JP3114774B2 - 入力パネルの製造方法 - Google Patents
入力パネルの製造方法Info
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- JP3114774B2 JP3114774B2 JP7259093A JP7259093A JP3114774B2 JP 3114774 B2 JP3114774 B2 JP 3114774B2 JP 7259093 A JP7259093 A JP 7259093A JP 7259093 A JP7259093 A JP 7259093A JP 3114774 B2 JP3114774 B2 JP 3114774B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はペン入力装置等に用いる
入力ペンをタッチさせることで情報処理装置にデータを
入力する入力パネルに係り、特に入力パネルの製造工程
において抵抗膜間に介在し正常な動作を阻害する導電性
異物の影響を排除する手段に関する。
入力ペンをタッチさせることで情報処理装置にデータを
入力する入力パネルに係り、特に入力パネルの製造工程
において抵抗膜間に介在し正常な動作を阻害する導電性
異物の影響を排除する手段に関する。
【0002】スペーサを介して2枚の抵抗膜を対向させ
てなる入力パネルにおいて抵抗膜の間に導電性を有する
異物が介在すると、導電性を有する異物が介在する領域
では入力ペン等により押下するまでもなく基板に手が触
れただけで入力状態になる。
てなる入力パネルにおいて抵抗膜の間に導電性を有する
異物が介在すると、導電性を有する異物が介在する領域
では入力ペン等により押下するまでもなく基板に手が触
れただけで入力状態になる。
【0003】かかる導電性を有する異物の侵入は抵抗膜
を形成してから2枚の基板を一体化するまでの製造工程
において発生し、小型の入力パネルでは発生比率が小さ
いが大型化するに伴って増大しB4タイプになると殆ど
の入力パネルに発生する。
を形成してから2枚の基板を一体化するまでの製造工程
において発生し、小型の入力パネルでは発生比率が小さ
いが大型化するに伴って増大しB4タイプになると殆ど
の入力パネルに発生する。
【0004】そこで抵抗膜間に介在し正常な動作を阻害
する導電性異物の影響を排除可能な製造方法の確立が要
望されている。
する導電性異物の影響を排除可能な製造方法の確立が要
望されている。
【0005】
【従来の技術】図3は感圧型抵抗膜方式の入力パネルを
示す模式図、図4は図3に示す入力パネルの動作原理を
説明する図である。
示す模式図、図4は図3に示す入力パネルの動作原理を
説明する図である。
【0006】図3において感圧型抵抗膜方式の入力パネ
ル1はスペーサ11を介して2枚の基板12、13上の抵抗膜
14を対向させており、スタイラスペン等の入力ペンや指
先等により可撓性を有する基板12を押下すると対向させ
た抵抗膜14同士が接触する。
ル1はスペーサ11を介して2枚の基板12、13上の抵抗膜
14を対向させており、スタイラスペン等の入力ペンや指
先等により可撓性を有する基板12を押下すると対向させ
た抵抗膜14同士が接触する。
【0007】抵抗膜14は電極15と例えば連動する切替回
路2a、2b、2cを介して電源3およびA/Dコンバータ4
に接続されており、切替回路2a、2b、2cを順次切替えて
一方の抵抗膜14に電圧を印加し他方の抵抗膜14を介して
押下点の電位を検出する。
路2a、2b、2cを介して電源3およびA/Dコンバータ4
に接続されており、切替回路2a、2b、2cを順次切替えて
一方の抵抗膜14に電圧を印加し他方の抵抗膜14を介して
押下点の電位を検出する。
【0008】かかる入力パネルの等価回路は図4(a) に
示す如く第1の抵抗膜14の両端端子間に基準電圧Vref
が印加されており、入力ペン等によって押下すると基板
12が撓んで第1の抵抗膜14は空間を介し対向させてなる
第2の抵抗膜14に接触する。
示す如く第1の抵抗膜14の両端端子間に基準電圧Vref
が印加されており、入力ペン等によって押下すると基板
12が撓んで第1の抵抗膜14は空間を介し対向させてなる
第2の抵抗膜14に接触する。
【0009】第1の抵抗膜14は押下点で抵抗R1 とR2
に分割され基準電圧Vref が分圧されて第2の抵抗膜14
に印加される。第2の抵抗膜14はA/Dコンバータ4に
接続されており押下点に対応する電圧Vout がA/Dコ
ンバータ4に入力される。
に分割され基準電圧Vref が分圧されて第2の抵抗膜14
に印加される。第2の抵抗膜14はA/Dコンバータ4に
接続されており押下点に対応する電圧Vout がA/Dコ
ンバータ4に入力される。
