JP3142954B2 - バイアス磁界発生装置 - Google Patents
バイアス磁界発生装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気ディスク装置に
用いられるバイアス磁界発生装置に関する。
用いられるバイアス磁界発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光磁気ディスクの磁界変調オーバ
ーライト等のためのバイアス磁界発生装置として、浮上
ヘッド型のものが種々提案されている。
ーライト等のためのバイアス磁界発生装置として、浮上
ヘッド型のものが種々提案されている。
【０００３】磁気ヘッドとして浮上ヘッドを用いた光磁
気ディスク装置では、コンタクト・スタート・ストップ
（ＣＳＳ）方式でヘッドを起動停止させている。このＣ
ＳＳ方式では、デイスクの回転が停止しているときに
は、浮上ヘッドを有するスライダと光磁気ディスクとが
接触している。ディスクが回転を始め回転数が上昇する
と、スライダがディスクから浮上し、通常のオペレーシ
ョンが行われる。オペレーションが終了すると、ディス
クの回転数が下がり、スライダがディスク上にランディ
ングする。この様に、ＣＳＳ方式では、スライダがディ
スクの表面に対して、接触、低速摺動、離間、低速摺
動、接触の各段階を経ることになる。
気ディスク装置では、コンタクト・スタート・ストップ
（ＣＳＳ）方式でヘッドを起動停止させている。このＣ
ＳＳ方式では、デイスクの回転が停止しているときに
は、浮上ヘッドを有するスライダと光磁気ディスクとが
接触している。ディスクが回転を始め回転数が上昇する
と、スライダがディスクから浮上し、通常のオペレーシ
ョンが行われる。オペレーションが終了すると、ディス
クの回転数が下がり、スライダがディスク上にランディ
ングする。この様に、ＣＳＳ方式では、スライダがディ
スクの表面に対して、接触、低速摺動、離間、低速摺
動、接触の各段階を経ることになる。
【０００４】ＣＳＳ方式では機構の構成が簡単で済む
が、次のような問題点を有する。すなわちディスクの回
転の開始時及び停止時に不可避的に発生する接触摺動の
問題である。ディスクの回転数が一定速度以上に到達す
ればスライダには十分な浮揚力が発生するためスライダ
とディスクは非接触に保たれる。しかし、ディスクの回
転直後にはスライダに働く浮揚力は小さい。このためス
ライダとディスクは接触しつつ摺動する。このような接
触摺動はディスクの停止時にも発生し、この場合にはス
ライダは流体潤滑状態から接触摺動状態へと遷移する。
が、次のような問題点を有する。すなわちディスクの回
転の開始時及び停止時に不可避的に発生する接触摺動の
問題である。ディスクの回転数が一定速度以上に到達す
ればスライダには十分な浮揚力が発生するためスライダ
とディスクは非接触に保たれる。しかし、ディスクの回
転直後にはスライダに働く浮揚力は小さい。このためス
ライダとディスクは接触しつつ摺動する。このような接
触摺動はディスクの停止時にも発生し、この場合にはス
ライダは流体潤滑状態から接触摺動状態へと遷移する。
【０００５】通常、浮上ヘッドを有するスライダは、加
工性と耐久性を考慮してセラミックス等の極めて硬度の
高い材料を用いて作られている。それに対してディスク
は光磁気記録層を保護するための保護層が表面に設けら
れているが、保護層の硬度はスライダにくらべ小さい。
このために、接触摺動時には摩擦摩耗の問題があり、こ
のとき生じる微細な摩擦摩耗粉は、浮上中の浮上ヘッド
と光磁気ディスクとの間に混入し、場合によっては安定
なスライダの運動を阻害し、ヘッドクラッシュに至るこ
とがある。あるいは、スライダに摩擦摩耗粉が付着し、
適切な浮上量が得られなくなることもある。この問題を
解決する手段として、特開平３−８８１８５号公報には
図８及び図９に示すようなバイアス磁界発生装置が開示
されている。
工性と耐久性を考慮してセラミックス等の極めて硬度の
高い材料を用いて作られている。それに対してディスク
は光磁気記録層を保護するための保護層が表面に設けら
れているが、保護層の硬度はスライダにくらべ小さい。
このために、接触摺動時には摩擦摩耗の問題があり、こ
のとき生じる微細な摩擦摩耗粉は、浮上中の浮上ヘッド
と光磁気ディスクとの間に混入し、場合によっては安定
なスライダの運動を阻害し、ヘッドクラッシュに至るこ
とがある。あるいは、スライダに摩擦摩耗粉が付着し、
適切な浮上量が得られなくなることもある。この問題を
解決する手段として、特開平３−８８１８５号公報には
図８及び図９に示すようなバイアス磁界発生装置が開示
されている。
【０００６】この装置は、スライダ６２と、このスライ
ダ６２を夫々支えるジンバルばね６４及びサスペンショ
