JP3080401B2 - 電子ビーム加熱蒸着ソース用磁気構造体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 主題の性格の従来装置は、るつぼ内に電子ビームを収
束するための磁界を確立するため、るつぼの対向側面に
長形の極片が伸びたるつぼからある距離に配置された水
平方向の電磁石を使用してきた。このような構成により
生じる磁束の僅かに約４分の１が有効に使用されるに過
ぎず、残りは磁心の周囲の漏れ磁束に逸失される。

電子ビーム収束のための磁気システムにおける改善
は、当システムの使用領域即ち電子ビーム経路にできる
だけ近くに収束磁界を生じることにより達成される。こ
れは、これまで使用されたより大きな磁石および広い極
片とは対照的に、ビーム経路の両側に沿って垂直方向に
配置された複数の非常に小さな個々の磁石により、電子
銃およびるつぼの頂部の上方に水平方向の磁界を生成を
することにより達成される。るつぼ周囲の磁石の位置を
通常の位置からこのような90゜ずらすことが、長い極片
あるいはシム（shim）を使用することなく磁界領域へそ
の磁束線を出すように各磁石の一端部をできるだけ正確
に近い位置に置くことになる。

縦型るつぼは、るつぼのいずれか一方の側に静置する
個々の磁石の下端部を結合する垂直方向に置かれた磁石
に対するヨークを構成する鋼鉄板上に置かれる。前記磁
石の半部がビーム経路の片側に、また他の半部が他の側
に全て縦位置に置かれる。

上記のことは、磁石頂部からの漏れ磁束の略々半分が
るつぼを横切る両側の磁石の磁束線に引寄られて合流す
る非常に有効な磁石システムをもたらす。漏れ磁束は、
磁石の頂部から底部までの距離の領域において最小限に
抑えられるが、これはるつぼの反対側の磁極までの半分
の距離より大きい故である。従来の商業システムを同じ
電力消費および蒸気出力の上記システムと比較すると、
磁石体積で357％小さくかつ全体体積で353％小さなユニ
ットが結果としてもたらされる。

組立体の大きさの減少は、主として電子ビーム銃用の
磁気システムの使用の効率を増すことにより達成され
る。電子ビーム・システムに必要な唯一の磁界は、電子
がエミッタから目標に向けて空間内を移動する領域内に
ある。このような移動経路のかなり大きなパーセンテー
ジがるつぼ頂部上方のやや高いところにある。米国特許
第3,535,428号は、磁極頂部がるつぼの高さにあるこ
と、および電子経路内に使用可能な磁界強さを依然とし
て有することを教示している。このためには、るつぼ上
方のやや高い領域が充分な磁界強さを持つに充分なだけ
磁界強さの増加を助ける側方に広い磁極を必要とする。

本システムにおける電磁石（あるいは、永久磁石）の
使用は、例え同じ種類の磁気ソースを用いても鋼鉄の磁
極システムには生じない如き磁気の独特な磁気特性の１
つを利用することである。永久磁石においては、材料の
棒全体にわたる全ての分子分極領域が液状態からの材料
の初期冷却の時から、特に冷却サイクルの結晶成長状態
を通して必要な方向に整列するよう強制される。鋳型を
取外すと同時に、磁石は、切断、研磨等による処理を助
けるため減磁される。磁気は、次いで要求される飽和保
磁力まで再磁化することにより、元の磁気状態に回復す
ることができる。

永久磁石の両端における固い磁気材料の存在および磁
石の端部から出る磁力作用線に対するその効果は、高い
比率の磁束線を磁心端部から強制的に出す電磁石の端部
における電流が流れるワイヤの巻線の存在効果によって
複生される。磁束線が高い透磁率の材料から低い透磁率
の真空へ出る境界面で鋼製の磁極あるいは磁心を単に使
用するだけでは、方向性のある効果を付加するこのよう
な補助磁界を持つことはない。