【0010】ここでVout を押下点における電圧とし、
抵抗膜14の全長をX、抵抗膜14の一端から押下点までの
長さをxとすると、抵抗膜14の比抵抗は均一でx/X=
R1/R1 +R2 =Vout /Vref となり押下点の座標
は電圧Vout に比例する。
抵抗膜14の全長をX、抵抗膜14の一端から押下点までの
長さをxとすると、抵抗膜14の比抵抗は均一でx/X=
R1/R1 +R2 =Vout /Vref となり押下点の座標
は電圧Vout に比例する。
【0011】第1の抵抗膜14と第2の抵抗膜14は切替回
路2a、2b、2cを介して電源3およびA/Dコンバータ4
に接続されており、図4(b) に示す如く電源3およびA
/Dコンバータ4に接続される抵抗膜14を切替え押下点
における電位を検出する。
路2a、2b、2cを介して電源3およびA/Dコンバータ4
に接続されており、図4(b) に示す如く電源3およびA
/Dコンバータ4に接続される抵抗膜14を切替え押下点
における電位を検出する。
【0012】図示の如く切替回路2a、2b、2cをX側にす
ると切替回路2a、2bを介して一方の抵抗膜14のX軸方向
に電圧が印加され、押下された点のX座標を示すアナロ
グ信号が他方の抵抗膜14と切替回路2cを介してA/Dコ
ンバータ4に入力される。
ると切替回路2a、2bを介して一方の抵抗膜14のX軸方向
に電圧が印加され、押下された点のX座標を示すアナロ
グ信号が他方の抵抗膜14と切替回路2cを介してA/Dコ
ンバータ4に入力される。
【0013】次いで切替回路2a、2b、2cをY側にすると
切替回路2a、2cを介して他方の抵抗膜14のY軸方向に電
圧が印加され、押下された点のY座標に相当するアナロ
グ信号が一方の抵抗膜14と切替回路2bを介してA/Dコ
ンバータ4に入力される。
切替回路2a、2cを介して他方の抵抗膜14のY軸方向に電
圧が印加され、押下された点のY座標に相当するアナロ
グ信号が一方の抵抗膜14と切替回路2bを介してA/Dコ
ンバータ4に入力される。
【0014】即ち、基準電圧Vref を時分割方式によっ
てX方向またはY方向を示す抵抗膜14の端子間に交互に
印加すると共に、対向させた抵抗膜14を介して出力され
る電圧Vout を交互に計測することで押下した位置の座
標を検出することができる。
てX方向またはY方向を示す抵抗膜14の端子間に交互に
印加すると共に、対向させた抵抗膜14を介して出力され
る電圧Vout を交互に計測することで押下した位置の座
標を検出することができる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】図5は入力パネルにお
ける問題点を示す図である。スペーサ11を介して2枚の
抵抗膜14を対向させた入力パネルにおいて2枚の抵抗膜
14の間に導電性異物16が介在すると、導電性異物16が介
在する領域では入力ペン等によって押下するまでもなく
基板12に手が触れただけで入力状態になる。
ける問題点を示す図である。スペーサ11を介して2枚の
抵抗膜14を対向させた入力パネルにおいて2枚の抵抗膜
14の間に導電性異物16が介在すると、導電性異物16が介
在する領域では入力ペン等によって押下するまでもなく
基板12に手が触れただけで入力状態になる。
【0016】かかる導電性異物16には抵抗膜14を形成す
る際に混入した塵埃等が核になって抵抗膜14が盛り上が
り形成された物や、抵抗膜14が形成された2枚の基板1
2、13を対向せしめ一体化する前に抵抗膜14の表面に付
着した導電性の塵埃等がある。
る際に混入した塵埃等が核になって抵抗膜14が盛り上が
り形成された物や、抵抗膜14が形成された2枚の基板1
2、13を対向せしめ一体化する前に抵抗膜14の表面に付
着した導電性の塵埃等がある。
【0017】導電性異物に起因する点欠陥は入力パネル
の大型化に伴って増大しB4タイプになると殆どの入力
パネルに発生する。しかし、従来の製造方法では基板を
一体化した後で導電性異物の介在を発見しても除去でき
ないという問題があった。
の大型化に伴って増大しB4タイプになると殆どの入力
パネルに発生する。しかし、従来の製造方法では基板を
一体化した後で導電性異物の介在を発見しても除去でき
ないという問題があった。
【0018】本発明の目的は抵抗膜間に介在し正常な動
作を阻害する導電性異物の影響を排除可能な製造方法を
提供することにある。
作を阻害する導電性異物の影響を排除可能な製造方法を
提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】図1は本発明になる入力
パネルの製造方法を示す模式図である。なお全図を通し
同じ対象物は同一記号で表している。
パネルの製造方法を示す模式図である。なお全図を通し
同じ対象物は同一記号で表している。
【0020】上記課題は絶縁体からなり少なくとも一方
が可撓性を有する2枚の基板12、13にそれぞれ形成され
た抵抗膜14が、スペーサ11により形成された所定の隙間
を介して対向する入力パネル1の製造工程において、抵
抗膜14の間に介在し正常な動作を阻害する導電性異物16
の影響を排除する手段として、可撓性を有する基板12の
導電性異物16が介在する位置に修正ペン5を入力時より
強い力で押し付けることで、抵抗膜14の導電性異物16と
対向する領域の周りに亀裂を発生させる本発明になる入
力パネルの製造方法によって達成される。
が可撓性を有する2枚の基板12、13にそれぞれ形成され
た抵抗膜14が、スペーサ11により形成された所定の隙間
を介して対向する入力パネル1の製造工程において、抵
抗膜14の間に介在し正常な動作を阻害する導電性異物16
の影響を排除する手段として、可撓性を有する基板12の
導電性異物16が介在する位置に修正ペン5を入力時より
強い力で押し付けることで、抵抗膜14の導電性異物16と
対向する領域の周りに亀裂を発生させる本発明になる入
力パネルの製造方法によって達成される。
【0021】
【作用】図1において入力ペンの先端と同等の先端を有
する修正ペンを動作状態にしてなる入力パネルの可撓性
を有する基板に、入力時の力またはそれ以下の力で押し
付けることによって抵抗膜の間に介在している導電性異
物の位置を確定できる。
する修正ペンを動作状態にしてなる入力パネルの可撓性
を有する基板に、入力時の力またはそれ以下の力で押し
付けることによって抵抗膜の間に介在している導電性異
物の位置を確定できる。
【0022】位置を確定したあと修正ペンの先端を基板
の導電性異物が介在する位置に入力時より強い力で押し
付けることにより、基板が撓んで抵抗膜の導電性異物と
対向する領域の周りに亀裂が発生しその領域と周囲の抵
抗膜との導通が遮断される。
の導電性異物が介在する位置に入力時より強い力で押し
付けることにより、基板が撓んで抵抗膜の導電性異物と
対向する領域の周りに亀裂が発生しその領域と周囲の抵
抗膜との導通が遮断される。
【0023】その結果、入力ペンで押下したとき抵抗膜
が導電性異物に当接しても2枚の抵抗膜の間が導通状態
になることはない。即ち、抵抗膜間に介在し正常な動作
を阻害する導電性異物の影響を排除可能な入力パネルの
製造方法を実現できる。
が導電性異物に当接しても2枚の抵抗膜の間が導通状態
になることはない。即ち、抵抗膜間に介在し正常な動作
を阻害する導電性異物の影響を排除可能な入力パネルの
製造方法を実現できる。
【0024】
【実施例】以下添付図により本発明の実施例について説
明する。なお図2は本発明になる製造方法の他の実施例
を示す模式図である。
明する。なお図2は本発明になる製造方法の他の実施例
を示す模式図である。
【0025】本発明になる入力パネルの製造方法は図1
に示す如く導電性異物の位置を確定する工程と影響を排
除する工程を有し、図1(a) に示す如く電源3やA/D
コンバータ4を接続し入力パネル1を動作状態にして導
電性異物の位置を確定する。
に示す如く導電性異物の位置を確定する工程と影響を排
除する工程を有し、図1(a) に示す如く電源3やA/D
コンバータ4を接続し入力パネル1を動作状態にして導
電性異物の位置を確定する。
【0026】即ち、動作状態にしてなる入力パネル1の
基板12を例えば指先等で軽く押下することで導電性異物
16の有無が検出され、抵抗膜14の間に介在する導電性異
物16を検出すると入力ペンと同等の先端を有する修正ペ
ン5により位置を確定する。
基板12を例えば指先等で軽く押下することで導電性異物
16の有無が検出され、抵抗膜14の間に介在する導電性異
物16を検出すると入力ペンと同等の先端を有する修正ペ
ン5により位置を確定する。
【0027】入力時に入力ペンを押し付ける力は100g程
度であり修正ペン5を入力時の力またはそれ以下の力で
基板12に押し付ける。抵抗膜14の間に導電性異物16が介
在すれば小さい力で押し付けても入力状態になり導電性
異物16の位置を確定できる。
度であり修正ペン5を入力時の力またはそれ以下の力で
基板12に押し付ける。抵抗膜14の間に導電性異物16が介
在すれば小さい力で押し付けても入力状態になり導電性
異物16の位置を確定できる。
【0028】なお、入力パネル1の基板12を例えば指先
等で軽く押下することにより介在する導電性異物16の位
置が確定できれば、その後行われる修正ペン5の先端を
基板12に押し付け導電性異物16が介在する位置を確定す
る工程を省略しても良い。
等で軽く押下することにより介在する導電性異物16の位
置が確定できれば、その後行われる修正ペン5の先端を
基板12に押し付け導電性異物16が介在する位置を確定す
る工程を省略しても良い。
【0029】位置が確定すれば図1(b) に示す如く入力
時より強い力、例えば1kgの力で修正ペン5の先端を基
板12に押し付ける。通常、修正ペン5の先端は導電性異
物16に比べて大きくこれを基板12に押し付けると導電性
異物16は基板12に嵌入する。
時より強い力、例えば1kgの力で修正ペン5の先端を基
板12に押し付ける。通常、修正ペン5の先端は導電性異
物16に比べて大きくこれを基板12に押し付けると導電性
異物16は基板12に嵌入する。
【0030】抵抗膜14は膜厚が極めて薄く導電性異物16
が基板12に嵌入する際に導電性異物16と対向する領域の
周りに亀裂が生じ、修正ペン5を取り除いた後も周りの
亀裂によって導電性異物16と対向する領域は周囲の抵抗
膜14との導通が遮断される。
が基板12に嵌入する際に導電性異物16と対向する領域の
周りに亀裂が生じ、修正ペン5を取り除いた後も周りの
亀裂によって導電性異物16と対向する領域は周囲の抵抗
膜14との導通が遮断される。
【0031】このように入力ペンの先端と同等の先端を
有する修正ペンを動作状態にしてなる入力パネルの可撓
性を有する基板に、入力時の力またはそれ以下の力で押
し付けることによって抵抗膜の間に介在している導電性
異物の位置を確定できる。
有する修正ペンを動作状態にしてなる入力パネルの可撓
性を有する基板に、入力時の力またはそれ以下の力で押
し付けることによって抵抗膜の間に介在している導電性
異物の位置を確定できる。
【0032】位置を確定したあと修正ペンの先端を基板
の導電性異物が介在する位置に入力時より強い力で押し
付けることにより、基板が撓んで抵抗膜の導電性異物と
対向する領域の周りに亀裂が発生しその領域と周囲の抵
抗膜との導通が遮断される。
の導電性異物が介在する位置に入力時より強い力で押し
付けることにより、基板が撓んで抵抗膜の導電性異物と
対向する領域の周りに亀裂が発生しその領域と周囲の抵
抗膜との導通が遮断される。
【0033】その結果、入力ペンで押下したとき抵抗膜
が導電性異物に当接しても2枚の抵抗膜の間が導通状態
になることはない。即ち、抵抗膜間に介在し正常な動作
を阻害する導電性異物の影響を排除可能な入力パネルの
製造方法を実現できる。
が導電性異物に当接しても2枚の抵抗膜の間が導通状態
になることはない。即ち、抵抗膜間に介在し正常な動作
を阻害する導電性異物の影響を排除可能な入力パネルの
製造方法を実現できる。
【0034】該抵抗膜(14)の間に入力時より高い電圧V
を印加すると共にローラ(6) によって可撓性を有する基
板(12)を押下し、接触時に流れる電流で該導電性異物(1
6)と対向する該抵抗膜(14)を破損させることを特徴とす
る入力パネルの製造方法。
を印加すると共にローラ(6) によって可撓性を有する基
板(12)を押下し、接触時に流れる電流で該導電性異物(1
6)と対向する該抵抗膜(14)を破損させることを特徴とす
る入力パネルの製造方法。
【0035】本発明になる製造方法の他の実施例は図2
に示す如く抵抗膜14の間に入力時に印加される電圧より
高い電圧Vを印加し、柔軟性を有する材料からなるロー
ラ6により電圧Vを印加した入力パネル1の可撓性を有
する基板12に圧力を加える。
に示す如く抵抗膜14の間に入力時に印加される電圧より
高い電圧Vを印加し、柔軟性を有する材料からなるロー
ラ6により電圧Vを印加した入力パネル1の可撓性を有
する基板12に圧力を加える。
【0036】2枚の抵抗膜14の間に導電性異物16が介在
する場合はローラ6で加圧することで抵抗膜14と導電性
異物16が接触し、接触時に導電性異物16を介して抵抗膜
間に流れる大きい電流により抵抗膜14の導電性異物16と
対向する領域が破壊される。
する場合はローラ6で加圧することで抵抗膜14と導電性
異物16が接触し、接触時に導電性異物16を介して抵抗膜
間に流れる大きい電流により抵抗膜14の導電性異物16と
対向する領域が破壊される。
【0037】その結果、入力ペンで押下したとき抵抗膜
が導電性異物に当接しても2枚の抵抗膜の間が導通状態
になることはない。しかも、前記実施例とは異なり導電
性異物の影響を排除するに際し導電性異物16が介在する
位置を確定する必要がない。
が導電性異物に当接しても2枚の抵抗膜の間が導通状態
になることはない。しかも、前記実施例とは異なり導電
性異物の影響を排除するに際し導電性異物16が介在する
位置を確定する必要がない。
【0038】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば抵抗膜間に介
在し正常な動作を阻害する導電性異物の影響を排除可能
な製造方法を提供することができる。
在し正常な動作を阻害する導電性異物の影響を排除可能
