JP3108750B2 - 基板のエッチング装置 - Google Patents

基板のエッチング装置

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JP3108750B2
JP3108750B2 JP04118159A JP11815992A JP3108750B2 JP 3108750 B2 JP3108750 B2 JP 3108750B2 JP 04118159 A JP04118159 A JP 04118159A JP 11815992 A JP11815992 A JP 11815992A JP 3108750 B2 JP3108750 B2 JP 3108750B2
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益男 飯田
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日本テック株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板や各種装
飾板等に用いられる基板のエッチング装置に関し、特に
搬送手段により搬送される基板の上面側を常に均一にエ
ッチングすることができるエッチング装置に関する。
【従来の技術】
【0002】従来より多数のプリント基板を連続的に効
率良くエッチングする装置として、ローラコンベア等の
搬送手段によりプリント基板を水平に搬送し、二次元的
に配列されたスプレー管群でエッチング液をその表面に
スプレーする方式が採用されている。そしてプリント基
板の片面をエッチングする場合は、搬送されるプリント
基板の上方または下方のいずれかにエッチング液のスプ
レー管群を配列し、両面を同時にエッチングする場合は
上方および下方の両方にスプレー管群を二次元的に配列
する。このようなエッチング装置において、水平に搬送
されるプリント基板の上方のノズル群からスプレーされ
たエッチング液は、プリント基板の上表面を流れて周辺
部から下方へ流下するが、その際プリント基板の上表面
の中央部は周辺部よりエッチング液の滞留を生じ易いの
で、中央部のエッチング液が周辺部よりも被労する。そ
のためプリント基板の中央部エッチング速度が周辺部よ
り低下し均一なエッチングを行うことを困難にし、それ
がプリント基板のファイン化を妨げる大きな原因になっ
ている。
【0003】この問題を解決するため、プリント基板に
衝突するエッチング液の接触圧力を均一にするのではな
く、その搬送方向に対して直角方向の周辺部より中間部
に衝突するエッチング液の圧力を高くし、プリント基板
の中間部から周辺部へのエッチング液の流れをより円滑
にする。そしてそれを実現する装置の一例として、プリ
ント基板の搬送方向と直角方向に並んだ各ノズルの長さ
を列の両端側より中間部を大とするように構成し、中間
部のノズルのスプレー部を周辺部よりプリント基板の表
面に近づけ、プリント基板の中間部に衝突するエッチン
グ液の接触圧力を周辺部より高くする装置が提案されて
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなプリント基板の搬送方向に対して直角方向の中間部
に衝突するエッチング液の接触圧力を周辺部より大きく
する装置を採用した場合、プリント基板の搬送方向に対
して直角方向の不均一なエッチング現象はかなり抑制で
きるが、プリント基板の搬送方向の不均一なエッチング
現象を解決するまでには至らない。そのため従来の装置
では、プリント基板のファイン化を達成するには不十分
であった。そこで本発明はこのような従来のエッチング
装置の問題点に鑑み、プリント基板の搬送方向のエッチ
ングを均一にすることが可能なエッチング装置を提供す
ることを課題とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の本発明は、搬送手段により水平方向に搬送される基板
をエッチングする装置である。そしてこの装置は、基板
の搬送方向に交叉して所定間隔で水平に配列された複数
のエッチング液供給配管と、搬送される基板の上面にエ
ッチング液をスプレーするため、各エッチング液供給配
管毎にその軸方向に沿って所定間隔で設けられた複数の
ノズルにより構成されたノズル列とを備え、更に各エッ
チング液供給配管毎にエッチング液吐出量を制御する制
御手段を備えている。そして前記制御手段は、搬送中の
基板の前後端側から中間部へエッチング液の吐出量が漸
次多くなるように、その基板の搬送に同期して各エッチ
