JP3151564B2 - ガス供給装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は例えば半導体ウエハの熱
処理装置に用いられるガス供給装置に関する。
処理装置に用いられるガス供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造プロセスにおいて
は、ウエハ内へパーティクルの混入を防止するために、
装置、作業雰囲気、処理ガスなどの各方面においてパー
ティクルの混入防止対策を講じる必要がある。
は、ウエハ内へパーティクルの混入を防止するために、
装置、作業雰囲気、処理ガスなどの各方面においてパー
ティクルの混入防止対策を講じる必要がある。
【０００３】そのためウエハの搬送系やクリーンルーム
について改良が加えられ、またガス供給装置についても
ガス配管の材質の選択や溶接方法に対して種々の検討が
なされると共に、更にガス供給源に含まれるパーティク
ルを除去するためにガス供給路にガスフィルタを配置す
るなどの対策がとられている。ここで従来のガス供給装
置では、図５に示すように例えば両端に垂直パネル部１
ａ、１ｂを備えたコ字状の固定用の構造体１を用い、前
記垂直パネル部１ａ、１ｂに、ガス供給源側及び熱処理
装置側のガス配管に夫々接続されるガス配管接続部２
ａ、２ｂを取り付け、これらガス配管接続部２ａ、２ｂ
の間に配管機器である例えばガスフィルタＦａ、バルブ
Ｖ、マスフロコントローラＭＦＣ及びガスフィルタＦｂ
を上流側からこの順に配置して構成されており、バルブ
ＶやマスフロコントローラＭＦＣなど重量の大きい機器
を前記構造体に固定している。ただし、図５における配
管機器は便宜的に示したものであり、実際の配管機器の
種類、数には必ずしも対応していない。
について改良が加えられ、またガス供給装置についても
ガス配管の材質の選択や溶接方法に対して種々の検討が
なされると共に、更にガス供給源に含まれるパーティク
ルを除去するためにガス供給路にガスフィルタを配置す
るなどの対策がとられている。ここで従来のガス供給装
置では、図５に示すように例えば両端に垂直パネル部１
ａ、１ｂを備えたコ字状の固定用の構造体１を用い、前
記垂直パネル部１ａ、１ｂに、ガス供給源側及び熱処理
装置側のガス配管に夫々接続されるガス配管接続部２
ａ、２ｂを取り付け、これらガス配管接続部２ａ、２ｂ
の間に配管機器である例えばガスフィルタＦａ、バルブ
Ｖ、マスフロコントローラＭＦＣ及びガスフィルタＦｂ
を上流側からこの順に配置して構成されており、バルブ
ＶやマスフロコントローラＭＦＣなど重量の大きい機器
を前記構造体に固定している。ただし、図５における配
管機器は便宜的に示したものであり、実際の配管機器の
種類、数には必ずしも対応していない。
【０００４】一方ガスフィルタはガス通気路部材中に例
えばステンレス製のメッシュ体よりなるフィルタ部を内
臓した機器であり、部品の重量もそれ程大きくなく、更
に小型化される傾向にあることから例えば一端側を前記
ガス配管接続部２ａ（２ｂ）、に他端側をバルブＶやマ
スフロコントローラＭＦＣ側のガス配管に夫々着脱自在
に接続して固定されていた。
えばステンレス製のメッシュ体よりなるフィルタ部を内
臓した機器であり、部品の重量もそれ程大きくなく、更
に小型化される傾向にあることから例えば一端側を前記
ガス配管接続部２ａ（２ｂ）、に他端側をバルブＶやマ
スフロコントローラＭＦＣ側のガス配管に夫々着脱自在
に接続して固定されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところでガス供給装置
の配置されている雰囲気例えばクリーンルーム内では空
調機や排気ポンプなどの機械的振動が常時ガス供給装置
に伝幡しており、このためガス供給装置のガス配管に振
動が伝播してその振動周波数がガス配管とガスフィルタ
との固有共振周波数に一致すると大きく共鳴を起こし、
しかもガスフィルタは図５からわかるように振動の腹の
部分に位置するので大きく振動する。また最近ではシス
テムのコンパクト化の要請も一段と強く、例えばガス供
給系と熱処理装置の排気系とを一体のユニットにするな
どの構想もあり、この場合には、ガス供給装置の配管が
空間で複雑な三次元構造となるため配管の固定が困難と
なり、配管の振動が大きくなる傾向にある。このためガ
スフィルタは本来処理ガス中のパーティクルを除去する