ンばね６６とからなる磁界変調用磁気ヘッド支持体６８
を具備している。サスペンションばね６６は、所定の面
において図示しない光磁気ディスク装置のヘッドアーム
又はヘッドキャリッジに接合されている。接合されたサ
スペンションばね６６の面上のスライダ６２が存在する
側には、薄板状の絶縁材７２が設けられている。この絶
縁材７２上には、ピエゾ素子７４の一端部が固着されて
いる。絶縁材７２とピエゾ素子７４とは、ほぼ平行とな
っている。ピエゾ素子７４の他端部は、サスペンション
ばね６６のほぼ中央に位置している。このピエゾ素子７
４の他端部には、緩衝材７６が取り付けられている。こ
の緩衝材７６は絶縁材７２の厚みよりも僅かに大きな厚
みを有している。この緩衝材７６によって、サスペンシ
ョンばね６６は、僅かに上方に撓むように設置されてい
る。
ダ６２を夫々支えるジンバルばね６４及びサスペンショ
ンばね６６とからなる磁界変調用磁気ヘッド支持体６８
を具備している。サスペンションばね６６は、所定の面
において図示しない光磁気ディスク装置のヘッドアーム
又はヘッドキャリッジに接合されている。接合されたサ
スペンションばね６６の面上のスライダ６２が存在する
側には、薄板状の絶縁材７２が設けられている。この絶
縁材７２上には、ピエゾ素子７４の一端部が固着されて
いる。絶縁材７２とピエゾ素子７４とは、ほぼ平行とな
っている。ピエゾ素子７４の他端部は、サスペンション
ばね６６のほぼ中央に位置している。このピエゾ素子７
４の他端部には、緩衝材７６が取り付けられている。こ
の緩衝材７６は絶縁材７２の厚みよりも僅かに大きな厚
みを有している。この緩衝材７６によって、サスペンシ
ョンばね６６は、僅かに上方に撓むように設置されてい
る。
【０００７】このような磁界変調用磁気ヘッド支持体６
８のスライダ６２の潤滑面（下面）をディスク７８の停
止中はディスク面から離れて設定しておき、ディスク７
８が起動して定常回転速度に達した後にピエゾ素子７４
に電圧を印加し、ピエゾ素子７４をディスク側にたわま
せることによって初期に与えられたサスペンションばね
６６のたわみを除去し、スライダ６２の潤滑面を、回転
するディスク７８に接近させると、スライダ６２はディ
スク面上にローディングされる。そして、ディスク７８
の停止時には、与えておいたピエゾ素子７４の電圧が除
去され、これによってピエゾ素子７４は水平位置に戻る
ため、サスペンションばね６６はディスク面から離さ
れ、その結果スライダ６２はアンローディングされる。
このような磁界変調用磁気ヘッド支持体６８を用いるこ
とによってディスク７８の起動停止時にも常に浮動ヘッ
ドとディスクは非接触に保たれるため、記録媒体の摩擦
摩耗といった問題を解決することができる。
８のスライダ６２の潤滑面（下面）をディスク７８の停
止中はディスク面から離れて設定しておき、ディスク７
８が起動して定常回転速度に達した後にピエゾ素子７４
に電圧を印加し、ピエゾ素子７４をディスク側にたわま
せることによって初期に与えられたサスペンションばね
６６のたわみを除去し、スライダ６２の潤滑面を、回転
するディスク７８に接近させると、スライダ６２はディ
スク面上にローディングされる。そして、ディスク７８
の停止時には、与えておいたピエゾ素子７４の電圧が除
去され、これによってピエゾ素子７４は水平位置に戻る
ため、サスペンションばね６６はディスク面から離さ
れ、その結果スライダ６２はアンローディングされる。
このような磁界変調用磁気ヘッド支持体６８を用いるこ
とによってディスク７８の起動停止時にも常に浮動ヘッ
ドとディスクは非接触に保たれるため、記録媒体の摩擦
摩耗といった問題を解決することができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この装置では、回転し
ている光磁気ディスク７８に対してスライダ６２を近づ
ける動作、即ちライディングオンが終了した後、スライ
ダ６２が光磁気ディスクに対して安定浮上している場合
には、スライダ６２は光磁気ディスク７８には接触しな
い。
ている光磁気ディスク７８に対してスライダ６２を近づ
ける動作、即ちライディングオンが終了した後、スライ
ダ６２が光磁気ディスクに対して安定浮上している場合
には、スライダ６２は光磁気ディスク７８には接触しな
い。
【０００９】しかし、ライディングオンする直前の状態
ではスライダ６２は、安定な状態で浮上していない。
又、スライダ６２と磁気ディスク７８とを完全に平行に
近づけることができない。等の為にスライダ６２の稜線
又は角が光磁ディスクに接触してしまう可能性が大き
い。この様な接触の可能性は、スライダが光磁気ディス
クから離れる、いわゆるランディングオフの場合におい
ても極めて大きい。スライダはセラミック等の極めて硬
度の高い材質を用いて作られている。これに対して光磁