ング液供給配管のエッチング液吐出量を制御するように
なされていることを特徴とするものである。さらに本発
明の好ましい実施態様は、ノズル列における各ノズルと
前記基板搬送面との距離が、列の両端から中間部へ漸次
短くなるように構成されたものである。
【0006】
【作用】本発明のエッチング装置は、エッチング液供給
配管毎に制御手段を設け、基板の搬送に同期して基板の
前後端側から中間部へエッチング液の吐出量が漸次多く
なるように、各エッチング液供給配管のエッチング液吐
出量を制御するようにしたので、基板の搬送方向におけ
るエッチング液の濃度勾配を抑制することができる。そ
のため基板の搬送方向のエッチングも均一にすることが
でき、基板を高精度でエッチングすることが可能であ
る。
【0007】
【実施例】次に、図面により本発明の実施例を説明す
る。図1は本発明のエッチング装置の一例を側面方向か
ら概略的に示す断面図である。エッチング装置はエッチ
ング処理部1およびその後処理部としての洗浄処理部2
を備えており、これら各処理部を水平方向に貫通するよ
うに、例えば連動駆動される上下ローラが設けられたロ
ーラコンベアを有する搬送手段3が設けられている。そ
してエッチングされるプリント基板は図の左方から右方
へこの搬送手段3によって水平に支持されつつ搬送され
るようになっている。エッチング処理部1は搬送手段3
の上下を囲むようにして設けられたスプレー室4を有し
ている。そしてこのスプレー室4内における搬送手段3
の上方には、プリント基板の搬送方向に交又して所定間
隔で水平に配列された複数のエッチング液供給配管5
と、各エッチング液供給配管5毎にその軸方向に沿って
所定間隔で下向きに設けられた複数のノズル6により構
成されるノズル列7を有している。この各ノズル列7は
搬送されるプリント基板の上面にエッチング液をスプレ
ーするために設けられている。なお、各エッチング液供
給配管5は図示しない水平往復動機構により管の軸線方
向に往復動する場合があり、それによりプリント基板各
部のエッチング液の噴射条件を均一にするものである。
【0008】スプレー室4内の搬送手段3の下方には、
プリント基板の搬送方向に交又して所定間隔で水平に配
列された複数のエッチング液供給配管8と、各エッチン
グ液供給配管8毎にその軸方向に沿って所定間隔で上向
きに設けられた複数のノズル9により構成されるノズル
列10を有している。この各ノズル列10は搬送される
プリント基板の下面にエッチング液をスプレーするため
に設けられる。スプレー室4内の更に下方には、スプレ
ーされて落下するエッチング液を貯溜するためのエッチ
ング液溜11が設けられている。そしてエッチング液溜
11内にはエッチング液の温度調節手段12が設けられ
ている。この温度調節手段12は、エッチング液を冷却
する場合には冷媒体が流通する冷却管が用いられ、加熱
する場合は熱媒体が流通する加熱管もしくはヒーターが
用いられる。
【0009】スプレー室4の上方には前記各ノズル列7
にエッチング液を個別に供給するための配管類および制
御弁等を収容するケース13が設けられているが、これ
ら制御弁等については後述する。なおプリント基板の下
面におけるエッチング液の滞留現象は上面に比較すると
極めてわずかであるので、下面用の各ノズル列10にエ
ッチング液を供給する配管類は従来と同様に構成しても
よい。すなわち各ノズル列10からの吐出量が一定にな
るように、共通のエッチング液供給配管で供給する方法
を採用することができる。更にスプレー室4に発生する
エッチング液の蒸気を室外に排出するための排気ダクト
14がスプレー室4の左右に連通して設けられており、
搬送手段3のスプレー室4より上流側には、搬送されて
くるプリント基板の通過を検出する通過検出手段15、
およびエッチング処理部1におけるプリント基板の搬送
位置を検出するための位置検出手段16が設けられてい
る。
【0010】通過検出手段15としては、例えば光学的
センサーを搬送手段3の上方に設置し、搬送されてくる
プリント基板の通過を光の遮断等により検出して電気信
号に変換するような、検出手段を使用することができ
る。位置検出手段16としては、例えば搬送手段3を構
成するローラコンベアのローラの回転を検出する回転エ
ンコーダの出力パルスを、カウンター等によりカウント
してプリント基板の搬送位置を検出する方式の検出手段
を使用することができる。
【0011】エッチング処理部1の下流側に設けられる
洗浄処理部2は、酸洗槽20と水洗槽30有し、酸洗槽
20には酸洗ポンプ21および酸洗用のスプレー手段2
2が設けられ、水洗槽30には水洗ポンプ31および水
