JP3160289B2 - 走査装置 - Google Patents
走査装置Info
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- JP3160289B2 JP3160289B2 JP51249790A JP51249790A JP3160289B2 JP 3160289 B2 JP3160289 B2 JP 3160289B2 JP 51249790 A JP51249790 A JP 51249790A JP 51249790 A JP51249790 A JP 51249790A JP 3160289 B2 JP3160289 B2 JP 3160289B2
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- channel waveguide
- scanning device
- waveguide
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/295—Analog deflection from or in an optical waveguide structure]
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本出願は走査装置に関し、且つ特に固体導波管に関す
る。
る。
変調された光ビームが受取媒体を横切って走査される
種々の印刷系が知られている。ポリゴン走査装置又はガ
ルバノメータのような機械的偏向装置を光ビームを受取
媒体上へ向けるために使用することができる。これらの
装置は多くの応用で概ね満足できるが、装置の動作速度
を増すこと及びより大きなピクセス密度を達成すること
の要求が当業界にある。これらの要求に応じて、固体偏
向装置が開発されている。そのような装置は記録媒体を
露出するために発光ダイオードを用いる装置と、光の通
路を制御するために複数個の個々にアドレス可能な電極
を有する電気光学式素子を用いる装置とを含む。
種々の印刷系が知られている。ポリゴン走査装置又はガ
ルバノメータのような機械的偏向装置を光ビームを受取
媒体上へ向けるために使用することができる。これらの
装置は多くの応用で概ね満足できるが、装置の動作速度
を増すこと及びより大きなピクセス密度を達成すること
の要求が当業界にある。これらの要求に応じて、固体偏
向装置が開発されている。そのような装置は記録媒体を
露出するために発光ダイオードを用いる装置と、光の通
路を制御するために複数個の個々にアドレス可能な電極
を有する電気光学式素子を用いる装置とを含む。
スプラグーへの特許、米国特許第4,389,659号に、電
気光学式素子からなる多ゲート光弁と、電気光学式素子
へ結合された複数個の別々にアドレス可能な電極とを含
む走査プリンタが示されている。シート状の平行ビーム
が電気光学式素子を通して伝達され、情報信号が受取媒
体へ伝達される光を制御するように電極へ選択的に適用
される。このプリンタでの問題は、光源の出力パワーが
像の行を画成するために必要とされる多くの画素の間に
有効に分割されることである。もしデータ標本が短い寿
命をもつならば、受取媒体を充分に露出するために1つ
又はそれ以上の画素位置で利用し得るエネルギが不十分
であることがある。このため、記録媒体を露出するため
に充分な時間の間像の各行のデータ標本を電極上に維持
するために複雑な回路構成が必要である。
気光学式素子からなる多ゲート光弁と、電気光学式素子
へ結合された複数個の別々にアドレス可能な電極とを含
む走査プリンタが示されている。シート状の平行ビーム
が電気光学式素子を通して伝達され、情報信号が受取媒
体へ伝達される光を制御するように電極へ選択的に適用
される。このプリンタでの問題は、光源の出力パワーが
像の行を画成するために必要とされる多くの画素の間に
有効に分割されることである。もしデータ標本が短い寿
命をもつならば、受取媒体を充分に露出するために1つ
又はそれ以上の画素位置で利用し得るエネルギが不十分
であることがある。このため、記録媒体を露出するため
に充分な時間の間像の各行のデータ標本を電極上に維持
するために複雑な回路構成が必要である。
スナガワほかへの特許、米国特許第4,758,062号は基
体上に形成された導波管層及び隣接層を含む走査装置を
開示している。隣接層は通常は導波管層の屈折率より小
さい屈折率を示す。導波管層及び/又は隣接層は屈折率
がエネルギの適用によって変化する材料で作られる。一
連の誘電体の格子と一列の電極とが隣接層上に配置され
る。駆動回路は特別の領域で導波管材料の屈折率を変化
するように電極を選択的に付勢し且つそれによりビーム
を走査装置から誘電体の格子を通して放射するようにな
っている。この特許に示された走査装置での問題は導波
管層が走査装置の全幅にわたって延在し、従ってレンズ
が入力ビームを電極の列に沿って向けるように導波管中
に形成されねばならないことである。レンズは装置の複
