JP3152230U - Exposure equipment - Google Patents
Exposure equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP3152230U JP3152230U JP2009003055U JP2009003055U JP3152230U JP 3152230 U JP3152230 U JP 3152230U JP 2009003055 U JP2009003055 U JP 2009003055U JP 2009003055 U JP2009003055 U JP 2009003055U JP 3152230 U JP3152230 U JP 3152230U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- light
- platform
- light source
- source unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【課題】熱の集中現象が起き難く、しかも設備の体積を縮小し、コストを低下させることができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、露光光源ユニット６０外部に光発出カバー７０を設置する。光発出カバー７０は、露光プラットフォーム４０移動行程に向かう部位に細長い形状の光貫通槽を設置し、さらに可動遮光板７２を設置し光貫通槽の開閉を制御し、光貫通槽が開いた状態で露光プラットフォーム４０移動行程へと照射する細長い形状の光線を生じる。露光プラットフォーム４０は予定速度で、光発出カバー７０と相対移動する方式で、細長い形状の光線の照射を受け、露光プラットフォーム４０上の被加工物は、露光リソグラフィを完成する。【選択図】図６An exposure apparatus is provided that is unlikely to cause a heat concentration phenomenon and that can reduce the volume of equipment and reduce costs. An exposure apparatus installs a light emitting cover 70 outside an exposure light source unit 60. The light emitting cover 70 is provided with an elongated light penetrating tank installed at a position toward the exposure platform 40 moving process, and a movable light shielding plate 72 is installed to control the opening and closing of the light penetrating tank. The exposure platform 40 produces an elongated light beam that illuminates the travel. The exposure platform 40 is irradiated with an elongated light beam in a manner that moves relative to the light emitting cover 70 at a predetermined speed, and the workpiece on the exposure platform 40 completes exposure lithography. [Selection] Figure 6
Description
本考案は露光装置に関し、特に熱の集中現象が起き難く、しかも設備の体積を縮小し、コストを低下させることができる露光装置に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly to an exposure apparatus that is unlikely to cause a heat concentration phenomenon and that can reduce the volume of equipment and reduce costs.
一般に、印刷回路板或いは半導体チップの露光リソグラフィ製造工程を行う時には、先ず、被加工物表面に一層のフォトレジストを塗布する。
次に、光を照射し、原版上の回路レイアウトパターンを、被加工物表面のフォトレジスト層上に投射すると、フォトレジスト層の化学性質は、光の照射により変化を生じる。
続いて、フォトレジスト剥離剤を利用し、光の照射を受けたフォトレジスト、或いは露光していないフォトレジストを、被加工物表面から除去する。
こうして、原版に対応する配線レイアウトを形成する。
In general, when performing an exposure lithography manufacturing process for a printed circuit board or a semiconductor chip, a layer of photoresist is first applied to the surface of the workpiece.
Next, when light is irradiated and the circuit layout pattern on the original is projected onto the photoresist layer on the surface of the workpiece, the chemical properties of the photoresist layer change due to the light irradiation.
Subsequently, the photoresist that has been irradiated with light or the photoresist that has not been exposed is removed from the surface of the workpiece using a photoresist stripper.
Thus, a wiring layout corresponding to the original is formed.
図１に示すように、露光リソグラフィ加工製造工程を執行する露光装置の基本構造は、主にハウジング11により露光室12を構成し、相対して露光室12を出入りする露光プラットフォーム13を設置する。
しかも、少なくとも該露光室12内部の露光プラットフォーム13に対して上方或いは下方位置に、光源ユニット14を設置する。
図２に示すように、該露光プラットフォーム13は、被加工物20と原版(図示なし)をセットする透明プラットフォームで、露光プラットフォーム13全体は、１組の線性スライドレール15により露光室12を出入りする。
該露光プラットフォーム13が、被加工物20及び原版と共に露光室12に入り定位されると、一般的には、露光室12内部に一定時間(約3〜5秒)留まり、被加工物20は光源ユニット14により露光光源を照射される。
露光が完成すると、露光プラットフォーム13により、被加工物20は送り出される。
As shown in FIG. 1, the basic structure of an exposure apparatus that executes an exposure lithography processing manufacturing process mainly includes an exposure chamber 12 constituted by a housing 11 and an exposure platform 13 that enters and exits the exposure chamber 12.
Moreover, the light source unit 14 is installed at least above or below the exposure platform 13 inside the exposure chamber 12.
