とから成
る容器の内部に電子部品4がその正常な作動を妨げられ
ることなく気密性高く収容された電子装置が得られる。
Thus, according to the electronic device of the present invention, the normal operation of the electronic component 4 is prevented in the interior of the container including the insulating base 1 with the metal frame 2 attached thereto and the metal lid 3. Thus, an electronic device housed with high airtightness can be obtained.

【0036】なお、本発明は上述の実施の形態の一例に
限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範
囲であれば種々の変更が可能であることはいうまでもな
い。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the scope of the present invention.

【0037】例えば、上述の実施の形態の一例では、金
属蓋体3は絶縁基体1に取着された金属枠体2にシーム
溶接されていたが、金属蓋体3は必ずしも金属枠体2を
介して絶縁基体1に接合される必要はない。例えば、図
2に断面図で示すように、絶縁基体1のメタライズ金属
層6に金属枠体2を取着せずに、金属蓋体3をメタライ
ズ金属層6にろう材8を介して直接シーム溶接してもよ
い。この場合、ろう材8aの溶融領域W1の内周縁をメ
タライズ金属層6の内周縁に対し0.05mm以上離間さ
せ、かつこの溶融領域W1に対応する金属蓋体3の外周
部を下方に屈曲させて、同様に屈曲部Kとすればよい。
For example, in the above-described embodiment, the metal cover 3 is seam-welded to the metal frame 2 attached to the insulating base 1, but the metal cover 3 is not necessarily connected to the metal frame 2. It is not necessary to be joined to the insulating base 1 through the intermediary. For example, as shown in the sectional view of FIG. 2, the metal cover 3 is directly seam-welded to the metallized metal layer 6 via the brazing material 8 without attaching the metal frame 2 to the metallized metal layer 6 of the insulating base 1. May be. In this case, the inner peripheral edge of the molten region W1 of the brazing material 8a is separated from the inner peripheral edge of the metallized metal layer 6 by 0.05 mm or more, and the outer peripheral portion of the metal lid 3 corresponding to the molten region W1 is bent downward. Similarly, the bent portion K may be used.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明の電子装置によれば、ろう材の溶
融領域の内周縁が金属蓋体と金属枠体やメタライズ金属
層の内周縁に対し0.05mm以上離間していることから、
金属蓋体を絶縁基体に取着された金属枠体や絶縁基体の
メタライズ金属層に間にろう材を介してシーム溶接する
際にシーム溶接の熱により溶融したろう材の一部が容器
内部に流れ出そうとしたり飛び散ろうとしても、その流
れ出しや飛び散りは内側の溶融していないろう材によっ
て有効に阻止されるとともに、金属蓋体の外周部がろう
材の溶融領域に対応する部位において下方に屈曲してそ
の側面と金属枠体やメタライズ金属層の上面との間にろ
う材溜りが形成されており、この下方に屈曲した金属蓋
体の外周部と金属枠体やメタライズ金属層との間のろう
材が外側に押し出されて金属蓋体の側面と金属枠体やメ
タライズ金属層の上面との間に大きなろう材溜りを形成
しているため、これにより金属蓋体の金属枠体やメタラ
イズ金属層への接合強度が強いものとなり、容器の気密
封止を長期間にわたり完全として内部に収容する電子部
品を長期間にわたり正常かつ安定に作動させることがで
きる。
According to the electronic device of the present invention, since the inner peripheral edge of the molten region of the brazing material is separated from the inner peripheral edge of the metal lid and the metal frame or the metalized metal layer by 0.05 mm or more,
When the metal lid is seam-welded between the metal frame attached to the insulating base and the metallized metal layer of the insulating base via the brazing material, a part of the brazing material melted by the heat of the seam welding enters the container. Even if you try to spill or try to scatter, the spill or splatter is effectively prevented by the unmelted brazing material inside, and the outer periphery of the metal lid is lowered downward at the position corresponding to the melting region of the brazing material. A brazing material pool is formed between the side surface of the bent metal cover and the upper surface of the metal frame or the metallized metal layer. The brazing material is extruded outward to form a large brazing material pool between the side of the metal lid and the upper surface of the metal frame or metallized metal layer. Contact to metal layer It shall intensity is high, the electronic components accommodated therein as a complete hermetic sealing of the container for a long period of time can be operated normally and stably for a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電子装置の実施の形態の一例を示す断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an embodiment of an electronic device of the present invention.

【図2】本発明の電子装置の実施の形態の他の例を示す
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the embodiment of the electronic device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・絶縁基体 1a・・・・搭載部 2・・・・・金属枠体 3・・・・・金属蓋体 4・・・・・電子部品 6・・・・・メタライズ金属層 8・・・・・ろう材 W1・・・・ろう材の溶融領域 W2・・・・金属枠体の上面と金属蓋体との対向幅 W3・・・・メタライズ金属層の上面と金属蓋体との対
向幅 K・・・・・金属蓋体の屈曲部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating base 1a ... Mounting part 2 ... Metal frame 3 ... Metal cover 4 ... Electronic parts 6 ... Metallized metal layer 8... Brazing material W1... Molten region of brazing material W2... Opposing width between upper surface of metal frame and metal cover W3... Upper surface of metallized metal layer and metal cover Width of the metal lid body

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁基体の上面に取着された金属枠体の
内側に電子部品を搭載するとともに、前記金属枠体の上
面にろう材を介してシーム溶接により金属蓋体を接合し
て成る電子装置であって、前記シーム溶接による前記ろ
う材の溶融領域の内周縁が前記金属枠体の内周縁に対し
0.05mm以上離間しており、かつ前記金属蓋体の外
周部が前記溶融領域に対応する部位において下方に屈曲
してその側面と前記金属枠体の上面との間にろう材溜り
が形成されていることを特徴とする電子装置。
An electronic component is mounted inside a metal frame attached to an upper surface of an insulating base, and a metal lid is joined to the upper surface of the metal frame by seam welding via a brazing material. In the electronic device, an inner peripheral edge of the molten region of the brazing material by the seam welding is separated from the inner peripheral edge of the metal frame by at least 0.05 mm, and an outer peripheral portion of the metal lid is the molten region. A brazing material pool between the side surface thereof and the upper surface of the metal frame by bending downward at a portion corresponding to
An electronic device, wherein: is formed .
【請求項2】 絶縁基体の上面に被着された枠状のメタ
ライズ金属層の内側に電子部品を搭載するとともに、前
記メタライズ金属層の上面にろう材を介してシーム溶接
により金属蓋体を接合して成る電子装置であって、前記
シーム溶接による前記ろう材の溶融領域の内周縁が前記
メタライズ金属層の内周縁に対し0.05mm以上離間
しており、かつ前記金属蓋体の外周部が前記溶融領域に
対応する部位において下方に屈曲してその側面と前記メ
タライズ金属層の上面との間にろう材溜りが形成されて
いることを特徴とする電子装置。
2. An electronic component is mounted inside a frame-shaped metallized metal layer attached to an upper surface of an insulating base, and a metal lid is joined to the upper surface of the metalized metal layer by seam welding via a brazing material. An electronic device comprising: an inner peripheral edge of a melting region of the brazing material formed by the seam welding is separated from an inner peripheral edge of the metallized metal layer by 0.05 mm or more; and an outer peripheral portion of the metal lid is In the melting area
At the corresponding part, it is bent downward and its side
An electronic device , wherein a brazing material pool is formed between the brazed metal layer and an upper surface of the metalized metal layer .
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