雑化を増し、導波管中でビームの方向を制御することに
完全に満足を与えない。
体上に形成された導波管層及び隣接層を含む走査装置を
開示している。隣接層は通常は導波管層の屈折率より小
さい屈折率を示す。導波管層及び/又は隣接層は屈折率
がエネルギの適用によって変化する材料で作られる。一
連の誘電体の格子と一列の電極とが隣接層上に配置され
る。駆動回路は特別の領域で導波管材料の屈折率を変化
するように電極を選択的に付勢し且つそれによりビーム
を走査装置から誘電体の格子を通して放射するようにな
っている。この特許に示された走査装置での問題は導波
管層が走査装置の全幅にわたって延在し、従ってレンズ
が入力ビームを電極の列に沿って向けるように導波管中
に形成されねばならないことである。レンズは装置の複
雑化を増し、導波管中でビームの方向を制御することに
完全に満足を与えない。
上で検討した従来技術での問題を克服すること及び改
善された性能を有する固体走査装置を提供することは本
発明の目的である。
善された性能を有する固体走査装置を提供することは本
発明の目的である。
本発明の1つの観点によれば、光学材料で作られた基
体と、基体上に形成された薄膜光学チャネル導波管と、
導波管に隣接して形成され、第1の方向へ延在し且つ互
いに概ね平行にある複数個の電極と、導波管の厚さにわ
たる導波管の屈折率に局部的変化を電気光学的に誘起す
るように電極上の電圧を調整するための手段と、コヒー
レントな光ビームを第1の方向に対して横断方向の第2
の方向で導波管中に結合し、前記ビームが第2の方向へ
伝搬し且つ屈折率変化に遭遇するときに導波管の下の基
体中へ放射される手段と、導波管からのビームを結合す
るための手段とを備えた走査装置が提供される。
体と、基体上に形成された薄膜光学チャネル導波管と、
導波管に隣接して形成され、第1の方向へ延在し且つ互
いに概ね平行にある複数個の電極と、導波管の厚さにわ
たる導波管の屈折率に局部的変化を電気光学的に誘起す
るように電極上の電圧を調整するための手段と、コヒー
レントな光ビームを第1の方向に対して横断方向の第2
の方向で導波管中に結合し、前記ビームが第2の方向へ
伝搬し且つ屈折率変化に遭遇するときに導波管の下の基
体中へ放射される手段と、導波管からのビームを結合す
るための手段とを備えた走査装置が提供される。
本発明の1つの実施例では、走査装置は導電性基体を
含む電気光学式導波管を含み、導電性基体がその頂部表
面上に製作された薄膜光学チャネル導波管を有する。1
つの直線配列の薄い金属電極がチャネル導波管の一方の
側に沿って基体上に形成され、第2の配列の薄い金属電
極が導波管の対向側に沿って形成される。電極は同等に
離間され且つ互いに平行である。一方の側に沿った電極
のそれぞれは他方の電極と無関係に電圧を受けるように
なっている。レーザービームが電極に対して垂直な方向
へ伝搬するように導波管中へ結合される。
含む電気光学式導波管を含み、導電性基体がその頂部表
面上に製作された薄膜光学チャネル導波管を有する。1
つの直線配列の薄い金属電極がチャネル導波管の一方の
側に沿って基体上に形成され、第2の配列の薄い金属電
極が導波管の対向側に沿って形成される。電極は同等に
離間され且つ互いに平行である。一方の側に沿った電極
のそれぞれは他方の電極と無関係に電圧を受けるように
なっている。レーザービームが電極に対して垂直な方向
へ伝搬するように導波管中へ結合される。
電圧が選択された電極へ印加された時、電位差が電極
とチャネル導波管を横切って配置された対向電極との間
に発生する。この電位差は導波管の平面に対して垂直に
配向されたフリンジング電界を発生し、それは導波管の
厚さにわたる導波管の屈折率に局部的変化を電気光学的
に誘起する。この屈折率の変化は入来するレーザーのモ
ードプロファイルを変化し、レーザービームは基体中へ
放射される。ビームはブラッグ整合格子によって導波管
から離れる方へ結合され、ビームは光学素子によって受
取媒体上へ作像される。
とチャネル導波管を横切って配置された対向電極との間
に発生する。この電位差は導波管の平面に対して垂直に
配向されたフリンジング電界を発生し、それは導波管の
厚さにわたる導波管の屈折率に局部的変化を電気光学的
に誘起する。この屈折率の変化は入来するレーザーのモ
ードプロファイルを変化し、レーザービームは基体中へ
放射される。ビームはブラッグ整合格子によって導波管
から離れる方へ結合され、ビームは光学素子によって受
取媒体上へ作像される。
機械的偏向系より優れた本発明の走査装置の利点は走
査装置がはるかに信頼でき且つ該系よりもコンパクトで
あることである。開示された走査装置ははるかに簡単な
マイクロエレクトリック構造を有する発行ダイオード配
列のような固定装置よりも優れた利点を有する。更に、
本発明の走査装置は、全内部反射形式の既知の導波管走
査装置に存在する不十分な光出力の問題を解決する。開
示された走査装置は入力走査装置としてのみならず出力
走査装置としても使用されることができる。
査装置がはるかに信頼でき且つ該系よりもコンパクトで