洗用のスプレー手段32が設けられている。また洗浄処
理部2の下流側に、洗浄されたプリント基板の仕上げ用
のシャワーノズル40、および液除去用の液切りローラ
41が必要に応じて設けられる。更に液切りローラ41
の下方には搬送手段3を駆動するための駆動手段42が
設けられている。
【0012】図2はエッチング処理部1を理解し易いよ
うに図1の上方から断面的に見て模式的に示した説明図
である。搬送手段3によりプリント基板は矢印のように
図の左方から右方へ搬送される。エッチング液は供給ポ
ンプ50によって本管51からケース13に供給され、
そこで複数のエッチング液供給配管5に分岐される。各
エッチング液供給配管5には制御弁52が設けられ、そ
れぞれの流量を個別に制御できるようになっている。図
3は各エッチング液供給配管5のエッチング液吐出量を
制御する制御手段の一例を示すブロック図である。制御
手段60は中央処理部61、設定操作部62、制御部6
3、制御弁52、通過検出手段15および位置検出手段
16から構成される。
【0013】中央処理部61は、キーボード等の設定操
作部62から入力された設定条件、例えばプリント基板
の搬送方向の長さ、エッチング厚さおよび温度等によ
り、プリント基板の搬送方向中央部と両端側のエッチン
グ液供給量勾配を計算すると共に、通過検出手段15お
よび位置検出手段16からの信号を受けてプリント基板
に同期した各制御弁制御信号を制御部63へ出力する。
中央処理部61としては例えばマイクロコンピュータや
ミニコンピュータ等を使用することができる。制御部6
3は中央処理部61からの各制御弁制御信号を受けて、
各制御弁52に制御信号を出力するもので、例えば通常
このような目的で使用されているシーケンサ装置等を用
いることができる。
【0014】制御弁52としては、空気や油圧を使用す
る流体圧式または電動式の連続的制御弁、または2段階
もしくは3段階のステップ的制御を行うことができる電
磁式等のステップ制御弁などを使用することができる。
前者の連続的制御弁を使用する場合は、プリント基板の
搬送方向の中間部と両端側の吐出量の滑らかな勾配制御
が可能であり、後者のステップ制御弁は前者ほど滑らか
な制御が必要でない場合に使用されるが、制御手段の構
成を簡単にすることができる。
【0015】図4は図1または図2に示したエッチング
液供給配管5、およびそれに設けられたノズル6を拡大
して示す側面図である。エッチング液供給配管5から所
定間隔で分岐連通された取付部53には内ネジが設けら
れ、該内ネジにノズル6がネジ結合されている。各ノズ
ル6の長さは図示のようにエッチング液供給配管5の両
端側より中間部の方が長くされている。そのため中間部
に位置するノズル6の先端にあるスプレー部とプリント
基板54の表面との距離は、両端側に位置するものより
近づくことになり、その部分のエッチング液のプリント
基板54の表面への衝突による接触圧力は両端側より高
くなる。従って、プリント基板54の搬送方向に対して
直角方向の中間部から両端側へと低下する接触圧力勾配
を生じ、該中間部から両端部へのエッチング液の流れを
促進するようになされている。
【0016】次に、上記エッチング装置の作用を説明す
る。図1の左方から搬送手段3により搬送されてきたプ
リント基板は、通過検出手段15によりその先端部が検
出され、エッチング処理部1のスプレー室4に搬入され
る。プリント基板はスプレー室4を通過する間にその上
面を上方に配列された複数のノズル列7、下面を下方に
配列された複数のノズル列10からのエッチング液のス
プレーによりそれぞれエッチングされる。このときエッ
チング液供給配管は、その軸方向にわずかに往復動する
場合と、しない場合とがある。プリント基板の上面のエ
ッチングにおいて、先ずその搬送方向に対して直角方向
のスプレー分布は、図4に示した構成により、中間部の
エッチング液の接触圧力が両端側より漸次高くなるよう
になされ、それにより中間部のエッチング液滞留が抑制
される。
【0017】次にその搬送方向のスプレー分布は、図5
(a)〜 図5(e)に示すように、中間部のノズル列
からのエッチング液の吐出量が両端側より漸次高くなる
ようになされ、それによって中間部のエッチング液滞留
が同様に抑制される。すなわち図5(a)〜図5(e)
において、左方から次々と搬送されてくるプリント基板
54は通過検出手段15によりその通過を検出され、位
置検出手段16からは通過するプリント基板54の搬送
位置信号が検出される。そしてこれらの検出信号により
制御手段60の中央処理部61は、各エッチング液供給
配管の吐出量を時間の経過(プリント基板の位置変化)
と共に、図5(a)〜図5(e)のようなエッチング液
吐出量となるように制御信号を制御部63に出力し、制
御部63はそれに追従して各制御弁52に流量制御信号
を出力する。
【0018】上記の制御方式においては、中央処理部6
1はプリント基板の先端部の検出信号を受けたタイミン
グと、予め設定入力されたプリント基板の搬送方向の長
さ、および位置検出信号からプリント基板の移動を計算
し、制御信号を出力している。しかし、プリント基板の
搬送方向の長さが一定しないときなどは、通過検出手段
15をスプレー室4から所定距離だけ上流位置に設置
し、そこを通過するプリント基板の先端部と後端部を検
出してそのタイミングからプリント基板の搬送方向の長
さを計算し、同様に制御信号を出力することもできる。
このようにして次々と搬送されるプリント基板の上面を
全面にわたって均一にエッチングすることができる。な
おプリント基板の下面のエッチングを行う場合は前記の
ように従来の方法でエッチングすればよいのでその説明
は省略する。
【0019】
【発明の効果】本発明のエッチング装置は以上のような
構成としたので、搬送手段により水平に搬送される基板
の特に上面を均一にエッチングすることができる。その
ため本装置を使用することによって、各部位のエッチン
グ速度を均一化し、基板を高い精度でエッチングするこ
とが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基板のエッチング装置の一例を側面方
向から概略的に示す断面図。
【図2】図1の装置における要部を上面からの断面図と
して模式的に示した説明図。
【図3】本発明の基板のエッチング装置における制御手
段の一例を示すブロック図。
【図4】図1の装置におけるエッチング液供給配管5と
ノズル列7の拡大側面図。
【図5】本発明の基板のエッチング装置における基板位
置とノズル列の吐出量の関係を示す説明図。
【符号の説明】
1 エッチング処理部 2 洗浄処理部 3 搬送手段 4 スプレー室 5 エッチング液供給配管 6 ノズル 7 ノズル列 8 エッチング液供給配管 9 ノズル 10 ノズル列 11 エッチング液溜 12 温度調節手段 13 ケース 14 排気ダクト 15 通過検出手段 16 位置検出手段 20 酸洗槽 21 酸洗ポンプ 22 スプレー手段 30 水洗槽 31 水洗ポンプ 32 スプレー手段 40 シャワーノズル 41 液切りローラ 42 駆動手段 50 供給ポンプ 51 本管 52 制御弁 53 取付部 54 プリント基板 60 制御手段 61 中央処理部 62 設定操作部 63 制御部

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 搬送手段により水平方向に搬送される基
    板をエッチングする装置において、基板の搬送方向に交
    叉して所定間隔で水平に配列された複数のエッチング液
    供給配管5と、搬送される基板の上面にエッチング液を
    スプレーするため前記各エッチング液供給配管5毎にそ
    の軸方向に沿って所定間隔で設けられた複数のノズル6
    により構成されたノズル列7と、前記各エッチング液供
    給配管5毎にエッチング液吐出量を制御する制御手段6
    0とを備え、前記制御手段60は搬送中の前記基板の前
    後端側から中間部へエッチング液の吐出量が漸次多くな
    るようにその基板の搬送に同期して各エッチング液供給
    配管5のエッチング液吐出量を制御するようになされて
    いることを特徴とする基板のエッチング装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記ノズル列におけ
    る各ノズルと前記基板搬送面との距離が、列の両端から
    中間部へ漸次短く構成されたエッチング装置。
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DE10154885A1 (de) * 2001-11-05 2003-05-15 Schmid Gmbh & Co Geb Verfahren zur Behandlung von Gegenständen mittels einer Flüssigkeit
JP4847244B2 (ja) * 2006-07-26 2011-12-28 株式会社フジ機工 エッチング装置

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