気ディスク表面の保護層は硬度が低く薄い。
ではスライダ６２は、安定な状態で浮上していない。
又、スライダ６２と磁気ディスク７８とを完全に平行に
近づけることができない。等の為にスライダ６２の稜線
又は角が光磁ディスクに接触してしまう可能性が大き
い。この様な接触の可能性は、スライダが光磁気ディス
クから離れる、いわゆるランディングオフの場合におい
ても極めて大きい。スライダはセラミック等の極めて硬
度の高い材質を用いて作られている。これに対して光磁
気ディスク表面の保護層は硬度が低く薄い。
【００１０】したがって、スライダと光磁気ディスクと
が接触すると、光磁気ディスクが損傷し、記録情報が破
壊されてしまう。又、接触した部分でのスライダの安定
した浮上特性が得られない。
が接触すると、光磁気ディスクが損傷し、記録情報が破
壊されてしまう。又、接触した部分でのスライダの安定
した浮上特性が得られない。
【００１１】本発明は、スライダがランディングオン、
又はランディングオフ時に光磁気ディスクの記録トラッ
ク部に損傷を与える事がなく、記録領域を広くできる、
信頼性の高いバイアス磁界発生装置を提供する事を目的
とする。
又はランディングオフ時に光磁気ディスクの記録トラッ
ク部に損傷を与える事がなく、記録領域を広くできる、
信頼性の高いバイアス磁界発生装置を提供する事を目的
とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】このため、請求項１に記
載の発明によるバイアス磁界発生装置は、光磁気ディス
クの回転により浮上するスライダと、このスライダに設
けられたバイアス磁界発生部とを備え、光磁気ディスク
に集光された光スポットと対向する位置に、この光スポ
ットと共に光磁気ディスクを挟むようにバイアス磁界を
発生させるものであり、スライダは、光磁気ディスクの
記録領域よりも内周側で光磁気ディスクに対して下降又
は上昇され、前記スライダの中心に対して磁界コイルが
前記光磁気ディスクの外周側に配置されている、ことを
特徴としている。
載の発明によるバイアス磁界発生装置は、光磁気ディス
クの回転により浮上するスライダと、このスライダに設
けられたバイアス磁界発生部とを備え、光磁気ディスク
に集光された光スポットと対向する位置に、この光スポ
ットと共に光磁気ディスクを挟むようにバイアス磁界を
発生させるものであり、スライダは、光磁気ディスクの
記録領域よりも内周側で光磁気ディスクに対して下降又
は上昇され、前記スライダの中心に対して磁界コイルが
前記光磁気ディスクの外周側に配置されている、ことを
特徴としている。
【００１３】請求項２に記載の発明によるバイアス磁界
発生装置は、光磁気ディスクの回転により浮上するスラ
イダと、このスライダに設けられたバイアス磁界発生部
とを備え、光磁気ディスクに集光された光スポットと対
向する位置に、この光スポットと共に光磁気ディスクを
挟むようにバイアス磁界を発生させるものであり、スラ
イダ部が光磁気ディスクに対して下降されるときには、
スライダ部の光磁気ディスクの径方向の端が光磁気ディ
スクの記録領域外に先に近接されることを特徴とする
発生装置は、光磁気ディスクの回転により浮上するスラ
イダと、このスライダに設けられたバイアス磁界発生部
とを備え、光磁気ディスクに集光された光スポットと対
向する位置に、この光スポットと共に光磁気ディスクを
挟むようにバイアス磁界を発生させるものであり、スラ
イダ部が光磁気ディスクに対して下降されるときには、
スライダ部の光磁気ディスクの径方向の端が光磁気ディ
スクの記録領域外に先に近接されることを特徴とする
【００１４】
【作用】請求項１に記載の発明では、光磁気ディスクの
回転により、スライダが光磁気ディスクの記録領域より
も内周側で上昇される。スライダの中心に対して磁界コ
イルが光磁気ディスクの外周側に配置されている。バイ
アス磁界発生部が光磁気ディスク上の光スポットと対向
する位置にバイアス磁界を発生させる。光磁気ディスク
の回転が停止すると、スライダが光磁気ディスクの記録
領域よりも内周側で下降される。
回転により、スライダが光磁気ディスクの記録領域より
も内周側で上昇される。スライダの中心に対して磁界コ
イルが光磁気ディスクの外周側に配置されている。バイ
アス磁界発生部が光磁気ディスク上の光スポットと対向
する位置にバイアス磁界を発生させる。光磁気ディスク
の回転が停止すると、スライダが光磁気ディスクの記録
領域よりも内周側で下降される。
【００１５】請求項２に記載の発明では、スライダ部が
光磁気ディスクに対して下降されるときには、スライダ
部の光磁気ディスクの径方向の端が光磁気ディスクの記
録領域外に先に近接される。
光磁気ディスクに対して下降されるときには、スライダ