あることである。開示された走査装置ははるかに簡単な
マイクロエレクトリック構造を有する発行ダイオード配
列のような固定装置よりも優れた利点を有する。更に、
本発明の走査装置は、全内部反射形式の既知の導波管走
査装置に存在する不十分な光出力の問題を解決する。開
示された走査装置は入力走査装置としてのみならず出力
走査装置としても使用されることができる。
本発明の実施例は添付図面を参照して例として説明さ
れる。図面において、 図1は本発明の走査装置の斜視図であり、 図2は図1に示した走査装置のデフレクタの上面図で
あり、 図3は図2に示したデフレクタの前面図であり、 図4は図2に示したデフレクタの端面図であり、 図5は本発明の第2の実施例の斜視図であり、 図6は図5に示した本発明の実施例の上面図であり、 図7は図5に示した実施例の前面図であり、そして 図8は図5に示した実施例の端面図である。
れる。図面において、 図1は本発明の走査装置の斜視図であり、 図2は図1に示した走査装置のデフレクタの上面図で
あり、 図3は図2に示したデフレクタの前面図であり、 図4は図2に示したデフレクタの端面図であり、 図5は本発明の第2の実施例の斜視図であり、 図6は図5に示した本発明の実施例の上面図であり、 図7は図5に示した実施例の前面図であり、そして 図8は図5に示した実施例の端面図である。
図1を参照すると、本発明に従って構成された入力走
査装置10が示されている。走査装置10は電気光学式デフ
レクタ12と、図1に概略的に示された入力光源14と、作
像光学要素16と、例えば感光性媒体とすることができる
受取媒体18とを含む。
査装置10が示されている。走査装置10は電気光学式デフ
レクタ12と、図1に概略的に示された入力光源14と、作
像光学要素16と、例えば感光性媒体とすることができる
受取媒体18とを含む。
デフレクタ12はガラス、サファイア又は水晶のような
光学材料から作ることができる基体20を含む。薄膜光学
チャネル導波管22が基体20上にチャネル21中に形成され
る。導波管22は例えば液相又は蒸気相のエピタクシーに
よって基体上に成長された半導体の薄い膜とすることが
できる。また、導波管22はLiNbO3,BaTiO3、又は高い電
気光学係数の有機材料のような電気光学薄膜材料とする
ことができる。導波管22を作る1つの適当な方法は、19
86年12月のオプティックス・レター誌の11巻12号の「対
称的なストリップ電極を有するTi内部拡散LiNbO3を用い
た電気光学式カットオフ変調器」と題する論文に開示さ
れている。
光学材料から作ることができる基体20を含む。薄膜光学
チャネル導波管22が基体20上にチャネル21中に形成され
る。導波管22は例えば液相又は蒸気相のエピタクシーに
よって基体上に成長された半導体の薄い膜とすることが
できる。また、導波管22はLiNbO3,BaTiO3、又は高い電
気光学係数の有機材料のような電気光学薄膜材料とする
ことができる。導波管22を作る1つの適当な方法は、19
86年12月のオプティックス・レター誌の11巻12号の「対
称的なストリップ電極を有するTi内部拡散LiNbO3を用い
た電気光学式カットオフ変調器」と題する論文に開示さ
れている。
図1を参照すると、1つの直線配列23の金属電極24は
導波管22の一方の側上に形成され、第2の直線配列25の
電極24は導波管22の対向側上に形成される。図1及び図
2に示したように、電極24は互いに平行にあり且つ互い
に等しい量だけ離間している。電極24は光源14からのビ
ームの光学軸線37に対して直角に配置される。
導波管22の一方の側上に形成され、第2の直線配列25の
電極24は導波管22の対向側上に形成される。図1及び図
2に示したように、電極24は互いに平行にあり且つ互い
に等しい量だけ離間している。電極24は光源14からのビ
ームの光学軸線37に対して直角に配置される。
電極24のそれぞれはV1〜Vnで示された電圧供給部へ連
結され、且つ電極24は直線配列23の電極24と配列25の対
向電極24との間に電位差を生ずるように選択的に作動す
ることができる。電圧が電極24へ印加された時、フリン
ジング電界が図4で矢線29によって示されるように導波
管22の幅にわたって発生する。この電界は図4でtで示
した導波管22の厚さにわたって、導波管材料の屈折率に
局部化された変化を誘起する。電圧は電極24へ既知の態
様で供給することができる。例えば、マルチプレクサ
(図示せず)が電圧を連続する電極24へ順次印加するた
めに使用することができる。
結され、且つ電極24は直線配列23の電極24と配列25の対
向電極24との間に電位差を生ずるように選択的に作動す
ることができる。電圧が電極24へ印加された時、フリン
ジング電界が図4で矢線29によって示されるように導波
管22の幅にわたって発生する。この電界は図4でtで示
した導波管22の厚さにわたって、導波管材料の屈折率に
局部化された変化を誘起する。電圧は電極24へ既知の態
様で供給することができる。例えば、マルチプレクサ
