JP3115427B2 - 半導体加速度センサ - Google Patents
半導体加速度センサInfo
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Description
加速度センサに関する。
ンサの一例を示し、図8は平面図,図9は側面図であ
る。図8および図9において、半導体からなり、四角形
の厚肉状の例えば厚さ400ミクロンの重り1と、この
重りの一側面と所定の間隔を有する四角形の厚肉状の支
持体6と、重り1の前記一側面と対面する支持体6の側
面とを連結する薄肉状の例えば厚さ20〜40ミクロン
の梁7とからなり、この梁7に歪ゲージ7A,7B,7
C,7Dが形成されている。これら歪ゲージのうち歪ゲ
ージ7A,7Cは梁7と支持体6の結合部側の上面にこ
の梁7の長さ方向に形成され、歪ゲージ7B,7Dは梁
7と重り1の結合部側の上面にこの梁7の巾方向に形成
される。そしてこれら歪ゲージ7A,7B,7C,7D
を図12のように歪ゲージ7Aと7C,7Bと7Dとを
それぞれ対向させてホイートストンブリッジを構成す
る。なおEは電源端子,Gは接地端子,S1,S2は信
号出力端子である。
なわち重り1に対し垂直方向(加速度検出方向となる)
の加速度が加わると、梁7は図13に示すように重り1
は垂直方向の力Fv を受け、矢印M方向に撓む。このと
き梁7には、この梁7と支持体6の結合部側の上面およ
びこの梁7と重り1の結合部側の上面にそれぞれ引っ張
り応力が働き、この梁7の長さ方向に形成された歪ゲー
ジ7Aおよび7Cはその抵抗値が増加するが、この梁7
の巾方向に形成された歪ゲージ7Bおよび7Dはその抵
抗値に変化は生じない。このようにしてホイートストン
ブリッジの信号出力端子S1,S2から加速度に比例し
た大きさの検出信号が出力される。
通常拡散技術により形成するので、その保護のため重り
1,梁7および支持体6の上面にSiO2 あるいはSi
Nなどのパッシベーション膜10を設けるようにする。
おいては、図9で示すように梁7の撓み中心線9と重り
1の重心点Wとの間に距離Lがあるので、矢印Hで示す
ように重り1に対し横方向(加速度の非検出方向とな
る)に加速度が加わると、撓み中心線9と重り1の重心
点Wとの間の距離Lと、加速度によって重り1に生じる
横方向の力Fh とによりモーメントが生じ、図14に示
すように、梁7は垂直方向に加速度が加わったときと同
様に矢印M方向に撓んでしまう。この撓みによってもホ
イートストンブリッジは信号を出力し、この信号は干渉
出力となり検出精度を低下させる。
重り1の上面に例えばガラスなどからなる追加重り8を
接合し、重り1と追加重り8とからなる重りの重心点W
が丁度梁7の撓み中心線9と合致させそれらの間の距離
Lを零とすることが考えられるが、追加重りを接合する
特別な工程が増えコストが上昇する。更にまた、前述の
加速度センサにおいては、梁と重りとの結合部側の上面
にこの梁の巾方向に形成された歪ゲージは、加速度が加
わったとき抵抗変化を生じないので検出感度が低い問題
がある。
O2 あるいはSiNなどのパッシベーション膜は、通常
高温で形成処理され、その後常温に戻されるが、パッシ
ベーション膜とシリコン半導体との熱膨張係数が異なる
ため、常温に戻したときシリコン半導体の表面に応力を
生じ図15のよう梁7に撓みを生じる場合がある。この
ように梁に撓みを生じると、丁度加速度が加わったとき
と同じようになりホイーストンブリッジから電圧が出力
される。この電圧はオフセット出力と称されて、センサ
出力のSN比を下げ検出精度を低下させる。
別な工程を必要とせず、検出感度を向上し、かつ干渉出
力を低減した加速度センサを提供することにある。更に
本発明の目的はパッシベーション膜によるオフセット電
圧を低減した加速度センサを提供することにある。
めに、本発明によれば、半導体からなり、四角形の厚肉
状の重りと、この重りと所定の間隔を有し、かつこの重
りを囲うように形成された四角形の内孔を有する厚肉状
の支持体と、前記重りの対面する一対の外辺のそれぞれ
の外辺の各両端部とこれら両端部と対面する支持体の各
内辺とを連結する4個の薄肉状の梁とからなり、前記各
梁にそれぞれ歪ゲージが形成された半導体加速度センサ
において、4個の各梁に形成される歪ゲージは、それぞ
れこれら梁の長さ方向にこれら梁と支持体の結合部側の
上面に形成される第1の側の4個の歪ゲージとこれら梁
と重りの結合部側の上面に形成される第2の側の4個の
歪ゲージとからなり、これら第1の側の4個の歪ゲージ
のうち重りの中心点に対して対称となる各2個の歪ゲー
ジをそれぞれ対向させ、かつこれら第2の側の4個の歪
ゲージのうち重りの中心点に対して対称となる各2個の
歪ゲージをそれぞれ対向させてホイートストンブリッジ
を構成するものとする。また、半導体からなり、正四角
形の厚肉状の中央部とこの中央部を中心として互に90
°の回転移動で合致する中央部の各辺の位置にそれぞれ
形成された4個の四角形の厚肉状の凸部とからなる重り
と、前記重りの各凸部の外辺と所定の間隔を有し、かつ
この重りを囲うよう形成された四角形の内孔を有する厚
肉状の支持体と、前記重りの中央部を中心として互に9
0°の回転移動で合致する前記重りの各凸部の一側辺
と、これら一側辺にそれぞれ対面する前記支持体の各内
辺とを連結する4個の薄肉状の梁とからなり、前記各梁
にそれぞれ歪ゲージが形成されるものとする。ここで、
4個の各梁に形成される歪ゲージは、それぞれこれら梁
の長さ方向にこれら梁と支持体の結合部側の上面に形成
される第1の側の4個の歪ゲージとこれら梁と重りの結
合部側の上面に形成される第2の側の4個の歪ゲージと
からなり、これら第1の側の4個の歪ゲージのうち重り
の中心点に対して対称となる各2個の歪ゲージをそれぞ
れ対向させ、かつこれら第2の側の4個の歪ゲージのう
ち重りの中心点に対して対称となる各2個の歪ゲージを
それぞれ対向させてホイートストンブリッジを構成する
ことが好ましい。また、上記のいずれの場合も、歪ゲー
ジの形成された梁の上面にパッシベーション膜が設けら
れたことが良い。
は、半導体からなり、四角形の厚肉状の重りと、この重
りと所定の間隔を有し、かつこの重りを囲うように形成
された四角形の内孔を有する厚肉状の支持体と、前記重
りの対面する一対の外辺のそれぞれの外辺の各両端部と
これら両端部と対面する支持体の各内辺とを連結する4
個の薄肉状の梁とからなり、前記各梁にそれぞれ歪ゲー
ジが形成された半導体加速度センサにおいて、4個の各
梁に形成される歪ゲージは、それぞれこれら梁の長さ方
向にこれら梁と支持体の結合部側の上面に形成される第
1の側の4個の歪ゲージとこれら梁と重りの結合部側の
上面に形成される第2の側の4個の歪ゲージとからな
り、これら第1の側の4個の歪ゲージのうち重りの中心
点に対して対称となる各2個の歪ゲージをそれぞれ対向
させ、かつこれら第2の側の4個の歪ゲージのうち重り
の中心点に対して対称となる各2個の歪ゲージをそれぞ
れ対向させてホイートストンブリッジを構成するものと
したので、重りは左右から梁によって支持されるので、
横方向(非検出方向)の加速度が加わった場合梁の撓み
は従来の片側の梁で支持される場合に比し著るしく小さ
くなり、干渉出力は著るしく低減される。さらに、例え
ば横方向(非検出方向)の加速度が加わった場合、重り
の中心点に対して対称となる第1の側および第2の側そ
れぞれの各2個の歪ゲージは、その内一方の歪ゲージに
圧縮応力が加わると他方の歪ゲージには引っ張り応力が
加わり、互に抵抗値の変化を打消すように働き、ホイー
トストンブリッジからは信号は出力されない。また、垂
直方向(検出方向)の加速度が加わった場合は、第1の
側および第2の側のすべての歪ゲージは、それぞれ一方
の側の歪ゲージに圧縮応力が加わると他方の側の歪ゲー
ジには引っ張り応力が加わり、これらのすべての歪ゲー
ジの抵抗値の変化によってホイートストンブリッジから
は検出信号が出力される。これによって、干渉出力は低
減し検出感度は向上する。
においては、半導体からなり、正四角形の厚肉状の中央
部とこの中央部を中心として互に90°の回転移動で合
致する中央部の各辺の位置にそれぞれ形成された4個の
四角形の厚肉状の凸部とからなる重りと、前記重りの各
凸部の外辺と所定の間隔を有し、かつこの重りを囲うよ
う形成された四角形の内孔を有する厚肉状の支持体と、
前記重りの中央部を中心として互に90°の回転移動で
合致する前記重りの各凸部の一側辺と、これら一側辺に
それぞれ対面する前記支持体の各内辺とを連結する4個
の薄肉状の梁とからなり、前記各梁にそれぞれ歪ゲージ
を形成するようにしたので、各梁は重りの中央部の各辺
に沿って形成されるようになり、それらの長さ方向を長
くすることができるのでより容易に撓むようになる。こ
れにより、更に検出感度を向上させることができる。詳
述するならば、凸部の存在により、加速度が発生した場
合に、梁がねじれるように変形することがないため、ゲ
ージ部に発生する応力が、主として梁の長手方向(軸方
向)に発生することから、ゲージ抵抗変化率が効率良く
変化し、感度の高いセンサを実現できる。すなわち、本
発明の4つの凸部を設けた構成とすることで、梁の長手
方向に向いた応力が支配的となり、ピエゾ抵抗の変化効
率が良くなり感度の高いセンサを実現できる。また、4
つの凸部が重りに追加されたことで、感度的に優位なセ
ンサを実現できる。
度センサを構成すると、請求項1記載の半導体加速度セ
ンサで得られる作用と、請求項2記載の半導体加速度セ
ンサで得られる作用とが、重畳した作用を得ることがで
きる。
成された梁の上面にパッシベーション膜を設けると、こ
のパッシベーション膜とシリコン半導体との熱膨張係数
の差によってシリコン半導体の表面に応力を生じても、
これら梁の上面の長さ方向の歪ゲージにはすべて同じ抵
抗変化を生じホイートスンブリッジに接続したとき、こ
れら抵抗変化は互いに打ち消し合ってオフセット出力を
生じることはない。
サの一実施例を示し、図1は平面図,図2は図1のA−
Aにおける断面図である。図1および図2において、半
導体からなり、四角形の厚肉状の、例えば厚さ400ミ
クロンの重り1と、この重り1と所定の間隔を有し、か
つこの重り1を囲うように形成された四角形の内孔を有
する厚肉状の支持体6と、重り1の対面する一対の外辺
のそれぞれの外辺の各両端部とこれら両端部と対面する
支持体6の各内辺とを連結する4個の薄肉状の、例えば
厚さ20〜40ミクロンの梁2,3,4,5とからな
り、これら梁2,3,4,5にそれぞれ歪ゲージ2A,
2B、3A,3B、4A,4B、5A,5Bが形成され
ている。これら歪ゲージのうち、歪ゲージ2A,3A,
4A,5Aは支持体6とこれら歪ゲージが形成されたそ
れぞれの梁2,3,4,5との結合部側の上面にこれら
梁の長さ方向に形成され、歪ゲージ2B,3B,4B,
5Bは重り1とこれら歪ゲージが形成されたそれぞれの
梁2,3,4,5との結合部側の上面にこれら梁の長さ
方向に形成されている。今各梁のそれぞれの梁と支持体
の結合部側の上面に形成された4個の歪ゲージ2A,3
A,4A,5Aを第1の側歪ゲージと称し、それぞれの
梁と重りとの結合部側の上面に形成された4個の歪ゲー
ジ2B,3B,4B,5Bを第2の側歪ゲージと称する
と、第1の側の4個の歪ゲージ2A,3A,4A,5A
のうち重り1の中心点Oに対して対称となる各2個の歪
ゲージ2A,5Aおよび3A,4Aをそれぞれ対向さ
せ、かつ第2の側の4個の歪ゲージ2B,3B,4B,
5Bのうち重り1の中心点Oに対して対称となる各2個
の歪ゲージ2B,5Bおよび3B,4Bをそれぞれ対向
させて図5に示すようにホイートストンブリッジを構成
する。なお、Vは電源端子,Gは接地端子,S1,S2
は信号出力端子である。
すなわち重り1に対し垂直方向(加速度の検出方向とな
る)の加速度が加わると、重り1は垂直方向の力Fv 受
け図6に示すように下方へ移動し、左右の梁2,3と
4,5によって支持される。このときこれら梁の梁と支
持体6の結合部側の上面には引っ張り応力が、梁と重り
1の結合部側の上面には圧縮応力が発生する。従って第
1の側の歪ゲージ2A,3A,4A,5Aの抵抗値は増
加し、第2の側の歪ゲージ2B,3B,4B,5Bの抵
抗値は減少し、ホイートストンブリッジの信号出力端子
S1,S2から加速度に比例した大きさの検出信号が出
力される。
の、すなわち重り1に対し横方向(加速度の非検出方向
となる)の加速度が加わると、梁の撓み中心線9と重り
1の重心点Wとの間の距離Lと、加速度により重り1に
生じる横方向の力Fh とによるモーメントにより、図7
に示すように変形し、重り1により押される側の梁2,
3は、各梁と支持体との結合部側の上面に圧縮応力が各
梁と重りとの結合部側の上面に引っ張り応力が発生し、
重り1により引っ張られる側の梁4,5は各梁と支持体
との結合部側の上面に引っ張り応力が各梁と重りとの結
合部側の上面に圧縮応力が発生する。
3A,4A,5Aのうち重り1の中心点Oに対して対称
となる各2個の歪ゲージ2A,5Aおよび3A,4Aの
うち、歪ゲージ2A,5Aは、2Aが抵抗値減少,5A
が抵抗値増加となり互にその抵抗値の変化を打ち消し合
い、また歪ゲージ3A,4Aは3Aが抵抗値減少,4A
が抵抗値増加となり互に抵抗値の変化を打ち消し合う。
また、第2の側の4個の歪ゲージ2B,3B,4B,5
Bも同様に互にその抵抗値の変化を打ち消し合い、ホイ