As shown in FIG. 2, the exposure platform 13 is a transparent platform for setting a workpiece 20 and an original (not shown), and the entire exposure platform 13 enters and exits the exposure chamber 12 by a set of linear slide rails 15. .
When the exposure platform 13 enters the exposure chamber 12 together with the workpiece 20 and the original plate and is localized, generally, the exposure platform 13 stays in the exposure chamber 12 for a certain period of time (about 3 to 5 seconds). An exposure light source is irradiated by the unit 14.
When the exposure is completed, the workpiece 20 is sent out by the exposure platform 13.
しかし、従来の露光装置の多くは、露光プラットフォーム13が露光室12内部に停滞する方式で、露光作業を行なうため、露光プラットフォーム13全体を網羅するに足る平行光源を形成するためには、該光源ユニット14は、行列配置方式のランプ141を大量に備える必要がある。
けれども、大量のランプ141が同時に作動することによって、ハウジング11内部では深刻な熱集中現象を生じる。
そのため、別に水冷システムにより散熱する必要があり、設備コストを押し上げている。
However, in many conventional exposure apparatuses, the exposure platform 13 stagnates inside the exposure chamber 12, and the exposure work is performed. Therefore, in order to form a parallel light source sufficient to cover the entire exposure platform 13, the light source is used. The unit 14 needs to include a large number of matrix arrangement type lamps 141.
However, when a large number of lamps 141 are operated simultaneously, a serious heat concentration phenomenon occurs inside the housing 11.
Therefore, it is necessary to dissipate heat separately by a water cooling system, which increases the equipment cost.
一方、別種の従来の露光装置は、複眼レンズによりランプの光線を、必要とする平行光に修正し、面積も修正するものである。
その動作方式は、以下の通りである。
光源ランプの光線は楕円レンズを通り、１組の第一反射レンズを利用し、複眼レンズへと投射させ、これにより光線を均一化する。
さらに、１組の第二反射レンズを利用し、光線の前進方向を変化させる。
最後に、１組の凸レンズにより、光線を必要とする平行光に修正し、面積の大きさも修正する。
こうして、求められる露光光源を投射し、ランプの数量を減少させることができる。
On the other hand, another type of conventional exposure apparatus uses a compound eye lens to correct the light beam of the lamp to the required parallel light and to correct the area.
The operation method is as follows.
The light from the light source lamp passes through an elliptic lens and is projected onto a compound eye lens using a set of first reflecting lenses, thereby making the light uniform.
Further, the forward direction of the light beam is changed using a pair of second reflecting lenses.
Finally, a pair of convex lenses is used to correct the light to parallel light that requires it, and the size of the area is also corrected.
Thus, the required exposure light source can be projected and the number of lamps can be reduced.
しかし、このような設計は、露光装置全体の構造を複雑化し、しかも露光装置全体を大きくしてしまう。
特に、ワット数の大きなランプを使用しなければならないが、一般的にそのようなランプの寿命は非常に短いため、ランプの交換頻度が高くなり、必然的に生産コストをも拡大させてしまう。
本考案は、従来の露光装置の上記した欠点に鑑みてなされたものである。
However, such a design complicates the structure of the entire exposure apparatus and enlarges the entire exposure apparatus.
In particular, a lamp with a large wattage must be used. However, since the life of such a lamp is generally very short, the replacement frequency of the lamp is increased, and the production cost is inevitably increased.
The present invention has been made in view of the above-described drawbacks of conventional exposure apparatuses.
本考案が解決しようとする課題は、熱の集中現象が起き難く、しかも設備の体積を縮小し、コストを低下させることができる露光装置を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide an exposure apparatus that is unlikely to cause a heat concentration phenomenon and that can reduce the volume of equipment and reduce the cost.