(図示せず)が電圧を連続する電極24へ順次印加するた
めに使用することができる。
光源14は例えば導波管22中に結合されたレーザーとす
ることができる。本発明で使用するために好適なレーザ
ーは半導体レーザーである。単一モードの導波管22の小
さな厚さ故に、外部レーザーエネルギの導波管22中への
ダイレクト・エンド・ファイヤ結合は効率的ではない。
入力ビームの導波管22中への信頼できる結合はダイオー
ドレーザーのような光源(図示せず)を導波管上に直接
作ることによって最大限にすることができる。もし光源
が導波管上に作られないならば、より大きな効率を達成
するためにプリズム又は格子によって光源を導波管22へ
結合することが望ましい。
ることができる。本発明で使用するために好適なレーザ
ーは半導体レーザーである。単一モードの導波管22の小
さな厚さ故に、外部レーザーエネルギの導波管22中への
ダイレクト・エンド・ファイヤ結合は効率的ではない。
入力ビームの導波管22中への信頼できる結合はダイオー
ドレーザーのような光源(図示せず)を導波管上に直接
作ることによって最大限にすることができる。もし光源
が導波管上に作られないならば、より大きな効率を達成
するためにプリズム又は格子によって光源を導波管22へ
結合することが望ましい。
電極24の列から離れる方へのビーム30の結合は適当に
配向されたブラッグ整合格子26(図3及び図4)によっ
て達成することができる。光源14によって生じた光ビー
ム30はそれが電極24上の電圧によって誘起された導波管
22中の屈折率の局部的な変化に遭遇するまで光学軸線37
に沿って伝搬する。この屈折率の変化は光ビーム30のモ
ードプロファイルを変化し、ビームは基体20中に格子26
の方へ放射される。格子26中の格子線27は電極24に対し
て垂直な単一の出力ビームを生ずるように配向される。
作像光学要素16は例えば一対の凸レンズ17及び19を含む
無限焦点距離形式のものとすることができる。
配向されたブラッグ整合格子26(図3及び図4)によっ
て達成することができる。光源14によって生じた光ビー
ム30はそれが電極24上の電圧によって誘起された導波管
22中の屈折率の局部的な変化に遭遇するまで光学軸線37
に沿って伝搬する。この屈折率の変化は光ビーム30のモ
ードプロファイルを変化し、ビームは基体20中に格子26
の方へ放射される。格子26中の格子線27は電極24に対し
て垂直な単一の出力ビームを生ずるように配向される。
作像光学要素16は例えば一対の凸レンズ17及び19を含む
無限焦点距離形式のものとすることができる。
本発明の重要な特徴は走査装置10で得られることがで
きる高いピクセル密度である。走査装置10で生じるピク
セル間隔は、導波管22の材料の電気光学的強さ及び電極
より上の空気中でのブレークダウン界(≒3V/μm)を
含む多くのファクターに依存する。走査装置10での最小
のピクセル間隔Pm(μmで示す)は次のように計算され
ることができる。
きる高いピクセル密度である。走査装置10で生じるピク
セル間隔は、導波管22の材料の電気光学的強さ及び電極
より上の空気中でのブレークダウン界(≒3V/μm)を
含む多くのファクターに依存する。走査装置10での最小
のピクセル間隔Pm(μmで示す)は次のように計算され
ることができる。
Pm=2/31/2(n/k)1/2Ya 1/4(1+wg)G3/4 (1) 式中、nは導波管材料の屈折率であり、Yaは導波管厚さ
のオーダーでμmの値を有し、wgは電極間隔Gに対する
電極幅Wの比であり、Kは導波管の電気光学的強さμm/
Vである。また、ピクセル間隔は屈折率障壁を通り抜け
るエバネセント界によって決定される。
のオーダーでμmの値を有し、wgは電極間隔Gに対する
電極幅Wの比であり、Kは導波管の電気光学的強さμm/
Vである。また、ピクセル間隔は屈折率障壁を通り抜け
るエバネセント界によって決定される。
導波管22の好適な材料は電気光学的テンソル係数r15
を保有するBaTiO3であり、これはr33であるLiNbO3の係
数の27倍位大きい。BaTiO3の非常に大きい電気光学的テ
ンソル係数は潜在的にLiNbO3の33倍の強さである電気光
学的強さを導く。
を保有するBaTiO3であり、これはr33であるLiNbO3の係
数の27倍位大きい。BaTiO3の非常に大きい電気光学的テ
ンソル係数は潜在的にLiNbO3の33倍の強さである電気光
学的強さを導く。
情報を受取媒体18へ与えるための走査装置10の動作
中、光源14からの変調されたビームは軸線37に沿って導
波管22へ入る。電極24は電圧V1〜Vnによって順次作動さ
れ、導波管中の連続する場所で導波管22の屈折率に局部
的な変化を誘起し、ビームを受取媒体18上の走査線42に
沿って走査する。像を媒体18上で完成するために、受取
媒体を電極24の作動と時間的に関連して走査線42と直角
な方向へ移動するための手段(図示せず)が設けられて
る。
中、光源14からの変調されたビームは軸線37に沿って導