ために設置されたものでありながら、捕捉したパーティ
クルの一部がガスフィルタの振動によって離脱し、この
結果ガスフィルタで捕捉したパーティクルがガス供給装
置内における一番のパーティクルの発生源となってい
た。
の配置されている雰囲気例えばクリーンルーム内では空
調機や排気ポンプなどの機械的振動が常時ガス供給装置
に伝幡しており、このためガス供給装置のガス配管に振
動が伝播してその振動周波数がガス配管とガスフィルタ
との固有共振周波数に一致すると大きく共鳴を起こし、
しかもガスフィルタは図５からわかるように振動の腹の
部分に位置するので大きく振動する。また最近ではシス
テムのコンパクト化の要請も一段と強く、例えばガス供
給系と熱処理装置の排気系とを一体のユニットにするな
どの構想もあり、この場合には、ガス供給装置の配管が
空間で複雑な三次元構造となるため配管の固定が困難と
なり、配管の振動が大きくなる傾向にある。このためガ
スフィルタは本来処理ガス中のパーティクルを除去する
ために設置されたものでありながら、捕捉したパーティ
クルの一部がガスフィルタの振動によって離脱し、この
結果ガスフィルタで捕捉したパーティクルがガス供給装
置内における一番のパーティクルの発生源となってい
た。
【０００６】一方半導体デバイスはサブミクロンの領域
に移りつつあるためパーティクルの許容範囲は一段と厳
しいものになっており、このような状況下にあっては、
微細なパーティクルであっても熱処理雰囲気内のウエハ
に付着し、熱拡散によりウエハ中に取り込まれることに
よってデバイスの特性に悪影響を及ぼし、歩留まりの低
下につながる問題点がある。
に移りつつあるためパーティクルの許容範囲は一段と厳
しいものになっており、このような状況下にあっては、
微細なパーティクルであっても熱処理雰囲気内のウエハ
に付着し、熱拡散によりウエハ中に取り込まれることに
よってデバイスの特性に悪影響を及ぼし、歩留まりの低
下につながる問題点がある。
【０００７】本発明はこのような事情のもとになされた
ものであり、その目的は、ガスフィルタに捕捉したパー
ティクルの再放出を防止し、パーティクルのガスフィル
タ下流側への流出阻止を図ることができるガス供給装置
を提供することにある。
ものであり、その目的は、ガスフィルタに捕捉したパー
ティクルの再放出を防止し、パーティクルのガスフィル
タ下流側への流出阻止を図ることができるガス供給装置
を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、ガス
供給路中に設けられ、筒状のガス通気路部材の中にフィ
ルタ部を配置してなるガスフィルタを含む複数の配管機
器と、これら配管機器を固定するための固定用の構造体
と、を備え、ガス供給源よりの処理ガスを配管機器を介
して処理部に供給するためのガス供給装置において、前
記固定用の構造体の一部をなし、前記ガス通気路部材が
嵌入される取付け穴を備えたパネル部と、前記ガス通気
路部材の外周面に周方向に沿って形成されたネジ部と、
このネジ部に螺合するナットと、前記ガス通気路部材の
外周面に前記取り付け穴よりも径が大きく形成された大
径部と、を備え、 前記ナットを締め付けることにより当
該ナットと大径部との間で前記パネル部を両面から挟圧
してガスフィルタをパネル部に固定することを特徴とす
る。
供給路中に設けられ、筒状のガス通気路部材の中にフィ
ルタ部を配置してなるガスフィルタを含む複数の配管機
器と、これら配管機器を固定するための固定用の構造体
と、を備え、ガス供給源よりの処理ガスを配管機器を介
して処理部に供給するためのガス供給装置において、前
記固定用の構造体の一部をなし、前記ガス通気路部材が
嵌入される取付け穴を備えたパネル部と、前記ガス通気
路部材の外周面に周方向に沿って形成されたネジ部と、
このネジ部に螺合するナットと、前記ガス通気路部材の
外周面に前記取り付け穴よりも径が大きく形成された大
径部と、を備え、 前記ナットを締め付けることにより当
該ナットと大径部との間で前記パネル部を両面から挟圧
してガスフィルタをパネル部に固定することを特徴とす
る。
【０００９】
【作用】ガス供給源からの処理ガスをガス供給路を介し
て熱処理装置に供給すると、ガス中のパーティクルがガ
スフィルタに捕捉される。このガスフィルタは例えば装
置全体を固定するための構造体に固定されているため、