上記課題を解決するため、本考案は下記の露光装置を提供する。
露光装置は、機台上に少なくとも１個の露光プラットフォームを設置し、コンベアーを設置して該少なくとも１個の露光プラットフォームを連動し、該機台の露光室を出入りさせ、
該露光室内部には、該露光プラットフォームの移動行程上方或いは下方位置に相対して露光光源ユニットを設置し、該露光光源ユニット外部には、光発出カバーを設置し、
さらに、１組の制御回路を設置し、該コンベアーと該露光光源ユニット、該光発出カバーの作動を設定し、統合し、
該光発出カバーは、該露光プラットフォーム移動行程の部位に向かい、細長い形状の光貫通槽を設置し、別に可動遮光板を設置し、該光貫通槽の開閉を制御し、
該露光光源ユニットの光源(本実施例では、ランプ)がオンになると、光線は該光発出カバーの光貫通槽を通して外へと照射され、該露光プラットフォームの移動行程に向かい照射する細長い形状の光線を生じ、さらに、該コンベアーを対応させ、該露光プラットフォームを連動し、予定速度で、該光発出カバーと相対移動する方式で、細長い形状の光線の照射を受けさせ、
こうして、該露光プラットフォーム上の被加工物に対して、露光リソグラフィを完成する。
In order to solve the above problems, the present invention provides the following exposure apparatus.
The exposure apparatus has at least one exposure platform installed on a machine base, a conveyor is installed to interlock the at least one exposure platform, and the exposure chamber of the machine base is moved in and out.
In the exposure chamber, an exposure light source unit is installed relative to the upper or lower position of the exposure platform, and a light emitting cover is installed outside the exposure light source unit.
Furthermore, a set of control circuits is installed, and the operations of the conveyor, the exposure light source unit, and the light emitting cover are set and integrated.
The light emitting cover is directed to the part of the exposure platform moving process, and an elongated light penetrating tank is installed, a separate movable light shielding plate is installed, and the opening and closing of the light penetrating tank is controlled.
When the light source (in this embodiment, the lamp) of the exposure light source unit is turned on, the light beam is irradiated outward through the light penetration tank of the light emitting cover, and is irradiated in the elongated shape toward the moving stroke of the exposure platform. In addition, the conveyor is made to correspond, the exposure platform is interlocked, and is irradiated with an elongated light beam in a manner that moves relative to the light emitting cover at a predetermined speed,
Thus, exposure lithography is completed for the workpiece on the exposure platform.
本考案は、露光効果を発生する光源に、細長い形状の光源を用いるため、而露光プラットフォーム全体を網羅する大面積の光源ではないため、露光光源ユニット60のランプの個数を大幅に減らすことができる。これにより露光装置全体の体積を縮小でき、設備コストを低下させることができる。該制御回路、露光プラットフォーム40において、細長い形状の光線照射を受ける時、再行調升露光光源ユニットの功率，露光室の熱集中現象を抑えることができる。露光装置全体連続循環輸送の方式の採用に適している。こうして、露光プラットフォームは、順番に露光室を通過し、これにより露光リソグラフィ製造工程の加工生産効率を向上させることができる。 Since the present invention uses a light source having an elongated shape as a light source that generates an exposure effect, it is not a large-area light source that covers the entire exposure platform, and thus the number of lamps of the exposure light source unit 60 can be greatly reduced. . Thereby, the volume of the entire exposure apparatus can be reduced, and the equipment cost can be reduced. When the control circuit and the exposure platform 40 are irradiated with an elongated light beam, it is possible to suppress the efficiency of the repeat adjustment exposure light source unit and the heat concentration phenomenon in the exposure chamber. It is suitable for adopting the system of continuous circulation transport of the entire exposure apparatus. In this way, the exposure platform sequentially passes through the exposure chamber, thereby improving the processing efficiency of the exposure lithography manufacturing process.
以下に図面を参照しながら本考案を実施するための最良の形態について詳細に説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
図３、４に示すように、本考案の露光装置は、機台30、少なくとも１個の露光プラットフォーム40、コンベアー50、少なくとも１個の露光光源ユニット60、少なくとも１個の光発出カバー70、制御回路80を備える。 As shown in FIGS. 3 and 4, the exposure apparatus of the present invention includes a machine base 30, at least one exposure platform 40, a conveyor 50, at least one exposure light source unit 60, at least one light emitting cover 70, and control. A circuit 80 is provided.
機台30は、ハウジング31により取り囲んで構成する露光室32を備える。
ハウジング31は、瀑光室32の外周に相対して、散熱風排出口311及び少なくとも１個の循環風取入口312を設置する。
しかも、少なくとも１個の循環風取入口312位置には、フィルター33を設置し、ほこり、異物の露光室32への進入を防止する。
少なくとも１個の露光プラットフォーム40は、被加工物及び原版を固定する透明プラットフォームである。
The machine base 30 includes an exposure chamber 32 that is surrounded by a housing 31.
The housing 31 is provided with a diffused air discharge port 311 and at least one circulating air intake port 312 relative to the outer periphery of the fluorescent chamber 32.
