JP3161805B2 - 耐電食表面処理皮膜の形成方法 - Google Patents

耐電食表面処理皮膜の形成方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばワイヤレス電話
の接点部に被覆される耐電食表面処理皮膜の形成方法
関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ワイヤレス電話は、親器に無線
接続される子器に電池が内蔵され、子器に設けた充電接
点部を充電器の端子部に接続することにより、上記電池
を充電できるようになっている。そして、従来の充電接
点部の仕様は、リン青銅又は黄銅から成る金属片(接点
部の母材)の表面に、厚み10μm程度のニッケルメッ
キを電解により被覆したものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ワイヤレス
電話の子器はその置かれる環境が様々であり、充電接点
部に汗や水が付着し易く、従来のニッケルメッキによる
接点表面処理では、早いものでは半月程度で電食による
接触不良が生じ、商品の信頼性が低下するという問題が
あった。
【0004】本発明は、上記従来の課題に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、接点部の耐電食性
を向上させて、高信頼性を確保できるようにした耐電食
表面処理皮膜の形成方法を提供とすることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、電子部品の電気接点に使用される接点部
に、無電解ニッケルを主成分とする下地層と、この下地
層上にパラジウム−ニッケル合金を主成分とする表面層
とを形成するにあたって、リン青銅又は黄銅からなる母
材にパラジウム又はニッケルのストライクメッキを行う
と共に、無電解ニッケルメッキ膜とパラジウム−ニッケ
ル合金メッキ膜とを順次形成するものである。
【0006】
【作用】本発明によれば、接点部の表面に、耐電食性に
優れた無電解ニッケル及びパラジウム−ニッケル合金を
積層するようにしたので、従来の電解によるニッケルメ
ッキと比較して、接点部の耐電食性が大幅に向上し、電
食による接触不良を極力防止できる。また、最初に母材
にパラジウム(又はニッケル)のストライクメッキを行
うことによって、形状の複雑な製品であっても、母材表
面に一応均一にパラジウム(又はニッケル)を電析させ
ることができ、母材の均一な表面上に無電解ニッケルメ
ッキとパラジウム−ニッケル合金メッキとを順次施すこ
とによって、接点部の形状が複雑な場合であっても、無
電解ニッケルメッキ及びパラジウム−ニッケル合金の表
面をそれぞれ均一にできるものであり、特にクラックや
ピンホール等の発生を防止できる効果、均一析出性が良
好となる効果、めっき速度を速くできる効果等が得られ
るようになり、耐食、耐磨耗、並びに表面硬化を必要と
する電気接点の形成に際してきわめて有効となる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。本実施例では耐電食表面処理皮膜を施した接点部
としてワイヤレス電話の充電接点部を例示する。図1に
おいて、ワイヤレス電話1は、電話回線に接続される親
器2と、親器2と無線により接続される子器3と、子器
3に内蔵される電池(図示せず)に充電を行う充電器
(図示せず)を備えた置台4とで構成されている。この
置台4の底部には一対の端子部6が設けられており、一
方、子器3には、置台4内に子器3が収納された状態
で、上記端子部6に接触する充電接点部(図示せず)が
設けられている。この充電接点部は、リン青銅又は黄銅
を母材とし、この母材上に無電解ニッケル層(下地層)
とパラジウム−ニッケル(Pd−Ni)合金層(表面
層)とがこの順序で形成されている。かかる無電解ニッ
ケル及びパラジウム−ニッケル合金は、従来の電解によ
るニッケルメッキと比較して、夫々耐電食性に優れてい
る。そして、各層の厚みは、無電解ニッケルが例えば2
μm、パラジウム−ニッケル合金が例えば1μm〜5μ
mに設定されており、このように層の厚みを薄くするこ
とにより、クラックやピンホール等の発生防止を図るこ
とができる。なお、パラジウム−ニッケル合金中のパラ
ジウム比率は例えば50%以上であるのが好ましい。
【0008】また、無電解ニッケルとパラジウム−ニッ
ケル合金の被覆方法として、リン青銅(母材)の電解脱
色工程の後で、パラジウム(又はニッケル)のストライ
クを行い、上記リン青銅の表面に厚み10μmの無電解
ニッケルメッキ(例えば奥野製薬製「トップニコロ
ン」)と、厚み4μmのパラジウム−ニッケル合金メッ
キ(例えば日本高純度化学社製「パラブライト」)とを
順次形成する方法が考えられる。
【0009】そして、上記無電解ニッケル層とパラジウ
ム−ニッケル合金層とを形成してなる充電接点部のテス
トピース5を作製し、このテストピース5を図2に示す
バッテリBと抵抗Rに直列接続して、人工汗(JIS規
格による)に浸漬してその耐電食性を調べて見たとこ
ろ、従来の数十倍(例えば60カ月)の耐電食効果が得
られることが判明した。
【0010】本発明の耐電食表面処理皮膜は、上記ワイ
ヤレス電話の充電接点部の表面処理に利用されるだけで
なく、他の電子部品の電気接点に使用する様々な接点部
に広く利用され得る。
【0011】
【発明の効果】本発明は上述のように、電子部品の電気
接点に使用される接点部に、無電解ニッケルを主成分と
する下地層と、この下地層上にパラジウム−ニッケル合
金を主成分とする表面層とを形成するにあたって、リン
青銅又は黄銅からなる母材にパラジウム又はニッケルの
ストライクメッキを行うと共に、無電解ニッケルメッキ
膜とパラジウム−ニッケル合金メッキ膜とを順次形成す
ることを特徴とする。例えば、母材の電解脱色工程後
に、パラジウム(又はニッケル)のストライクメッキ
(例えば、正規の電流密度の約1.5倍程度の電流密度
で短時間メッキ)を行うことによって、形状の複雑な製
品であっても、母材表面に一応均一にパラジウム(又は
ニッケル)を電析させることができ、母材の均一な表面
上に無電解ニッケルメッキとパラジウム−ニッケル合金
メッキとを順次施すことによって、無電解ニッケルメッ
キ及びパラジウム−ニッケル合金の表面をそれぞれ均一
にできるものであり、特にクラックやピンホール等の発
生を防止できる効果、均一析出性が良好となる効果、め
っき速度を速くできる効果等が得られるようになり、耐
食、耐磨耗、並びに表面硬化を必要とする電気接点の形
成に際してきわめて有効となる。この結果、本発明の方
法で形成される接点部の耐電食性が大幅に向上し、接触
不良を長期間に亘って防止できる結果、高い信頼性を得
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に用いられるワイヤレス電話
の外観斜視図である。
【図2】同上の接点部の耐電食実験を示す回路図であ
る。
【符号の説明】
1 ワイヤレス電話 2 親器 3 子器 4 置台 6 端子部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 18/00 - 18/54 C23C 28/02 C25D 5/34 H01H 1/04 H01R 13/03

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子部品の電気接点に使用される接点部
    に、無電解ニッケルを主成分とする下地層と、この下地
    層上にパラジウム−ニッケル合金を主成分とする表面層
    とを形成するにあたって、リン青銅又は黄銅からなる母
    材にパラジウム又はニッケルのストライクメッキを行う
    と共に、無電解ニッケルメッキ膜とパラジウム−ニッケ
    ル合金メッキ膜とを順次形成してなることを特徴とする
    耐電食表面処理皮膜の形成方法。
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