機械振動が伝播してもガスフィルタは振動の節に位置し
ているので、ガスフィルタの振動が抑えられると共にガ
ス供給装置の共鳴による大きな振動も抑えられる。
て熱処理装置に供給すると、ガス中のパーティクルがガ
スフィルタに捕捉される。このガスフィルタは例えば装
置全体を固定するための構造体に固定されているため、
機械振動が伝播してもガスフィルタは振動の節に位置し
ているので、ガスフィルタの振動が抑えられると共にガ
ス供給装置の共鳴による大きな振動も抑えられる。
【００１０】従ってガスフィルタに捕捉されたパーティ
クルの離脱が抑えられ、この結果パーティクルが下流側
へ再放出することを低減でき、例えば熱処理装置内へ非
常にクリーンなガスを供給することができる。
クルの離脱が抑えられ、この結果パーティクルが下流側
へ再放出することを低減でき、例えば熱処理装置内へ非
常にクリーンなガスを供給することができる。
【００１１】
【実施例】図１は本発明の実施例に係る、例えば半導体
ウエハの熱処理装置に処理ガスを供給するためのガス供
給装置を示す図である。
ウエハの熱処理装置に処理ガスを供給するためのガス供
給装置を示す図である。
【００１２】図中１は例えばステンレス鋼よりなる板状
体の両端を折曲起立させて垂直パネル部１ａ、１ｂを形
成し、ガス供給装置本体を固定するための固定部をなす
固定用の構造体であり、垂直パネル部１ａ、１ｂには、
夫々ガス供給源１０側の例えばステンレス鋼よりなるガ
ス配管Ｇａに接続されるガス配管接続部２ａ及び熱処理
装置１００側のガス配管Ｇｂに接続されるガス配管接続
部２ｂが取り付けられている。この例では前記ガス配管
接続部２ａ、２ｂにガス供給装置のガス供給路Ｇの上流
端及び下流端が接続されており、ガス供給路Ｇの上流端
側から配管機器である例えばガスフィルタＦａ、バルブ
Ｖ、マスフロコントローラＭＦＣ及びガスフィルタＦｂ
がこの順に設けられると共に、ガス配管接続部２ａ、２
ｂ及び配管機器間にはガス配管３が介装されている。
体の両端を折曲起立させて垂直パネル部１ａ、１ｂを形
成し、ガス供給装置本体を固定するための固定部をなす
固定用の構造体であり、垂直パネル部１ａ、１ｂには、
夫々ガス供給源１０側の例えばステンレス鋼よりなるガ
ス配管Ｇａに接続されるガス配管接続部２ａ及び熱処理
装置１００側のガス配管Ｇｂに接続されるガス配管接続
部２ｂが取り付けられている。この例では前記ガス配管
接続部２ａ、２ｂにガス供給装置のガス供給路Ｇの上流
端及び下流端が接続されており、ガス供給路Ｇの上流端
側から配管機器である例えばガスフィルタＦａ、バルブ
Ｖ、マスフロコントローラＭＦＣ及びガスフィルタＦｂ
がこの順に設けられると共に、ガス配管接続部２ａ、２
ｂ及び配管機器間にはガス配管３が介装されている。
【００１３】前記構造体１の両端部付近には、夫々構造
体１の一部をなす垂直パネル部４ａ、４ｂが設けられて
おり、これら垂直パネル部４ａ、４ｂに、ガスフィルタ
Ｆａ、Ｆｂが例えばフィルタ部をなすステンレスメッシ
ュ体の内臓されている中央位置にて夫々固定されてい
る。また前記バルブＶ、マスフロコントローラＭＦＣ
は、下端が取り付け台５を介して構造体１に固定されて
いる。ただし、これらバルブＶ、マスフロコントローラ
ＭＦＣは必ずしも構造体１に固定しなくてもよい。
体１の一部をなす垂直パネル部４ａ、４ｂが設けられて
おり、これら垂直パネル部４ａ、４ｂに、ガスフィルタ
Ｆａ、Ｆｂが例えばフィルタ部をなすステンレスメッシ
ュ体の内臓されている中央位置にて夫々固定されてい
る。また前記バルブＶ、マスフロコントローラＭＦＣ
は、下端が取り付け台５を介して構造体１に固定されて
いる。ただし、これらバルブＶ、マスフロコントローラ
ＭＦＣは必ずしも構造体１に固定しなくてもよい。
【００１４】また前記ガス配管Ｇｂは、テフロンチュー
ブＴ及び例えば石英からなるインジェクタ１０１を介し
て半導体ウエハの熱処理装置１００の例えば石英からな
る反応管１０２内に導入されるように構成されている。
そしてこの反応管１０２内には、半導体ウエハを積層収
納する例えば石英からなるウエハボート１０３が搬入搬
出可能に設けられている。また反応管１０２の外周には
円筒状の加熱装置であるヒータ１０４が設けられてお
り、このヒータ１０４により反応管１０２内に所定の均
熱領域が形成され、処理ガスによって酸化、拡散、ＣＶ
Ｄなどの所定の熱処理が行われる。なお、図１における