In addition, a filter 33 is installed at the position of at least one circulating wind inlet 312 to prevent dust and foreign matter from entering the exposure chamber 32.
At least one exposure platform 40 is a transparent platform for fixing a workpiece and an original.
コンベアー50は、少なくとも１個の露光プラットフォーム40を連動し、機台30に相対して露光室32を出入りさせる。
コンベアー50は、横方向に延伸し、機台30の露光室32内、外区域に配置する１組の線性スライドレール51を備え、これに露光プラットフォーム40を積載する。
さらに、ベルト52を設置し、ベルト52は露光プラットフォーム40と連接し、モーター53を設置し、ベルト52の運転を連動する。
こうして、線性スライドレール51の導引により、露光プラットフォーム40は連動され、機台30の露光室32に相対して出入りする。
The conveyor 50 interlocks at least one exposure platform 40 and moves the exposure chamber 32 in and out relative to the machine base 30.
The conveyor 50 includes a set of linear slide rails 51 that extend in the horizontal direction and are disposed in the exposure chamber 32 and the outer area of the machine base 30, on which the exposure platform 40 is loaded.
Further, a belt 52 is installed, the belt 52 is connected to the exposure platform 40, a motor 53 is installed, and the operation of the belt 52 is linked.
In this way, the exposure platform 40 is interlocked by the guide of the linear slide rail 51, and enters and exits the exposure chamber 32 of the machine base 30.
少なくとも１個の露光光源ユニット60は、露光室32内部の、露光プラットフォーム40の移動行程上方或いは下方位置に設置する。
図５〜８に示すように、各１組の露光光源ユニット60は、若干の光源(本実施例では、ランプ)61を備え、露光光源を生じる。
本実施例中では、露光装置全体は露光プラットフォーム40の移動行程上方と下方位置に、共に露光光源ユニット60を設置し、露光プラットフォーム40上、下両面の被加工物に対して、同時に露光リソグラフィを行なう。
At least one exposure light source unit 60 is installed in the exposure chamber 32 at a position above or below the movement stroke of the exposure platform 40.
As shown in FIGS. 5 to 8, each set of exposure light source units 60 includes a few light sources (lamps in this embodiment) 61 to generate an exposure light source.
In this embodiment, the exposure apparatus as a whole has an exposure light source unit 60 installed at both the upper and lower positions of the exposure platform 40 so that exposure lithography can be performed simultaneously on workpieces on both the upper and lower surfaces of the exposure platform 40. Do.
少なくとも１個の光発出カバー70は、少なくとも１個の露光光源ユニット60外部に設置する。
図９に示すように、光発出カバー70は露光プラットフォーム移動行程の部位に向かい、細長い形状の光貫通槽71を設置し、別に可動遮光板72を設置し、光貫通槽71の開閉を制御する。
可動遮光板72と光発出カバー70との間には、少なくとも１個のパワーシリンダー73を連接し、少なくとも１個のパワーシリンダー73により、可動遮光板72と光発出カバー70の相対移動を連動し、こうして光貫通槽71の閉鎖或いは開放を制御する。
At least one light emitting cover 70 is installed outside at least one exposure light source unit 60.
As shown in FIG. 9, the light emitting cover 70 faces the part of the exposure platform moving process, and an elongated light penetration tank 71 is installed, and a movable light shielding plate 72 is separately installed to control the opening and closing of the light penetration tank 71. .
At least one power cylinder 73 is connected between the movable light shielding plate 72 and the light emitting cover 70, and the relative movement of the movable light shielding plate 72 and the light emitting cover 70 is interlocked by at least one power cylinder 73. Thus, the closing or opening of the light penetration tank 71 is controlled.
図７に示すように、制御回路80はコンベアー50、少なくとも１個の露光光源ユニット60、及び可動遮光板72の作動を設定し、統合する。
それは、機台10上に設置するタッチスクリーン81を備え、これにより関連する動作パラメーターを設定する。
さらに、機台10において、露光プラットフォーム40の移動行程位置に相対し、少なくとも１個の感知スイッチ82を設置し、露光プラットフォーム40の相対位置を感知する。
As shown in FIG. 7, the control circuit 80 sets and integrates the operations of the conveyor 50, at least one exposure light source unit 60, and the movable light shielding plate 72.
It comprises a touch screen 81 installed on the machine base 10, thereby setting the relevant operating parameters.