部の光磁気ディスクの径方向の端が光磁気ディスクの記
録領域外に先に近接される。
【００１６】
【実施例】次に、図１及び図２を用いて本発明によるバ
イアス磁界発生装置の第１実施例を説明する。
イアス磁界発生装置の第１実施例を説明する。
【００１７】図１に示すように、光磁気ディスク２上に
光スポットを集光する対物レンズ４を含む光ピックアッ
プ６は光磁気ディスク２の半径方向（Ｘ1 ，Ｘ2 方向）
に沿って図示しない支持手段によって移動可能に支持さ
れている。
光スポットを集光する対物レンズ４を含む光ピックアッ
プ６は光磁気ディスク２の半径方向（Ｘ1 ，Ｘ2 方向）
に沿って図示しない支持手段によって移動可能に支持さ
れている。
【００１８】光ピックアップ６の図中右側（Ｘ1 側）の
取付面８には、サスペンションばね１０の基端部が固定
されている。このサスペンションばね１０の先端部に
は、ジンバルばね１２を介してスライダ１４が取り付け
られている。
取付面８には、サスペンションばね１０の基端部が固定
されている。このサスペンションばね１０の先端部に
は、ジンバルばね１２を介してスライダ１４が取り付け
られている。
【００１９】又、光ピックアップ６の取付面１６には、
ピエゾ素子１８の一端部が固定されている。ピエゾ素子
１８の他端の上面には、緩衝材２０が固定されている。
サスペンションばね１０の中央部からＺ1 側には、Ｌ字
状に突出したリフト部２２が形成されている。
ピエゾ素子１８の一端部が固定されている。ピエゾ素子
１８の他端の上面には、緩衝材２０が固定されている。
サスペンションばね１０の中央部からＺ1 側には、Ｌ字
状に突出したリフト部２２が形成されている。
【００２０】図１に示すように緩衝材２０の先端は、ピ
エゾ素子１８に電圧を加えない状態でリフト部２２に接
触している。このとき、サスペンションばね１０には、
Ｚ2方向へ変位しようとする力が作用している。又、ス
ライダ１４の下面は光磁気ディスク２の上面から離間し
ている。スライダ１４のＸ1 側面（図中右の側面）には
フェライトのコアにコイルを巻いて成る磁界コイル２４
が取り付けられている。
エゾ素子１８に電圧を加えない状態でリフト部２２に接
触している。このとき、サスペンションばね１０には、
Ｚ2方向へ変位しようとする力が作用している。又、ス
ライダ１４の下面は光磁気ディスク２の上面から離間し
ている。スライダ１４のＸ1 側面（図中右の側面）には
フェライトのコアにコイルを巻いて成る磁界コイル２４
が取り付けられている。
【００２１】光磁気ディスク２はスピンドルモータ２６
により回転される。尚、光磁気ディスク２の記録領域は
符号ｌで示す範囲となっている。この他の構成は、図８
及び図９に示す従来例と同じである。この様に構成され
た第１実施例の装置の作用を以下に説明する。
により回転される。尚、光磁気ディスク２の記録領域は
符号ｌで示す範囲となっている。この他の構成は、図８
及び図９に示す従来例と同じである。この様に構成され
た第１実施例の装置の作用を以下に説明する。
【００２２】図１に示す状態では、光磁気ディスク２の
回転は停止している。この時、ピエゾ素子１８には電圧
が加えられておらず、真直な状態で緩衝材６がリフト部
２２を上（Ｚ1 側）に押しあげている。この為に、サス
ペンションばね１０が上方にたわんでおり、スライダ１
４の下面は光磁気ディスク２から離れた状態となってい
る。
回転は停止している。この時、ピエゾ素子１８には電圧
が加えられておらず、真直な状態で緩衝材６がリフト部
２２を上（Ｚ1 側）に押しあげている。この為に、サス
ペンションばね１０が上方にたわんでおり、スライダ１
４の下面は光磁気ディスク２から離れた状態となってい
る。
【００２３】光ピックアップ６は光磁気ディスク２の内
周側（Ｘ2 側）に移動しており、磁界コイル２４及びス
ライダ１４は記録トラック領域ｌよりもさらに内周側に
位置している。
周側（Ｘ2 側）に移動しており、磁界コイル２４及びス
ライダ１４は記録トラック領域ｌよりもさらに内周側に
位置している。
【００２４】次にピエゾ素子１８に徐々に電圧を加えて
ピエゾ素子１８を下方（Ｚ2 方向）にたわませるにつれ
てサスペンションばね１０も下方に変位し、スライダ１
４が光磁気ディスク２０の表面に近づきランディングオ
ンする。この時には、緩衝材２０とリフト部２２は互い
に離れている。
ピエゾ素子１８を下方（Ｚ2 方向）にたわませるにつれ
てサスペンションばね１０も下方に変位し、スライダ１
４が光磁気ディスク２０の表面に近づきランディングオ
ンする。この時には、緩衝材２０とリフト部２２は互い
に離れている。
【００２５】このランディングオン時にスライダ１４又
は磁界コイル２４が光磁気ディクス２に接触しても、そ
こは記録トラック領域ｌ外であるので、記録情報を破壊