ートストンブリッジからは信号は出力されない。
ら梁2,3および4,5によって支持されるので横方向
(非検出方向)の加速度が加わった場合重りは左右の梁
によって支持されるので、従来の片側の梁で支持される
場合に比し、梁の撓みそのものが小さくなるとともに、
前述のように各歪ゲージは互にその抵抗値の変化が打ち
消し合うので、干渉出力は著るしく低減する。
った場合、すべての歪ゲージの抵抗値の変化によってホ
イートストンブリッジは信号が出力されるので信号出力
が増大する。図3および図4は本発明の半導体加速度セ
ンサの異なる実施例を示し、図3は平面図,図4は図3
のB−Bにおける断面図である。図3および図4におい
て、半導体からなり四角形の厚肉状の例えば厚さ400
ミクロンの中央部1Aとこの中央部1Aを中心として互
に90°の回転移動で合致する中央部1Aの各辺の位置
にそれぞれ形成された4個の四角形の厚肉状の凸部1
A,1B,1C,1Dとからなる重り1と、重り1の各
凸部1A,1B,1C,1Dの外辺と所定の間隔を有
し、かつこの重り1を囲うよう形成された四角形の内孔
を有する厚肉状の支持体6と、重り1の中央部1Aを中
心として互に90°の回転移動で合致する重り1の各凸
部1A,1B,1C,1Dの一側辺と、これら一側辺に
それぞれ対面する支持体6の各内辺とを連結する4個の
薄肉状、例えば20〜40ミクロンの梁2,3,4,5
とからなり、これら梁2,3,4,5にそれぞれ歪ゲー
ジ2A,2B、3A,3B、4A,4B、5A,5Bが
形成されている。これら歪ゲージのうち、歪ゲージ2
A,3A,4A,5Aはそれぞれの梁と支持体との結合
部側の上面にこれら梁の長さ方向に形成され、歪ゲージ
2B,3B,4B,5Bはそれぞれの梁と重りとの結合
部側の上面にこれら梁の長さ方向に形成されている。そ
して、これら歪ゲージは図1および図2に示す実施例と
同様ホイートストンブリッジを構成し、その動作も図1
および図2に示す実施例と全く同様である。
4,5は重り1の中心部1Aの各辺に沿って形成される
ので、それらの長さ方向を長くすることができるのでよ
り容易に撓むようになり、更に検出感度を向上させるこ
とができる。なお、重り1の各辺に設けた凸部1A,1
B,1C,1Dは図1に示すように各辺の一端部に設
け、これら凸部の両側辺のうち対面する支持体6の内辺
との距離の長い方の一側辺にそれぞれ梁2,3,4,5
を形成するようにすると、これら梁の長さをより長くす
ることができる。
センサあるいは図3,4で示される半導体加速度センサ
において、上面に形成された歪ゲージを保護するために
SiO2 あるいはSiNなどのパッシベーション膜10
を形成する。このパッシベーション膜は通常数百度の高
温状態で形成され、その後常温に戻されるが、シリコン
半導体との熱膨張係数が異なるため、シリコン半導体の
表面には応力が残留し、このために各歪ゲージ2A,2
B,3A,3B,4A,4B,5A,5Bの抵抗値が変
化するが、これら歪ゲージは、すべて梁2,3,4,5
の上面長手方向に設けられているので、同じ抵抗変化を
生じる。そして、これら歪ゲージを図5に示すホイース
トンブリッジに接続したとき、すべての歪ゲージは同じ
ように抵抗変化をしているので、これら抵抗変化は互い
に打ち消し合ってオフセット出力を生じることはない。
形状とこの装置に形成される歪ゲージの個数,位置およ
び接続方法によって、特別な工程を追加することなく、
検出感度を向上し、かつ干渉出力およびオフセット出力
を低減したので、高性能の半導体加速度センサを低コス
トで供給することができる。この種半導体加速度センサ
は自動車をはじめ各種用途に広く用いられるもので、高
性能の半導体加速度センサが低コストで供給できる効果
は極めて大きい。
平面図
示す平面図
図
を説明する断面図
を更に説明する断面図
示す平面図
図
を説明する側面図
を更に説明する側面図
を更に説明する側面図
Claims (4)
- 【請求項1】半導体からなり、四角形の厚肉状の重り
と、この重りと所定の間隔を有し、かつこの重りを囲う
ように形成された四角形の内孔を有する厚肉状の支持体
と、前記重りの対面する一対の外辺のそれぞれの外辺の
各両端部とこれら両端部と対面する支持体の各内辺とを
連結する4個の薄肉状の梁とからなり、前記各梁にそれ
ぞれ歪ゲージが形成された半導体加速度センサにおい
て、4個の各梁に形成される歪ゲージは、それぞれこれ
ら梁の長さ方向にこれら梁と支持体の結合部側の上面に
形成される第1の側の4個の歪ゲージとこれら梁と重り
の結合部側の上面に形成される第2の側の4個の歪ゲー
ジとからなり、これら第1の側の4個の歪ゲージのうち
重りの中心点に対して対称となる各2個の歪ゲージをそ
れぞれ対向させ、かつこれら第2の側の4個の歪ゲージ
のうち重りの中心点に対して対称となる各2個の歪ゲー
ジをそれぞれ対向させてホイートストンブリッジを構成
することを特徴とする半導体加速度センサ。 - 【請求項2】半導体からなり、正四角形の厚肉状の中央
部とこの中央部を中心として互に90°の回転移動で合
致する中央部の各辺の位置にそれぞれ形成された4個の
四角形の厚肉状の凸部とからなる重りと、前記重りの各
凸部の外辺と所定の間隔を有し、かつこの重りを囲うよ
う形成された四角形の内孔を有する厚肉状の支持体と、
前記重りの中央部を中心として互に90°の回転移動で
合致する前記重りの各凸部の一側辺と、これら一側辺に
それぞれ対面する前記支持体の各内辺とを連結する4個
の薄肉状の梁とからなり、前記各梁にそれぞれ歪ゲージ
が形成されることを特徴とする半導体加速度センサ。 - 【請求項3】請求項2記載の半導体加速度センサにおい
て、4個の各梁に形成される歪ゲージは、それぞれこれ
ら梁の長さ方向にこれら梁と支持体の結合部側の上面に
形成される第1の側の4個の歪ゲージとこれら梁と重り
の結合部側の上面に形成される第2の側の4個の歪ゲー
ジとからなり、これら第1の側の4個の歪ゲージのうち
重りの中心点に対して対称となる各2個の歪ゲージをそ
れぞれ対向させ、かつこれら第2の側の4個の歪ゲージ
のうち重りの中心点に対して対称となる各2個の歪ゲー
ジをそれぞれ対向させてホイートストンブリッジを構成
することを特徴とする半導体加速度センサ。 - 【請求項4】請求項1ないし3記載の半導体加速度セン
サにおいて、歪ゲージの形成された梁の上面にパッシベ
ーション膜が設けられたことを特徴とする半導体加速度
センサ。
Priority Applications (7)
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GB9306077A GB2266151B (en) | 1992-03-25 | 1993-03-24 | Semiconductor acceleration sensor |
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DE4345552A DE4345552B4 (de) | 1992-03-25 | 1993-03-25 | Halbleiterbeschleunigungssensor |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP04227651A Expired - Fee Related JP3115427B2 (ja) | 1991-11-28 | 1992-08-27 | 半導体加速度センサ |
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JP (1) | JP3115427B2 (ja) |
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WO2014176830A1 (zh) * | 2013-04-28 | 2014-11-06 | 厦门乃尔电子有限公司 | 一种具有全桥微梁结构的压阻式加速度传感器 |
Families Citing this family (1)
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KR101481899B1 (ko) * | 2013-06-27 | 2015-01-21 | 부산대학교 산학협력단 | 실리콘 가속도계 및 이의 패키징 |
-
1992
- 1992-08-27 JP JP04227651A patent/JP3115427B2/ja not_active Expired - Fee Related
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WO2014176830A1 (zh) * | 2013-04-28 | 2014-11-06 | 厦门乃尔电子有限公司 | 一种具有全桥微梁结构的压阻式加速度传感器 |
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