Further, on the machine base 10, at least one detection switch 82 is installed in relation to the movement stroke position of the exposure platform 40 to detect the relative position of the exposure platform 40.
図１０、１１に示すように、露光光源ユニット60の各ランプ61は、光発出カバー70の光貫通槽71に沿って、直線に排列し、しかも１組の光反射鏡62を設置し、ランプ61の光線を、光発出カバー70の光貫通槽71へと投射する。
また、各ランプは、特定角度（約２°）の挟角により、光線照射方向に対して偏った方式で配置し、これにより各ランプ61の光線は完全に接続する。
各ランプ61のランプシェード611内部には、PIコーティングを施し、その反射率(図１２参照)を拡大し、及び各ランプ61の設置位置に相対し、散熱ファン63を設置し、これにより露光光源ユニット60の排熱排出効率を向上させる。
As shown in FIGS. 10 and 11, the lamps 61 of the exposure light source unit 60 are arranged in a straight line along the light penetration tank 71 of the light emitting cover 70, and a set of light reflecting mirrors 62 is installed. The 61 light beams are projected onto the light penetration tank 71 of the light emitting cover 70.
In addition, each lamp is arranged in a manner that is biased with respect to the direction of light irradiation by a specific angle (about 2 °), so that the light from each lamp 61 is completely connected.
A PI coating is applied to the inside of the lamp shade 611 of each lamp 61, the reflectance (see FIG. 12) is enlarged, and a heat dissipating fan 63 is installed opposite to the installation position of each lamp 61, thereby exposing the exposure light source. Improve exhaust heat exhaust efficiency of unit 60.
図１３に示すように、本考案の露光装置は、露光プラットフォーム40が露光室に入る前に、原版と被加工物を、露光プラットフォーム40上に固定する。
しかも、タッチスクリーン81により、露光光源60の出力、及びコンベアー50の運転速度を設定後、作動を開始する。
As shown in FIG. 13, the exposure apparatus of the present invention fixes the original and the workpiece on the exposure platform 40 before the exposure platform 40 enters the exposure chamber.
Moreover, after setting the output of the exposure light source 60 and the operation speed of the conveyor 50 by the touch screen 81, the operation is started.
露光装置の作動開始時は、先ず露光光源ユニット60のランプをオンにし、コンベアー50を起動し、露光プラットフォーム40を連動し、露光室の方向へと移動させる。
露光プラットフォーム40が露光室に入り、しかも光貫通槽71に近い予定行程に到達すると、制御回路80の感知スイッチ82を先ず起動する(図８参照)。
次に、制御回路80により、可動遮光板の動作を操作し、これにより光発出カバー70の光貫通槽71を開かせ、同時に、露光光源ユニット60の出力を調整する。
At the start of the operation of the exposure apparatus, first, the lamp of the exposure light source unit 60 is turned on, the conveyor 50 is activated, and the exposure platform 40 is interlocked and moved toward the exposure chamber.
When the exposure platform 40 enters the exposure chamber and reaches a predetermined stroke close to the light penetration tank 71, the sensing switch 82 of the control circuit 80 is first activated (see FIG. 8).
Next, the operation of the movable light shielding plate is operated by the control circuit 80, thereby opening the light penetration tank 71 of the light emitting cover 70, and simultaneously adjusting the output of the exposure light source unit 60.
この時、露光光源ユニット60の光線は、光発出カバー70の光貫通槽71を通して、外へと照射され、露光プラットフォーム40の移動行程へと照射する細長い形状の光線を形成する。
さらに、コンベアー50を対応させ、露光プラットフォーム40を予定速度で、光発出カバー70と相対移動する方式で連動し、細長い形状の光線の照射を受けさせる。
こうして、露光プラットフォーム40上の被加工物は、露光リソグラフィを完成する。
At this time, the light beam of the exposure light source unit 60 is irradiated to the outside through the light penetration tank 71 of the light emitting cover 70 to form an elongated light beam that is irradiated to the moving stroke of the exposure platform 40.
Furthermore, the conveyor 50 is made to correspond, and the exposure platform 40 is interlocked by a method of moving relative to the light emitting cover 70 at a predetermined speed so as to be irradiated with an elongated light beam.
Thus, the workpiece on the exposure platform 40 completes exposure lithography.