電子ビーム経路の中間線上の磁界の最も強い部分は、
るつぼの両側に置かれる永久磁石の頂端部間の水平線の
略々真上に存在する。その結果、電子ビームの弧がるつ
ぼに沿って高い磁極を生じることのない正しいものとな
る。更に、蒸着物質頂部の上方のるつぼ壁面は比較的低
いが、これは冷却されたるつぼ壁面が覆う磁気構造体が
比較的低いためである。

対をなす小さな縦型磁石を使用することにより垂直方
向の磁気勾配が改善される許りでなく、電子ビーム経路
に沿った勾配もまた更に容易に達成される。米国特許第
3,535,428号の図８は、ビーム経路の異なる部分におけ
る異なる強さの磁界の必要を開示している。横方向の磁
界を用いる蒸着のためのこれまでの電子ビーム・システ
ムにおいては、主磁極にシムを噛ませることにより必要
な磁気勾配を得ることが必要であった。このことは、多
くの機械加工およびやすり作業、テストおよび嵌合せに
よるやっかいな手順であることが判る。本発明において
は、個々の磁石を相互に離したり近づけるよう移動させ
た後、これらを所定位置に固定することが容易である。

従来の電子ビーム加熱蒸気ソースは、蒸着物質の原子
から追出された電子スプレイならびに表面から弾性的に
散乱された一次電子の一部を生じる。これらは、表面か
ら広く発散する方向に出て行く。しかし、これら全ての
経路は、磁界線により初期ビームと同じ方向に折り曲げ
られ収束される経路へ変えられる。このため、それらの
あるものをソースの後端部に対して指向させるが、通常
は望ましくないがあるものは真空源に出て行き加熱室要
素に至る。漂遊電子のエネルギは、初期ビーム電力の10
％にもなり得る。残留する電子ビーム蒸気ソースの大部
分の製造企業は、このような電子を遮断するため最も後
方の水冷却器面と結合された銅製のバリアを付設する。

主電子ビーム処理磁界を乱すことなく大きな強さの高
い垂直磁界を生じるため、更に別の縦型磁石を後部に付
設することもある。経路の最も後方に出る電子は、るつ
ぼの後部における水冷却構造体内に向けて曲げられる。

多数の組をなす磁石を使用することは、ビーム経路に
沿って異なる磁界強さを設定することを容易にする。し
かし、磁気強さのより緩やかな変化を許容し、あるいは
別の磁気構造体を取付ることが不便な場所への磁界の拡
張を許容するために小さな磁極片を使用することもでき
る。一般に、このような用途に対する磁石は、磁極片な
しに最も良好に働く。

本発明は、電子ビーム加熱蒸気ソースのための新しい
改善された横型磁気構造体に関する。特に、本発明は、
高品質の薄膜コーティング等を作るため高真空環境内で
使用される電子ビーム加熱ソースに関する。電子ビーム
銃は、多数のるつぼ即ちるつぼ列を含むターレットの片
側に配置される。蒸着される物質は個々のるつぼ内に置
かれる。電子ビーム銃は、蒸着される物質が電子銃を破
壊しないように配置されている。電子銃から発される電
子の経路を特定のるつぼに指向させるため、複数の磁石
がその物質が蒸着されつつある特定のるつぼの対向側に
水平方向に配置され、これにより電子銃および蒸着され
る物質の頂部上方に延長する横方向の磁界を生成する。
磁石の配置が、電子をるつぼ内の物質に向けて上下の凸
状経路内で案内し収束する。磁石は、永久磁石、電磁石
あるいはその組合わせのいずれでもよい。

