JP3120520B2

JP3120520B2 - 洗浄装置

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Publication number: JP3120520B2
Application number: JP03350950A
Authority: JP
Inventors: 靖史稲垣; 正弘蒔田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1991-12-11
Filing date: 1991-12-11
Publication date: 2000-12-25
Anticipated expiration: 2015-12-25
Also published as: JPH05166780A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置、特に硫酸と
過酸化水素水の混合液を洗浄液として用いる洗浄装置
と、それを用いた洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウェハに付着した有機物の除去
（典型例がフォトレジスト膜の剥離除去）、無機物（金
属等）の除去、パーティクルと称される微粒子の除去の
ためにウェハ洗浄液として硫酸と過酸化水素水の混合液
が多く用いられる。元来、硫酸は単独でも洗浄効果を有
するが、それに過酸化水素水を混合すると下記の反応が
生じ、その結果、カロー酸Ｈ_２ＳＯ_５が発生し強い洗浄
効果を得ることができる。２Ｈ_２ＳＯ_４＋Ｈ_２Ｏ_２→Ｈ_２ＳＯ_４＋Ｈ_２ＳＯ_５＋Ｈ
_２Ｏ（尚、この反応は可逆反応である。）

【０００３】即ち、カロー酸Ｈ_２ＳＯ_５は強酸化剤であ
るので、有機物等と強く反応して分解、除去の効果を持
つ。そこで、かかるカロー酸Ｈ_２ＳＯ_５を発生させるべ
く硫酸に過酸化水素水を混合して洗浄液をつくるのであ
り、カロー酸Ｈ_２ＳＯ_５以外にも硫酸Ｈ_２ＳＯ_４、過酸
化水素Ｈ_２Ｏ_２が洗浄効果を持つが、カロー酸Ｈ_２ＳＯ
_５の効果が最も強いのである。ところで、従来において
の硫酸と過酸化水素水の混合液を用いた洗浄は、その混
合液の温度を室温〜１５０℃（一般には８０〜１２０
℃）にし、洗浄処理時間を数秒〜数十分（一般には５〜
３０分）にし、そして、硫酸と過酸化水素水の混合濃度
比を１：１〜１００：１（対体積比）にし（但し、硫酸
は９６ｗｔ％のものを用い、過酸化水素水は３０ｗｔ％
のものを用いた場合を前提としている）ていた。

【０００４】そして、洗浄装置にはカスケード型のディ
ップ式のもの、枚葉型のスプレー式のもの、バッチ型ス
プレー式のもの等があるが、ディップ式のものが最も多
く使用されている。そして、従来の洗浄装置は、硫酸と
過酸化水素水の混合液の温度及び洗浄時間の制御、管理
のみが行われていた。即ち、硫酸と過酸化水素水の混合
液は、洗浄の進行に伴って混合液の各組成濃度が変動し
それによって洗浄力が変動するが、一定の時間を洗浄時
間として設定していた。尚、混合液の温度も洗浄力を左
右するが、この温度コントロールは従来からも行ってい
た。そして、実際の混合液の組成濃度のモニターをする
ことなく混合液の調液をしてからの経過時間やウェハ処
理量のみを参酌して過酸化水素水の補充タイミング、補
充量、混合液交換頻度の決定が為されていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来におい
て、過酸化水素水の補充タイミング、補充量、混合液交
換頻度を、実際の混合液の組成濃度のモニターをするこ
となく行っていたので、常に安定した洗浄が行えないと
いう問題があった。この問題について詳細に説明すると
次のとおりである。カロー酸Ｈ_２ＳＯ_５は一般に、硫酸
濃度と過酸化水素水の混合濃度によって転換率が決ま
り、図５に示すように、硫酸濃度が高い程硫酸に過酸化
水素水を添加したときのカロー酸Ｈ_２ＳＯ_５の発生率
（カロー酸Ｈ_２ＳＯ_５への転換率）が高くなる。そし
て、カロー酸Ｈ_２ＳＯ_５の発生率が高い程洗浄力が強い
のである。従って、若し、硫酸濃度を低くすると過酸化
水素水を多量に添加してもカロー酸Ｈ_２ＳＯ_５の発生率
が低くなるので充分な洗浄効果が得られないのである。
依って、洗浄効果を高めるためには、出来るだけ高濃度
の硫酸に過酸化水素水を混合するようにすることが必要
であるといえる。