波管22へ入る。電極24は電圧V1〜Vnによって順次作動さ
れ、導波管中の連続する場所で導波管22の屈折率に局部
的な変化を誘起し、ビームを受取媒体18上の走査線42に
沿って走査する。像を媒体18上で完成するために、受取
媒体を電極24の作動と時間的に関連して走査線42と直角
な方向へ移動するための手段(図示せず)が設けられて
る。
上の説明では、本発明の走査装置10の動作は出力モー
ドで説明されている。走査装置10が入力モードでも動作
され得ることは明らかであろう。このため、走査表面
(図示せず)からの光ビームはデフレクタ12の導波管22
上へ向けることができ、且つ電極24は光ビームを導波管
22から軸線37に沿って偏向するように連続的に作動する
ことができた。導波管22から出る際、ビームは光検知器
(図示せず)上へ向けることができた。出力モードで動
作される走査装置10及び入力モードで動作される走査装
置10は受取媒体の照明及びそれからの光の収集の両方の
ために組合せて使用されることができたことは明らかで
あろう。
ドで説明されている。走査装置10が入力モードでも動作
され得ることは明らかであろう。このため、走査表面
(図示せず)からの光ビームはデフレクタ12の導波管22
上へ向けることができ、且つ電極24は光ビームを導波管
22から軸線37に沿って偏向するように連続的に作動する
ことができた。導波管22から出る際、ビームは光検知器
(図示せず)上へ向けることができた。出力モードで動
作される走査装置10及び入力モードで動作される走査装
置10は受取媒体の照明及びそれからの光の収集の両方の
ために組合せて使用されることができたことは明らかで
あろう。
図5〜図8に、本発明の第2の実施例が示される。図
5を参照すると、走査装置110は基体120を含むデフレク
タ112を含む。基体120はガラス、サファイア又は水晶の
ような光学材料から作ることができる。薄膜光学導波管
122が基体120上のチャネル中に形成される。導波管122
は例えば液相又は蒸気相のエピタクシーで基体120上に
成長された半導体の薄い膜であることができる。また、
導波管122はLiNbO3,BaTiO3、又は高い電気光学係数の有
機材料のような電気光学薄膜材料とすることができる。
導波管122の好適な材料は有機材料である。
5を参照すると、走査装置110は基体120を含むデフレク
タ112を含む。基体120はガラス、サファイア又は水晶の
ような光学材料から作ることができる。薄膜光学導波管
122が基体120上のチャネル中に形成される。導波管122
は例えば液相又は蒸気相のエピタクシーで基体120上に
成長された半導体の薄い膜であることができる。また、
導波管122はLiNbO3,BaTiO3、又は高い電気光学係数の有
機材料のような電気光学薄膜材料とすることができる。
導波管122の好適な材料は有機材料である。
図5及び図6を参照すると、直線配列123の金属電極1
24が導波管122の上に形成される。電極124は互いに平行
にあり且つ互いに等しい量だけ離間している。電極124
は光学軸線137に対して直角に配置される。透明な共通
の電極131(図8)が導波管122の成長に先立ってアルミ
ニウムのような材料から基体120上に形成される。電圧V
1〜Vnが連続する電極124と共通の電極131との間に印加
されて直接の電界を形成し且つ導波管122の屈折率に局
部的な変化を誘起することができる。光源114は光ビー
ム130を光学軸線137に沿って導波管122へ供給するよう
になっている。
24が導波管122の上に形成される。電極124は互いに平行
にあり且つ互いに等しい量だけ離間している。電極124
は光学軸線137に対して直角に配置される。透明な共通
の電極131(図8)が導波管122の成長に先立ってアルミ
ニウムのような材料から基体120上に形成される。電圧V
1〜Vnが連続する電極124と共通の電極131との間に印加
されて直接の電界を形成し且つ導波管122の屈折率に局
部的な変化を誘起することができる。光源114は光ビー
ム130を光学軸線137に沿って導波管122へ供給するよう
になっている。
電極124の列から離れる方への光ビーム130の結合は適
当に配向されたブラッグ整合格子126(図7)によって
達成することができる。光ビーム130はそれが電極124上
の電圧によって生じた導波管122中の屈折率に電気光学
的に誘起された局部的な変化に遭遇するまで光学軸線13
7に沿って伝搬する。屈折率の変化はビームのモードプ
ロファイルを変化し、ビームは基体120中へ格子126の方
へ放射される。格子126中の格子線127は電極124と直角
な単一の出力ビームを生じるように配向される。作像光
学要素116は走査線142を受取媒体118上に形成するため
に設けられる。
当に配向されたブラッグ整合格子126(図7)によって
達成することができる。光ビーム130はそれが電極124上
の電圧によって生じた導波管122中の屈折率に電気光学
的に誘起された局部的な変化に遭遇するまで光学軸線13