する事はない。ランディングオフ時も同様に光ピックア
ップ６が光磁気ディスク２の内周側に移動して行なう。
は磁界コイル２４が光磁気ディクス２に接触しても、そ
こは記録トラック領域ｌ外であるので、記録情報を破壊
する事はない。ランディングオフ時も同様に光ピックア
ップ６が光磁気ディスク２の内周側に移動して行なう。
【００２６】光ピックアップ６はランディングオン又は
オフ時に、記録トラック領域よりもさらに内周側に移動
する必要があるが、スライダ１４に対して磁界コイル２
４はスライダ１４の外周側（Ｘ1 側）の面に取付けられ
ている。したがって、光ピックアップ６に必要な移動量
の増加は僅かで良い。本実施例の場合には、いわゆるコ
ンタクトスタートストップ方式であっても、記録トラッ
ク領域に傷がつく事はない。
オフ時に、記録トラック領域よりもさらに内周側に移動
する必要があるが、スライダ１４に対して磁界コイル２
４はスライダ１４の外周側（Ｘ1 側）の面に取付けられ
ている。したがって、光ピックアップ６に必要な移動量
の増加は僅かで良い。本実施例の場合には、いわゆるコ
ンタクトスタートストップ方式であっても、記録トラッ
ク領域に傷がつく事はない。
【００２７】記録トラック領域よりも内周側でランディ
ングオン／オフする部分のみの光磁気ディスクの表面を
凹凸にすれば、ランディングオン／オフする場所が内周
側で周速の低い所であっても、スライダの浮上量を大き
くできるので安定したランディングオン／オフができ
る。
ングオン／オフする部分のみの光磁気ディスクの表面を
凹凸にすれば、ランディングオン／オフする場所が内周
側で周速の低い所であっても、スライダの浮上量を大き
くできるので安定したランディングオン／オフができ
る。
【００２８】ピエゾ素子をサスペンションばねの上にレ
イアウトしたので、ピエゾ素子が光磁気ディスクに接触
する事がなくなる。又、ピエゾ素子とサスペンションば
ねを光ピックアップの別の取付面につけたので、緩衝材
をつけてもピエゾ素子をサスペンションばねに対して斜
めに取付けなくても良い。
イアウトしたので、ピエゾ素子が光磁気ディスクに接触
する事がなくなる。又、ピエゾ素子とサスペンションば
ねを光ピックアップの別の取付面につけたので、緩衝材
をつけてもピエゾ素子をサスペンションばねに対して斜
めに取付けなくても良い。
【００２９】又、ピエゾ素子の取付面をサスペンション
ばねの後方にし、かつ、ピエゾ素子の長さを長くしたの
で、サスペンションばねの取付面に近い所を押し上げら
れるので、スライダのもち上げ量を大きくできる。
ばねの後方にし、かつ、ピエゾ素子の長さを長くしたの
で、サスペンションばねの取付面に近い所を押し上げら
れるので、スライダのもち上げ量を大きくできる。
【００３０】本実施例においては、記録領域のさらに内
周側でランディングオン／オフしている。光磁気ディス
クにおいては、内周側に比べて外周側の方が１周分のト
ラックの長さが長いので、記録信号の空間周波数が低
く、再生時の位相マージンを大きくとることができる。
又、空間周波数を高くして１トラック当りの記録容量を
高くする事ができる。このように利点のある外周側の記
録領域は、本実施例の装置を用いれば少なくならない。
周側でランディングオン／オフしている。光磁気ディス
クにおいては、内周側に比べて外周側の方が１周分のト
ラックの長さが長いので、記録信号の空間周波数が低
く、再生時の位相マージンを大きくとることができる。
又、空間周波数を高くして１トラック当りの記録容量を
高くする事ができる。このように利点のある外周側の記
録領域は、本実施例の装置を用いれば少なくならない。
【００３１】又、サスペンションばね１０のスライダ１
４などを取り付けた状態でのＺ方向の振動の共振周波数
は、光磁気ディスク２の回転の周波数およびその整数倍
と一致しないように設定してある。例えば、光時期ディ
スク２の回転の周波数が３０Ｈｚの時には、サスペンシ
ョンばね１０の共振周波数を４０Ｈｚに設定する。
４などを取り付けた状態でのＺ方向の振動の共振周波数
は、光磁気ディスク２の回転の周波数およびその整数倍
と一致しないように設定してある。例えば、光時期ディ
スク２の回転の周波数が３０Ｈｚの時には、サスペンシ
ョンばね１０の共振周波数を４０Ｈｚに設定する。
【００３２】これによって、光磁気ディスク２またはモ
ータ２６の回転の振動によりサスペンションばね１０の
振動が共振により拡大されることはないので、スライダ
１４の安定した浮上特性が得られる。これは他の実施例
も同様にしてある。次に図３乃至図６を用いて第２実施
例を説明する。なお、第１実施例と同一の部材には同一
の参照符号は付し、異なるところのみを説明する。
ータ２６の回転の振動によりサスペンションばね１０の
振動が共振により拡大されることはないので、スライダ