（関連技術の説明） 本発明は、同じ発明者による米国特許第4,835,789号
の発明と関連しており、その改善である。同特許の縦型
磁気構造体は、添付図面の図14乃至図19に示され、これ
を参照すれば、蒸着物質112を受取るための空洞111がる
つぼブロック113内に形成されることが判るであろう。
ブロック113は、銅から形成されることが望ましく、そ
の外側には水の通過溝114が形成されている。銅製のス
リーブ115がるつぼ113の外側に置かれ、これにより閉鎖
通路114を形成する。図15に最もよく示されるように、
流入管路136と流出管路137が水通路114と連通して、る
つぼ113を冷却するため水または他の冷却剤を供給す
る。蒸着物質112は、電子ビームにより融解され、スカ
ル（skull）116が蒸着物質112の融解プールの側面に形
成して、蒸着されつつある材料と銅のるつぼとの間の有
害な交換を阻止する。

図14に示される如きるつぼの一実施形態は、底部131
が水平方向にブロック113の下縁部付近に延長し、上方
および外方に傾斜した側面132が水平方向の突条133まで
延長している。蒸着物質112のレベルは、突条133あるい
はその下方にある。突条133の上方には、参照番号134に
より示される如く上方および外方に傾斜したブロックの
壁面および水平方向の棚部135が空洞111の周囲に延長し
ている。

個々の矩形状断面の永久磁石バー117が、その下端部
をるつぼ113の底部下方に嵌合する鋼製の基板118上に静
置させて置かれている。磁石117の外面には外側カバー1
19がある。本発明の望ましい実施態様においては、鋼製
の磁極片121、122は省かれているが、これら磁極片を磁
石117の頂部に配置することもできる。このため、図15
の右側には、Ｎ極を上に、またＳ極を基板118上に静置
させた４個の磁石117が置かれるが、左側には、Ｓ極を
最も高くした４個の類似の磁石がある。磁石117の数お
よび位置は変更され、その位置決めの最終結果が磁界を
確立して電子を凸状の経路内で上方へ、次いで蒸着物質
112に向けて下方へ案内し収束する。電子ビーム銃125
は、図15においては、アノード123と、るつぼ113の頂部
のレベルあるいはその上方、およびその片側に配置され
たフィラメント・タイプのエミッタ124とを備える如く
に略図的に示されている。

図16は、るつぼ113の対向側の磁石117間の磁力線を略
図的に示し、また図16にはガウス単位で磁界の強さを示
す数字が示されている。

２つの磁石141、142は、磁石117の直後に任意に配置
することができる。これらの磁石は、主ビーム処理磁石
よりも相互に近づけて配置されて、全一次電圧電子でも
通常の中程度の高さの経路方向では生じ得ない高い磁界
を生じる。従って、ソースの最も後方に進む電子はるつ
ぼ113の後方の水で冷却された構造体に向って曲げられ
る。

図17および図18は、各々が上記の永久磁石に代わるも
のとして図示しないソースにより励磁される磁心147と
コイル148を有する対向した対をなす電磁石を示し、図1
9は、DC電磁石および永久磁石の組合わせを示してい
る。

先に簡単に述べた電子ビームをるつぼ等に収束するた
めの従来技術の多重縦型磁石システムは、るつぼおよび
電子ビーム・ソースに加えて、電子銃からるつぼに対す
る電子ビームの片側に相互に隔てられた第１の極性の第
１の複数の離散磁石と、全てが前記電子ビーム・ソース
の同じ側に置かれた、前記電子ビーム経路の他の側で隔
てられた第２の極性の第２の複数の磁石とを請求項に記
載している。他の請求項は、同数の第１および第２の複
数の磁石を規定し、この第１および第２の複数の磁石は
相互に正対し、磁石は永久磁石、電磁石およびその組合
わせである。更に他の請求項は、磁石をその上に静置さ
せたるつぼ下方の磁化し得る基板を規定し、磁石は蒸着
ソースの上方から下方へ延長し、磁極片が磁石の上端部
にあり、カバーが磁石の外側周囲に延長している。上記
のシステムを規定する更に別の組の請求項は、全ての磁
石がるつぼの中心から略々等しい距離にあり、第１およ
び第２の極性の別の磁石がそれぞれビーム経路の反対側
で前記第１および第２の複数の磁石の後方に配置され、
この別の磁石は反対の極性の他の磁石よりも相互に接近
しており、上記のシステムにおいては個々の磁石が上記
の経路に電子を指向させるための唯一の作用力である。