7に沿って伝搬する。屈折率の変化はビームのモードプ
ロファイルを変化し、ビームは基体120中へ格子126の方
へ放射される。格子126中の格子線127は電極124と直角
な単一の出力ビームを生じるように配向される。作像光
学要素116は走査線142を受取媒体118上に形成するため
に設けられる。
本発明はその好適な実施例と特に関連して詳細に説明
されたが、変更及び修正が本発明の精神及び範囲内で行
われ得ることは理解されよう。例えば、導波管22及び12
2は図1及び図5に示した電極の形状を用いて電気光学
的に作ることができた。そのような装置の使用中、電圧
は通常は電極24及び124上に維持され、且つ光ビームは
電極24及び124を順次放電することによって走査され
る。
されたが、変更及び修正が本発明の精神及び範囲内で行
われ得ることは理解されよう。例えば、導波管22及び12
2は図1及び図5に示した電極の形状を用いて電気光学
的に作ることができた。そのような装置の使用中、電圧
は通常は電極24及び124上に維持され、且つ光ビームは
電極24及び124を順次放電することによって走査され
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−232426(JP,A) 特開 昭54−52562(JP,A) 特開 昭62−244023(JP,A)
Claims (12)
- 【請求項1】光学材料で作られた基体(20)と、 前記基体上のチャネル(21)に形成された薄膜光学チャ
ネル導波管(22)と、 前記チャネル導波管(22)の一方の側に形成された第1
の直線配列の電極(23)及びその対向側に形成された第
2の直線配列の電極(25)であって、前記電極は第1の
方向に延びており、各配列の電極は概ね互いに平行であ
る電極(24)と、 厚さにわたる前記チャネル導波管(22)の屈折率に局部
的変化を電気光学的に誘起するため前記電極上の電圧を
調整するための手段(V1〜Vn)と、 コヒーレントな光ビームを前記第1の方向に対して横断
方向の第2の方向で前記チャネル導波管(22)に結合す
る手段であって、前記ビームが前記第2の方向へ伝搬し
且つ前記屈折率変化に遭遇するときに前記チャネル導波
管(22)の下の基体中へ放射される手段と、 前記チャネル導波管(22)からのビームを結合するため
の手段とを備えた走査装置。 - 【請求項2】光学材料で作られた基体(120)と、 前記基体上のチャネル(121)に形成された薄膜光学チ
ャネル導波管(122)と、 前記チャネル導波管(122)上に形成された直線配列(1
23)の電極(124)であって、前記電極は第1の方向に
延びており、前記配列の電極は概ね互いに平行である電
極と、 厚さにわたる前記チャネル導波管(122)の屈折率に局
部的変化を電気光学的に誘起するため前記電極上の電圧
を調整するための手段(V1〜Vn)と、 コヒーレントな光ビームを前記第1の方向に対して横断
方向の第2の方向で前記チャネル導波管(122)に結合
する手段であって、前記ビームが前記第2の方向へ伝搬
し且つ前記屈折率変化に遭遇するときに前記チャネル導
波管(122)の下の基体中へ放射される手段と、 前記チャネル導波管(122)からのビームを結合するた
めの手段とを備えた走査装置。 - 【請求項3】前記第2の方向が前記第1の方向に対して
直角である請求項1又は2に記載された装置。 - 【請求項4】前記チャネル導波管(22,122)からのビー
ムを結合する前記手段が前記基体に形成されたブラッグ
整合格子である請求項1又は2に記載された走査装置。 - 【請求項5】光学要素が前記ビームを記録媒体上への作
像するために設けられている請求項1又は2に記載され
た走査装置。 - 【請求項6】電圧を調整するための前記手段(V1〜Vn)
が、前記ビームを記録媒体を横切って移動させるように
前記電極の連続する電極上で電圧を変化させるための手
段を含む請求項1又は2に記載された走査装置。 - 【請求項7】前記チャネル導波管(22,122)がLiNbO3か
ら作られた請求項1又は2に記載された走査装置。 - 【請求項8】前記チャネル導波管(22,122)がBaTiO3か
ら作られた請求項1又は2に記載された走査装置。 - 【請求項9】前記電圧がチャネル導波管(22)の対向側
上に配置された電極を横切って印加される請求項1に記
載された走査装置。 - 【請求項10】前記電圧が前記電極(124)と、前記チ
ャネル導波管(122)の下に配置された共通の電極(13
1)との間に印加される請求項2に記載された走査装
置。 - 【請求項11】光学材料で作られた基体(20)と、 前記基体上のチャネル(21)に作られた薄膜光学チャネ
ル導波管(22)と、 前記チャネル導波管(22)の一方の側に形成された第1
の直線配列の電極(23)及びその対向側に形成された第
2の直線配列の電極(25)であって、前記電極は第1の
方向に延びており、各配列の電極は概ね互いに平行であ
る電極(24)と、 前記チャネル導波管(22)の幅にわたって屈折率に局部