１４の安定した浮上特性が得られる。これは他の実施例
も同様にしてある。次に図３乃至図６を用いて第２実施
例を説明する。なお、第１実施例と同一の部材には同一
の参照符号は付し、異なるところのみを説明する。
【００３３】図３に示すように、スライダ１４は、これ
のＸ2 側の部分、即ち光磁気ディスク２の内周側の部分
がサスペンションばね１０に対してＺ2 方向に少し下が
るように取付けられている。
のＸ2 側の部分、即ち光磁気ディスク２の内周側の部分
がサスペンションばね１０に対してＺ2 方向に少し下が
るように取付けられている。
【００３４】スライダ１４のＸ軸に沿った中央部には、
磁界コイル２４が固定されている。この磁界コイル２４
は、図４に示すように、フェライトのコア２８にコイル
３０を巻回したものである。スライダ１４の上面３２の
中央には、ジンバルばね１２の固定部３４が固着されて
いる。固定部３４の中央には、半球状の凸部３６が形成
されている。
磁界コイル２４が固定されている。この磁界コイル２４
は、図４に示すように、フェライトのコア２８にコイル
３０を巻回したものである。スライダ１４の上面３２の
中央には、ジンバルばね１２の固定部３４が固着されて
いる。固定部３４の中央には、半球状の凸部３６が形成
されている。
【００３５】固定部３４より屈曲されて少し高さの高い
位置には、ばね部３８がジンバルばね１２上に形成され
ている。ばね部３８の先端には、サスペンションばね１
０の固定部４０が形成されている。ばね部３８と固定部
４０との間には折曲部４１が形成されており、ばね部３
８と固定部４０はＹ2 方向から見て「く」の字型に形成
されている。固定部４０はサスペンションばね１０の裏
面４２に固着されている。この様にして、スライダ１４
のディスク内周側の部分４４が下がるようにして、スラ
イダ１４はサスペンションばね１０に取付られている。
位置には、ばね部３８がジンバルばね１２上に形成され
ている。ばね部３８の先端には、サスペンションばね１
０の固定部４０が形成されている。ばね部３８と固定部
４０との間には折曲部４１が形成されており、ばね部３
８と固定部４０はＹ2 方向から見て「く」の字型に形成
されている。固定部４０はサスペンションばね１０の裏
面４２に固着されている。この様にして、スライダ１４
のディスク内周側の部分４４が下がるようにして、スラ
イダ１４はサスペンションばね１０に取付られている。
【００３６】コア２８は長方体のメインポール２８ａ
と、コの字状のサイドコア２８ｃとで構成されている。
サイドコア２８ｃとメインポール２８ａのＺ1 側の接触
部上面には、段差２８ｄが形成されている。このため、
スライダ１４をＺ1 方向から見たときにメインポール２
８ａの上面の４辺が見えるようになっている。磁界コイ
ル２４から発生する磁界の中心（最適位置）がメインポ
ール２８ａの上面の中心と一致している。
と、コの字状のサイドコア２８ｃとで構成されている。
サイドコア２８ｃとメインポール２８ａのＺ1 側の接触
部上面には、段差２８ｄが形成されている。このため、
スライダ１４をＺ1 方向から見たときにメインポール２
８ａの上面の４辺が見えるようになっている。磁界コイ
ル２４から発生する磁界の中心（最適位置）がメインポ
ール２８ａの上面の中心と一致している。
【００３７】サスペンションばね１０を光ピックアップ
６の取り付け面８に取り付けるときは、予め光ピックア
ップ６にたいする対物レンズ４の外径の中心または光ス
ポットの位置を光学顕微鏡または４分割したフォトディ
テクタなどを用いて測定しておき、その位置にメインポ
ール２８ａの上面の中心が一致するようにサスペンショ
ンばね１０をＺ1 方向と直交する方向に位置調整して取
り付け面８上に固定する。したがって、対物レンズ４の
中心または光スポットと磁界コイル２４の発生磁界の中
心を容易に一致させることができる。
６の取り付け面８に取り付けるときは、予め光ピックア
ップ６にたいする対物レンズ４の外径の中心または光ス
ポットの位置を光学顕微鏡または４分割したフォトディ
テクタなどを用いて測定しておき、その位置にメインポ
ール２８ａの上面の中心が一致するようにサスペンショ
ンばね１０をＺ1 方向と直交する方向に位置調整して取
り付け面８上に固定する。したがって、対物レンズ４の
中心または光スポットと磁界コイル２４の発生磁界の中
心を容易に一致させることができる。
【００３８】この時、スライダ１４の内周側の部分４４
は記録トラック領域よりも内周側に位置しているが、ス
ライダ１４の外周側の部分４６は記録トラック領域内に
ある。
は記録トラック領域よりも内周側に位置しているが、ス
ライダ１４の外周側の部分４６は記録トラック領域内に
ある。
【００３９】この時、スライダ１４の内周側の部分４４
が下がっている為に、この部分４４が外周側の部分４６