配管機器は便宜的に示したものであり、実際の配管機器
の種類、数には必ずしも対応していない。
ブＴ及び例えば石英からなるインジェクタ１０１を介し
て半導体ウエハの熱処理装置１００の例えば石英からな
る反応管１０２内に導入されるように構成されている。
そしてこの反応管１０２内には、半導体ウエハを積層収
納する例えば石英からなるウエハボート１０３が搬入搬
出可能に設けられている。また反応管１０２の外周には
円筒状の加熱装置であるヒータ１０４が設けられてお
り、このヒータ１０４により反応管１０２内に所定の均
熱領域が形成され、処理ガスによって酸化、拡散、ＣＶ
Ｄなどの所定の熱処理が行われる。なお、図１における
配管機器は便宜的に示したものであり、実際の配管機器
の種類、数には必ずしも対応していない。
【００１５】次にガスフィルタＦＡ（ＦＢ）の構造及び
固定方法の一例について図２を参照しながら詳述する
と、図２中６はガスフィルタＦのガス流路をなす例えば
ステンレス鋼よりなる管状のガス通気路部材であり、こ
のガス通気路部材６の両端は、夫々ガス配管２に接続部
６ａ、６ｂを介して気密に着脱自在に接続され、ガス通
気路部材６内をガスが通流するように構成されている。
固定方法の一例について図２を参照しながら詳述する
と、図２中６はガスフィルタＦのガス流路をなす例えば
ステンレス鋼よりなる管状のガス通気路部材であり、こ
のガス通気路部材６の両端は、夫々ガス配管２に接続部
６ａ、６ｂを介して気密に着脱自在に接続され、ガス通
気路部材６内をガスが通流するように構成されている。
【００１６】前記ガス通気路部材６の中央部は両端部の
径に比べて大きい大径部６０を形成しており、この大径
部６０の内部にはフィルタ室６１が形成されると共に、
このフィルタ室６にはガス通気路部材６の長手方向に直
交するようにフィルタ部６２が展設されて前記ガスフィ
ルタＦが構成されている。
径に比べて大きい大径部６０を形成しており、この大径
部６０の内部にはフィルタ室６１が形成されると共に、
このフィルタ室６にはガス通気路部材６の長手方向に直
交するようにフィルタ部６２が展設されて前記ガスフィ
ルタＦが構成されている。
【００１７】前記フィルタ部６２は例えばステンレスメ
ッシュより成り、ガス通気路部材６の入り口側から入っ
てきた供給ガス中に混入しているパーティクルを捕捉し
て、クリーンなガスを出口側に流すように構成されてい
る。
ッシュより成り、ガス通気路部材６の入り口側から入っ
てきた供給ガス中に混入しているパーティクルを捕捉し
て、クリーンなガスを出口側に流すように構成されてい
る。
【００１８】また、前記ガス通気路部材６の中央部（大
径部６０）から入口側の外周面には、入口側の端部から
大径部６０の端面付近までねじ切り加工したねじ部６３
が形成されており、このねじ部６３にはナット６４が螺
合するように構成されている。
径部６０）から入口側の外周面には、入口側の端部から
大径部６０の端面付近までねじ切り加工したねじ部６３
が形成されており、このねじ部６３にはナット６４が螺
合するように構成されている。
【００１９】前記ねじ部６３が形成されたガス通気路部
材６は、例えば前記垂直パネル部４ａ（４ｂ）に形成さ
れた取付け穴６５に嵌入されており、ナット６４を締め
付けることにより垂直パネル部４ａ（４ｂ）の両面をナ
ット６４とガス通気路部材６の大径部６０の端面とによ
り挟圧して当該垂直パネル部４ａ（４ｂ）に固定されて
いる。
材６は、例えば前記垂直パネル部４ａ（４ｂ）に形成さ
れた取付け穴６５に嵌入されており、ナット６４を締め
付けることにより垂直パネル部４ａ（４ｂ）の両面をナ
ット６４とガス通気路部材６の大径部６０の端面とによ
り挟圧して当該垂直パネル部４ａ（４ｂ）に固定されて
いる。
【００２０】このようなガスフィルタＦにおいては、先
ずナット６４を外した状態でねじ部６３側のガス通気路
部材６を垂直パネル部４ａ（４ｂ）の取付け穴６５内に
挿入して上述のようにナット６４の締め付けにより垂直
パネル部４ａ（４ｂ）に固定すると共に、接続部６ａ、
６ｂによりガス通気路部材６の両端を夫々配管２に接続
する。
ずナット６４を外した状態でねじ部６３側のガス通気路
部材６を垂直パネル部４ａ（４ｂ）の取付け穴６５内に
挿入して上述のようにナット６４の締め付けにより垂直
パネル部４ａ（４ｂ）に固定すると共に、接続部６ａ、
６ｂによりガス通気路部材６の両端を夫々配管２に接続