的な変化を生じるように電圧(V1〜Vn)を前記電極(2
4)へ印加する手段と、 走査される物体から前記チャネル導波管(22)上へ光ビ
ームを方向付ける手段と、 前記光ビームを感光要素へ方向付けるように前記電極
(24)の連続する電極へ前記電圧(V1〜Vn)を印加する
手段とを備えた走査装置。 - 【請求項12】光学材料で作られた基体(120)と、 前記基体上のチャネル(121)に作られた薄膜光学チャ
ネル導波管(122)と、 前記チャネル導波管(122)上に形成された直線配列(1
23)の電極(124)であって、前記電極は第1の方向に
延びており、前記配列の電極は概ね互いに平行である電
極と、 前記チャネル導波管(122)の幅にわたって屈折率に局
部的な変化を生じるように電圧(V1〜Vn)を前記電極
(124)へ印加する手段と、 走査される物体から前記チャネル導波管(122)上へ光
ビームを方向付ける手段と、 前記光ビームを感光要素へ方向付けるように前記電極
(124)の連続する電極へ前記電圧(V1〜Vn)を印加す
る手段とを備えた走査装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/390,956 US4995689A (en) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | Waveguide scanner |
US390,956 | 1989-08-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04501323A JPH04501323A (ja) | 1992-03-05 |
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Family
ID=23544638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51249790A Expired - Fee Related JP3160289B2 (ja) | 1989-08-09 | 1990-08-09 | 走査装置 |
Country Status (5)
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---|---|
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EP (1) | EP0437596B1 (ja) |
JP (1) | JP3160289B2 (ja) |
DE (1) | DE69009033T2 (ja) |
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US5371817A (en) * | 1993-02-16 | 1994-12-06 | Eastman Kodak Company | Multichannel optical waveguide page scanner with individually addressable electro-optic modulators |
WO1998033093A1 (de) * | 1997-01-24 | 1998-07-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und vorrichtung zum richten eines strahls auf unterschiedliche positionen einer fläche sowie verwendung der vorrichtung |
WO2002031555A2 (en) * | 2000-10-10 | 2002-04-18 | Lightcross, Inc. | Optical attenuator |
US6792180B1 (en) | 2001-03-20 | 2004-09-14 | Kotura, Inc. | Optical component having flat top output |
US7092419B2 (en) * | 2001-09-10 | 2006-08-15 | San Jose Systems, Inc. | Wavelength agile laser |
US6567206B1 (en) | 2001-12-20 | 2003-05-20 | St. Clair Intellectual Property Consultants, Inc. | Multi-stage optical switching device |
US6885795B1 (en) | 2002-05-31 | 2005-04-26 | Kotusa, Inc. | Waveguide tap monitor |
US6947622B2 (en) * | 2002-06-27 | 2005-09-20 | Kotura, Inc. | Wafer level testing of optical components |