【０００６】ところで、洗浄力は過酸化水素濃度にも左
右され、過酸化水素濃度が低下すると洗浄力も低下し、
そして過酸化水素濃度は洗浄、時間経過によって低下す
る。というのは、Ｈ_２Ｏ_２が分解すると水Ｈ_２Ｏが残
り、洗浄の進行により水が徐々に増えるからである。従
って、一定以上の洗浄力を確保するためには過酸化水素
水を適宜補充する必要があるのである。また、洗浄の進
行、時間が経過しても硫酸の量は減少しない（但し、ウ
ェハを液槽から引き上げるときウェハに付着した分は減
少する。）が、過酸化水素水の分解により水が増えるこ
とによって更には硫酸自身の吸湿性によって硫酸濃度は
低下する。そして、前述のとおり硫酸濃度の低下によっ
ても洗浄力が低下する。特に硫酸濃度が一定以下になる
と極端に洗浄力が弱まるので混合液全体を交換した方が
好ましいのである。

【０００７】図６は調液後の時間の経過による混合液の
硫酸濃度と過酸化水素濃度の推移を示すものであり、図
７は硫酸濃度の吸湿性による濃度低下を示す。尚、濃度
の低下速度は温度が低い程速い。従って、濃度低下を正
確にモニターしたうえで過酸化水素水の補充、混合液の
交換を行った方が良いといえる。しかるに、従来におい
ては濃度モニターを全く行っていなかったので、洗浄力
不足のまま洗浄を終えてしまうことがあった。一方、Ｉ
Ｃは高集積化、素子の微細化の一途を辿っており、洗浄
力不足による歩留り低下が非常に大きくなる虞れがあ
る。そこで、最近は、過酸化水素水の補充頻度、混合液
の交換頻度をより高くしたり、処理時間をより長くする
ことにより洗浄力不足が生じないようにする傾向も生じ
てきている。しかし、それは処理時間の過剰、薬液消費
量の過剰を招き、コスト増の一因にもなりつつある。特
に、混合液の硫酸濃度があまり低くないのに交換するこ
とは、排液処理に要するコストの増大を招く。

【０００８】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、その一つの目的は洗浄力の低下、薬
液の過剰消耗を伴うことなく安定した洗浄を行うことが
できるようにすることにあり、他の目的は温度変化によ
る洗浄力の低下、薬液の過剰消耗を防止することにあ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の洗浄装置は、
混合液の硫酸濃度と過酸化水素濃度を検出する濃度検出
手段と、過酸化水素濃度が低下したとき過酸化水素水を
補充する過酸化水素水補充手段と、硫酸濃度が低下した
とき混合液を交換する混合液交換手段からなることを特
徴とする。請求項２の洗浄装置は、請求項１の洗浄装置
において、温度センサーと、混合液を加熱する加熱手段
と、混合液を冷却する冷却する手段を有することを特徴
とする。

【００１０】請求項３の洗浄装置は、請求項１又は２の
洗浄装置において、混合液の調合と洗浄を調合槽と、液
槽という別の槽において行うことを特徴とする。

【００１１】

【作用】請求項１の洗浄装置によれば、濃度検出手段に
より過酸化水素濃度、硫酸濃度の低下を正確に把握した
うえで過酸化水素水の補充、混合液の交換を行うことが
可能になるので、洗浄力不足や過頻度補充、過頻度交換
を伴うことなく安定に半導体ウェハ等の洗浄を行うこと
ができる。請求項２の洗浄装置によれば、硫酸と過酸化
水素水の混合液の温度を、温度センサーによりモニター
しながら加熱手段と冷却手段により調節できるので、硫
酸と過酸化水素水の混合時の発熱に起因した過酸化水素
の分解による消耗を防止したり、混合液の温度低下によ
る洗浄力低下を防止したり、混合液の水での希釈という
廃液処理に先立って水の混合による温度上昇を冷却によ
り少なくすることが可能になる。