な製造方法を提供することができる。
【図1】 本発明になる入力パネルの製造方法を示す模
式図である。
式図である。
【図2】 本発明になる製造方法の他の実施例を示す模
式図である。
式図である。
【図3】 感圧型抵抗膜方式の入力パネルを示す模式図
である。
である。
【図4】 図3に示す入力パネルの動作原理を説明する
図である。
図である。
【図5】 入力パネルにおける問題点を示す図である。
1 入力パネル 3 電源 4 A/Dコンバータ 5 修正ペン 6 ローラ 11 スペーサ 12、13 基板 14 抵抗膜 16 導電性異物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 昭60−166042(JP,U) 実開 昭59−33564(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06F 3/03 320 G06F 3/03 380
Claims (2)
- 【請求項1】 絶縁体からなり少なくとも一方が可撓性
を有する2枚の基板(12,13) にそれぞれ形成された抵抗
膜(14)が、スペーサ(11)により形成された所定の隙間を
介して対向する入力パネル(1) の製造工程において、該
抵抗膜(14)の間に介在し正常な動作を阻害する導電性異
物(16)の影響を排除する手段として、 可撓性を有する基板(12)の該導電性異物(16)が介在する
位置に修正ペン(5) を入力時より強い力で押し付けるこ
とで、該抵抗膜(14)の該導電性異物(16)と対向する領域
の周りに亀裂を発生させることを特徴とする入力パネル
の製造方法。 - 【請求項2】 絶縁体からなり少なくとも一方が可撓性
を有する2枚の基板(12,13) にそれぞれ形成された抵抗
膜(14)が、スペーサ(11)により形成された所定の隙間を
介して対向する入力パネル(1) の製造工程において、該
抵抗膜(14)の間に介在し正常な動作を阻害する導電性異
物(16)の影響を排除する手段として、 該抵抗膜(14)の間に入力時より高い電圧Vを印加すると
共にローラ(6) によって可撓性を有する基板(12)を押下
し、接触時に流れる電流で該導電性異物(16)と対向する
該抵抗膜(14)を破損させることを特徴とする入力パネル
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7259093A JP3114774B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 入力パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7259093A JP3114774B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 入力パネルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06289977A JPH06289977A (ja) | 1994-10-18 |
JP3114774B2 true JP3114774B2 (ja) | 2000-12-04 |
Family
ID=13493768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7259093A Expired - Fee Related JP3114774B2 (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 入力パネルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3114774B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106933422A (zh) * | 2017-03-15 | 2017-07-07 | 上海大学 | 一种触控传感器及触控传感器的制备方法 |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP7259093A patent/JP3114774B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106933422A (zh) * | 2017-03-15 | 2017-07-07 | 上海大学 | 一种触控传感器及触控传感器的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06289977A (ja) | 1994-10-18 |
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