US7308166B1 (en) | 2002-10-08 | 2007-12-11 | Kotura, Inc. | Coupling a light sensor array with an optical component |
US7177494B1 (en) | 2005-01-14 | 2007-02-13 | St. Clair Intellectual Property Consultants, Inc. | Optical control device and method |
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---|---|---|---|---|
US3924931A (en) * | 1974-02-27 | 1975-12-09 | United Technologies Corp | Integrated optical signal processing system |
US3958862A (en) * | 1974-06-14 | 1976-05-25 | Scibor Rylski Marek Tadeusz Vi | Electro-optical modulator |
US4389659A (en) * | 1980-09-17 | 1983-06-21 | Xerox Corporation | Electro-optic line printer |
US4755036A (en) * | 1985-02-07 | 1988-07-05 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Apparatus for deflecting light beam |
DE3686079T2 (de) * | 1985-04-08 | 1993-01-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Ablese- oder aufzeichnungsgeraet unter verwendung einer lichtstrahlabtastvorrichtung. |
US4770483A (en) * | 1985-12-23 | 1988-09-13 | Battelle Memorial Institute | Electrooptic sampling apparatus for sampling electrical and optical signals |
US4801184A (en) * | 1987-06-15 | 1989-01-31 | Eastman Kodak Company | Integrated optical read/write head and apparatus incorporating same |
-
1989
- 1989-08-09 US US07/390,956 patent/US4995689A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-08-09 EP EP90913074A patent/EP0437596B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-09 JP JP51249790A patent/JP3160289B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-09 DE DE69009033T patent/DE69009033T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-09 WO PCT/US1990/004494 patent/WO1991002283A1/en active IP Right Grant
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Publication number | Publication date |
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US4995689A (en) | 1991-02-26 |
JPH04501323A (ja) | 1992-03-05 |
DE69009033T2 (de) | 1994-12-08 |
DE69009033D1 (de) | 1994-06-23 |
WO1991002283A1 (en) | 1991-02-21 |
EP0437596A1 (en) | 1991-07-24 |
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Date | Code | Title | Description |
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