JP3119208B2 - カラープラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は表示デバイスなどに
用いられるカラープラズマディスプレイパネル及びその
製造方法に関し、特に、赤色、緑色及び青色の各蛍光体
と各発光色に対して透過性を有するフィルタ層とを組み
合わせた高コントラストのカラープラズマディスプレイ
パネル及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラープラズマディスプレイパネル（以
下、「ディスプレイパネル」と略す。）は基本的に図５
に示すように、平板状の前面基板Ａと背面基板Ｂとが複
数の隔壁７によって一定の間隔を隔てて平行に配置さ
れ、隔壁７間にセルＣが形成された構造となっている。
前面基板Ａは光を取り出す側であり、透明ガラスのよう
な可視光透過性の絶縁基板１の背面基板Ｂと対向する裏
面に、ストライプ状の走査電極２が紙面に左右方向に形
成される。また、背面基板Ｂでは、透明ガラスのような
可視光透過性の絶縁基板５の前面基板Ａと対向する裏面
に、ストライプ状の書き込み電極６が紙面の裏面から表
面方向に形成される。したがって、前面基板Ａと背面基
板Ｂの各ストライプ状の電極２，６は直交方向の位置関
係となる。

【０００３】さらに、前面基板Ａに形成された走査電極
２上には、走査電極２を電気的に絶縁被覆する透明な誘
電体層３が積層される。各セルＣ間の隔壁７には、光の
三原色である赤色、緑色及び青色の各色に対応する発光
色をもった紫外線励起型の蛍光体８が形成される。

【０００４】このようなディスプレイパネルにおいて、
カラー表示を行うには、各セルＣでの放電を制御し、各
発光色の発光強度を変えることによって行われている。
この時、隣り合った非選択された状態にある異なる発光
色の蛍光体８が発光しないようにするため、隔壁７は厚
膜印刷法の多層印刷などによって形成され、各色ごとの
セルＣが仕切られている。

【０００５】また、カラー化のために、蛍光体８が隔壁
７に形成されると、蛍光体粒子のボディカラーはほとん
どが白色もしくは淡い灰色を呈するため、外光がパネル
に当たっている状態では発光中の表示ドットと発光して
いない非表示ドットとの明暗が不明確になり、表示のコ
ントラストが悪くなるという問題点がある。外光のパネ
ル表面での反射を抑えるため、可視波長全域に一様な吸
収特性を持ったフィルタ板をパネルの前面に設置する方
法もある。しかし、このようなフィルタ板はディスプレ
イパネル内部からの蛍光体の発光も吸収してしまうた
め、輝度や効率が低下するという問題が生じる。

【０００６】そこで、図６及び図７に示すようなＡＣ型
ディスプレイパネルが特開平４−３６９３０号に開示さ
れている。図６に示すＡＣ型ディスプレイパネルは前面
基板Ａを構成する絶縁基板１の走査電極２上に、着色誘
電体層１０を積層するものである。着色誘電体層１０
は、赤色発光蛍光体を形成したセルに赤色光透過フィル
タ、緑色発光蛍光体を形成したセルに緑色光透過フィル
タ、青色発光蛍光体を形成したセルに青色光透過フィル
タをそれぞれ形成するものである。

【０００７】図７に示すＡＣ型ディスプレイパネルは前
面基板Ａを構成する絶縁基板１の走査電極２上にフィル
タ層１１と透明誘電体層３とが積層されるもので、フィ
ルタ層１１は隔壁７によって仕切られる各セルＣごとに
赤色、緑色及び青色を透過するようにするものである。

【０００８】さらに、図８に示すようなＤＣ型ディスプ
レイパネルが特開平４−１１２０２号に開示されてい
る。ＤＣ型ディスプレイパネルは前面基板Ａを構成する
絶縁基板１上の走査電極２が誘電体層で覆われず、絶縁
基板１１の裏面全面にブラックマトリックスを有するカ
ラーフィルタ層１２を積層し、そのカラーフィルタ層１
２上で各セルＣごとに走査電極２を形成し、その走査電
極２上に蛍光体８を積層するものである。

【０００９】赤色発光の蛍光体８を形成したセルＣには
赤色光透過のフィルタ層１２、緑色発光の蛍光体８を形
成したセルＣには緑色光透過のフィルタ層１２、青色発
光の蛍光体８を形成したセルＣには青色光透過のフィル
タ層１２というように、各蛍光体８の発光色に合わせた
カラーフィルタ層１２を各セルＣごとに形成すること
で、輝度効率を下げることなくコントラストを高めるこ
とができる。

【００１０】カラーフィルタ層１２は一般に所望の透過
特性を有する顔料粉末を低融点ガラスと混合・ペースト
化し、スクリーン印刷法によって塗布して形成される。
スクリーン印刷法は細線を編んだメッシュに乳剤を塗布
し、パターンを形成したスクリーン版を用いて、乳剤を
塗布していない開口部からスキージによりペーストを吐
出させることにより、ペーストをパターン塗布するもの
である。例えば、図９に示すようにスクリーン版Ｓは25
μｍ径で400番手のスクリーンメッシュＭを用いてバイ
アス角を30°とし、100μｍ及び80μｍのパターンを描
くことができる。

【００１１】なお、耐熱性に優れるとともに出ガスがな
く、しかも解像性や加工精度などを向上させることがで
きるようにしたプラズマディスプレイ用基板のカラーフ
ィルタ形成方法が特開平６−５２０２号に開示されてい
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタ層１２
を形成する上記のスクリーン印刷法は、スクリーンメッ
シュＭを用いているため、ペーストを吐出する開口部に
も実際にはスクリーンメッシュＭを形成する細線が存在
する。開口部が大きい場合にはスクリーンメッシュＭに
よるパターンの閉塞はそれほど問題にならない。

【００１３】しかし現在、種々の利用形態において、高
密度な映像情報が要求されるようになっており、プラズ
マディスプレイパネルにおいても大面積でかつ高精細な
表示が要求されている。したがって、パターンが小さ
く、またパターン幅が狭くなるにしたがって、印刷後の
パターンに対してメッシュの影響を無視できず、高精度
のカラーフィルタ層１２を形成することができなくなっ
ている。

【００１４】すなわち、図９に示すスクリーン版Ｓにお
いて、例えば100μｍ幅の場合には最も開口部が塞がれ
るＸ部においても、幅方向で20％程度の開口部が確保さ
れており、全体的に安定したペーストの吐出が得られ
る。しかし80μｍ幅のＹ部分ではパターンの幅方向をほ
ぼ塞ぐようにスクリーンメッシュが存在するため、ペー
ストの吐出量が減少し、連続したパターンが描けない原
因となる。このように、スクリーン印刷では100μｍ以
下のパターンを描くことはむずかしく、カラーフィルタ
層１２を高精度に形成することができない。

【００１５】また、感光性のフィルタ材を用いてフォト
リソグラフィー法により、高精細な赤、緑、青の各色ご
とに単一のフィルタパターンを形成する方法もあるが、
工程が複雑になったり、材料の利用効率が悪いといった
問題がある。

【００１６】そこで、本発明は高精細のパターンであっ
ても十分な開口幅を持ったスクリーン版を用いて、コン
トラストを向上させるためのカラーフィルタ層を形成す
ることができるカラープラズマディスプレイ及びその製
造方法を提供することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の第１のカラープ
ラズマディスプレイパネルは、絶縁基板上に平行に設け
られた複数の書き込み電極と、前記各書き込み電極の間
に平行に配されたストライプ状の隔壁とを有し、前記各
隔壁間に形成される赤色発光、緑色発光及び青色発光の
蛍光体を各セル列にストライプ状に形成した背面基板
と、可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数
の走査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電
体層と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応
する位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、
前記緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と
青色光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応す
る位置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフ
ィルタ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘
電体層とを有する前面基板と、を備え、前記書き込み電
極と走査電極とが略直交する方向にして、前記背面基板
と前記前面基板とを対向配置して貼り合わせたカラープ
ラズマディスプレイパネルにおいて、前記青色光吸収層
がクロム酸鉛を含有し、あるいは赤色光吸収層が酸化コ
バルト−錫を含有し、あるいは緑色光吸収層がリン酸コ
バルトを含有することを特徴とするものである。

【００１８】本発明の第２のカラープラズマディスプレ
イパネルは、絶縁基板上に平行に設けられた複数の書き
込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配された
ストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成され
る赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル列
にストライプ状に形成した背面基板と、可視光透過性の
絶縁基板上に平行に設けられた複数の走査電極と、前記
走査電極層上に積層された透明誘電体層と、前記誘電体
層上で、前記赤色発光のセルに対応する位置には緑色光
吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記緑色発光のセル
に対応する位置には赤色光吸収層と青色光吸収層とを積
層し、前記青色発光のセルに対応する位置には赤色光吸
収層と緑色光吸収層とを積層したフィルタ層と、更に前
記フィルタ層上に積層された透明誘電体層とを有する前
面基板と、を備え、前記書き込み電極と走査電極とが略
直交する方向にして、前記背面基板と前記前面基板とを
対向配置して貼り合わせたカラープラズマディスプレイ
パネルにおいて、前記前面基板に複数のブラックマスク
が間隔を隔てて形成され、前記ブラックマスクに隣接す
るセルの位置に前記各光吸収層が形成されることを特徴
とするものである。前記青色光吸収層がクロム酸鉛を含
有し、あるいは赤色光吸収層が酸化コバルト−錫を含有
し、あるいは緑色光吸収層がリン酸コバルトを含有する
のが好ましい。

【００１９】前記フィルタ層の赤色光吸収層、緑色光吸
収層及び青色光吸収層の各吸収層が透明誘電体層により
分離して積層されていてもよい。

【００２０】本発明の第１のカラープラズマディスプレ
イパネルの製造方法は、絶縁基板上に平行に設けられた
複数の書き込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行
に配されたストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間
に形成される赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体
を各セル列にストライプ状に形成した背面基板と、可視
光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走査電
極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層と、
前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する位置
には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記緑色
発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色光吸
収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位置に
は赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィルタ層
と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体層と
を有する前面基板と、を備え、前記書き込み電極と走査
電極とが略直交する方向にして、前記背面基板と前記前
面基板とを対向配置して貼り合わせたカラープラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法において、前記赤色発光の
セルと緑色発光のセルの位置に青色光吸収層を同時に形
成し、緑色発光のセルと青色発光のセルの位置に赤色光
吸収層を同時に形成し、青色発光のセルと赤色発光のセ
ルの位置に緑色光吸収層を同時に形成することによりフ
ィルタ層を形成し、前記青色光吸収層がクロム酸鉛を含
有し、あるいは赤色光吸収層が酸化コバルト−錫を含有
し、あるいは緑色光吸収層がリン酸コバルトを含有する
ように各光吸収層を形成することを特徴とするものであ
る。

【００２１】本発明の第２のカラープラズマディスプレ
イパネルの製造方法は、絶縁基板上に平行に設けられた
複数の書き込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行
に配されたストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間
に形成される赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体
を各セル列にストライプ状に形成した背面基板と、可視
光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走査電
極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層と、
前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する位置
には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記緑色
発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色光吸
収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位置に
は赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィルタ層
と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体層と
を有する前面基板と、を備え、前記書き込み電極と走査
電極とが略直交する方向にして、前記背面基板と前記前
面基板とを対向配置して貼り合わせたカラープラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法において、前記前面基板に
複数のブラックマスクを間隔を隔てて形成し、次いで、
前記ブラックマスクに隣接するセルの位置に前記各光吸
収層を形成することを特徴とするものである。

【００２２】前記青色光吸収層がクロム酸鉛を含有し、
あるいは赤色光吸収層が酸化コバルト−錫を含有し、あ
るいは緑色光吸収層がリン酸コバルトを含有するように
各光吸収層を形成してもよい。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るカラープラズ
マディスプレイの構造を図１を参照しながら説明する。
本発明に係るカラープラズマディスプレイは、前面基板
Ａと背面基板Ｂとが複数の隔壁７によって一定の間隔を
隔てて平行に配置されており、隔壁７間に赤色発光、緑
色発光及び青色発光の各セルＣが形成される。

【００２４】前面基板Ａは透明ガラスのような可視光透
過性の絶縁基板１を有し、その絶縁基板１の背面基板Ｂ
と対向する裏面に、ストライプ状の透明な走査電極２を
紙面の左右方向に形成し、走査電極２上に走査電極２を
電気的に絶縁する透明な誘電体層３ａを積層し、誘電体
層３ａ上にフィルタ層４を形成し、フィルタ層４上に透
明な誘電体層３ｂを積層したものである。フィルタ層４
は、赤色発光のセルＣでは緑色光吸収層４ｃと青色光吸
収層４ａを形成し、緑色発光のセルＣでは赤色光吸収層
４ｂと青色光吸収層４ａとを形成し、青色発光のセルＣ
では赤色光吸収層４ｂと緑色光吸収層４ｃとを形成した
ものである。

【００２５】したがって、一つのセルＣに対して、二つ
の各色の光吸収層４ａ，４ｂ，４ｃが形成される。この
ため、セルピッチが狭くなっても、セルピッチの２倍の
開口幅を有するスクリーン版によって各色の光吸収層４
ａ，４ｂ，４ｃを形成することができる。

【００２６】青色光吸収層としてはクロム酸鉛（PbCrＯ
₄）の粉末を、赤色光吸収層としては酸化コバルト−錫
（CoＯ・SnO₂）粉末を、緑色光吸収層としてはリン酸コ
バルト（Co₃(ＰＯ₄）₂）粉末を、それぞれセルロース系
バインダ、溶剤と混合しペースト化したものを用いる。
クロム酸鉛は480ｎｍ以下の波長の可視光に対して大き
な吸収を持ち、また酸化コバルト−錫は560〜680ｎｍの
波長域の光に対して大きな吸収を持ち、さらにリン酸コ
バルトは480〜580ｎｍの波長域の光に対して大きな吸収
を持つ。

【００２７】この結果、青色光吸収層と赤色光吸収層が
積層された緑色発光セルでは、480〜560ｎｍの緑色発光
に対応する波長域が選択的に透過され、また赤色光吸収
層と緑色光吸収層が積層された青色発光セルでは、480
ｎｍ以下の青色発光に対応する波長域が選択に透過さ
れ、さらに緑色光吸収層と青色光吸収層が積層された赤
色発光セルでは580ｎｍ以上の赤色発光に対応する波長
域が選択的に透過されるようになる。

【００２８】他方、背面基板Ｂは可視光線を透過する透
明ガラスのような絶縁基板５が前面基板Ａと対向する裏
面であって多数の隔壁７の間に、ストライプ状の書き込
み電極６を紙面の裏面側から表面側の方向に形成したも
のである。この書き込み電極６、絶縁基板５及び隔壁７
には連続して、青色、赤色及び緑色の各蛍光体８ａ，８
ｂ，８ｃが積層され、赤色発光、緑色発光及び青色発光
の各セルＣが形成される。

【００２９】つぎに、本発明に係るプラズマディスプレ
イの製造方法を図２を参照しながら説明する。まず、前
面基板Ａの形成方法について説明する。最初に、絶縁基
板１の裏面全面に酸化錫−酸化インジウム（ＩＴＯ）か
らなる透明導電膜をスパッタリング法により形成する。
さらにＩＴＯ膜をフォトリソグラフィ法と硝酸によるエ
ッチングにより、ストライプ状の走査電極２を紙面の左
右方向に形成する。続いて、ディスプレイパネルの表示
部全体を覆うように、低融点ガラスペーストをスクリー
ン印刷により塗布し、６００℃で焼成することにより、
透明な誘電体層３ａを形成する。

【００３０】つぎに誘電体層３ａ上にフィルタ層４を形
成する。フィルタ層４は図２に示すように、スクリーン
版Ｓを用いて青色光吸収層４ａを赤色発光及び緑色発光
の各セルＣに対応する部分に、紙面の裏面側から表面側
の方向にストライプ状に塗布して形成する。このスクリ
ーン版Ｓは二つのセルＣの分の幅の開口部ｔを、三つの
セルＣの分のピッチでストライプ状に形成したものであ
る。

【００３１】続いて、同様に赤色光吸収層４ｂを緑色発
光及び青色発光の各セルＣに対応する部分に塗布形成す
る。これにより、緑色発光のセルＣでは青色光吸収層４
ａと赤色光吸収層４ｂが積層された状態となる。さら
に、緑色光吸収層４ｃを青色発光及び赤色発光の各セル
Ｃに対応する部分に塗布形成することにより、赤色発光
のセルＣでは青色光吸収層４ａと緑色光吸収層４ｃが積
層される。また青色発光のセルＣでは赤色光吸収層４ｂ
と緑色光吸収層４ｃが積層された状態となる。

【００３２】つぎに表示領域全体に低融点ガラスペース
トを塗布し、６００℃で焼成することによりフィルタ層
４及び透明な誘電体層３ｂを得る。さらに、図示しない
酸化マグネシウム（MgＯ）層を真空蒸着法により、表示
領域に形成して絶縁基板１上への各層の形成が終了す
る。

【００３３】他方、背面基板Ｂはガラスのような可視光
透過性の絶縁基板５の裏面に、ストライプ状の書き込み
電極６を上記の前面基板Ａの書き込み電極６と直交する
方向に形成する。そして、この書き込み電極６の間で絶
縁基板５の裏面に多数の隔壁７を設ける。その後、書き
込み電極６、背面基板５及び隔壁７の表面にそれぞれ青
色蛍光体層４ａ、赤色蛍光体層４ｂ、緑色蛍光体層４ｃ
を形成する。その後、背面基板Ｂの周囲に図示しないシ
ール用のフリットガラス層を形成する。

【００３４】最後に、上記の前面基板Ａと背面基板Ｂの
裏面同士を間隔を隔てて平行に対向させ、周囲のシール
フリットにより封止し、内部を排気した後、放電ガスを
封入すると、プラズマディスプレイが完成する。

【００３５】つぎに、プラズマディスプレイパネルの前
面基板Ａの別の形成方法を図３を参照しながら説明す
る。この製造方法はまず、絶縁基板１上に走査電極２と
透明な誘電体層３ａとを積層する。つぎに図３（ａ）に
示すように、各発光色ごとにセルＣを区切るブラックマ
スク９を形成する。ブラックマスク９は、例えば黒色顔
料と低融点ガラスペーストとを混合し、ペースト化した
ものを表示領域の全体に塗布した後、ブラックマスク９
を形成する部分のみにレジスト層を形成し、サンドブラ
スト法によりパターン化することにより形成することが
できる。

【００３６】つぎに図３（ｂ）に示すように、赤色発光
のセルＣ、緑色発光のセルＣにスクリーン印刷法によ
り、青色光吸収層ペースト１４を押し込み、塗布する。
このとき、青色光吸収層ペースト１４の溶剤分を多く
し、粘度を下げることにより、スクリーン版Ｓの開口部
に偏りが生じても、ブラックマスクに挟まれた領域に均
等にペーストを押し込むことができる。

【００３７】青色光吸収層ペースト１４を塗布した後、
乾燥すると、図３（ｃ）に示すように、青色光吸収層４
ａを得る。同様にして、赤色光吸収層４ｂ及び緑色光吸
収層４ｃを形成する。これにより図３（ｄ）に示すよう
に、赤色発光のセルＣでは、青色光吸収層４ａと緑色光
吸収層４ｃが、緑色発光のセルＣでは青色光吸収層４ａ
と赤色光吸収層４ｂが、また青色発光のセルＣでは、赤
色光吸収層４ｂと緑色光吸収層４ｃがそれぞれ積層され
た状態のフィルタ層４が形成される。絶縁基板１にはさ
らに表示領域全体に透明な誘電体層３ｂ（図１参照）を
形成する。その後、６００℃で焼成することにより、ブ
ラックマスク９で区切られた、所望の透過特性を有する
フィルタ層４が形成される。

【００３８】つぎに、プラズマディスプレイパネルの前
面基板Ａのさらに別の形成方法を図４を参照しながら説
明する。この方法はまず、透明ガラスのような絶縁基板
１上に走査電極２と透明な誘電体層３ａを形成する。つ
ぎに赤色発光のセルＣ及び緑色発光のセルＣに青色光吸
収層４ａを、表示領域全体に透明な誘電体層３ｃを、緑
色発光のセルＣ及び青色発光のセルＣに赤色光吸収層４
ｂを、表示領域全体に透明な誘電体層３ｄを、青色発光
のセルＣ及び赤色発光のセルＣに緑色光吸収層４ｃを、
表示領域全体に透明な誘電体層３ｂを形成する。

【００３９】その後、６００℃で焼成することにより、
フィルタ層４と透明な誘電体層３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ
の積層膜が形成される。上記の構成により、赤色、緑色
及び青色の各光吸収層４ａ，４ｂ，４ｃは誘電体層３
ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄにより隔離され、直接に接触する
ことがない。このような構成においても赤色、緑色及び
青色の各光吸収層４ａ，４ｂ，４ｃの組み合わせによ
り、各セルＣにおいて発光色に応じた透過特性を有する
フィルタ層を形成することができる。

【００４０】なお、本発明は上記の実施の形態に限定さ
れることなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項
の範囲内において種々の変更が可能である。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、フィルタ層は二つのセ
ルに対して一つの光吸収層を形成するため、セルピッチ
が狭くなってもセルピッチの２倍の開口幅を有するスク
リーン版によって、緑色、青色及び赤色の各光吸収層を
形成することができる。したがって、高詳細なパターン
もスクリーン印刷法を用いて、フィルタ層を形成するこ
とができる。その結果、この方法によって製造されたカ
ラープラズマディスプレイは、高密度な映像情報を提供
することができる。

【００４２】さらに、図２及び図３に示した方法によれ
ば、積層形成するフィルタ層を隣接するセルと同時に形
成するため、各セルに単独でフィルタ層を形成する従来
の場合と同様、３回の印刷でフィルタ層をすべて形成す
ることができる。したがって、この方法によって生産性
が向上する。また、異種のフィルタ層が接触したまま焼
成することにより、透過特性に変化が起こるような場合
には、図４に示したようにフィルタ層の間に透明な誘電
体層を形成することで、フィルタ層相互の影響をなくす
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るカラープラズマディスプレイパネ
ルの要部断面図である。

【図２】図１に示したカラープラズマディスプレイの製
造工程を示す模式図である。

【図３】本発明に係るカラープラズマディスプレイパネ
ルの図２とは別の製造工程を示す模式図である。

【図４】本発明に係るカラープラズマディスプレイパネ
ルの図１及び図２とは別の製造工程を示す模式図であ
る。

【図５】従来のカラープラズマディスプレイパネルの要
部断面図である。

【図６】従来のＡＣ型プラズマディスプレイパネルの要
部断面図である。

【図７】図６とは別の従来のＡＣ型プラズマディスプレ
イパネルの要部断面図である。

【図８】従来のＤＣ型プラズマディスプレイパネルの要
部断面図である。

【図９】スクリーン印刷に用いるスクリーン版の模式図
である。

【符号の説明】

Ａ：前面基板 Ｂ：背面基板 Ｃ：セル １：絶縁基板 ２：走査電極 ３ａ：誘電体層 ３ｂ：誘電体層 ４：フィルタ層 ４ａ：青色光吸収層 ４ｂ：赤色光吸収層 ４ｃ：緑色光吸収層 ５：絶縁基板 ６：書き込み電極 ７：隔壁 ８ａ：青色蛍光体 ８ｂ：赤色蛍光体 ８ｃ：緑色蛍光体

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】絶縁基板上に平行に設けられた複数の書き
   込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配された
   ストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成され
   る赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル列
   にストライプ状に形成した背面基板と、 可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走
   査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層
   と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する
   位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記
   緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色
   光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位
   置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィル
   タ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体
   層とを有する前面基板と、を備え、 前記書き込み電極と走査電極とが略直交する方向にし
   て、前記背面基板と前記前面基板とを対向配置して貼り
   合わせたカラープラズマディスプレイパネルにおいて、 前記青色光吸収層がクロム酸鉛を含有することを特徴と
   するカラープラズマディスプレイパネル。
2. 【請求項２】絶縁基板上に平行に設けられた複数の書き
   込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配された
   ストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成され
   る赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル列
   にストライプ状に形成した背面基板と、 可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走
   査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層
   と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する
   位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記
   緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色
   光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位
   置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィル
   タ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体
   層とを有する前面基板と、を備え、 前記書き込み電極と走査電極とが略直交する方向にし
   て、前記背面基板と前記前面基板とを対向配置して貼り
   合わせたカラープラズマディスプレイパネルにおいて、 前記赤色光吸収層が酸化コバルトー錫を含有することを
   特徴とするカラープラズマディスプレイパネル。
3. 【請求項３】絶縁基板上に平行に設けられた複数の書き
   込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配された
   ストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成され
   る赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル列
   にストライプ状に形成した背面基板と、 可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走
   査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層
   と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する
   位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記
   緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色
   光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位
   置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィル
   タ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体
   層とを有する前面基板と、を備え、 前記書き込み電極と走査電極とが略直交する方向にし
   て、前記背面基板と前記前面基板とを対向配置して貼り
   合わせたカラープラズマディスプレイパネルにおいて、 前記緑色光吸収層がリン酸コバルトを含有することを特
   徴とするカラープラズマディスプレイパネル。
4. 【請求項４】絶縁基板上に平行に設けられた複数の書き
   込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配された
   ストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成され
   る赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル列
   にストライプ状に形成した背面基板と、 可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走
   査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層
   と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する
   位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記
   緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色
   光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位
   置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィル
   タ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体
   層とを有する前面基板と、を備え、 前記書き込み電極と走査電極とが略直交する方向にし
   て、前記背面基板と前記前面基板とを対向配置して貼り
   合わせたカラープラズマディスプレイパネルにおいて、 前記前面基板に複数のブラックマスクが間隔を隔てて形
   成され、前記ブラックマスクに隣接するセルの位置に前
   記各光吸収層が形成されることを特徴とするカラープラ
   ズマディスプレイパネル
5. 【請求項５】前記青色光吸収層がクロム酸鉛を含有する
   ことを特徴とする請求項４に記載のカラープラズマディ
   スプレイパネル。
6. 【請求項６】前記赤色光吸収層が酸化コバルトー錫を含
   有することを特徴とする請求項４又は５に記載のカラー
   プラズマディスプレイパネル。
7. 【請求項７】前記緑色光吸収層がリン酸コバルトを含有
   することを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１つの
   項に記載のカラープラズマディスプレイパネル。
8. 【請求項８】前記フィルタ層の赤色光吸収層、緑色光吸
   収層及び青色光吸収層の各吸収層が透明誘電体層により
   分離して積層されていることを特徴とする請求項１乃至
   ７のいずれか１つの項に記載のカラープラズマディスプ
   レイパネル。
9. 【請求項９】絶縁基板上に平行に設けられた複数の書き
   込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配された
   ストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成され
   る赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル列
   にストライプ状に形成した背面基板と、 可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走
   査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層
   と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する
   位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記
   緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色
   光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位
   置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィル
   タ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体
   層とを有する前面基板と、を備え、 前記書き込み電極と走査電極とが略直交する方向にし
   て、前記背面基板と前記前面基板とを対向配置して貼り
   合わせたカラープラズマディスプレイパネルの製造方法
   において、 前記赤色発光のセルと緑色発光のセルの位置に青色光吸
   収層を同時に形成し、緑色発光のセルと青色発光のセル
   の位置に赤色光吸収層を同時に形成し、青色発光のセル
   と赤色発光のセルの位置に緑色光吸収層を同時に形成す
   ることによりフィルタ層を形成し、 前記青色光吸収層がクロム酸鉛を含有することを特徴と
   するカラープラズマディスプレイパネルの製造方法。
10. 【請求項１０】絶縁基板上に平行に設けられた複数の書
    き込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配され
    たストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成さ
    れる赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル
    列にストライプ状に形成した背面基板と、 可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走
    査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層
    と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する
    位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記
    緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色
    光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位
    置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィル
    タ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体
    層とを有する前面基板と、を備え、 前記書き込み電極と走査電極とが略直交する方向にし
    て、前記背面基板と前記前面基板とを対向配置して貼り
    合わせたカラープラズマディスプレイパネルの製造方法
    において、 前記赤色発光のセルと緑色発光のセルの位置に青色光吸
    収層を同時に形成し、緑色発光のセルと青色発光のセル
    の位置に赤色光吸収層を同時に形成し、青色発光のセル
    と赤色発光のセルの位置に緑色光吸収層を同時に形成す
    ることによりフィルタ層を形成し、 前記赤色光吸収層が酸化コバルトー錫を含有することを
    特徴とするカラープラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
11. 【請求項１１】絶縁基板上に平行に設けられた複数の書
    き込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配され
    たストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成さ
    れる赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル
    列にストライプ状に形成した背面基板と、 可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走
    査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層
    と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する
    位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記
    緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色
    光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位
    置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィル
    タ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体
    層とを有する前面基板と、を備え、 前記書き込み電極と走査電極とが略直交する方向にし
    て、前記背面基板と前記前面基板とを対向配置して貼り
    合わせたカラープラズマディスプレイパネルの製造方法
    において、 前記赤色発光のセルと緑色発光のセルの位置に青色光吸
    収層を同時に形成し、緑色発光のセルと青色発光のセル
    の位置に赤色光吸収層を同時に形成し、青色発光のセル
    と赤色発光のセルの位置に緑色光吸収層を同時に形成す
    ることによりフィルタ層を形成し、 前記緑色光吸収層がリン酸コバルトを含有することを特
    徴とするカラープラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
12. 【請求項１２】絶縁基板上に平行に設けられた複数の書
    き込み電極と、前記各書き込み電極の間に平行に配され
    たストライプ状の隔壁とを有し、前記各隔壁間に形成さ
    れる赤色発光、緑色発光及び青色発光の蛍光体を各セル
    列にストライプ状に形成した背面基板と、 可視光透過性の絶縁基板上に平行に設けられた複数の走
    査電極と、前記走査電極層上に積層された透明誘電体層
    と、前記誘電体層上で、前記赤色発光のセルに対応する
    位置には緑色光吸収層と青色光吸収層とを積層し、前記
    緑色発光のセルに対応する位置には赤色光吸収層と青色
    光吸収層とを積層し、前記青色発光のセルに対応する位
    置には赤色光吸収層と緑色光吸収層とを積層したフィル
    タ層と、更に前記フィルタ層上に積層された透明誘電体
    層とを有する前面基板と、を備え、 前記書き込み電極と走査電極とが略直交する方向にし
    て、前記背面基板と前記前面基板とを対向配置して貼り
    合わせたカラープラズマディスプレイパネルの製造方法
    において、 前記前面基板に複数のブラックマスクを間隔を隔てて形
    成し、 次いで、前記ブラックマスクに隣接するセルの位置に前
    記各光吸収層を形成することを特徴とするカラープラズ
    マディスプレイパネルの製造方法。
13. 【請求項１３】前記青色光吸収層がクロム酸鉛を含有す
    ることを特徴とする請求項１２に記載のカラープラズマ
    ディスプレイパネの製造方法。
14. 【請求項１４】前記赤色光吸収層が酸化コバルトー錫を
    含有することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の
    カラープラズマディスプレイパネルの製造方法。
15. 【請求項１５】前記緑色光吸収層がリン酸コバルトを含
    有することを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか
    １つの項に記載のカラープラズマディスプレイパネルの
    製造方法。