する。
【００２１】ここで垂直パネル部４ａ（４ｂ）を例えば
ネジ止めなどの固定手段により構造体１に対して着脱自
在に設けておけば、例えば複数のガスフィルタを垂直パ
ネル部４ａ（４ｂ）と共に一度に着脱することができ
る。
ネジ止めなどの固定手段により構造体１に対して着脱自
在に設けておけば、例えば複数のガスフィルタを垂直パ
ネル部４ａ（４ｂ）と共に一度に着脱することができ
る。
【００２２】図２の例ではガスフィルタＦを大径部６０
の端部にて垂直パネル部に固定しているが、フィルタ部
６２の振動をより一層抑えるためにはフィルタ部６２の
位置している部分にて固定する方が望ましい。
の端部にて垂直パネル部に固定しているが、フィルタ部
６２の振動をより一層抑えるためにはフィルタ部６２の
位置している部分にて固定する方が望ましい。
【００２３】次に上述実施例の作用について説明する。
ガス供給源１０からガス配管Ｇａを介して送られてきた
処理ガスがガスフィルタＦａ、バルブＶ、マスフロコン
トローラＭＦＣ及びガスフィルタＦｂの順に通流し、ガ
スフィルタＦａ（Ｆｂ）内を通過するときに、処理ガス
中に含まれているパーティクルはフィルタ部６２に補足
される。こうして不用なパーティクルが除去されてクリ
ーン化された処理ガスは、ガス配管Ｇｂを介して熱処理
装置１００に送られ所定の熱処理が行われる。なおガス
配管Ｇａ、Ｇｂの途中には他のガス供給装置が介在する
場合もある。そしてガスフィルタＦａ、Ｆｂは例えば中
央部にて固定用の構造体１に直接固定されているため、
機械振動がガス供給装置に伝播しても、ガスフィルタＦ
ａ、Ｆｂの例えばパーティクルの発生源となるフィルタ
部６２あるいはその付近が振動の節となるため、フィル
タ部６２に捕捉されたパーティクルの離脱を極力抑える
ことができる。
ガス供給源１０からガス配管Ｇａを介して送られてきた
処理ガスがガスフィルタＦａ、バルブＶ、マスフロコン
トローラＭＦＣ及びガスフィルタＦｂの順に通流し、ガ
スフィルタＦａ（Ｆｂ）内を通過するときに、処理ガス
中に含まれているパーティクルはフィルタ部６２に補足
される。こうして不用なパーティクルが除去されてクリ
ーン化された処理ガスは、ガス配管Ｇｂを介して熱処理
装置１００に送られ所定の熱処理が行われる。なおガス
配管Ｇａ、Ｇｂの途中には他のガス供給装置が介在する
場合もある。そしてガスフィルタＦａ、Ｆｂは例えば中
央部にて固定用の構造体１に直接固定されているため、
機械振動がガス供給装置に伝播しても、ガスフィルタＦ
ａ、Ｆｂの例えばパーティクルの発生源となるフィルタ
部６２あるいはその付近が振動の節となるため、フィル
タ部６２に捕捉されたパーティクルの離脱を極力抑える
ことができる。
【００２４】ここで図３は本発明に係るガス供給装置を
熱処理装置に適用した一例の配管系統図であり、図４は
本発明に係るガス供給装置の一例を示す斜視図である。
熱処理装置に適用した一例の配管系統図であり、図４は
本発明に係るガス供給装置の一例を示す斜視図である。
【００２５】図３及び図４からわかるように、半導体ウ
エハの熱処理装置のガス供給装置は、実際には多数の系
統を有し、ガスフィルタＦも含めてバルブなどの多数の
配管機器が組み込まれていて、非常に複雑な三次元配管
構造となっている。なお、図３、図４は便宜的に図示し
たものであり、実際のシステムでは更に複雑に構成され
ている。
エハの熱処理装置のガス供給装置は、実際には多数の系
統を有し、ガスフィルタＦも含めてバルブなどの多数の
配管機器が組み込まれていて、非常に複雑な三次元配管
構造となっている。なお、図３、図４は便宜的に図示し
たものであり、実際のシステムでは更に複雑に構成され
ている。
【００２６】図３、図４において、ＢＶ１〜ＢＶ４はボ
ールバルブ、ＲＧ１〜ＲＧ３は減圧弁、Ｆ１〜Ｆ７はガ
スフィルタ、Ｖ１〜Ｖ６はバルブ、ＭＦＣ１〜ＭＦＣ４
はマスフローコントローラ、ＣＶ１〜ＣＶ６は逆止弁、
ＨＶ１〜ＨＶ３はハンドバルブである。
ールバルブ、ＲＧ１〜ＲＧ３は減圧弁、Ｆ１〜Ｆ７はガ
スフィルタ、Ｖ１〜Ｖ６はバルブ、ＭＦＣ１〜ＭＦＣ４
はマスフローコントローラ、ＣＶ１〜ＣＶ６は逆止弁、
ＨＶ１〜ＨＶ３はハンドバルブである。
【００２７】図５は本発明に係るガス供給装置を縦型熱
処理装置に適用した一例であり、熱処理装置本体１１と
供給装置１２から構成されている。この供給装置１２の
下部に真空排気装置１３、上部にガス供給装置１４が収
納されている。上記真空排気装置１３から発生する振動
はかなり大きいものであるが、ガス供給装置１４内に設
けられたガスフィルタは構造体に固定されているので、
上記縦型熱処理装置ではガス供給系でのパ−ティクルの
発生が少なく、処理する半導体素子の歩留まりを向上す
ることができる。
処理装置に適用した一例であり、熱処理装置本体１１と
供給装置１２から構成されている。この供給装置１２の
下部に真空排気装置１３、上部にガス供給装置１４が収
納されている。上記真空排気装置１３から発生する振動
はかなり大きいものであるが、ガス供給装置１４内に設
けられたガスフィルタは構造体に固定されているので、
上記縦型熱処理装置ではガス供給系でのパ−ティクルの
発生が少なく、処理する半導体素子の歩留まりを向上す
ることができる。
【００２８】以上において、本発明のガス供給装置は、
実施例のように固定用の構造体に取り付けられたガス配
管接続部の間に配管機器を介装する構成に限定されるも
のではない。
実施例のように固定用の構造体に取り付けられたガス配
管接続部の間に配管機器を介装する構成に限定されるも
のではない。
【００２９】またガス供給装置本体を固定するための固
定部としては、枠体や壁部などであってもよく、更にガ
スフィルタを固定するための手段としては、ネジ穴を有
する固定片がガス通気路部材に一体的に設けられた構造
のものや、外部のマグネットに吸着される永久磁石や磁
性体よりなる吸着部などにより構成してもよい。
定部としては、枠体や壁部などであってもよく、更にガ
スフィルタを固定するための手段としては、ネジ穴を有
する固定片がガス通気路部材に一体的に設けられた構造
のものや、外部のマグネットに吸着される永久磁石や磁
性体よりなる吸着部などにより構成してもよい。
【００３０】また本発明に係るガス供給装置は、熱処理
装置に限らず、エッチング装置、イオン注入装置、プラ
ズマＣＶＤ装置などに適用してもよい。
装置に限らず、エッチング装置、イオン注入装置、プラ
ズマＣＶＤ装置などに適用してもよい。
【００３１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、機械振動
がガスフィルタに伝播しても、あるいはガス配管から振
動が伝播したり、ガス供給装置に振動が加わったときに
もガスフィルタは振動の節に位置するので振動が抑えら
れ、このためフィルタ部に捕捉された処理ガス中のパー
ティクルの離脱が抑えられ、その結果パーティクルが下
流側へ再放出することを低減できる。従って例えば半導
体ウエハの熱処理装置内に非常にクリーンなガスを供給
することができ、パーティクルによる半導体ウエハへの
悪影響が低減され、歩留まりの向上を図ることができ
る。
がガスフィルタに伝播しても、あるいはガス配管から振
動が伝播したり、ガス供給装置に振動が加わったときに
もガスフィルタは振動の節に位置するので振動が抑えら
れ、このためフィルタ部に捕捉された処理ガス中のパー
ティクルの離脱が抑えられ、その結果パーティクルが下
流側へ再放出することを低減できる。従って例えば半導
体ウエハの熱処理装置内に非常にクリーンなガスを供給
することができ、パーティクルによる半導体ウエハへの
悪影響が低減され、歩留まりの向上を図ることができ
る。
【図１】本発明の実施例を示す側面図である。
【図２】本発明の実施例に係るガスフィルタを示す断面
図である。
図である。
【図３】本発明のガス供給装置の一例を示す配管系統図
である。
である。
【図４】本発明のガス供給装置の一例を示す斜視図であ
る。
る。
【図５】本発明に係るガス供給装置を縦型熱処理装置に
適用した一例を示す斜視図である。
適用した一例を示す斜視図である。
【図６】ガス供給装置の従来例を示す側面図である。
Ｆ、Ｆａ、Ｆｂ ガスフィルタ １ 固定用構造体 １ａ、１ｂ、４ａ、４ｂ 垂直パネル部 ２ａ、２ｂ ガス配管接続部 ３ ガス配管 ６ ガス通気路部材 ６１ フィルタ室 ６２ フィルタ部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−83480（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−83414（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 46/00 F16L 55/24 H01L 21/205 H01L 21/265 H01L 21/3065
