JP3075209U - カセット用載置テーブル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 塵の発生原因となるカセット及びカセット用
載置テーブルへの傷が付きにくくする。 【解決手段】 本考案のカセット用載置テーブルは、カ
セット１が載るカセット用載置テーブル２の表面にテフ
ロンよりなる被覆層５を設けている。更にまたこのポリ
テトラフルオロエチレン被覆層内にカーボン等の導電性
の添加物を加えることによって、シリコンウェハに帯電
した電荷をアースすることもできる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【考案の属する技術分野】

本考案は、半導体製造装置及びその製造過程における検査装置に使用するウェ ハを供給するためのカセット用載置テーブルに関する。

【０００２】

【従来の技術】

一般に半導体製造装置及びその製造過程における検査装置にウェハを供給する ためのウェハを多数枚収容したカセットは、搬送装置により搬送されて、図１に 示されるようにカセット用載置テーブル上に載せられる。その後このカセットか らウェハが取り出されて、上記装置内のウェハチャックに供給されている。

【０００３】 このカセット用載置テーブルは、例えば図２に示されるようにＬ字形の位置ブ ロックや、又は図示されていないピン等の位置決め材が取り付けられていて、カ セットを該載置テーブル上に位置決めしている。そして従来はこのカセット用載 置テーブルは、アルミ材で形成されており、その表面にはアルマイト処理が施さ れていた。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながらこのようなアルマイト処理では、カセット用載置テーブル上に頻 繁にカセットを載置することによって、カセットに擦れや傷ができ、更にまた該 テーブルのアルマイト層にも傷が発生する。このような擦れや傷ができたカセッ トを新しいカセットに交換するにも、カセット自体が高価なポリテトラフルオロ エチレンにより形成されているので、カセット交換は非常にコストがかかる。ま たアルマイト層の傷も、サビを進行させて、塵やごみを発生する原因となってい た。このような塵やごみは、超クリーンルームにおいて該テーブルを使用する場 合は、特に問題である。

【０００５】 そこで本考案は、このような塵やごみの発生原因となるカセット及びカセット 用載置テーブルへの傷が付きにくく、かつカセットの交換頻度を少なくすること ができるカセット用載置テーブルを得ることを目的とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

本考案は、上記課題を解決するための手段として、特許請求の範囲の各項に記 載されたカセット用載置テーブルを提供する。 請求項１に記載のカセット用載置テーブルは、カセットをポリテトラフルオロ エチレンより形成すると共に、該載置テーブルの表面にポリテトラフルオロエチ レンよりなる被覆層を設けることによって、カセットと載置テーブルの該被覆層 とを同一材料にて当接でき、カセット及び該載置テーブルへの傷が付きにくく、 従ってサビや塵の発生を防止できるようにしている。

【０００７】 請求項２に記載のカセット用載置テーブルは、ポリテトラフルオロエチレンよ りなる被覆層に導電性の添加物を加えることによって、請求項１のカセット用載 置テーブルが有している効果に加えて、シリコンウェハに帯電した電荷をアース することが可能となるものである。またこれにより、従来シリコンウェハを除電 するために設けていたイオナイザー（除電器）を必要とせず、設備コストが節約 できる。

【０００８】

【考案の実施の形態】

以下本考案の実施の形態のカセット用載置テーブルについて説明する。本考案 のカセット用載置テーブルは、構造自体は基本的に従来の載置テーブルと変わら ず、ただカセットが載置される表面がポリテトラフルオロエチレンよりなる被覆 層を有している点だけが変更されている点である。 即ち、図１はカセット用載置テーブルの使用状態を示す概略全体図であり、ウ ェハを収容したカセット１が、カセット用載置テーブル２に載せられており、ド ア３の入口からウェハが供給される状態にある。

【０００９】 図２は、カセット１を載置したカセット用載置テーブル２の平面図である。図 ２では、カセット１の四隅にこれを位置付けするためのＬ字形の位置決めブロッ ク４が設けられているが、位置決め材としては、これに限られるものではなく、 ピン等の他の位置決め手段も採用可能なものである。図３は、図２のカセット用 載置テーブル２の断面図である。 図３に最もよく示されるように、カセット用載置テーブル２の上面には、本考 案の実施の形態であるポリテトラフルオロエチレンよりなる被覆層５が設けられ ている。このポリテトラフルオロエチレン被覆層５は、薄い場合は剥げ易いので ２回塗り等をしてかなりの厚さの被覆層を形成するのが好ましい。またカセット 用載置テーブル全体をポリテトラフルオロエチレンにより形成することも考えら れるが、その場合、テーブルの剛性が不足するし、またポリテトラフルオロエチ レン自体高価なものなので、従来のアルミ材のような剛性の強い材料の上にポリ テトラフルオロエチレンを被覆することが好適である。これにより、ポリテトラ フルオロエチレン製のカセットとポリテトラフルオロエチレン被覆層との同材料 の接触により、傷が付きにくくなる。なお、カセット１の側面には、図３に示さ れるように、ウェハ６を載せるための多数の溝７が設けられている。

【００１０】 本考案の別の実施の形態は、カセット用載置テーブル２の上記ポリテトラフル オロエチレン被覆層５内にカーボン等の導電性の添加物を加えることである。こ うすることによってシリコンウェハ６に帯電した電荷をアースすることが可能と なる。従来はウェハを除電してやるには、イオナイザーを設置してそこからエア を流して除電していたが、そのための設備費及びクリーンなエアの必要性等によ りコストがかかっていたが、イオナイザーの設置を省略できコストダウンが計れ る。

【００１１】

【考案の効果】

以上説明したように、本考案のカセット用載置テーブルによれば、カセット及 びカセット用載置テーブルからの塵やサビの発生原因となる表面の傷の生成を防 止できると共に、カセットの交換頻度を減らすことができ、更にカセット用載置 テーブルを導電性にするか又は非導電性にするかの選択を可能にしている。

【図面の簡単な説明】

【図１】カセット用載置テーブルの使用状態を示す概略
全体図である。

【図２】本考案の実施の形態のカセット用載置テーブル
の平面図である。

【図３】図２のカセット用載置テーブルの断面図であ
る。

【符号の説明】

１…カセット ２…カセット用載置テーブル ３…ドア ４…位置決めブロック ５…ポリテトラフルオロエチレン被覆層 ６…ウェハ ７…溝

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 クリーンルーム環境下で、カセットに収
   納された複数枚のウェハを枚葉単位で半導体検査装置内
   部に送り込むのに使用する半導体検査装置のカセット用
   載置テーブルにおいて、 該カセットがポリテトラフルオロエチレンから形成され
   ていると共に、該載置テーブルの表面にポリテトラフル
   オロエチレンよりなる被覆層を設け、該カセットと該載
   置テーブルの被覆層とを同一材料にて当接させることで
   発塵抑止性を強化したことを特徴とするカセット用載置
   テーブル。
2. 【請求項２】 ポリテトラフルオロエチレンからなる該
   載置テーブル表面に被覆された被覆層に導電性の添加物
   を加え、該カセットを通してウェハに帯電した電荷を逃
   がし、除電作業（イオナイザ）を省略させたことを特徴
   とする請求項１に記載のカセット用載置テーブル。