よりも先に光磁気ディスク２に接触する。それからさら
にサスペンションばね１０が下にたわむにつれて、ジン
バルばね１２のばね部３８がたわみ、サスペンションば
ね１０の下面４２が凸部３６を押しつけて、スライダ１
４の下面は光磁気ディスク２と平行に近づき、安定浮上
の状態となる。図６はこの状態を示している。
が下がっている為に、この部分４４が外周側の部分４６
よりも先に光磁気ディスク２に接触する。それからさら
にサスペンションばね１０が下にたわむにつれて、ジン
バルばね１２のばね部３８がたわみ、サスペンションば
ね１０の下面４２が凸部３６を押しつけて、スライダ１
４の下面は光磁気ディスク２と平行に近づき、安定浮上
の状態となる。図６はこの状態を示している。
【００４０】本実施例によれば、ランディングオン時に
スライダ１４のディスク内周側の部分４４を、光磁気デ
ィスク２に最も先に近づく部位として積極的に設定して
ある為にスライダ１４の他の部位が光磁気ディスク２に
接触する可能性が小さい。
スライダ１４のディスク内周側の部分４４を、光磁気デ
ィスク２に最も先に近づく部位として積極的に設定して
ある為にスライダ１４の他の部位が光磁気ディスク２に
接触する可能性が小さい。
【００４１】又、これと逆に、ランディングオフ時に
は、スライダ１４は記録トラック範囲内にある外周側の
部分４６から離れやすい為にこの部分４６が光磁気ディ
スク２に接触する可能性は小さい。
は、スライダ１４は記録トラック範囲内にある外周側の
部分４６から離れやすい為にこの部分４６が光磁気ディ
スク２に接触する可能性は小さい。
【００４２】本実施例の場合には第１実施例に比べて、
光ピックアップ６に必要な移動量の増加はない。又、光
磁気ディスク２のスライダ１４を浮上させるのに必要な
表面の平滑な部分の範囲も広くする必要はない。又、記
録領域も広くとれる。
光ピックアップ６に必要な移動量の増加はない。又、光
磁気ディスク２のスライダ１４を浮上させるのに必要な
表面の平滑な部分の範囲も広くする必要はない。又、記
録領域も広くとれる。
【００４３】本実施例の場合には、ジンバルばね１２の
サスペンションばね１０への取付部近くを曲げてスライ
ダ１４を傾けたが他の部位、例えばサスペンションばね
のジンバルばねの取付部やジンバルばねのスライダへの
取付部などを曲げても良いし、スライダ１４の自重によ
るジンバルばね１２のばね部３８のたわみを利用しても
良い。次に図７を用いて第３実施例を説明する。
サスペンションばね１０への取付部近くを曲げてスライ
ダ１４を傾けたが他の部位、例えばサスペンションばね
のジンバルばねの取付部やジンバルばねのスライダへの
取付部などを曲げても良いし、スライダ１４の自重によ
るジンバルばね１２のばね部３８のたわみを利用しても
良い。次に図７を用いて第３実施例を説明する。
【００４４】図７に示すように、ランディングオン又は
オフ時には、光ピックアップ６は光磁気ディスク２の外
周側に位置している。スライダ１４の内周側部分４４は
記録トラック領域ｌ内に、外周側部分４６は記録トラッ
ク領域ｌ外に夫々位置している。スライダ１４は外周側
部分４６が下がるように取付けられている。スライダ１
４上の磁界コイル２４は、やや外周寄りの部分に取付け
られている。ランディングオン時には外周側部分４６が
先に光磁気ディスク２に先に近づくので、内周側部分４
４が光磁気ディスク２に接触する可能性が小さい。本実
施例によれば、光磁気ディスク２の周速の速い外周側で
ランディングオンしているので安定したランディングオ
ンが可能となる。
オフ時には、光ピックアップ６は光磁気ディスク２の外
周側に位置している。スライダ１４の内周側部分４４は
記録トラック領域ｌ内に、外周側部分４６は記録トラッ
ク領域ｌ外に夫々位置している。スライダ１４は外周側
部分４６が下がるように取付けられている。スライダ１
４上の磁界コイル２４は、やや外周寄りの部分に取付け
られている。ランディングオン時には外周側部分４６が
先に光磁気ディスク２に先に近づくので、内周側部分４
４が光磁気ディスク２に接触する可能性が小さい。本実
施例によれば、光磁気ディスク２の周速の速い外周側で
ランディングオンしているので安定したランディングオ
ンが可能となる。
【００４５】
【発明の効果】バイアス磁界発生装置のスライダの光磁
気ディスクに対するランディングオン又はランディング
オフ時にスライダが光磁気ディスクに接触しても、記録
トラック部に損傷を与える可能性が小さく、かつ、記録
領域を広くとれる信頼性の高いバイアス磁界発生装置を
提供することができる。
気ディスクに対するランディングオン又はランディング
オフ時にスライダが光磁気ディスクに接触しても、記録
トラック部に損傷を与える可能性が小さく、かつ、記録