図１４に示すように、露光プラットフォーム40が露光リソグラフィの予定行程を完成させるまで相対移動すると、制御回路80の感知スイッチ82(図８参照)はオフとなり、制御回路80により、可動遮光板72の動作を制御し、光発出カバー70の光貫通槽を閉鎖し、同時に、露光光源ユニット60の出力を落とす。 As shown in FIG. 14, when the exposure platform 40 moves relative to the completion of a predetermined process of exposure lithography, the sensing switch 82 (see FIG. 8) of the control circuit 80 is turned off. The operation is controlled, the light penetration tank of the light emitting cover 70 is closed, and at the same time, the output of the exposure light source unit 60 is reduced.
本考案の露光装置は、露光効果を発生する光源に、細長い形状の光源を用い、露光プラットフォーム全体を網羅する大面積の光源ではないため、露光光源ユニット60のランプの個数を大幅に減らすことができ、これにより露光装置全体の体積を縮小でき、設備コストを低下させることができる。
さらに、制御回路80は、露光プラットフォーム40に細長い形状の光線照射を受ける時に、改めて露光光源ユニット60の出力を上げるため、露光室の熱集中現象を抑えることができる。
本考案の露光装置は、露光リソグラフィを行なう時、露光プラットフォームは予定の速度で、露光室に深く入って行く方向へと持続的に移動するため、露光装置全体は連続循環輸送の方式の採用に適している。
こうして、露光プラットフォームは、順番に露光室を通過し、これにより露光リソグラフィ製造工程の加工生産効率を向上させることができる。
The exposure apparatus of the present invention uses an elongated light source as a light source that generates an exposure effect and is not a large-area light source that covers the entire exposure platform, so that the number of lamps of the exposure light source unit 60 can be greatly reduced. This can reduce the volume of the entire exposure apparatus and reduce the equipment cost.
Furthermore, since the control circuit 80 increases the output of the exposure light source unit 60 again when the exposure platform 40 is irradiated with the light beam having an elongated shape, the heat concentration phenomenon in the exposure chamber can be suppressed.
In the exposure apparatus of the present invention, when performing exposure lithography, the exposure platform moves continuously in the direction of entering the exposure chamber at a predetermined speed, so the entire exposure apparatus adopts a continuous circulation transport system. Is suitable.
In this way, the exposure platform sequentially passes through the exposure chamber, thereby improving the processing efficiency of the exposure lithography manufacturing process.
上記のように、本考案は露光装置を提供するが、上記の記載は、本考案技術内容の説明に用いたのみで、本考案を限定するものではない。本考案の精神に基づく等価応用或いは部品（構造）の転換、置換、数量の増減はすべて、本考案の保護範囲に含むものとする。 As described above, the present invention provides an exposure apparatus, but the above description is only used for explaining the technical contents of the present invention, and does not limit the present invention. All equivalent applications based on the spirit of the present invention, conversion, replacement of parts (structure), and increase / decrease in quantity shall be included in the protection scope of the present invention.
本考案は実用新案の要件である新規性を備え、従来の同類製品に比べ十分な進歩を有し、実用性が高く、社会のニーズに合致しており、産業上の利用価値は非常に大きい。 The present invention has the novelty that is a requirement of the utility model, has sufficient progress compared to the conventional similar products, has high practicality, meets the needs of society, and has a very high industrial utility value .
11 ハウジング
12 露光室
13 露光プラットフォーム
14 光源ユニット
141 ランプ
15 線性スライドレール
20 被加工物
30 機台
31 ハウジング
311 散熱風排出口
312 循環風取入口
32 露光室
33 フィルター
40 露光プラットフォーム
50 コンベアー
51 線性スライドレール
52 ベルト
53 モーター
60 露光光源ユニット
61 ランプ
611 ランプシェード
62 反射レンズ
63 散熱ファン
70 光発出カバー
71 光貫通槽
72 遮光板
73 パワーシリンダー
80 制御回路
81 タッチスクリーン
82 感知スイッチ
11 Housing
12 Exposure chamber
13 Exposure platform
14 Light source unit
141 lamp
15 Linear slide rail
20 Workpiece
30 units
31 Housing
311 Discharged air outlet
312 Circulation wind inlet
32 Exposure chamber
33 Filter
40 exposure platform
50 conveyor
51 Linear slide rail
52 belt
53 Motor
60 Exposure light source unit
61 Lamp
611 lamp shade
62 Reflective lens
63 Heat dissipation fan
70 Light emitting cover
71 Light penetration tank
72 Shading plate
73 Power cylinder
80 Control circuit
81 touch screen
82 Sensing switch
Claims (6)
前記機台は、ハウジングにより取り囲んで構成する露光室を備え、
前記少なくとも１個の露光プラットフォームは、被加工物及び原版を固定する透明プラットフォームで、
前記コンベアーは、前記少なくとも１個の露光プラットフォームを連動し、前記機台の露光室を出入りさせ、
前記少なくとも１個の露光光源ユニットは、露光室内部の、前記露光プラットフォームの移動行程上方或いは下方位置に設置し、前記各１組の露光光源ユニットは、若干の光源を備え、露光光源を発し、
前記少なくとも１個の光発出カバーは、前記少なくとも１個の露光光源ユニット外部に設置し、前記露光プラットフォーム移動行程の部位に向かい、細長い形状の光貫通槽を設置し、また可動遮光板を設置し、光貫通槽の開閉を制御し、
前記制御回路は、前記コンベアー、前記少なくとも１個の露光光源ユニット、前記可動遮光板の作動を設定し、統合し、
前記露光光源ユニットがランプをオンにすると、その光は前記光発出カバーの光貫通槽を通して、外へと照射され、前記露光プラットフォームの移動行程に向かい照射する細長い形状の光線を生じ、さらに、前記コンベアーを対応させ、前記露光プラットフォームを予定速度で、前記光発出カバーと相対移動する方式で連動し、細長い形状の光線の照射を受けさせ、こうして前記露光プラットフォーム上の被加工物は露光リソグラフィを完成することを特徴とする露光装置。 The exposure apparatus includes a machine base, a conveyor, at least one exposure light source unit, at least one light emitting cover, and a control circuit.
The machine base includes an exposure chamber that is surrounded by a housing.
The at least one exposure platform is a transparent platform for fixing a workpiece and an original;
The conveyor is linked to the at least one exposure platform to enter and exit the exposure chamber of the machine base,
The at least one exposure light source unit is installed in an exposure chamber above or below the movement stroke of the exposure platform, and each set of exposure light source units includes a slight light source and emits an exposure light source,
The at least one light emitting cover is installed outside the at least one exposure light source unit, and an elongated light penetrating tank is installed toward the exposure platform moving step, and a movable light shielding plate is installed. , Control the opening and closing of the light penetration tank,
The control circuit sets and integrates the conveyor, the at least one exposure light source unit, and the movable light shielding plate,
When the exposure light source unit turns on the lamp, the light is emitted outside through the light penetrating tank of the light emitting cover to generate an elongated light beam that irradiates toward the movement stroke of the exposure platform, and Corresponding conveyor, the exposure platform is interlocked with the light emitting cover at a predetermined speed, and is irradiated with an elongated light beam, thus the workpiece on the exposure platform completes the exposure lithography An exposure apparatus characterized by:
さらに、モーターを設置し、前記ベルトの運転を連動することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 The conveyor includes a set of linear slide rails extending in a lateral direction and disposed in an exposure chamber inside and outside an exposure area of the machine base, on which the exposure platform is loaded, a belt is installed, and the conveyor is connected to the exposure platform. And
The exposure apparatus according to claim 1, further comprising a motor to interlock the operation of the belt.
さらに、前記機台において、前記露光プラットフォームの移動行程位置に相対し、少なくとも１個の感知スイッチを設置し、前記露光プラットフォームの相対位置を感知することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 The control circuit comprises a touch screen installed on the machine base, thereby setting related operating parameters,
2. The exposure apparatus according to claim 1, further comprising: at least one detection switch installed on the machine base relative to a movement stroke position of the exposure platform to detect a relative position of the exposure platform. 3. .
前記少なくとも１個の露光光源ユニットの光源は、ランプ或いはLED光源で、各ランプは、前記光発出カバーの光貫通槽に沿って、直線に排列し、しかも１組の光反射鏡を設置し、これによりランプの光線を、前記光発出カバーの光貫通槽へと投射することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 An exposure light source unit is installed at both the upper and lower positions of the exposure platform movement process,
The light source of the at least one exposure light source unit is a lamp or an LED light source, and each lamp is arranged in a straight line along the light penetrating tank of the light emitting cover, and a set of light reflecting mirrors is installed. 2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the light beam of the lamp is projected onto the light penetration tank of the light emitting cover.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009003055U JP3152230U (en) | 2009-05-12 | 2009-05-12 | Exposure equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009003055U JP3152230U (en) | 2009-05-12 | 2009-05-12 | Exposure equipment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3152230U true JP3152230U (en) | 2009-07-23 |
Family
ID=54856560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009003055U Expired - Fee Related JP3152230U (en) | 2009-05-12 | 2009-05-12 | Exposure equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3152230U (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108508710A (en) * | 2018-05-30 | 2018-09-07 | 芜湖纯元光电设备技术有限公司 | A kind of manual LED exposure device |
| CN112526826A (en) * | 2020-03-26 | 2021-03-19 | 江苏世之高智能装备有限公司 | Semi-automatic parallel light LED exposure machine |
| CN112757630A (en) * | 2019-11-05 | 2021-05-07 | 中山华煜远行电子科技有限公司 | Formula of sinking 3D printer forming system |
| CN114488712A (en) * | 2022-02-18 | 2022-05-13 | 广东科视光学技术股份有限公司 | Full-automatic high-speed exposure equipment and method for circuit board |
| CN115268235A (en) * | 2022-08-26 | 2022-11-01 | 上海图双精密装备有限公司 | Double-light-source exposure system of photoetching machine |
-
2009
- 2009-05-12 JP JP2009003055U patent/JP3152230U/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108508710A (en) * | 2018-05-30 | 2018-09-07 | 芜湖纯元光电设备技术有限公司 | A kind of manual LED exposure device |
| CN112757630A (en) * | 2019-11-05 | 2021-05-07 | 中山华煜远行电子科技有限公司 | Formula of sinking 3D printer forming system |
| CN112526826A (en) * | 2020-03-26 | 2021-03-19 | 江苏世之高智能装备有限公司 | Semi-automatic parallel light LED exposure machine |
| CN114488712A (en) * | 2022-02-18 | 2022-05-13 | 广东科视光学技术股份有限公司 | Full-automatic high-speed exposure equipment and method for circuit board |
| CN114488712B (en) * | 2022-02-18 | 2022-08-30 | 广东科视光学技术股份有限公司 | Full-automatic high-speed exposure equipment and method for circuit board |
| CN115268235A (en) * | 2022-08-26 | 2022-11-01 | 上海图双精密装备有限公司 | Double-light-source exposure system of photoetching machine |
| CN115268235B (en) * | 2022-08-26 | 2023-03-14 | 上海图双精密装备有限公司 | Double-light-source exposure system of photoetching machine |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3152230U (en) | Exposure equipment | |
| JP3153647U (en) | LED optical lens and illumination device using the optical lens | |
| TWI435186B (en) | Light exposure device for exposure device | |
| KR101217290B1 (en) | Peripheral Exposure Apparatus | |
| KR20060121988A (en) | Optical disk ultraviolet irradiating device and optical disk ultraviolet irradiating method | |
| TW201104134A (en) | Light irradiation device | |
| KR101333361B1 (en) | Light irradiation device | |
| Wu et al. | Modular design of a high-efficiency LED headlamp system based on freeform reflectors | |
| JP4694803B2 (en) | Ultraviolet light irradiation apparatus and irradiation method, substrate manufacturing apparatus and substrate manufacturing method | |
| JP5060748B2 (en) | Sealant curing apparatus and substrate manufacturing apparatus | |
| JP2013094737A (en) | Ultraviolet irradiation apparatus | |
| KR20110117444A (en) | Sealant curing apparatus | |
| TWI529494B (en) | A light irradiation device for exposure apparatus, an exposure apparatus, and an exposure method | |
| CN101876784B (en) | Exposing machine and exposing method thereof | |
| TWI408511B (en) | Exposure machine and its exposure method | |
| CN201765435U (en) | Light source deice of exposure machine | |
| CN201402366Y (en) | Exposure machine | |
| TWI421649B (en) | Exposure machine light source device and its exposure method | |
| JP3154492U (en) | Exposure equipment | |
| CN206573849U (en) | UV LED/light sources, system and parallel exposing machine | |
| KR20190102289A (en) | Exposure apparatus, substrate processing apparatus, exposure method of substrate, and substrate processing method | |
| TWI407265B (en) | Exposure machine | |
| JP2005293826A (en) | Ultraviolet irradiation device for optical disk and ultraviolet irradiation method for optical disk | |
| TW201341979A (en) | Exposure method | |
| TWI730469B (en) | Laser welding device and method for welding micro-fluidic channel device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120701 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130701 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |