JP3072862B2 - Method for forming transparent conductive film - Google Patents
Method for forming transparent conductive filmInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、各種のディスプレイ装
置等において透明電極や帯電防止フィルムなどに用いら
れる特にインジウム錫酸化物(以下、ITOという)透
明導電膜を形成するための方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a transparent conductive film, particularly indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO), used for a transparent electrode or an antistatic film in various display devices and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、情報表示機器において液晶ディス
プレイやエレクトロ・ルミネッセンスディスプレイ等の
フラット型ディスプレイ装置が広く用いられている。そ
してこの種のディスプレイでは、表示素子の電極又は回
路電極に透明導電膜が使用されるが、かかる透明導電膜
には、抵抗値が小さく且つ透明性が良好であることから
特にITO透明導電膜が好適である。2. Description of the Related Art In recent years, flat display devices such as liquid crystal displays and electroluminescent displays have been widely used in information display devices. In this type of display, a transparent conductive film is used for an electrode of a display element or a circuit electrode. In particular, an ITO transparent conductive film is used as the transparent conductive film because of its low resistance and good transparency. It is suitable.
【0003】ITO透明導電膜を形成する場合、ITO
粒子をターゲットとしてスパッタリングを行うことによ
り基板上に透明導電膜を蒸着する方法があるが、この方
法で使用する装置は高価であり、大きな蒸着面積の成膜
加工には適していない。又、成膜後更にエッチングによ
ってパターン成形加工を行う必要がある等の問題があっ
た。そこでITO微粒子粉を用いたインクを塗布又は印
刷することによりITO透明導電膜を形成する方法が開
発されてきている。そしてこの方法はITO微粒子粉を
樹脂と溶剤とに混ぜ合わせて均一に分散せしめることに
よりペーストを形成し、該ペーストを基板に印刷してか
ら乾燥するという成膜方法である(以下、単に塗布法と
いう)。When forming an ITO transparent conductive film, ITO
There is a method in which a transparent conductive film is deposited on a substrate by performing sputtering using particles as a target. However, an apparatus used in this method is expensive and is not suitable for forming a film with a large deposition area. In addition, there is a problem that it is necessary to perform pattern forming by etching after film formation. Therefore, a method of forming an ITO transparent conductive film by applying or printing an ink using ITO fine powder has been developed. This method is a film formation method in which a paste is formed by mixing and uniformly dispersing the ITO fine particle powder with a resin and a solvent, the paste is printed on a substrate, and then dried (hereinafter simply referred to as a coating method). ).
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記塗
布法により形成される導電膜の導電原理はITO微粒子
相互の接近作用によって行われるものであるため、前記
蒸着による方法に比べて導電膜の電気的抵抗値が大きく
なってしまうので問題になっていた。又、導電膜の膜厚
が厚くなる(1〜3μm)上、導電膜表面の凹凸や導電
膜内部のボイド(空隙)等の原因で光の散乱が発生して
導電膜の全光線透過率やヘーズ値(曇の程度を表す数
値)が悪化するという問題があった。このためかかる塗
布法により形成された導電膜は帯電防止用等の比較的グ
レードが低い用途以外では実用化されていない。However, the conductive principle of the conductive film formed by the above-described coating method is based on the approaching action of the ITO fine particles. This was problematic because the resistance value would increase. In addition, the thickness of the conductive film increases (1 to 3 μm), and light scattering occurs due to irregularities on the surface of the conductive film and voids (voids) in the conductive film. There is a problem that the haze value (a numerical value indicating the degree of haze) is deteriorated. For this reason, a conductive film formed by such a coating method has not been put to practical use except for applications of relatively low grade, such as for antistatic purposes.
【0005】本発明はかかる実情に鑑み、この種透明導
電膜の光学的特性及び電気的特性を向上させることがで
きるようにした透明導電膜の成膜方法を提供することを
目的とする。[0005] In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide a method for forming a transparent conductive film capable of improving the optical and electrical characteristics of such a transparent conductive film.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明による透明導電膜
の成膜方法は、ITO微粒子を含む電子線硬化型インク
を樹脂フィルム上に印刷後、乾燥によって脱溶剤化処理
を施し、更にスチールロールによる圧延処理後、電子線
硬化処理を施すことにより行われる。According to the method of forming a transparent conductive film of the present invention, an electron beam-curable ink containing ITO fine particles is printed on a resin film, then subjected to a solvent removal treatment by drying, and further subjected to a steel roll. Is performed by performing an electron beam hardening process after the rolling process.
【0007】更に、本発明方法において、上記電子線硬
化型インクの固形成分中の上記ITO微粒子の体積含有
率が50〜80%である。Further, in the method of the present invention, the volume content of the ITO fine particles in the solid component of the electron beam-curable ink is 50 to 80%.
【0008】[0008]
【作用】本発明によれば、先ず透明導電膜を形成すべき
ITOの超微粒子粉を用いてペースト状に形成したイン
クをロールによって圧延することにより、ITO微粒子
を緻密化し、これにより形成された導電膜内のボイドの
発生を抑制することができる。又、かかるロールによる
圧延処理を行うことにより導電膜表面を平滑にし、この
結果、透明導電膜の光学的特性及び電気的特性の双方を
向上させることができる。電子線硬化型インクを使用す
ることにより、該インクを電子線によって硬化せしめる
前に行われる上記圧延処理においてはかかる電子線硬化
型インクが未だ硬化していない状態にあるため、圧延処
理時のロールの線圧力を比較的低く設定しても有効にI
TO微粒子の緻密化を図ることができる。According to the present invention, first, an ITO fine particle powder on which a transparent conductive film is to be formed is rolled by a roll of ink formed into a paste, whereby the ITO fine particles are densified. Generation of voids in the conductive film can be suppressed. Further, by performing the rolling treatment using such rolls, the surface of the conductive film is smoothed, and as a result, both the optical characteristics and the electrical characteristics of the transparent conductive film can be improved. By using the electron beam-curable ink, in the above-described rolling process performed before the ink is cured by an electron beam, the rolls during the rolling process are in a state where the electron beam-curable ink is not yet cured. Is effective even if the line pressure is set relatively low.
Densification of the TO fine particles can be achieved.
【0009】更に本発明によれば、基板に塗布される電
子線硬化型インクの固形成分中のITO粒子の体積含有
率を特に50〜80%に設定したことにより、導電膜の
電気的特性及び光学的特性を有効且つ大幅に向上させる
ことができる。即ち上記圧延処理を行う際に緻密化され
るITO粒子間の空隙を埋め尽くすだけの樹脂を必要と
するが、この場合、ITO粒子の量が多過ぎると樹脂が
かかる空隙を完全に埋めることができず、従ってボイド
が発生して光線透過率及びヘーズ値が悪くなる上に、所
謂、ポーラスな導電膜になってしまいその強度が低下す
る。一方、ITO粒子の量が少な過ぎるとかかるITO
粒子よりも過剰に存在する樹脂によってITO粒子同士
の相互接近が妨げられ、この場合には導電膜の光学的特
性は良好であっても電気的特性を向上させることはでき
ない。従って、インクの固形成分中の樹脂とITO粒子
との含有割合を最適にする必要があるが、本発明方法に
おいては、ITO粒子の体積含有率が上記のように50
〜80%に設定されている。Further, according to the present invention, by setting the volume content of ITO particles in the solid component of the electron beam-curable ink applied to the substrate particularly to 50 to 80%, the electrical characteristics of the conductive film and Optical characteristics can be effectively and greatly improved. That is, a resin is required to completely fill the voids between the ITO particles to be densified when performing the rolling process. In this case, if the amount of the ITO particles is too large, the resin may completely fill the voids. Therefore, voids are generated, so that the light transmittance and the haze value are deteriorated. In addition, a so-called porous conductive film is formed and the strength is reduced. On the other hand, if the amount of ITO particles is too small,
The resin present in excess of the particles prevents the ITO particles from approaching each other, and in this case, the electrical characteristics cannot be improved even if the optical characteristics of the conductive film are good. Therefore, it is necessary to optimize the content ratio between the resin and the ITO particles in the solid component of the ink. In the method of the present invention, the volume content of the ITO particles is 50% as described above.
It is set to ~ 80%.
【0010】[0010]
【実施例】以下、本発明による透明導電膜の成膜方法の
一実施例を詳細に説明する。先ず基板である樹脂フィル
ム上に塗布すべき電子線硬化型インクの構成成分である
ITOの超微粒子粉は、その平均粒径0.03μmのも
のを用いる。そしてかかるITO超微粒子粉を、オリゴ
マー及びモノマーから成る電子線硬化型樹脂と混ぜ合わ
せ、これら双方を合わせた重量に対して20%の溶剤を
添加して分散処理を行うことにより、電子線硬化型イン
クが形成される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the method for forming a transparent conductive film according to the present invention will be described below in detail. First, the ultrafine powder of ITO, which is a component of the electron beam-curable ink to be applied on the resin film as the substrate, has an average particle diameter of 0.03 μm. Then, the ITO ultrafine particle powder is mixed with an electron beam-curable resin composed of an oligomer and a monomer, and a dispersion treatment is performed by adding a solvent of 20% based on the total weight of both, thereby obtaining an electron beam-curable resin. An ink is formed.
【0011】上記オリゴマーとしての2官能基ウレタン
アクリレートもしくは2官能基エポキシアクリレートと
上記モノマーとしての3官能基アクリレート(例えばト
リメチロールプロパントリアクリレート)との重量比は
60:40程度に設定される。かかる電子線硬化型イン
クの固形成分(樹脂成分,ITO粒子,添加剤等)中の
ITO粒子の体積含有率50〜80%程度であることが
好ましいが、ここではウレタンアクリレート系インクに
ついては50%,60%及び75%、また、エポキシア
クリレート系については60%となるように合計4種類
のインクを形成した。The weight ratio of the bifunctional urethane acrylate or bifunctional epoxy acrylate as the oligomer and the trifunctional acrylate (for example, trimethylolpropane triacrylate) as the monomer is set to about 60:40. The volume content of ITO particles in the solid components (resin component, ITO particles, additives, etc.) of such an electron beam-curable ink is preferably about 50 to 80%, but here, the urethane acrylate-based ink is 50%. , 60% and 75%, and 60% for the epoxy acrylate type, to form a total of four types of inks.
【0012】次に、上記4種類の電子線硬化型インクの
それぞれをスクリーン印刷法により基板樹脂フィルムの
PETフィルム(厚さ100μmで、密着性を良好にす
るためにプライマー処理が施されている)上に印刷し、
この後、赤外線加熱により80°Cの温度で30分間乾
燥せしめられる。そしてこの乾燥によって、電子線硬化
型インク中に含まれている上記溶剤は揮発せしめられる
が、この時点では電子線硬化型インクの他の成分である
オリゴマー及びモノマーが液状であるためPETフィル
ム上に膜は未だ硬化してはいない。尚、上記4種類の電
子線硬化型インクのいずれの場合も12cm×15cm
程度の広さの印刷領域を形成して行ったが、塗膜の厚さ
はウレタンアクリレート系インクではおよそ3μm、ま
たエポキシアクリレート系インクではおよそ5μmであ
った。尚、これらの塗膜厚さの違いは、使用するインク
の粘度の相違に起因している。Next, each of the above-mentioned four types of electron beam-curable inks is subjected to a screen printing method to form a PET film of a substrate resin film (thickness: 100 μm, which has been subjected to a primer treatment to improve adhesion). Print on top,
Thereafter, drying is performed at a temperature of 80 ° C. for 30 minutes by infrared heating. By this drying, the solvent contained in the electron beam-curable ink is volatilized. At this point, since the other components of the electron beam-curable ink, the oligomer and the monomer, are in a liquid state, they are left on the PET film. The film is not yet cured. In addition, in each case of the above four types of electron beam-curable inks, 12 cm × 15 cm
The printing was performed after forming a printing area having a width as large as about 3 μm in the urethane acrylate ink and about 5 μm in the epoxy acrylate ink. The difference in the thickness of the coating film is caused by the difference in the viscosity of the ink used.
【0013】更に、基板樹脂フィルム上に上記スクリー
ン印刷法によって塗布されたインクはスチールロールに
よって圧延処理されるが、この圧延処理においてはその
表面がハードクロムメッキされた直径150mmの2本
のスチールロールを使用し、その処理スピードが略10
cm/秒となるように該スチールロールの回転速度を設
定した。又、このスチールロールによる圧延処理を行う
場合、スチールロールの線圧力は200kgf/cm以
上であれば、必要且つ十分である。ここで、かかる線圧
力が高過ぎると基板樹脂フィルムに機械的歪みを生じて
しまうが、本発明ではかかる歪みが生じないように設定
されている。これは使用される基板樹脂フィルムの種
類,材質及び厚さ等により、本実施例では上記設定値が
好ましい。そして線圧力の上限は1000kgf/cm
以下が好ましい。Further, the ink applied on the substrate resin film by the screen printing method is rolled by a steel roll. In this rolling process, two steel rolls 150 mm in diameter are hard chrome-plated on the surface. And the processing speed is about 10
The rotation speed of the steel roll was set so as to be cm / sec. In the case of performing the rolling treatment using the steel roll, it is necessary and sufficient if the linear pressure of the steel roll is 200 kgf / cm or more. Here, if the line pressure is too high, mechanical distortion occurs in the substrate resin film, but the present invention is set so as not to cause such distortion. According to the type, material and thickness of the substrate resin film to be used, the above-mentioned set value is preferable in this embodiment. And the upper limit of the linear pressure is 1000 kgf / cm
The following is preferred.
【0014】上記スチールロールによる圧延処理後、本
実施例のインクに対してはアルゴン等の不活性ガス雰囲
気中で電子線硬化処理が行われる。即ち、基板樹脂フィ
ルム上に塗布されている電子線硬化型インクに対して、
電子線の加速電圧175kVで照射線量10〜40Mr
adの電子線が照射される。ここで上記のように不活性
ガスを用いるのは、例えば空気中で電子線処理を行った
場合には空気中の酸素が、生じたラジカルを消費してし
まう所謂、酸素禁止作用により重合反応が阻害されてし
まうのを防ぐためである。After the rolling treatment by the steel roll, the ink of this embodiment is subjected to an electron beam curing treatment in an atmosphere of an inert gas such as argon. That is, for the electron beam curable ink applied on the substrate resin film,
Irradiation dose of 10-40Mr at 175kV of electron beam acceleration voltage
The electron beam of ad is irradiated. Here, the inert gas is used as described above, for example, when the electron beam treatment is performed in the air, the oxygen in the air consumes the generated radicals, that is, the polymerization reaction is performed by the so-called oxygen inhibiting action. This is to prevent being hindered.
【0015】本発明による透明導電膜の成膜方法は上記
のように構成されているから、先ず上記スチールロール
による圧延処理を行うことにより、形成されたITO透
明導電膜の光学的特性を著しく向上させることができ
る。即ち、この圧延処理を施す前の状態の塗膜の全光線
透過率は高々60%程度に過ぎなかったが圧延処理後は
80%程度にまで達し、又、導電膜のヘーズ値は20%
程度であったものが10%程度に向上した。この圧延処
理におけるスチールロールの線圧力は大きい程かかる効
果も大きくなる。Since the method for forming a transparent conductive film according to the present invention is configured as described above, the optical properties of the formed ITO transparent conductive film are remarkably improved by first performing a rolling process using the steel roll. Can be done. That is, the total light transmittance of the coating film before the rolling treatment was at most only about 60%, but reached about 80% after the rolling treatment, and the haze value of the conductive film was 20%.
Was improved to about 10%. The greater the linear pressure of the steel roll in the rolling process, the greater the effect.
【0016】一方、圧延処理を施される電子線硬化型イ
ンクは通常、0〜20%の溶剤を含んでいるが、基板樹
脂フィルム上に印刷・乾燥後に脱溶剤化処理が行われた
後でも液状のオリゴマー及びモノマーが存在しているた
めに硬化していない。従ってこのような状態で圧延処理
が行われるので、スチールロールの線圧力を比較的低く
設定しても塗膜は容易且つ有効に圧延せしめられITO
粒子を容易に緻密化することができる。そしてこれによ
り導電膜表面が平滑化され、この点でも光学的特性を向
上させることができるが、一般の熱可塑性樹脂を用いて
インクを形成した場合には塗膜の圧延処理時に500k
gf/cm以上の高い線圧力が必要になるのに比べて線
圧力を低く設定することができるという利点がある。こ
のように線圧力を低くすることにより基板樹脂フィルム
の歪みの発生をなくすることができる。On the other hand, the electron beam-curable ink to be subjected to the rolling treatment usually contains 0 to 20% of a solvent. However, even after printing and drying on the substrate resin film, the solvent is removed. Not cured due to the presence of liquid oligomers and monomers. Therefore, since the rolling process is performed in such a state, even if the linear pressure of the steel roll is set relatively low, the coating film can be easily and effectively rolled, and the ITO film can be rolled.
The particles can be easily densified. The surface of the conductive film is thereby smoothed, and the optical characteristics can be improved also in this respect. However, when an ink is formed using a general thermoplastic resin, 500 k
There is an advantage that the line pressure can be set lower than when a high line pressure of gf / cm or more is required. By reducing the linear pressure in this way, it is possible to eliminate the occurrence of distortion of the substrate resin film.
【0017】又、かかるスチールロールによる圧延処理
によりITO透明導電膜の電気的特性も向上させること
できる。即ち、この圧延処理を施さずに電子線硬化させ
ると塗膜の表面抵抗は10〜20kオーム/□にまで達
するが、圧延処理後に電子線硬化させると200〜60
0オーム/□に低下する。Further, the electrical characteristics of the ITO transparent conductive film can be improved by the rolling treatment using the steel roll. That is, the surface resistance of the coating film reaches up to 10 to 20 kOhm / square when cured by electron beam without performing the rolling treatment, but is 200 to 60 kΩ when cured by electron beam after the rolling treatment.
0 ohm / □.
【0018】次に本発明により形成されたITO透明導
電膜の光学的特性及び電気的特性についての測定結果を
図1乃至図5を参照して説明する。尚、これらの測定を
行うに際してITO粒子の平均粒径は米国カウンターク
ローム社製のQuantasorb QS−10によ
り、又、透明導電膜の全光線透過率及びヘーズ値は基板
であるPETフィルムと一緒にスガ試験機株式会社製の
直読ヘーズコンピュータHGM−ZDPにより、更に表
面抵抗は上記PETフィルムを50mm×50mmの寸
法に切り出した後三菱油化製のローレスタMCP−T4
00によりそれぞれ測定した。Next, the results of measuring the optical and electrical characteristics of the ITO transparent conductive film formed according to the present invention will be described with reference to FIGS. In performing these measurements, the average particle size of the ITO particles was measured by Quantasorb QS-10 manufactured by US Counter Chrome, and the total light transmittance and haze value of the transparent conductive film were measured together with the PET film as the substrate. The surface resistance was further cut out by a direct reading haze computer HGM-ZDP manufactured by Testing Machine Co., Ltd., and the PET film was cut out to a size of 50 mm × 50 mm.
00 respectively.
【0019】図1は、ITO粒子の体積含有率を60%
にしたウレタンアクリレート系の電子線硬化型インクを
用いて、スチールロールによるロール線圧力を変化させ
て形成された電子線硬化処理後のITO透明導電膜の表
面抵抗値及び光学的特性(全光線透過率,ヘーズ値)に
ついての測定結果を示している。この測定結果によれ
ば、ロール線圧力が200kgf/cm以上で500オ
ーム/□以下の表面抵抗と良好な光学特性とが得られ
た。FIG. 1 shows that the volume content of ITO particles was 60%.
Surface resistance and optical characteristics of ITO transparent conductive film after electron beam curing treatment formed by changing roll line pressure by steel roll using urethane acrylate-based electron beam curing type ink Ratio, haze value). According to the measurement results, a surface resistance of 500 ohm / □ or less and good optical characteristics were obtained at a roll line pressure of 200 kgf / cm or more.
【0020】図2は圧延処理時の線圧力400kgf/
cmにおいてITO粒子の体積含有率50%,60%及
び75%の3種類のウレタンアクリレート系の電子線硬
化型インクを用いて形成した電子線硬化処理後のITO
透明導電膜の光学的特性及び電気的特性の測定結果を示
している。図から明らかなようにいずれの電子線硬化型
インクの場合にも良好な膜特性になっているが、この測
定結果よりITO粒子の体積含有率は50〜80%程度
の範囲が光学的特性及び電気的特性を向上させる上で特
に好ましい。FIG. 2 shows a linear pressure of 400 kgf /
cm after the electron beam curing treatment formed using three types of urethane acrylate-based electron beam curable inks having a volume content of ITO particles of 50%, 60% and 75% in cm.
The measurement results of the optical and electrical characteristics of the transparent conductive film are shown. As is clear from the figure, good film properties are obtained in any of the electron beam-curable inks. From this measurement result, the volume content of ITO particles is in the range of about 50 to 80%, and the optical properties and It is particularly preferable for improving electrical characteristics.
【0021】図3及び図4は、電子線の照射線量を変え
た場合のITO透明導電膜の表面抵抗及び光学特性(全
光線透過率,ヘーズ値)についての測定結果を、ウレタ
ンアクリレート系インク及びエポキシアクリレート系イ
ンクのそれぞれについて示したものである。図3及び図
4から明らかなように、ITO膜の膜物性は電子線の照
射量には大きく影響を受けず、10Mrad以上あれば
充分である。そしてこの10Mrad以上の電子線によ
って硬化せしめた膜は塗膜をメチルエチルケトンを含ま
せた布で20回擦っても膜に剥離が生じなかった。ま
た、図3及び図4によれば、ウレタンアクリレート系イ
ンクは光学特性に優れており、一方、エポキシアクリレ
ート系インクは電気的特性に優れていることが分かる
が、このことからウレタンアクリレート系インク及びエ
ポキシアクリレート系インクの混合割合を適宜調整する
ことにより光学特性及び電気的特性について所望の特性
を有するように透明導電膜を成膜することができる。FIGS. 3 and 4 show the measurement results of the surface resistance and the optical characteristics (total light transmittance, haze value) of the ITO transparent conductive film when the irradiation dose of the electron beam was changed. It is shown for each of the epoxy acrylate-based inks. As is clear from FIGS. 3 and 4, the physical properties of the ITO film are not significantly affected by the irradiation amount of the electron beam, and 10 Mrad or more is sufficient. The film cured with an electron beam of 10 Mrad or more did not peel even when the coating film was rubbed 20 times with a cloth impregnated with methyl ethyl ketone. According to FIGS. 3 and 4, it can be seen that the urethane acrylate-based ink has excellent optical properties, while the epoxy acrylate-based ink has excellent electrical properties. By appropriately adjusting the mixing ratio of the epoxy acrylate-based ink, a transparent conductive film can be formed to have desired optical and electrical characteristics.
【0022】更に図5は電子線硬化せしめられたウレタ
ンアクリレート系及びエポキシアクリレート系のITO
透明導電膜の経時変化の例を示しており、この例では2
0Mradの電子線量での硬化により、ウレタンアクリ
レート系の場合は表面抵抗が400オーム/□弱まで低
下するが、その後は次第に増加して十数日後にほぼ安定
し、また、エポキシアクリレート系の場合は硬化後、表
面抵抗の変化が殆どない。FIG. 5 shows a urethane acrylate-based and epoxy acrylate-based ITO cured by electron beam.
An example of the change with time of the transparent conductive film is shown.
Curing with an electron dose of 0 Mrad reduces the surface resistance to less than 400 ohms / □ in the case of urethane acrylates, but then increases gradually and becomes almost stable after more than 10 days, and in the case of epoxy acrylates, After curing, there is almost no change in surface resistance.
【0023】[0023]
【発明の効果】上述したように、本発明方法によれば電
子線硬化型樹脂の選択により、この種導電膜の電気的特
性及び光学的特性を適宜調整することができ、特に表面
抵抗500オーム/□以下、或いは全光線透過率約80
%及びヘーズ値10%以下である耐溶剤性に優れたIT
O透明導電膜を形成することができる。As described above, according to the method of the present invention, by selecting an electron beam-curable resin, the electrical and optical characteristics of this kind of conductive film can be appropriately adjusted, and in particular, the surface resistance is 500 ohms. / □ or less, or total light transmittance about 80
% And excellent in solvent resistance with a haze value of 10% or less
An O transparent conductive film can be formed.
【図1】本発明方法により形成したウレタンアクリレー
ト系ITO透明導電膜の電気的特性及び光学特性とロー
ル線圧力との関係を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the relationship between the electrical and optical properties of a urethane acrylate-based ITO transparent conductive film formed by the method of the present invention and the roll line pressure.
【図2】本発明方法により3種類のウレタンアクリレー
ト系電子線硬化型インクを用いて形成したITO透明導
電膜の光学的特性と電気的特性の測定結果を示すグラフ
である。FIG. 2 is a graph showing the measurement results of the optical and electrical properties of an ITO transparent conductive film formed using three types of urethane acrylate-based electron beam curable inks according to the method of the present invention.
【図3】本発明方法により形成したウレタンアクリレー
ト系のITO透明導電膜の光学的特性及び電気的特性と
電子線照射量との関係を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing the relationship between the optical and electrical properties of a urethane acrylate-based ITO transparent conductive film formed by the method of the present invention and the amount of electron beam irradiation.
【図4】本発明方法により形成したエポキシアクリレー
ト系のITO透明導電膜の光学的特性及び電気的特性と
電子線照射量との関係を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the optical and electrical properties of an epoxy acrylate-based ITO transparent conductive film formed by the method of the present invention and the amount of electron beam irradiation.
【図5】本発明方法により形成したITO透明導電膜の
表面抵抗の経時変化の例を示したグラフである。FIG. 5 is a graph showing an example of a change with time of the surface resistance of an ITO transparent conductive film formed by the method of the present invention.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−237909(JP,A) 特開 平4−237908(JP,A) 特開 昭60−219270(JP,A) 特開 昭62−291811(JP,A) 特開 平1−249436(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 13/00 H01B 5/14 Continuation of the front page (56) References JP-A-4-237909 (JP, A) JP-A-4-237908 (JP, A) JP-A-60-219270 (JP, A) JP-A-62-291811 (JP) , A) JP-A-1-249436 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01B 13/00 H01B 5/14
Claims (2)
硬化型インクを樹脂フィルム上に印刷後、乾燥によって
脱溶剤化処理を施し、更にスチールロールによる圧延処
理後、電子線硬化処理を施すことにより上記樹脂フィル
ム上に透明導電膜を形成する透明導電膜の成膜方法。1. An electron beam-curable ink containing fine particles of indium tin oxide is printed on a resin film, subjected to a desolvation treatment by drying, further rolled by a steel roll, and then subjected to an electron beam curing treatment. A method of forming a transparent conductive film on the resin film.
上記インジウム錫酸化物微粒子の体積含有率が50〜8
0パーセントであることを特徴とする請求項1に記載の
透明導電膜の成膜方法。2. The volume fraction of the indium tin oxide fine particles in the solid component of the electron beam-curable ink is 50 to 8%.
The method for forming a transparent conductive film according to claim 1, wherein the content is 0%.
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