本発明においては、複数の個々の磁石は、上記の米国
特許におけるように垂直位置ではなく水平位置に配置さ
れる。この先に触れた引用文献は、本出願人には周知の
従来技術について記載している。るつぼ頂部の上方なら
びに下方と共にるつぼ領域の色々な位置における磁界強
さの磁気測定によれば、垂直方向に置かれた磁石に沿っ
た磁束の主要源が頂端部と両端に非常に近い領域にある
ことが判る。従って、エミッタ、磁石および多数のるつ
ぼの形状が本発明に従って構成されることにより磁石が
水平位置に配置されるようにすることが望ましい。ター
レット状列が存在する場合、大きな磁気的な輻輳化を生
じることなくるつぼの周囲に縦型磁石を置くことは困難
となろう。水平方向に配置された磁石を用いることによ
り、上記の不都合が克服される。

（発明の概要） Ｎ極およびＳ極を米国特許第4,835,789号に示される
如く単一のるつぼ装置において使用される縦型磁石のそ
れと同じ位置に置いて磁石を水平方向に設置することに
より、エミッタから蒸着物質に対する同じ程度のビーム
・ガイダンスを持つことが可能である。

鋼製の基板即ち磁気帰線が磁石の係止端部を結合す
る。これは縦型磁石に関する前掲の米国特許に示された
直線的な矩形状基板より長いＵ字形片であるが、鋼は低
い磁気抵抗を有するため、僅かに長い鋼製経路の効果は
認め難い。

この種の横型磁石を備えた電子ビーム銃の磁界品質
は、縦型磁石を持つ電子ビーム銃におけるよりも良好と
思われる。その理由は、ビーム経路から鋼製基板の磁気
帰線との接点における他端部に対する磁石の少量の漏れ
磁束が、このような漏れ磁束がるつぼから充分に上方の
水平位置まで更に90゜隔てられる横型磁石の場合より
も、るつぼ領域内の磁界に対してより大きな効果を有す
る故である。

米国内で使用されてきた電子ビーム加熱ソースの大部
分は、多重るつぼ形態のものである。２つの異なる蒸着
を生じるためビーム衝撃下で個々のるつぼを逐次移動す
る手段と共に使用された２つ以上のるつぼのグループ
が、４分の１波長スタックおよび他のタイプの薄膜帯域
フィルタを作るため広く光学産業において使用されてい
る。更にまた、同じ材料の長期の蒸着操業を行う装置
は、手元に大量の蒸着物質のストックを持つように多重
ポケット組立体を使用することができる。一般に、多重
ポケット蒸着アレイは、ディスク状のターレット装置内
にある。このターレットは、各るつぼが次々にエミッタ
からの電子により衝突される位置へ送られるように割付
けられている。るつぼ組立体の回転を案内するターレッ
トの中心ポスト内の水冷却通路は、弾力性のあるリング
により封止される。従って、この種の装置は、リングの
ガス抜けの故にUHV（超高真空）においては使用できな
い。しかし、UHVレンジでは、直線状のるつぼを使用で
き、るつぼを移動可能にするもガス抜けが生じないよう
に全金属構造を持つ長い封止金属ベロース装置の使用に
より各るつぼがエミッタ位置を通って押される。

本発明の更に別の特徴は、共通ベースを有する複数か
らなる一列の磁石の使用である。

本発明の他の目的については、以降の記述を読み添付
図面を参照すれば明らかになるであろう。図において
は、各図の対応する部分は同じ参照番号で示される。

（図面の簡単な説明） 図１は、本発明の一実施例を示す概略平面図、 図２は、図１の線２−２に関する横断面図、 図３は、変更例の概略平面図、 図４は、図３の線４−４に関する縦断面図、 図５は、更に別の変更例の概略平面図、 図６は、図５の線６−６に関する断面図、 図７および図８は、それぞれ電磁石を用いることによ
り変更された図１および図２と類似の図、 図９は、るつぼの直線状列に用いた本発明を示す一部
断面平面図、 図10は、図９の線10−10に関する断面図、 図11は、共通ベースを持つ一列の複数の磁石を示す図
１に類似の図、 図12は、縦方向の磁石列を有する更に別の実施例の平
面図、 図13は、図12の線13−13に関する断面図、 図14は、るつぼおよび縦型磁石システムの中心縦断面
図、 図15は、図４の線15−15に関する断面図、 図16は、図14の構造体の磁力線を示す概略図、 図17および図18は、図14および図15と対応するその変
更例の図、 図19は、磁石システムの更なる変更例を示す図18と類
似の図である。

（実施例） 最初に図１および図２に示される変更例に注目して、
ターレット体部21（望ましくは銅から作られ、図示しな
いが前記米国特許第4,835,789号において充分に記述さ
れる冷却路を持つ）は、複数の、本例では４個が示され
るるつぼ22を含む。各ターレットにはより少ないかある
いはより多くのるつぼを使用できることが理解されよ
う。各るつぼ内の蒸着物質は異なるものでよい。この場
合、一時に１つのるつぼが電子ビーム・ソースの作用下
に置かれるようにターレットを回転させることにより、
被覆される対象物に対して多層コーティングが蒸着でき
る。一方、１つのるつぼの内容物が消費尽くされる時次
のるつぼを電子経路内の位置へ置くことができるよう
に、全てのるつぼにおける蒸着物質を同じものとしても
よい。

当技術においてよく理解されるように、ターレット21
を回転させる種々の手段を用いることができる。このよ
うに、ターレット・ベース23は図示され、冷却剤のター
レット体部の通路を通る状態を維持しながらベース23が
ターレット21を90゜回転させる手段は図示しないが、当
技術ではよく理解されよう。

電子ビーム銃36から発射される電子の経路の片側のタ
ーレット体部21の頂部のレベル上に置かれているのは、
３個の永久磁石26、27、28である。磁石26〜28は、水平
方向に配置され、図１の右側にある全てはそのＮ極が蒸
着されつつある特定時点のるつぼ22と最も近くに置かれ
る。用語「右側」および「左側」とは、電子の飛行方向
に関するものである。るつぼ22の他の側には、これも全
て水平位置に置かれてそのＳ極がるつぼ22に最も近くに
ある他の３個の磁石26a、27a、28aがある。このよう
に、右側の磁石26〜28は磁石26a〜28bとちょうど反対側
にあり、磁気経路が一方の側の他の側と磁石間に確立さ
れる。無論、３個の磁石の代わりにどんな数の水平位置
に置かれた磁石を用いてもよいことは理解されよう。

鋼製のヨーク29はＵ字形であり、底部31がターレット
・ベース23の下方にあり辺部32はターレット・ベース33
およびターレット体部21の各側で磁石のレベルまで延長
している。磁石26〜28および26a〜28aの各々の外縁部
は、ヨーク29の辺部32の一方と直接接触している。

有効な作動のためには、ヨーク29の垂直辺部32の外側
に銅製のジャケット38が設けられることが望ましい。更
に、これも銅製の内側に伸びる頂部材39が磁石の頂部上
方に延長しており、磁石の最も内側端部内で下方内部に
傾斜した辺部41が存在する。辺部41の角度は、るつぼ22
の側面のそれと略々等しい。これも銅製の底部42は各列
の磁石の下方に置かれ、その内側端部43が辺部41の内側
に伸びている。

図１および図２の変更例は横型磁石の配置を示し、こ
の配置がソース36からの電子をるつぼ22の１つにおける
蒸着物質に向けて収束および案内するための適正な磁界
を提供する。しかし、磁石下方の領域は、ターレットの
他のるつぼの通過のため開放されている。

次に図３および図４に示される変更例について、エミ
ッタから蒸着物質に対する電子ビーム経路周囲に置かれ
た横型磁石の配置は、最も重要なことがるつぼに最も近
い磁石の最も内側の端部の配置即ち位置であることを示
している。るつぼに最も近い磁石の端部が磁束をビーム
経路に指向する。磁石の反対側端部は、対向する組の磁
石の外端部を結合する鋼製のヨークに固く接している。

図３においては、磁石26c、26dがエミッタ・ソースに
最も近いこと、および磁石28c、28dがソース36からるつ
ぼ22cの先にあることに注意されたい。

図３および図４の変更例は、多くの点で図１および図
２のそれと似ており、添字ｃおよびｄが後に付した同じ
参照番号が図１の各部と対応する添字がないか添字ａの
ある部分をそれぞれ示している。

図３および図４の実施例においては、磁石26c、27cの
高さが図２の実施例におけるものと異なる。要するに、
磁石の位置は、特定の形態に対して最良の磁界パターン
を達成するため実験することができ、本発明は特に個々
の磁石の容易な位置変更のためのものである。内側端部
がエミッタからるつぼの先方に至る電子ビーム経路に近
い水平位置に置かれた小さな個々の磁石を用いて性能を
改善する。

次に図５および図６に示した変更例においては、鋼製
のヨーク29eは、ターレット機構23eの下方を通す代わり
に、水平方向に配置されている。このような配置は、電
子ビーム経路を制御する収束磁界下方に最大量の自由空
間を許容する。この配置は、るつぼの増加数および長い
直線列状の多数のるつぼにおけるるつぼの形式および大
きさのより大きな選択の自由度を許容する。倒置された
三日月状の樋部を電子ビームを通って徐々に回転して、
これにより例えばこの磁石の配置で蒸着される新鮮な誘
電性材料を連続的に供給することもできる。

他の観点において、図５および図６の変更例は図１お
よび図２のそれと類似しており、添字ｅが後に続く同じ
参照番号が添字ｆを付した右側の磁石を除いて対応する
部分を示している。

図７および図８は、永久磁石の代わりに電磁石の使用
を示している。この電磁石は、永久磁石の場合と同じ一
般的な磁極端部の形状および空間位置を持つことができ
る。後部の磁心27gおよび27h、28gおよび28hは、左側の
電磁コイル52h似より、また右側のコイル52gにより励磁
され、るつぼ22g上に多量の磁束を提供する。前方の磁
石26g、26hは、右側のコイル53gにより、また左側のコ
イル53hによって励磁される。これら磁石の主な目的
は、その全てを一緒に使用することもできるが、電子ビ
ームの前方および後方の運動のため磁束量を調整するこ
とである。

多くの観点において、図７および図８の変更例は、図
１および図２のそれと類似しており、添字ｇおよびｈを
後に付した同じ参照番号を対応する部分を示すため用い
られる。

図９および図10は、直線状列のるつぼ22jを示してい
る。当技術において周知でありこのため本文では示さな
い手段により、個々のるつぼは磁石の下方位置へ逐次移
動させることができる。るつぼは、１つのるつぼが空に
なると別のるつぼが所定位置に置かれるように同じ蒸着
物質を保有することもできる。あるいはまた、るつぼ
は、特にUHV環境において、異なるコーティングを同じ
あるいは異なる工作物に対して塗布されるように異なる
蒸着物質を保有することもできる。

図１および図２のものと類似の磁石列が図９および図
10に示されるが、他の磁石列に直線状列の構造を用いる
こともできることが理解されよう。

図９および図10においては、添字ｊおよびｋを基本と
なる参照番号に付して前の変更例と類似する部分を示
す。

図11は、更に別の変更例を示し、これにおいては、一
体列状の複数（本例では、変化を前提として３個）の磁
石26l、27l、28lが共通のベース46を持ち、一体に鋳造
されることが望ましい。このため、本システムは、共通
ベース46から延長する個々の内端部を持つ複数の磁石を
使用する。磁石161、271、281の内端部は自由端部であ
るが、それらの外端部は共通ベース46において接合され
ている。このため、この磁石列は、構造体の製造時に一
体として取扱い配置することができる。（電子ビームに
最も近い）内端部は、前の変更例におけるように個々の
ユニットとして機能する。各外端部は、共通ベース46か
らのそれ自体の磁束を提供する。るつぼの反対側には、
これも一体に鋳造されることが望ましい磁石26m、27m、
28mがある。

図11においては、添字ｌおよびｍが基本となる参照番
号に付されて、前の変更例に類似する部分を示す。

図12および図13においては、磁石26、27、28、28′が
垂直方向に配置され、前掲の米国特許第4,835,789号と
類似の方法で配置される。特に図13においては、Ｓ極が
離散状態に置かれＮ極が図11の実施例におけるように共
通ベース46qに接合された４個の垂直位置に配置された
磁石26q、27q、28q、28′ｑが存在する。磁石26p、27
p、28p、28′ｐが共通ベース46pにおいて同様に接合さ
れることが理解されよう。

他の観点においては、図12乃至図13の変更例は前の変
更例と似ており、添字ｐおよびｑが後に続く同じ参照番
号が対応する部分を示している。

本発明については特定の実施例に関して記述したが、
当業者には、本文に事例の修正、変更および組合わせが
本発明の趣旨および範囲内で可能であり、このため、特
定の記述あるいは図の細部により本発明を限定する意図
はないことが理解されよう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 H01J 37/14 H01J 37/317

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ほぼ水平面を有する蒸着ソースを含むるつ
   ぼと、該るつぼから変位された電子ビーム・ソースと、
   該電子ビーム・ソースから前記るつぼに至る経路に電子
   を指向する手段とを含む、蒸着ソースであって、 前記るつぼの第１の側および前記経路の第１の側におい
   て水平方向に相互に離間されて配置された第１の極性の
   第１の複数の個々の磁石と、 前記るつぼの第２の側および該第１の側と反対側の前記
   経路の第２の側において水平方向に相互に離間されて配
   置された前記第１の極性と反対の第２の極性の第２の複
   数の個々の磁石と、を含み、 前記磁石の全てと前記るつぼとが前記電子ビーム・ソー
   スの同じ側にあり、 前記第１のるつぼから離間された第２のるつぼを更に含
   み、前記磁石は最初に前記第２のるつぼから離れた位置
   に置かれ、前記第１のるつぼを前記磁石から遠ざけ、ま
   た前記第２のるつぼを前記第１のるつぼが前にとった位
   置へ来るように移動させるるつぼ移動手段を更に設ける
   ことを特徴とする、装置。
2. 【請求項２】蒸着ソースを含むるつぼと、該るつぼから
   変位された電子ビーム・ソースと、前記電子ビーム・ソ
   ースから前記るつぼに至る経路に電子を指向させる手段
   とを含む蒸着ソース装置であって、 第１の極性の個々の内部端部が前記るつぼの第１の側お
   よび前記経路の第１の側で相互に離間された第１の複数
   の第１の磁石を含み、前記内端部は前記るつぼに最も近
   くかつ前記るつぼから離れた外端部を持ち、第１のベー
   スが前記外端部を接合して第１の一体の列を形成してお
   り、 前記第１の極性と反対の第２の極性の個々の内端部が前
   記るつぼの第２の側および前記第１の側と反対側の前記
   経路の第２の側において相互に離間された第２の複数の
   第２の磁石を含み、第２のベースが前記第２の磁石の外
   端部を接合して第２の一体の列を形成する、 ことを特徴とする蒸着ソース装置。