【００１２】請求項３の洗浄装置によれば、調合槽で常
に適正に濃度、温度が調整された混合液を用意しておく
ことができるので、液槽で混合液の補給が必要になった
ときに迅速に適正に調整された混合液を補給することが
でき、洗浄効率を高めることができる。

【００１３】

【実施例】以下、本発明洗浄装置を図示実施例に従って
詳細に説明する。図１乃至図３は本発明洗浄装置の一つ
の実施例を示すもので、図１は装置の構成図、図２は濃
度コントロール動作を示すフローチャート、図３は洗浄
をした場合の混合液の硫酸濃度及び過酸化水素濃度の推
移の一例を示す濃度変化図である。

【００１４】図面において、１は硫酸と過酸化水素水の
混合液からなる洗浄液の入った液槽、２は液液槽１へ硫
酸を供給する硫酸供給管に設けられたバルブ、３は液槽
１へ過酸化水素水を供給する硫酸供給管に設けられたバ
ルブ、４は液槽１内の混合液の温度を検出する温度セン
サー、５は液槽１内の混合液の液面の高さを検出する液
位センサーである。

【００１５】６は混合液を加熱するヒーター、７は混合
液を冷却するクーラーであり、共に液槽１内の混合液を
取り出して還流する経路に設けられており、その還流経
路を通る硫酸と過酸化水素水からなる混合液を加熱ある
いは冷却することにより液槽１内の混合液の温度を上昇
させたり低下させたりする。８は還流を生ぜしめるポン
プ、９はフィルタである。

【００１６】１０は液槽１内の硫酸濃度及び過酸化水素
濃度を検出する濃度分析装置であり、本例においては上
記還流経路のフィルタ９を経て液槽１内に戻ろうとする
混合液の一部を取り込んで濃度を測定するようになって
いる。本濃度分析装置１０は、混合液の吸光度を測定す
ることにより硫酸濃度及び過酸化水素濃度を求めるもの
であり、比較的高い測定精度を得ることができる。尚、
濃度測定方法としてＰＨ電極やＨ_２Ｏ_２電極を用いる、
混合液の屈折率を求めるあるいはイオン電極を用いる等
の各種濃度測定方法があり、濃度分析装置１０はどの濃
度測定方法を用いたものであっても良い。

【００１７】１１は過酸化水素水を液槽１内に補充する
過酸化水素水補充管に設けられたバルブ、１２は液槽１
から混合液を廃棄する廃棄管に設けられたバルブであ
る。尚、バルブ１１はバルブ３と兼用しても良い。１３
は装置全体を制御するコントローラであり、コンピュー
タからなる。

【００１８】次に、図２に従って洗浄装置の動作を説明
する。初期状態では液槽１内は廃棄が終了して空になっ
ている。そして、洗浄装置が起動すると、過酸化水素水
の液槽１への注入が行われ、更に硫酸の滴下も行われ
る。具体的にはバルブ３、２を開くことにより行う。

【００１９】ところで、硫酸と過酸化水素水を混合する
と、過酸化水素Ｈ_２Ｏ_２の分解により下記の反応を起
す。２Ｈ_２Ｏ_２→Ｏ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋９８．５ＫＪそして、９８．５ＫＪが反応熱となり、また硫酸の水成
分とによる水和熱が発生するので、これらが混合液の液
温を高める要因となり、液温が高くなると過酸化水素の
分解を惹起し、過酸化水素濃度の低下を速め、延いては
カロー酸Ｈ_２ＳＯ_５の発生率の低下を招く。

【００２０】そこで、図示こそしなかったが、温度セン
サー４により検出した温度が予め設定した値よりも高い
か低いかを判定し、高いときはクーラー７により液温を
低下させる動作も行う。そして、図示はしないが、液面
の高さ（液位センサー５により検出する。）が予め設定
された値に達したときバルブ３、２を閉じて硫酸、過酸
化水素水の供給を停止する動作をする。

【００２１】次に、硫酸濃度及び過酸化水素濃度の測定
を行い、硫酸濃度が所定値ａ以上、過酸化水素濃度が所
定値ｂ以上あることを確認する。バルブ３、２を開いて
供給された硫酸及び過酸化水素水は末使用で濃度が所定
値どおりにされた薬品であり、それ等の濃度が所定値
ａ、ｂより高い筈であるが、万一のことを考えて濃度確
認をするのである。

【００２２】濃度が所定値よりも低いという判定結果が
得られた場合には濃度測定をやり直す。そして、予め設
定された回数、例えば３回測定を繰返しても濃度が所定
値ａ、ｂよりも高いという測定結果が得られなかった場
合には異常と判断でき、アラームを発生してその旨をオ
ペレータ等に報せる。

【００２３】硫酸濃度が所定値ａ以上、過酸化水素濃度
が所定値ｂ以上あることを確認したら、ヒーター６によ
り混合液の液温を上昇させる動作を開始させ、液温が所
定値ｃ以上になるのを待つ。これは、冷却により混合液
の温度が低下すると洗浄効果が弱まるのでそれを回避す
るため行う。

【００２４】ところで、予め設定した時間経過しても液
温が所定温度に達しないという異常が起きた場合には、
アラームを発生してその旨を知らせる。混合液の液温が
所定値ｃ以上に高まった後は、図示はしないが温度モニ
ターをしながらヒーター６とクーラー７の働きにより混
合液を常に所定の温度範囲にあるように温度コントロー
ルする。

【００２５】以後、実際にウェハを洗浄処理する作業が
行われることになる。この作業中下記の動作が行われ
る。硫酸濃度と過酸化水素濃度を測定し、硫酸濃度が予
め設定した基準値ｄ以上であるか否かを判定し、基準値
ｄ以上であるという判定結果が得られたら過酸化水素濃
度が予め設定した基準値ｅ以上であるか否かを判定す
る。

【００２６】そして、基準値ｅ以上であるという判定結
果が得られたら混合液の液温を確認した上で硫酸濃度、
過酸化水素濃度の測定に戻り、上記各判定の結果がＹｅ
ｓである限り、上記一連の動作が繰返される。そして、
この状態の下でウェハ洗浄が繰返されるのである。

【００２７】ところで、洗浄の繰返し、時間の経過によ
って過酸化水素Ｈ_２Ｏ_２が分解し、過酸化水素濃度が低
下する（この低下はカロー酸Ｈ_２ＳＯ_５転換率の低下を
招き洗浄力の低下につながること前述のとおりであ
る）。従って、過酸化水素濃度がやがて過酸化水素濃度
低下許容値として設定された基準値ｅよりも低くなる。
すると、過酸化水素濃度が基準値ｅ以上か？という判定
の結果がＮｏになりバルブを一定時間開いて過酸化水素
水を一定量補充する動作が行われる。その結果、過酸化
水素濃度は初期状態のときの値に近くなる。尚、コンピ
ュータからなるコントローラ１３において最も適切な過
酸化水素の補充量を算出し、その算出した量の正確な補
充を自動的に行うように制御するようにしても良い。

【００２８】以後、過酸化水素濃度の低下、過酸化水素
水補充が何回か繰返される。そして、その過程で硫酸濃
度が徐々に低下する。というのは、硫酸は吸湿性を持つ
と共に過酸化水素の分解により混合液中に残る水が増え
てくるからである。また、過酸化水素水は水を含んでい
るため、過酸化水素水を追加することにより硫酸濃度を
下げることになる。そして、過酸化水素濃度はやがて許
容限界点として予め設定した基準値ｄよりも低くなる。
すると、過酸化水素濃度は基準値ｄ以上か？という判定
の結果がＮｏとなる。すると、混合液の交換を促すアラ
ームが発生し、ウェハ洗浄処理作業用の動作を停止す
る。

【００２９】そして、バルブ１２を開いて混合液を排出
する。硫酸濃度が低下すると、もはや混合液には必要な
洗浄力を期待出来ないから排出するのである。勿論、硫
酸を補充することも考えられるが、水が相当に多くなっ
ているので相当の硫酸を補充しても硫酸濃度を充分に高
めることが難しいので混合液全体を交換することとする
のである。尚、図示はしなかったが、廃液をするときに
は、クーラー７を動作させて混合液の温度を可能な限り
低くすることが好ましい。なぜならば、廃液処理によっ
て発熱する混合液の温度を廃棄可能な温度に低下させる
に要する時間を短縮できるからである。この点について
詳細に説明すると次のとおりである。

【００３０】混合液は過酸化水素濃度が低くなっている
といっても廃棄するにはまだ高濃度であり、相当に大量
の水を混合して希釈しなければ廃棄可能な濃度まで低く
ならない。従って、廃液を一旦廃液処理用の液槽に溜め
てそれに水を混合して希釈する必要がある。しかし、硫
酸を含んだ液に水を混合すると液温が上昇する。そし
て、液温が高い程同じ硫酸濃度で廃液管を侵蝕する度合
が強くなるので液温の高いままでは廃液処理用の液槽か
ら廃液管を通して排出することは許されない。

【００３１】尤も、耐硫酸性の強い管を用いればそのよ
うなことはないが、そのような管はきわめて高価であ
り、長い廃液管を全長に渡って耐硫酸性の高い高価な材
料で形成することは実際上許されない。従って、混合液
廃液を液温を所定温度に低下するまで廃液用液槽に入れ
たまま放置しなければならない。そして、その放置時間
が長いと、混合液廃液用液槽の大きさあるいは数を増や
すことが必要となる。これは、設備の利用効率の向上を
阻むので好ましくない。従って、上記放置時間を短くす
る必要があるが、液槽１から排出する混合液をクーラー
７により冷却することによりその必要性に応えることが
できるのである。

【００３２】尚、廃液が終了すると、前述の軌道開始直
後の過酸化水素水注入ステップに戻るのである。尚、過
酸化水素濃度が基準値ｅよりも低いという判定結果が出
て過酸化水素水の補充を行っても過酸化水素濃度が基準
値ｅよりも高くならない場合には、測定回数が予め設定
した所定回数、例えば３回越えたときに異常と判断して
アラームを発してウェハの液槽１への投入を禁止する措
置を講じるようになっている。また、過酸化水素濃度に
ついての判定後の温度チェックで温度が許容範囲外とい
う判定結果が出た場合には許容範囲内に戻るようにヒー
ター６あるいはクーラー７により温度調整するが、予め
設定した時間を経過しても温度が許容範囲に戻らなかっ
た場合には、異常と判定し、アラームを発して動作を停
止させるようになっている。

【００３３】本洗浄装置の動作を要約すると、液槽１に
過酸化水素水と硫酸を注入（どちらを先に注入しても良
いが、過酸化水素水を先に注入する方が好ましい）し、
それによる温度上昇を避けるためにクーラー７で冷却し
て液温を例えば８０℃以下、より望ましくは５０℃以下
に保ち過酸化水素水の分解を抑制する。そして、注入終
了後、ヒーター６により液温を例えば８０〜１２０℃に
高めて洗浄力を充分に高め、ウェハ洗浄に適する状態に
する。

【００３４】そして、その後は硫酸濃度と過酸化水素濃
度を測定し、硫酸濃度、過酸化水素濃度とそれらの所定
の基準値とを比較して補充、交換のタイミングを決める
ので、洗浄力が著しく低下して半導体ウェハが洗浄不足
になったり、洗浄力が不足していないのに過頻度に薬液
の補充、交換が行われて薬液の消耗量が徒らに多くなる
ことを回避することができる。

【００３５】そして、ヒーター６、クーラー７によって
液槽１内の混合液を加熱したり、冷却したりすることが
できるので、混合液が高温過ぎる（硫酸と過酸化水素水
の混合による発熱で温度が上昇すると高温になる。）こ
とにより過酸化水素水の消耗量が徒らに多くなったり、
混合液が温度低下により洗浄力不足になったりすること
を防止することができる。また、混合液を交換するとき
その廃液処理に先立ってクーラー７によって冷却するこ
とにより廃液を廃棄可能な温度にまで低下させるに必要
となる放置時間を短かくできる。

【００３６】図４は本発明洗浄装置の他の実施例を示す
構成図である。本実施例は図１に示した洗浄装置とは、
実際に洗浄処理を行う液槽１と調合を行う槽を別々に設
けたという点で異なるも、その他の点では共通し、共通
する部分については既に説明済みなので図１に付したの
と同じ符号を図４において使用して図示するにとどめ相
違する点についてのみ説明する。

【００３７】１４は調合槽で、洗浄液となる硫酸と過酸
化水素水との混合が行われる。１５は該調合槽１４から
混合液を液槽１に送る経路（管）に設けられたバルブ、
１６は調合槽１４内の混合液を冷却するクーラーで、硫
酸と過酸化水素水との混合により発熱するので冷却して
過酸化水素の分解を抑制する役割を果す。１７は冷却の
ための還流をするポンプ、１８はフィルタ、１９は調合
槽１４内の混合液の温度を検出する温度センサーであ
る。

【００３８】本洗浄装置においては調合槽１４内で硫酸
と過酸化水素水の調合を終え、クーラー１６によって混
合液を冷却した後バルブ１５を開いて液槽内に移す。そ
して、硫酸濃度、過酸化水素濃度を測定し、その測定結
果に基づいて過酸化水素水の補充、混合液の交換を行う
動作は、図１乃至図３に示した実施例の場合と略同じで
あり、奏する効果に相違するところはない。

【００３９】尚、図１、図２に示す各実施例において
は、洗浄装置がディップ式の場合には液槽１がそのまま
処理槽になり、被洗浄半導体ウェハは該液槽１内に浸漬
されるのである。また、洗浄装置がスプレー型の場合に
は、液槽１内の混合液が図示しないスプレー装置に送ら
れ、該スプレー装置から半導体ウェハ表面に吹付けられ
ることになる。このように、本発明洗浄装置はディップ
式のものにもスプレー式のものにも適用できる。

【００４０】

【発明の効果】請求項１の洗浄装置は、硫酸と過酸化水
素水の混合液を洗浄液として用いる洗浄装置において、
該混合液の硫酸濃度と過酸化水素濃度を検出する濃度分
析手段と、該混合液の過酸化水素濃度が予め設定された
過酸化水素濃度基準値よりも低下したとき過酸化水素水
を補充する過酸化水素水補充手段と、上記混合液の硫酸
濃度が予め設定された硫酸濃度基準値よりも低下したと
き混合液を排出して新たに硫酸と過酸化水素水の混合液
を取り込む混合液交換手段と、を有することを特徴とす
るものである。従って、請求項１の洗浄装置によれば、
濃度検出手段により過酸化水素濃度、硫酸濃度の低下を
正確に把握したうえで過酸化水素水の補充、混合液の交
換を行うことが可能になるので、洗浄力不足や過頻度補
充、過頻度交換を伴うことなく安定に半導体ウェハ等の
洗浄を行うことができる。

【００４１】請求項２の洗浄装置は、請求項１の洗浄装
置において、混合液の濃度を検出する温度センサーと、
上記温度センサーにより検出された温度が予め設定され
た温度範囲よりも低いとき混合液の温度を高める加熱手
段と、上記温度センサーにより検出された温度が予め設
定された温度範囲よりも高いとき混合液の温度を低める
冷却手段と、を有することを特徴とするものである。従
って、請求項２の洗浄装置によれば、温度センサーによ
り硫酸と過酸化水素水の混合液の温度をモニターしなが
ら加熱手段と冷却手段により調節できるので、硫酸と過
酸化水素水の混合時の発熱による過酸化水素の分解によ
る消耗を防止したり、混合液の温度低下による洗浄力低
下を防止したり、混合液の水での希釈という廃液処理に
先立って水の混合による温度上昇を冷却により少なくす
ることが可能になる。

【００４２】請求項３の洗浄装置は、請求項１又は２の
洗浄装置において、混合液の調合と洗浄を調合槽と、液
槽という別の槽において行うことを特徴とする。従っ
て、請求項３の洗浄装置によれば、調合槽で常に適正に
濃度、温度が調整された混合液を用意しておくことがで
きるので、液槽で混合液の補給が必要になったときに迅
速に適正に調整された混合液を補給することができ、洗
浄効率を高めることができる。

【００４３】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明洗浄装置の一つの実施例の構成図であ
る。

【図２】上記実施例の動作を示すフローチャートであ
る。

【図３】上記実施例により洗浄をした場合の混合液の硫
酸濃度及び過酸化水素の推移の一例を示す濃度変化図で
ある。

【図４】本発明洗浄装置の別の実施例の構成図である。

【図５】硫酸濃度・カロー酸への転換率関係図である。

【図６】硫酸及び過酸化水素の濃度変化図である。

【図７】硫酸の吸湿性による濃度低下を示す図である。

【符号の説明】

１・・・液槽、４・・・温度センサー、６・・・加熱手
段、７・・・冷却手段、１０・・・濃度分析手段、１６・・
・冷却手段。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開昭51−121254（ＪＰ，Ａ) 特開平３−96234（ＪＰ，Ａ) 特開昭63−14433（ＪＰ，Ａ) 特開平２−159029（ＪＰ，Ａ) 特開昭63−272040（ＪＰ，Ａ) 特開平４−357835（ＪＰ，Ａ) 特開平４−65829（ＪＰ，Ａ) 特開平４−278529（ＪＰ，Ａ) 特開平５−104070（ＪＰ，Ａ) 特開平５−152272（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 647 H01L 21/304 648 H01L 21/304 642 B08B 3/08

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】硫酸と過酸化水素水の混合液を洗浄液と
して用いる洗浄装置において、上記混合液の硫酸濃度と過酸化水素濃度を検出する濃度
分析手段と、上記混合液の過酸化水素濃度が予め設定された過酸化水
素濃度基準値よりも低下したとき過酸化水素水を補充す
る過酸化水素水補充手段と、上記混合液の硫酸濃度が予め設定された硫酸濃度基準値
よりも低下したとき該混合液を排出して新たに硫酸と過
酸化水素水の混合液を取り込む混合液交換手段と、を有することを特徴とする洗浄装置
【請求項２】混合液の温度を検出する温度センサー
と、上記温度センサーにより検出された温度が予め設定され
た温度あるいは温度範囲よりも低いとき混合液の温度を
高める加熱手段と、上記温度センサーにより検出された温度が予め設定され
た温度あるいは温度範囲よりも高いとき混合液の温度を
低める冷却手段と、を有することを特徴とする請求項１記載の洗浄装置
【請求項３】硫酸と過酸化水素水を混合する調合槽
と、上記調合槽から上記硫酸と過酸化水素水の混合液の
供給を受け、洗浄が行われる液槽とを有し、調合と洗浄
を別の槽で行うようにしたことを特徴とする請求項１又
は２記載の洗浄装置。