JP3119563U - スパッタリング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プレスパッタ工程においてターゲット4からのスパッタ粒子Sは2次散乱したものを含めキャップ状の凹部を有し基板8を囲繞するシャッタ21に衝突し基板8への堆積が阻止される。プレスパッタ工程終了後、ホルダ軸10Lを右方に移動しシャッタ21を下方に退避させる。その後再びホルダ軸10Lを左方に移動させ基板8を図の位置に復元し、成膜する。成膜終了時にホルダ軸10Lを再度右方に移動しシャッタ21を再度ターゲット4と基板8の中間に挿入する。
【選択図】図1
Description
2 電磁コイル
3 スパッタ室
4 ターゲット
5 シャッタ
6 シャッタ軸
6L シャッタ軸
6M シャッタ軸
7 シリンダ
8 基板
9 基板ホルダ
9L 基板ホルダ
9M 基板ホルダ
9N 基板ホルダ
10 ホルダ軸
10L ホルダ軸
21 シャッタ
22 シャッタ
23 シャッタ
24 回転軸
25 シャッタ
M マイクロ波
P プラズマ
S スパッタ粒子
V 排気口
Claims (4)
- スパッタリング室内に基板を保持する基板ホルダと、プレスパッタリング工程等における基板への着膜を防ぐためのシャッタを備えたスパッタリング装置において、シャッタの形状を基板の外面を覆うことができる形状に形成したことを特徴とするスパッタリング装置。
- スパッタリング室内に基板を保持する基板ホルダと、プレスパッタリング工程等における基板への着膜を防ぐためのシャッタを備えたスパッタリング装置において、シャッタの形状を基板に相対する面と基板の外面を覆うことができる断面コ字型に形成したことを特徴とするスパッタリング装置。
- スパッタリング室には、シャッタを基板を覆うよう近接させまた基板から退避させるシャッタ進退機構が設けられていることを特徴とする請求項1から2記載のスパッタリング装置。
- シャッタ進退機構が基板ホルダに支持されていることを特徴とする請求項3記載のスパッタリング装置。
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