領域を広くとれる信頼性の高いバイアス磁界発生装置を
提供することができる。
【図１】本発明によるバイアス磁界発生装置の第１実施
例を示す側面図。
例を示す側面図。
【図２】図１における装置のスライダが光磁気ディスク
にランディングオンしている状態を示す側面図。
にランディングオンしている状態を示す側面図。
【図３】第２実施例の装置を示す側面図。
【図４】図３に示す装置のサスペンションばねとジンバ
ルばねとスライダとの取り付け状態を示す分解斜視図。
ルばねとスライダとの取り付け状態を示す分解斜視図。
【図５】図３に示すスライダが光磁気ディスクに近付い
ている状態を示す側面図。
ている状態を示す側面図。
【図６】図３に示す装置のスライダが光磁気ディスクに
対して平行に浮上している状態を示す側面図。
対して平行に浮上している状態を示す側面図。
【図７】第３実施例の装置を示す側面図。
【図８】従来の装置を示す側面図。
【図９】図８に示す装置が光磁気ディスクにランディン
グオンしている状態を示す側面図。
グオンしている状態を示す側面図。
２…光磁気ディスク、６…光ピックアップ、１０…サス
ペンションばね、１２…ジンバルばね、１４…スライ
ダ、２４…磁界コイル。
ペンションばね、１２…ジンバルばね、１４…スライ
ダ、２４…磁界コイル。
Claims (2)
- 【請求項１】 光磁気ディスクの回転により浮上するス
ライダと、 このスライダに設けられたバイアス磁界発生部とを備
え、 前記光磁気ディスクに集光された光スポットと対向する
位置に、この光スポットと共に前記光磁気ディスクを挟
むようにバイアス磁界を発生させるバイアス磁界発生装
置において、 前記スライダは、前記光磁気ディスクの記録領域よりも
内周側で前記光磁気ディスクに対して下降又は上昇さ
れ、 前記スライダの中心に対して磁界コイルが前記光磁気デ
ィスクの外周側に配置されている、 ことを特徴とするバ
イアス磁界発生装置。 - 【請求項２】 光磁気ディスクの回転により浮上するス
ライダと、 このスライダに設けられたバイアス磁界発生部とを備
え、 前記光磁気ディスクに集光された光スポットと対向する
位置に、この光スポットと共に前記光磁気ディスクを挟
むようにバイアス磁界を発生させるバイアス磁界発生装
置において、 前記スライダ部が前記光磁気ディスクに対して下降され
るときには、前記スライダ部の前記光磁気ディスクの径
方向の端が光磁気ディスクの記録領域外に先に近接され
ることを特徴とするバイアス磁界発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04152301A JP3142954B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | バイアス磁界発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04152301A JP3142954B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | バイアス磁界発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05342506A JPH05342506A (ja) | 1993-12-24 |
| JP3142954B2 true JP3142954B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=15537536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04152301A Expired - Fee Related JP3142954B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | バイアス磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3142954B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3544125B2 (ja) | 1998-09-11 | 2004-07-21 | 富士通株式会社 | 光記憶装置 |
-
1992
- 1992-06-11 JP JP04152301A patent/JP3142954B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05342506A (ja) | 1993-12-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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