Claims (1)
- 【請求項１】 ガス供給路中に設けられ、筒状のガス通
気路部材の中にフィルタ部を配置してなるガスフィルタ
を含む複数の配管機器と、これら配管機器を固定するた
めの固定用の構造体と、を備え、ガス供給源よりの処理
ガスを配管機器を介して処理部に供給するためのガス供
給装置において、前記固定用の構造体の一部をなし、前記ガス通気路部材
が嵌入される取付け穴を備えたパネル部と、前記ガス通
気路部材の外周面に周方向に沿って形成されたネジ部
と、このネジ部に螺合するナットと、前記ガス通気路部
材の外周面に前記取り付け穴よりも径が大きく形成され
た大径部と、を備え、 前記ナットを締め付けることにより当該ナットと大径部
との間で前記パネル部を両面から挟圧してガスフィルタ
をパネル部に固定する ことを特徴とするガス供給装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25857691A JP3151564B2 (ja) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | ガス供給装置 |
| US07/942,501 US5307568A (en) | 1991-09-09 | 1992-09-09 | Gas supply system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25857691A JP3151564B2 (ja) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | ガス供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0568826A JPH0568826A (ja) | 1993-03-23 |
| JP3151564B2 true JP3151564B2 (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=17322172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25857691A Expired - Fee Related JP3151564B2 (ja) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3151564B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7163197B2 (en) | 2000-09-26 | 2007-01-16 | Shimadzu Corporation | Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, and vaporization performance appraisal method |
| JP4845385B2 (ja) | 2004-08-13 | 2011-12-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置 |
| JP4280782B2 (ja) | 2007-04-10 | 2009-06-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置のガス供給システム |
| CN101773918A (zh) * | 2010-01-20 | 2010-07-14 | 深圳市日联科技有限公司 | 全气动钢网清洗机 |
| JP7228612B2 (ja) * | 2020-03-27 | 2023-02-24 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム |
-
1991
- 1991-09-09 JP JP25857691A patent/JP3151564B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0568826A (ja) | 1993-03-23 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |