JP2008004502A - Dispersed electroluminescence element and its manufacturing method - Google Patents

Dispersed electroluminescence element and its manufacturing method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dispersed EL element that is more excellent in flexibility than the dispersed EL element using the conventional sputtering ITO film, concretely, to provide a dispersed EL element that is formed on a thin or flexible transparent plastic film, and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: The dispersed electroluminescence element is composed of a transparent coating layer reinforced at least with fibers and/or flake-like particles, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a rear-face electrode layer that are all successively formed on the base-film surface. The transparent coating layer reinforced with fibers and/or flake-like particles is peelable from the base-film surface. The transparent conductive layer is cured after executing compression treatment to a layer film formed by applying an application liquid for transparent conductive layer formation, which is mainly composed of conductive oxide particles and a binder, onto the surface of the transparent coating layer. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層が形成された透明導電層付きフィルムを用いて得られる分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法に関するものであり、特に、携帯電話等の各種デバイスのキー入力部品に組み込まれる発光素子として適用される分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a dispersive electroluminescent element obtained using a film with a transparent conductive layer in which a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide fine particles and a binder is formed, and a method for producing the same. The present invention relates to a distributed electroluminescence element applied as a light emitting element incorporated in a key input component of various devices such as a telephone and a method for manufacturing the same.

分散型エレクトロルミネッセンス素子(以下「分散型EL素子」と略称することがある。)は、交流電圧駆動による発光素子であり、携帯電話、リモートコントローラー等の液晶ディスプレイのバックライト等に用いられていたが、近年新しい用途として各種デバイスのキー入力部品(キーパッド)に組み込まれる発光素子への適用が試みられている。 A dispersive electroluminescence element (hereinafter sometimes abbreviated as “dispersion EL element”) is a light-emitting element driven by an alternating voltage, and used for backlights of liquid crystal displays such as mobile phones and remote controllers. However, in recent years, an attempt has been made to apply to a light emitting element incorporated in a key input component (keypad) of various devices as a new application.

このようなデバイスとしては、例えば、携帯電話、リモートコントローラー、PDA(Personal Digital Assistance)・ラップトップPC等の携帯情報端末等が挙げられ、発光素子は夜間など暗い場所でのキー入力操作を容易にする目的で用いられる。
従来、上記キー入力部品(キーパッド)の発光素子としては、発光ダイオード(LED)が適用されていたが、LEDは点光源でキーパッド部分の輝度が不均一で外観が悪いこと、一般に白色・青色の発光色が好まれるがLEDではそれらの色では高コストになること、分散型EL素子に比べて消費電力が大きいこと等の問題があることから、LEDに代えて分散型EL素子を適用する動きが目立っている。
Examples of such devices include mobile information terminals such as mobile phones, remote controllers, PDAs (Personal Digital Assistance) and laptop PCs, and the light emitting elements facilitate key input operations in dark places such as at night. It is used for the purpose.
Conventionally, a light emitting diode (LED) has been applied as a light emitting element of the key input component (keypad). However, the LED is a point light source, the brightness of the keypad part is uneven, and the appearance is generally poor. Blue light-emitting colors are preferred, but LEDs have a problem of high cost and high power consumption compared to the dispersion type EL element. Therefore, the dispersion type EL element is used instead of the LED. The movement to do is conspicuous.

かかる分散型EL素子の製造方法としては、一般に以下の方法が広く採用されている。即ち、スパッタリング、あるいはイオンプレーティング等の物理的成膜法を用いて、インジウム錫酸化物(以下「ITO」と略称する)の透明導電層が形成されたプラスチックフィルム(以下「スパッタリングITOフィルム」と略称する)上に、蛍光体層、誘電体層、背面電極層を順次スクリーン印刷等により形成する方法である。   As a manufacturing method of such a dispersion type EL element, the following method is generally widely adopted. That is, a plastic film (hereinafter referred to as “sputtering ITO film”) on which a transparent conductive layer of indium tin oxide (hereinafter abbreviated as “ITO”) is formed using a physical film forming method such as sputtering or ion plating. This is a method of forming a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer sequentially by screen printing or the like.

ここで、上記蛍光体層、誘電体層、背面電極層の各層の塗布(印刷)形成に用いるペーストは、それぞれ蛍光体粒子、誘電体微粒子、導電性微粒子がバインダーを含む溶剤に分散させたもので、例えば市販されているペーストを用いることができる。   Here, the paste used for forming (printing) the phosphor layer, the dielectric layer, and the back electrode layer is formed by dispersing phosphor particles, dielectric particles, and conductive particles in a solvent containing a binder, respectively. For example, a commercially available paste can be used.

また、上記スパッタリングITOフィルムは、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の透明プラスチックフィルムの上に無機成分であるITO単独層を上記物理的成膜法で厚さ:20〜50nm程度となるように形成したもので、表面抵抗値:100〜300Ω/□(オーム・パー・スクエア)程度と低抵抗が得られる。
しかしながら、上記ITO層は、無機成分の薄膜であって極めて脆いため、膜にマイクロクラック(割れ)を生じやすく、それを防止するため、基材となるプラスチックフィルムは十分な強度と剛性を備える必要があり、その厚みを少なくとも50μm以上、通常は75μm以上としている。
In addition, the sputtering ITO film has an ITO single layer, which is an inorganic component, on a transparent plastic film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), and has a thickness of about 20 to 50 nm by the physical film forming method. The surface resistance value is about 100 to 300Ω / □ (ohms per square) and low resistance is obtained.
However, since the ITO layer is a thin film of an inorganic component and is extremely brittle, it is easy for microcracks (breaks) to occur in the film, and in order to prevent this, the plastic film as the base material must have sufficient strength and rigidity. The thickness is at least 50 μm or more, usually 75 μm or more.

また、現在、上記スパッタリングITOフィルムのベースフィルムにはPETフィルムが広く用いられているが、その厚みが50μm未満の場合、フィルムのフレキシビリティ(柔軟性)が高すぎて、ハンドリングの最中にITO層に容易にクラックが生じ、膜の導電性を著しく損ねるため、例えば厚さ25μm等の薄いスパッタリングITOフィルムは実用化されていない。また、ウレタン等の柔らかいベースフィルムは、そのフィルム厚が75μm以上であっても、スパッタリングITO層を形成した場合にクラックが生じやすく実用化されていない。   Currently, a PET film is widely used as the base film of the sputtering ITO film. However, if the thickness is less than 50 μm, the flexibility of the film is too high, and the ITO film is handled during handling. For example, a thin sputtered ITO film having a thickness of 25 μm or the like has not been put into practical use because the layer easily cracks and the conductivity of the film is remarkably impaired. Moreover, even if the soft base film such as urethane has a film thickness of 75 μm or more, cracks are easily generated when a sputtering ITO layer is formed, and it has not been put into practical use.

ところで、上記キーパッドに分散型EL素子を適用した場合に要求される特性としては、例えば特許文献1にあるように、前述の輝度の均一性、低消費電力に加え、キーパッドを操作した際のクリック感に優れることが重要となる。
このキーパッドに分散型EL素子を組み込むことで、このクリック感を損ねないようにするためには、分散型EL素子自体のフレキシビリティを十分に高める必要があり、つまりは素子の厚みをできるだけ薄く、又はフレキシブルなベースフィルムを用いる必要がある。
By the way, as a characteristic required when a distributed EL element is applied to the keypad, for example, as disclosed in Patent Document 1, in addition to the above-described uniformity of luminance and low power consumption, the keypad is operated. It is important to have a good click feeling.
In order to prevent the click feeling from being impaired by incorporating a dispersion type EL element into this keypad, it is necessary to sufficiently increase the flexibility of the dispersion type EL element itself, that is, to reduce the thickness of the element as much as possible. Alternatively, it is necessary to use a flexible base film.

ところが、上述のスパッタリングITOフィルムを用いて分散型EL素子を作製した場合は、ITO層のクラック防止のためベースフィルムとして少なくとも厚さ50μm以上とし、フィルムの剛性を高める必要があり、フレキシブルなベースフィルムも使用できないため、上記キーパッドに適用した場合は、キー操作のクリック感が十分に良好とはいえない問題があった。   However, when a dispersion type EL element is produced using the above-mentioned sputtered ITO film, it is necessary to increase the rigidity of the film to be at least 50 μm thick as a base film to prevent cracks in the ITO layer. Therefore, when applied to the keypad, there is a problem that the click feeling of key operation is not sufficiently good.

また、上記とは別の問題として、例えば特許文献4には、携帯電話のキー入力に際して発生した静電気によるLCD(液晶)部品等の破壊・故障が指摘されている。このため、分散型EL素子のキー入力部品においても同様の問題が生ずる場合があり、その対策としては、例えば分散型EL素子の外表面に透明導電層を形成して上記静電気を逃がす方法が挙げられるが、前述のようにキーパッド用のベースフィルムはフレキシビリティが高いため、従来のスパッタリングITOフィルムは適用できない。また、キーパッドに要求される耐久性(打点耐久性)、透明性、導電性を満足する透明導電膜を、分散型EL素子外表面に安価に形成することも容易でなかった。
特開2001−273831号公報 特開平4−237909号公報 特開平5−036314号公報 特開2002−232537号公報
Further, as another problem different from the above, for example, Patent Document 4 points out the destruction / failure of LCD (liquid crystal) parts and the like due to static electricity generated at the time of key input of a cellular phone. For this reason, the same problem may occur in the key input component of the dispersion type EL element. As a countermeasure, for example, a method of releasing the static electricity by forming a transparent conductive layer on the outer surface of the dispersion type EL element can be cited. However, since the base film for the keypad has high flexibility as described above, the conventional sputtering ITO film cannot be applied. Further, it has not been easy to inexpensively form a transparent conductive film satisfying the durability (spot durability), transparency, and conductivity required for the keypad on the outer surface of the dispersion type EL element.
JP 2001-238331 A JP-A-4-237909 JP-A-5-036314 JP 2002-232537 A

本発明は、このような従来の事情に鑑みてなされたものであり、従来のスパッタリングITOフィルムを用いた分散型EL素子よりもフレキシビリティに優れる分散型EL素子、具体的には薄い、又は柔軟な透明プラスチックフィルムに形成された分散型EL素子及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such conventional circumstances, and is a dispersion type EL element that is more flexible than a conventional dispersion type EL element using a sputtering ITO film, specifically thin or flexible. It is an object of the present invention to provide a dispersion type EL element formed on a transparent plastic film and a method for manufacturing the same.

本発明者等は、上記目的を達成するため、様々の検討を重ねた結果、ベースフィルム表面上に順次形成された少なくとも透明コーティング層、透明導電層、蛍光体層、誘電体層、背面電極層からなる分散型エレクトロルミネッセンス素子のうち、透明コーティング層を可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子で強化されたコーティング層で、かつベースフィルムから剥離可能なものとし、また、透明導電層を従来の物理的成膜法ではなく、透明導電層形成用塗布液を用いて該ベースフィルム上に塗布・形成する方法を用いることによって、該透明導電層が導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分としていることから、透明導電層付フィルムのハンドリング中に透明導電層に容易にクラックが生じその導電性を著しく損ねることを抑え、しかも上記透明導電層形成用塗布液の塗布により得られた塗布層を圧縮処理することにより、透明導電層中の導電性微粒子の充填密度を上昇させ、光の散乱を低下させて膜の光学特性を向上させるだけでなく、導電性をも大幅に高めて、従来のスパッタリングITOフィルムを用いた分散型EL素子よりも導電性、フレキシビリティに優れる分散型EL素子を安価に提供することができること、また、該分散型EL素子を携帯電話等のキーパッドに適用した場合は、キーパッドに特殊な構造や工夫を行わなくても良好なキー操作のクリック感を得ることが可能となることを見出し、本発明に至った。   In order to achieve the above object, the present inventors have made various studies, and as a result, at least a transparent coating layer, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer sequentially formed on the surface of the base film. In the dispersion type electroluminescent device comprising the transparent coating layer, the transparent coating layer is a coating layer reinforced with visible light transmitting fibers and / or flaky particles, and can be peeled off from the base film. The transparent conductive layer is mainly composed of conductive oxide fine particles and a binder matrix by using a method of coating and forming on the base film using a coating liquid for forming a transparent conductive layer instead of a conventional physical film formation method. Because it is a component, cracks easily occur in the transparent conductive layer during handling of the film with the transparent conductive layer. By suppressing the damage and compressing the coating layer obtained by applying the coating liquid for forming the transparent conductive layer, the packing density of the conductive fine particles in the transparent conductive layer is increased and light scattering is reduced. In addition to improving the optical characteristics of the film, the conductivity is greatly improved, and a dispersive EL element that is superior in conductivity and flexibility to a dispersive EL element using a conventional sputtering ITO film is provided at low cost. In addition, when the distributed EL element is applied to a keypad of a cellular phone or the like, it is possible to obtain a good click feeling of key operation without performing a special structure or device on the keypad. As a result, the present invention has been achieved.

すなわち、本発明に係る分散型エレクトロルミネッセンス素子はベースフィルム表面上に順次形成された、少なくとも透明コーティング層と、透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、背面電極層とからなる分散型エレクトロルミネッセンス素子であって、前記透明コーティング層は透明樹脂と可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子を主成分とする透明コーティング層形成用塗布液を用いベースフィルム表面上に形成された繊維および/またはフレーク状粒子で強化されたコーティング層であって且つベースフィルム表面から剥離可能であり、前記透明導電層は導電性酸化物粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を該透明コーティング層の表面上に塗布して形成された塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させたものであることを特徴とするものである。
また、本発明に係る他の分散型エレクトロルミネッセンス素子は、前記透明ベースフィルムと前記透明コーティング層の間に、更に第2の透明導電層が形成され、前記第2の透明導電層は導電性酸化物粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を該ベースフィルム表面上に塗布し硬化させて形成されたもの、或いは、前記透明導電層形成用塗布液を該ベースフィルム表面上に塗布して形成された第2の塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させたものであることを特徴とし、前記透明コーティング層の厚さが50μm以下であることを特徴とし、前記導電性酸化物微粒子は、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分として含有していることを特徴とし、前記酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子であることを特徴とし、前記バインダーは、架橋性を有しており、前記透明導電層及び第2の透明導電層が有機溶剤耐性を有していることを特徴とし、前記圧縮処理が、金属ロールの圧延処理により行われることを特徴とし、前記ベースフィルムが前記透明コーティング層、又は、前記第2の透明導電層との界面で剥離除去されていることを特徴とし、上記記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子が、デバイスのキー入力部品に組み込まれる発光素子として適用されたことを特徴とし、前記デバイスが携帯電話、リモートコントローラー、携帯情報端末であることを特徴とするものである。
That is, the dispersive electroluminescent device according to the present invention is a dispersion formed of at least a transparent coating layer, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer, which are sequentially formed on the surface of the base film. The transparent coating layer is formed on the surface of the base film using a transparent resin and a coating liquid for forming a transparent coating layer mainly composed of visible light transmissive fibers and / or flaky particles. A coating layer reinforced with fibers and / or flaky particles, which can be peeled off from the surface of the base film, and the transparent conductive layer is a coating solution for forming a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide particles and a binder. The coating layer formed by coating the surface of the transparent coating layer with a compression treatment and then cured It is characterized in that those allowed.
In another dispersion type electroluminescent device according to the present invention, a second transparent conductive layer is further formed between the transparent base film and the transparent coating layer, and the second transparent conductive layer is conductively oxidized. A coating solution for forming a transparent conductive layer mainly composed of particle particles and a binder is applied on the surface of the base film and cured, or the coating solution for forming a transparent conductive layer is formed on the surface of the base film. The second coating layer formed by coating is cured after being subjected to compression treatment, and the thickness of the transparent coating layer is 50 μm or less, and the conductive property The oxide fine particles contain at least one of indium oxide, tin oxide, and zinc oxide as a main component, and the conductive oxide has the indium oxide as a main component. The particles are indium tin oxide fine particles, the binder has crosslinkability, and the transparent conductive layer and the second transparent conductive layer have organic solvent resistance. The compression treatment is performed by rolling a metal roll, and the base film is peeled and removed at the interface with the transparent coating layer or the second transparent conductive layer. The distributed electroluminescence element described above is applied as a light emitting element incorporated in a key input component of a device, and the device is a mobile phone, a remote controller, or a portable information terminal Is.

更に、本発明に係る分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、ベースフィルム表面上に、少なくとも透明コーティング層と、透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、背面電極層を順次形成する分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、透明樹脂と可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子を主成分とする透明コーティング層形成用塗布液を用いて形成された繊維および/またはフレーク状粒子で強化された前記透明コーティング層の表面上に導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次いで該透明コーティング層及び塗布層が形成された前記ベースフィルムに対し圧縮処理を施した後硬化させて透明導電層を形成することを特徴とするものである。
次に、本発明に係る他の分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、ベースフィルム表面上に、少なくとも透明コーティング層と、透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、背面電極層を順次形成する分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記ベースフィルム表面上に導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用い塗布して硬化させるか、或いは塗布して形成された第2の塗布層に圧縮処理を施した後硬化させるかして第2の透明導電層を形成し、該第2の透明導電層の表面上に透明樹脂と可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子を主成分とする透明コーティング層形成用塗布液を用いて繊維および/またはフレーク状粒子で強化された透明コーティング層を塗布形成し、更に該透明コーティング層の表面上に導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次いで該ベースフィルム、該第2の透明導電層、該透明コーティング層及び該塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させて透明導電層を形成することを特徴とするものである。
Furthermore, in the method for manufacturing a dispersion type electroluminescent device according to the present invention, at least a transparent coating layer, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer are sequentially formed on the surface of the base film. Dispersion type electroluminescent device manufacturing method comprising fibers and / or flakes formed using a transparent resin and a coating liquid for forming a transparent coating layer mainly composed of visible light transmissive fibers and / or flaky particles A coating layer is formed on the surface of the transparent coating layer reinforced with particle-like particles using a coating liquid for forming a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide fine particles and a binder, and then the transparent coating layer and the coating layer A transparent conductive layer is formed by applying a compression treatment to the base film on which is formed and then curing the base film. That.
Next, another dispersion type electroluminescent device manufacturing method according to the present invention includes at least a transparent coating layer, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer on the surface of the base film. A method for producing a dispersion type electroluminescent device that is sequentially formed, wherein a coating solution for forming a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide fine particles and a binder is applied on the surface of the base film and cured, or A second transparent conductive layer is formed by applying a compression treatment to the second applied layer formed by coating and then curing, and transparent resin and visible light transmission are formed on the surface of the second transparent conductive layer. A transparent coating layer reinforced with fibers and / or flaky particles using a coating solution for forming a transparent coating layer mainly composed of porous fibers and / or flaky particles And forming a coating layer on the surface of the transparent coating layer by using a coating solution for forming a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide fine particles and a binder, and then forming the base film and the second transparent layer. The conductive layer, the transparent coating layer and the coating layer are subjected to compression treatment and then cured to form a transparent conductive layer.

また、本発明に係る他の分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、前記記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造工程後、更にベースフィルムを前記透明コーティング層又は前記第2の透明導電層との界面から剥離除去することを特徴とし、前記圧縮処理を金属ロールの圧延処理で行うことを特徴とし、前記圧延処理は、線圧:29.4〜784N/mm(30〜800kgf/cm)であることを特徴とし、前記圧延処理は、線圧:98〜490N/mm(100〜500kgf/cm)であることを特徴とするものである。   Moreover, the manufacturing method of the other dispersion-type electroluminescent element which concerns on this invention is the interface with the said transparent coating layer or the said 2nd transparent conductive layer further after the manufacturing process of the said dispersion-type electroluminescence element of the said description. The compression treatment is performed by rolling a metal roll, and the rolling treatment has a linear pressure of 29.4 to 784 N / mm (30 to 800 kgf / cm). The rolling process is characterized in that the linear pressure is 98 to 490 N / mm (100 to 500 kgf / cm).

本発明によれば、ベースフィルム、及びそのベースフィルム上に順次形成された透明コーティング層、透明導電層、蛍光体層、誘電体層、背面電極層を少なくとも有する分散型エレクトロルミネッセンス素子であって、透明コーティング層は可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子で強化されたコーティング層で、かつベースフィルムから剥離可能なものとし、また、透明導電層を、従来の物理的成膜法ではなく、透明導電層形成用塗布液を用いて該ベースフィルム上に塗布・形成する方法を用いることによって、該透明導電層が導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分としていることから、透明導電層付フィルムのハンドリング中に透明導電層に容易にクラックが生じ、その導電性を著しく損ねることを抑え、しかも上記透明導電層形成用塗布液の塗布により得られた塗布層を圧縮処理することにより、透明導電層中の導電性微粒子の充填密度を上昇させ、光の散乱を低下させて膜の光学特性を向上させるだけでなく、導電性をも大幅に高めて、従来のスパッタリングITOフィルムを用いた分散型EL素子よりも導電性、フレキシビリティに優れる分散型EL素子を安価に提供することができること、また、上記分散型EL素子を携帯電話等のキーパッドに適用した場合は、キーパッドに特殊な構造や工夫を行わなくても良好なキー操作のクリック感を得ることが可能となり、工業的に有用である。   According to the present invention, there is provided a dispersive electroluminescence device having at least a base film and a transparent coating layer, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer sequentially formed on the base film, The transparent coating layer is a coating layer reinforced with visible light transmissive fibers and / or flaky particles, and can be peeled off from the base film, and the transparent conductive layer is not a conventional physical film-forming method. By using a method of coating and forming on the base film using a coating liquid for forming a transparent conductive layer, the transparent conductive layer is mainly composed of conductive oxide fine particles and a binder matrix. Cracks in the transparent conductive layer easily during the handling of the attached film, suppressing the significant loss of conductivity, In addition, by compressing the coating layer obtained by coating the coating liquid for forming the transparent conductive layer, the packing density of the conductive fine particles in the transparent conductive layer is increased, and light scattering is decreased to reduce the optical properties of the film. In addition to significantly improving the conductivity, it is possible to provide a low cost dispersion type EL element that is more conductive and flexible than the conventional dispersion type EL element using a sputtering ITO film, In addition, when the above distributed EL element is applied to a keypad of a mobile phone or the like, it becomes possible to obtain a good click feeling of key operation without performing a special structure or device on the keypad. Useful.

従来の分散型エレクトロルミネッセンス素子は、図1に示すように、透明プラスチックフィルム1上に順次形成された透明導電層2、蛍光体層3、誘電体層4、背面電極層5を少なくとも有しており、また、実際のデバイスへの適用では、図2に示すように、銀等の集電電極6や、絶縁保護層7を更に形成して用いるのが、一般的である。   As shown in FIG. 1, the conventional dispersion type electroluminescent device has at least a transparent conductive layer 2, a phosphor layer 3, a dielectric layer 4, and a back electrode layer 5 sequentially formed on a transparent plastic film 1. In addition, in application to an actual device, as shown in FIG. 2, it is common to further form and use a current collecting electrode 6 such as silver or an insulating protective layer 7.

一方、本発明に係る分散型エレクトロルミネッセンス素子は、図3に示すように、ベースフィルム8上に、順次形成された、透明コーティング層9、透明導電層2、蛍光体層3、誘電体層4、背面電極層5を少なくとも有しており、また、実際のデバイスへの適用では、図4に示すように、ベースフィルムを透明コーティング層との界面で剥離除去した形で用いられる。(図4には示していないが、図2と同様に、銀等の集電電極や、絶縁保護層を更に形成して用いるのが一般的である。)   On the other hand, the dispersive electroluminescent device according to the present invention has a transparent coating layer 9, a transparent conductive layer 2, a phosphor layer 3, and a dielectric layer 4 which are sequentially formed on a base film 8 as shown in FIG. 3. In addition, at least the back electrode layer 5 is provided, and in application to an actual device, as shown in FIG. 4, the base film is used by being peeled and removed at the interface with the transparent coating layer. (Although not shown in FIG. 4, it is common to further form and use a collector electrode such as silver or an insulating protective layer as in FIG. 2.)

本発明で用いるベースフィルムは、その厚さが50μm以上であることが好ましい。ベースフィルムの厚さが50μm未満であるとフィルムの剛性が低下し、上述の分散型EL素子の製造工程での取扱い、基材のそり(カール)、蛍光体層、誘電体層、背面電極層等の印刷性、等に問題を生じやすくなる。逆に150μm以上では、ベースフィルムが硬くなり扱いづらくなると同時に、コスト的にも好ましくない。
このため、双方のことを考慮すれば、ベースフィルムの厚さが75μm以上、125μm以下が最適である。
ベースフィルムには、透明性は要求されず、また、透明コーティング層との剥離性を有していれば良く、その材質は特に限定されず、各種プラスチックを用いることができる。具体的には、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ナイロン、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリイミド(PI)等のプラスチックを用いることができる。中でも、安価で且つ、強度に優れ、柔軟性も兼ね備えている等の観点から、PETフィルムが好ましい。
The base film used in the present invention preferably has a thickness of 50 μm or more. If the thickness of the base film is less than 50 μm, the rigidity of the film decreases, handling in the manufacturing process of the above-described dispersion type EL element, warping of the substrate (curl), phosphor layer, dielectric layer, back electrode layer Problems such as printability, etc. are likely to occur. Conversely, if it is 150 μm or more, the base film becomes hard and difficult to handle, and at the same time, it is not preferable in terms of cost.
For this reason, when both are considered, the thickness of the base film is optimally 75 μm or more and 125 μm or less.
The base film is not required to be transparent, and may be peelable from the transparent coating layer. The material is not particularly limited, and various plastics can be used. Specifically, plastics such as polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), nylon, polyethersulfone (PES), and polyimide (PI) should be used. Can do. Among these, a PET film is preferable from the viewpoints of being inexpensive, excellent in strength, and having flexibility.

ここで、ベースフィルムの役割としては、本発明の分散型EL素子の製造工程での取扱いを容易にする働き、蛍光体層、誘電体層、背面電極層等の積層工程における基材のそり(カール)を防止する働き、分散型EL素子の輸送・ハンドリング中に保護する働き、透明導電層、蛍光体層、誘電体層、背面電極層等の印刷を均一に行う働き(一般にスクリーン印刷では、多数の小径の穴があいた吸引ステージを用い、穴の部分を減圧にしてフィルム固定するが、基材としてのフィルムが薄いと、その穴の部分のフィルムが減圧により変形してくぼみが生じ、スクリーン印刷した膜にこのくぼみの跡が生じる。)等が挙げられる。   Here, the role of the base film is to facilitate handling in the manufacturing process of the dispersion-type EL element of the present invention, and to warp the substrate in the stacking process of the phosphor layer, dielectric layer, back electrode layer, etc. The function of preventing curling, the function of protecting the dispersed EL element during transportation and handling, and the function of uniformly printing the transparent conductive layer, the phosphor layer, the dielectric layer, the back electrode layer, etc. Using a suction stage with a large number of small-diameter holes, the hole part is decompressed and fixed to the film. However, if the film as the base material is thin, the film in the hole part is deformed by the decompression, resulting in a dent. And a mark of the dent is formed on the printed film).

本発明で用いる透明コーティング層は、透明樹脂と可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子を主成分とする透明コーティング層形成用塗布液を用いベースフィルムの上に塗布形成するため、その厚さを自由に設定できるが、その厚さが1μm以上、50μm以下であることが好ましい。透明コーティング層の厚さが50μmを超えるとその剛性が高くなり、分散型EL素子として前述のキーパッドに組み込んだ場合に、良好なクリック感が得られにくい。
また、透明コーティング層の厚さが、好ましくは25μm以下、より好ましくは15μm以下、更に好ましくは5μm以下であると、一層良好なクリック感を得ることが可能となり、また分散型EL素子の総厚を例えば100μm以下と薄くすることができるようになるためデバイスの設計面での自由度が高まる点でも、好ましい。本発明の透明コーティング層は、可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子で強化されたコーティング層であるため、透明コーティング層の厚さを薄くしてもその強度を十分高く維持できる特徴を有している。
The transparent coating layer used in the present invention is formed on a base film using a coating solution for forming a transparent coating layer mainly composed of a transparent resin and visible light transmissive fibers and / or flaky particles. The thickness can be freely set, but the thickness is preferably 1 μm or more and 50 μm or less. When the thickness of the transparent coating layer exceeds 50 μm, the rigidity becomes high, and when it is incorporated in the keypad as a dispersion type EL element, it is difficult to obtain a good click feeling.
Further, when the thickness of the transparent coating layer is preferably 25 μm or less, more preferably 15 μm or less, and even more preferably 5 μm or less, it becomes possible to obtain a better click feeling, and the total thickness of the dispersion type EL element. Can be made as thin as 100 μm or less, for example, which is also preferable in terms of increasing the degree of freedom in device design. Since the transparent coating layer of the present invention is a coating layer reinforced with visible light transmissive fibers and / or flaky particles, the strength of the transparent coating layer can be maintained sufficiently high even if the thickness of the transparent coating layer is reduced. Have.

透明コーティング層は最終的に分散型EL素子の最表面となるため、透明導電層の電気的に絶縁する必要があるが、その厚さが1μm未満の場合は、十分に絶縁できない可能性があり好ましくない。
更に、透明コーティング層の材質(透明樹脂)は、ベースフィルムとの剥離性を有し、かつ、その上に透明導電層が形成できれば特に限定されず、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等の各種樹脂を用いることができる。具体的には、ウレタン、エポキシ、ポリエステル、フッ素系樹脂等の樹脂を用いることができる。その中でも、安価で且つ透明性、強度に優れ、柔軟性も兼ね備えている等の観点から、ウレタン系及びフッ素系樹脂が好ましい。
Since the transparent coating layer finally becomes the outermost surface of the dispersion-type EL element, it is necessary to electrically insulate the transparent conductive layer. However, if the thickness is less than 1 μm, there is a possibility that sufficient insulation cannot be achieved. It is not preferable.
Furthermore, the material of the transparent coating layer (transparent resin) is not particularly limited as long as it has a peelability from the base film and a transparent conductive layer can be formed thereon. For example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, Various resins such as an ultraviolet curable resin can be used. Specifically, resins such as urethane, epoxy, polyester, and fluorine resin can be used. Among these, urethane-based and fluorine-based resins are preferable from the viewpoints of being inexpensive, excellent in transparency, strength, and flexibility.

透明コーティング層の強化に用いる可視光線透過性の繊維(針状、棒状、ウィスカーも含む)は、可視光線透過性で、かつ繊維の太さが2〜3μm程度以下であれば各種の無機繊維や有機繊維(プラスチック繊維)が適用可能である。例えば、無機繊維であれば、シリカ繊維、チタニア繊維、アルミナ繊維、チタン酸カリウム繊維、ホウ酸アルミニウム繊維等が、有機繊維ではポリエステル繊維、ナイロン繊維、アラミド繊維等が適用できるが、これらに限定されない。
透明コーティング層の強化に用いる可視光線透過性のフレーク状粒子(板状も含む)は、可視光線透過性で、かつフレーク状粒子の厚さ2〜3μm程度以下であれば各種の無機や有機(プラスチック)のフレーク状粒子が適用可能である。例えば、無機フレーク状粒子であれば、シリカ、チタニア、アルミナ等のフレーク状粒子、焼成カオリンなどのクレイ等がある。
上記繊維やフレーク状粒子は、透明樹脂(バインダーマトリックス)に分散した状態で透明コーティング層の強化の作用を有するが、その強度向上のためには繊維やフレーク状粒子と透明樹脂間の接着強度を高める必要があるため、必要に応じ繊維やフレーク状粒子の表面に接着性向上処理(カップリング剤処理、プラズマ処理等)を施すことが好ましい。カップリング剤処理におけるカップリング剤としては、例えば、シリコン系やチタン系等の各種カップリング剤が適用できる。シリコンカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等が挙げられるが、用いる透明樹脂の種類に応じて適宜選択すればよく、これらに限定されない。
Visible light transmissive fibers (including needles, rods, and whiskers) used to reinforce the transparent coating layer are visible light transmissive, and various inorganic fibers or fibers can be used as long as the fiber thickness is about 2 to 3 μm or less. Organic fiber (plastic fiber) is applicable. For example, silica fibers, titania fibers, alumina fibers, potassium titanate fibers, aluminum borate fibers, etc. can be applied to inorganic fibers, and polyester fibers, nylon fibers, aramid fibers, etc. can be applied to organic fibers, but are not limited thereto. .
Visible light permeable flaky particles (including plate-like particles) used for strengthening the transparent coating layer are visible light permeable and have a thickness of about 2 to 3 μm or less. Plastic) flaky particles are applicable. For example, in the case of inorganic flaky particles, there are flaky particles such as silica, titania and alumina, and clay such as calcined kaolin.
The fibers and flaky particles have the effect of reinforcing the transparent coating layer in a state dispersed in a transparent resin (binder matrix). In order to improve the strength, the adhesive strength between the fibers and flaky particles and the transparent resin is increased. Since it is necessary to raise, it is preferable to perform the adhesive improvement process (a coupling agent process, a plasma process, etc.) to the surface of a fiber or flaky particle | grains as needed. As the coupling agent in the coupling agent treatment, for example, various coupling agents such as silicon and titanium can be applied. Examples of the silicon coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and the like, and may be appropriately selected depending on the type of transparent resin to be used. It is not limited to these.

このように、本発明によれば、透明コーティング層の厚さを極めて薄く設定することができ、また、材質を適宜選定すれば、用途に応じて良好な柔軟性を付与することが可能である。   Thus, according to the present invention, the thickness of the transparent coating layer can be set very thin, and if the material is appropriately selected, it is possible to impart good flexibility according to the application. .

本発明に係る分散型EL素子では、図5に示すように、ベースフィルム8と透明コーティング層9の間に、第2の透明導電層10を更に形成することもできる。(実際のデバイスへの適用では、ベースフィルムを第2の透明導電層10との界面で剥離除去した形で用いられる。)
第2の透明導電層は、静電気による各種弊害を防止する目的であるため、分散型EL素子の電極として適用される前述の透明導電層の抵抗値に比べて、遥かに高い値で良く、例えば1M(1×10)Ω/□程度以下の値とするのが好ましい。
上記第2の透明導電層は、導電性酸化物微粒子をバインダー成分を含む溶媒に分散させた透明導電層形成用塗布液を用いてベースフィルムの上に塗布し硬化させて形成されるか、或いは、前記透明導電層形成用塗布液をベースフィルム上に塗布して第2の塗布層を形成し、次いで該第2の塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させて形成されるが、分散型EL素子の輝度低下をできるだけ防止する観点から高い透過率を有することが好ましく、従って、その膜厚は3μm以下であることが好ましく、更に1μm以下が好ましい。
第2の透明導電層に用いられるバインダーの材質は、ベースフィルムとの剥離性を有し、かつ、その上に透明コーティング層が形成できれば特に限定されず、各種樹脂を用いることができる。具体的には、ウレタン、エポキシ、ポリエステル、フッ素系樹脂等の樹脂を用いることができる。その中でも、安価で且つ透明性、強度に優れ、柔軟性も兼ね備えている等の観点から、ウレタン系樹脂が好ましい。
In the dispersion type EL device according to the present invention, as shown in FIG. 5, a second transparent conductive layer 10 can be further formed between the base film 8 and the transparent coating layer 9. (In application to an actual device, the base film is used after being peeled and removed at the interface with the second transparent conductive layer 10.)
Since the second transparent conductive layer is for the purpose of preventing various harmful effects due to static electricity, it may be much higher than the resistance value of the above-mentioned transparent conductive layer applied as an electrode of the dispersion type EL element. The value is preferably about 1M (1 × 10 6 ) Ω / □ or less.
The second transparent conductive layer is formed by applying and curing on a base film using a coating liquid for forming a transparent conductive layer in which conductive oxide fine particles are dispersed in a solvent containing a binder component, or The transparent conductive layer forming coating solution is applied onto a base film to form a second coating layer, and then the second coating layer is compressed and then cured, and dispersed. From the viewpoint of preventing luminance reduction of the type EL element as much as possible, it is preferable to have high transmittance. Therefore, the film thickness is preferably 3 μm or less, and more preferably 1 μm or less.
The material of the binder used for the second transparent conductive layer is not particularly limited as long as it has releasability from the base film and a transparent coating layer can be formed thereon, and various resins can be used. Specifically, resins such as urethane, epoxy, polyester, and fluorine resin can be used. Among these, urethane-based resins are preferable from the viewpoints of being inexpensive, excellent in transparency, strength, and flexibility.

上記透明コーティング層上への、導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とする透明導電層の形成は、透明コーティング層の表面上に、導電性酸化物微粒子をバインダー成分を含む溶媒に分散させた透明導電層形成用塗布液を用いて、塗布・乾燥後した後、透明コーティング層が形成されたベースフィルムごと圧縮処理を行い、次いで、バインダー成分を硬化させることにより得られる。
尚、上記透明導電層形成用塗布液を塗布・乾燥して得られる、圧縮処理前の膜(塗布層)は、導電性微粒子とバインダーマトリックスの間に多数の微細な空隙(マイクロボイド)が形成された状態である。上記空隙が生じるのは、本発明の透明導電層形成用塗布液において、バインダー成分の配合量が少ないためであり(例えば、導電性微粒子/バインダー成分=90/10の場合)、透明導電層形成用塗布液を単に塗布・乾燥するだけでは、導電性微粒子の細密充填は困難で、導電性微粒子の間にかなりの空隙が形成されるが、それをバインダー成分が完全に埋めきれないことに起因している。
ここで、圧縮処理としては、例えば、透明導電層形成用塗布液が塗布・乾燥された透明コーティング層を有するベースフィルムをスチールロールにより圧延すればよい。本発明では、最終的には、極めて薄い透明コーティング層上に圧延処理された透明導電層を有する構造の分散型EL素子を得ることになるが、上記圧延処理工程では、厚いベースフィルムごと圧延処理をおこなうため、比較的高い圧延圧力を適用することが可能である。この場合のスチールロールの圧延圧力は線圧:29.4〜784N/mm(30〜800kgf/cm)が良く、98〜490N/mm(100〜500kgf/cm)がより好ましく、196〜294N/mm(200〜300kgf/cm)が更に好ましい。線圧:29.4N/mm(30kgf/cm)未満では、圧延処理による透明導電層の抵抗値改善の効果が不十分で、線圧:784N/mm(800kgf/cm)を超えると、圧延設備が大型化すると同時に、ベースフィルムや透明コーティング層が歪んでしまう場合があるからである。圧延設備の価格、圧延処理による透明導電層の特性(透過率、ヘイズ、抵抗値)のバランスを考慮して、98〜490N/mm(100〜500kgf/cm)の範囲内に適宜設定することが望ましい。
上記スチールロールの圧延処理における圧延圧力(N/mm)は、線圧をニップ幅(スチールロールでつぶされる幅)割った値である。前記ニップ幅は、スチールロールの径と線圧にもよるが、150mm程度の直径であれば、0.7〜2mm程度である。
圧延処理により、圧延処理を行わない場合に比べて透明導電膜層中にある導電性微粒子の充填密度は、線圧にもよるが、例えば45vol%以下の低い値から、50〜80vol%(好ましくは55〜80%)程度まで高めることができる。80vol%を超える充填密度は、透明導電層形成用塗布液に含まれるバインダー成分の存在、及び導電性微粒子の物理的な充填構造から考えると、達成困難と思われる。
のような圧延処理を行うと、膜中に存在する上記空隙がつぶれて消失し、透明導電層中の導電性微粒子の充填密度が上昇するため、光の散乱を低下させて膜の光学特性を向上させるだけでなく、導電性を大幅に高めることができる。
Formation of a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide fine particles and a binder matrix on the transparent coating layer is performed by dispersing the conductive oxide fine particles in a solvent containing a binder component on the surface of the transparent coating layer. After applying and drying using the coating liquid for forming a transparent conductive layer, the base film on which the transparent coating layer is formed is subjected to compression treatment, and then the binder component is cured.
In addition, in the film (coating layer) before compression treatment obtained by applying and drying the coating liquid for forming the transparent conductive layer, many fine voids (micro voids) are formed between the conductive fine particles and the binder matrix. It is the state that was done. The above-mentioned voids occur because the amount of the binder component in the coating liquid for forming the transparent conductive layer of the present invention is small (for example, when conductive fine particles / binder component = 90/10), and the transparent conductive layer is formed. By simply applying and drying the coating liquid for coating, it is difficult to finely fill the conductive fine particles, and a considerable gap is formed between the conductive fine particles, but the binder component cannot completely fill it. is doing.
Here, as the compression treatment, for example, a base film having a transparent coating layer coated and dried with a coating liquid for forming a transparent conductive layer may be rolled with a steel roll. In the present invention, a dispersion type EL element having a structure having a transparent conductive layer rolled on an extremely thin transparent coating layer is finally obtained. In the rolling process, the thick base film is rolled together. Therefore, it is possible to apply a relatively high rolling pressure. The rolling pressure of the steel roll in this case is preferably a linear pressure: 29.4 to 784 N / mm (30 to 800 kgf / cm), more preferably 98 to 490 N / mm (100 to 500 kgf / cm), 196 to 294 N / mm. (200 to 300 kgf / cm) is more preferable. If the linear pressure is less than 29.4 N / mm (30 kgf / cm), the effect of improving the resistance value of the transparent conductive layer by the rolling treatment is insufficient. If the linear pressure exceeds 784 N / mm (800 kgf / cm), rolling equipment This is because the base film and the transparent coating layer may be distorted at the same time as the size of the film increases. Considering the balance between the price of the rolling equipment and the characteristics (transmissivity, haze, resistance value) of the transparent conductive layer by the rolling treatment, it may be appropriately set within the range of 98 to 490 N / mm (100 to 500 kgf / cm). desirable.
The rolling pressure (N / mm 2 ) in the rolling treatment of the steel roll is a value obtained by dividing the linear pressure by the nip width (width crushed by the steel roll). Although the said nip width | variety is based also on the diameter and linear pressure of a steel roll, if it is a diameter of about 150 mm, it will be about 0.7-2 mm.
The packing density of the conductive fine particles in the transparent conductive film layer by the rolling treatment is 50 to 80 vol% (preferably from a low value of 45 vol% or less, for example), although it depends on the linear pressure, as compared with the case where the rolling treatment is not performed. Can be increased to about 55 to 80%). A packing density exceeding 80 vol% seems to be difficult to achieve in view of the presence of the binder component contained in the coating liquid for forming the transparent conductive layer and the physical filling structure of the conductive fine particles.
When the rolling process is performed, the voids present in the film are crushed and disappeared, and the packing density of the conductive fine particles in the transparent conductive layer is increased, so that the scattering of light is reduced and the optical characteristics of the film are improved. In addition to improving, the conductivity can be greatly increased.

尚、上記透明コーティング層には、透明導電層との密着力を高めるために、易接着処理、具体的には、プラズマ処理、コロナ放電処理、短波長紫外線照射処理等を予め施しておくこともできる。   The transparent coating layer may be subjected to an easy adhesion treatment, specifically, a plasma treatment, a corona discharge treatment, a short-wavelength ultraviolet irradiation treatment, etc. in advance in order to increase the adhesion with the transparent conductive layer. it can.

透明導電層形成用塗布液に用いられる導電性酸化物微粒子としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分とする導電性酸化物微粒子であって、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)微粒子、インジウム亜鉛酸化物(IZO)微粒子、インジウム−タングステン酸化物(IWO)微粒子、インジウム−チタン酸化物(ITiO)微粒子、インジウムジルコニウム酸化物微粒子、錫アンチモン酸化物(ATO)微粒子、フッ素錫酸化物(FTO)微粒子、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)微粒子、ガリウム亜鉛酸化物(GZO)微粒子等が挙げられるが、透明性と導電性を具備していれば良く、これらに限定されない。
但し、中でもITOが、高い可視光線透過率と優れた導電性を両立できる点で最も高特性であり、好ましい。
The conductive oxide fine particles used in the coating liquid for forming the transparent conductive layer include conductive oxide fine particles mainly composed of at least one of indium oxide, tin oxide, and zinc oxide. For example, indium tin Oxide (ITO) fine particles, indium zinc oxide (IZO) fine particles, indium-tungsten oxide (IWO) fine particles, indium-titanium oxide (ITiO) fine particles, indium zirconium oxide fine particles, tin antimony oxide (ATO) fine particles , Fluorine tin oxide (FTO) fine particles, aluminum zinc oxide (AZO) fine particles, gallium zinc oxide (GZO) fine particles, etc., but not limited thereto, as long as they have transparency and conductivity. .
However, ITO is the most preferable because it has both high visible light transmittance and excellent conductivity.

導電性酸化物微粒子の平均粒径は、1〜500nmが好ましく、5〜100nmが更に好ましい。平均粒径が1nm未満では透明導電層形成用塗布液の製造が困難となり、また得られる透明導電層の抵抗値が高くなる。一方、500nmを超えると、透明導電層形成用塗布液中で導電性酸化物微粒子が沈降し易く取扱いが容易でなくなると同時に、透明導電層において高透過率と低抵抗値を同時に達成することが困難になるからである。
また、5〜100nmが更に好ましいのは、透明導電層の特性(透過率、抵抗値)と透明導電層形成用塗布液の安定性(導電性微粒子の沈降)等をバランスよく兼ね備えることが可能となるからである。
尚、上記導電性酸化物微粒子の平均粒径は、透過電子顕微鏡(TEM)で観察された値を示している。
The average particle size of the conductive oxide fine particles is preferably 1 to 500 nm, and more preferably 5 to 100 nm. When the average particle size is less than 1 nm, it is difficult to produce a coating liquid for forming a transparent conductive layer, and the resistance value of the obtained transparent conductive layer is increased. On the other hand, if it exceeds 500 nm, the conductive oxide fine particles are likely to settle in the coating liquid for forming the transparent conductive layer and are not easily handled, and at the same time, the transparent conductive layer can simultaneously achieve high transmittance and low resistance. Because it becomes difficult.
Further, the thickness of 5 to 100 nm is more preferable because the characteristics (transmittance, resistance value) of the transparent conductive layer and the stability of the coating liquid for forming the transparent conductive layer (precipitation of the conductive fine particles) can be balanced. Because it becomes.
The average particle diameter of the conductive oxide fine particles is a value observed with a transmission electron microscope (TEM).

透明導電層形成用塗布液のバインダー成分は、導電性酸化物微粒子同士を結合させ膜の導電性と強度を高める働きや、透明コーティング層と透明導電層の密着力を高める働き、及び、分散型EL素子の製造工程において蛍光体層、誘電体層、背面電極層等の形成に用いる各種印刷ペーストに含まれる有機溶剤による透明導電層の劣化防止のための耐溶剤性を付与する働きを有している。バインダーとしては、有機及び/又は無機バインダーを用いることが可能であり、上記役割を満たすように、透明導電層形成用塗布液を適用する透明コーティング層、透明導電層の膜形成条件等を考慮して、適宜選定することができる。   The binder component of the coating liquid for forming the transparent conductive layer is a function of bonding conductive oxide fine particles to increase the conductivity and strength of the film, a function of increasing the adhesion between the transparent coating layer and the transparent conductive layer, and a dispersion type. Has the function of imparting solvent resistance to prevent deterioration of the transparent conductive layer by organic solvents contained in various printing pastes used for forming phosphor layers, dielectric layers, back electrode layers, etc. in the EL device manufacturing process ing. As the binder, an organic and / or inorganic binder can be used, and the transparent coating layer to which the coating liquid for forming the transparent conductive layer is applied, the film forming conditions of the transparent conductive layer, etc. are considered so as to satisfy the above role. Can be selected as appropriate.

上記有機バインダーには、アクリル樹脂やポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂も適用できるが、一般的には耐溶剤性を有することが好ましく、そのためには、架橋可能な樹脂であることが必要であり、熱硬化性樹脂、常温硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等から選定することができる。例えば、熱硬化性樹脂としてはエポキシ樹脂、フッ素樹脂など、常温硬化性樹脂としては2液性のエポキシ樹脂やウレタン樹脂など、紫外線硬化性樹脂としては各種オリゴマー、モノマー、光開始剤を含有する樹脂など、電子線硬化性樹脂としては各種オリゴマー、モノマーを含有する樹脂などを挙げることができるが、これら樹脂に限定されるものではない。   For the organic binder, thermoplastic resins such as acrylic resins and polyester resins can also be applied, but generally it is preferable to have solvent resistance, and for that purpose, it is necessary to be a crosslinkable resin, It can be selected from thermosetting resins, room temperature curable resins, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and the like. For example, epoxy resins and fluorine resins as thermosetting resins, two-part epoxy resins and urethane resins as room temperature curable resins, and resins containing various oligomers, monomers, and photoinitiators as ultraviolet curable resins Examples of the electron beam curable resin include resins containing various oligomers and monomers, but are not limited to these resins.

また、無機バインダーとしては、シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル等を主成分とするバインダーを挙げることができる。例えば、上記シリカゾルとしては、オルトアルキルシリケートに水や酸触媒を加えて加水分解し、脱水縮重合を進ませた重合物、あるいは既に4〜5量体まで重合を進ませた市販のアルキルシリケート溶液を、更に加水分解と脱水縮重合を進行させた重合物等を利用することができる。   Examples of the inorganic binder include binders mainly composed of silica sol, alumina sol, zirconia sol, titania sol and the like. For example, the silica sol may be a polymer obtained by hydrolyzing an orthoalkyl silicate by adding water or an acid catalyst to advance dehydration condensation polymerization, or a commercially available alkyl silicate solution which has already been polymerized to a tetramer to a pentamer. Further, a polymer obtained by further proceeding hydrolysis and dehydration condensation polymerization can be used.

尚、脱水縮重合が進行し過ぎると、溶液粘度が上昇して最終的に固化してしまうので、脱水縮重合の度合いについては、透明基板上に塗布可能な上限粘度以下に調整する。ただし、脱水縮重合の度合いは上記上限粘度以下のレベルであれば特に限定されないが、膜強度、耐候性等を考慮すると、重量平均分子量で500〜50000程度が好ましい。そして、このアルキルシリケート加水分解重合物(シリカゾル)は、透明導電層形成用塗布液の塗布・乾燥後の加熱時において脱水縮重合反応(架橋反応)がほぼ完結し、硬いシリケートバインダーマトリックス(酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックス)になる。上記脱水縮重合反応は膜の乾燥直後から始まり、時間が経過すると導電性酸化物微粒子同士が動けなくなる程強固に固めてしまうため、無機バインダーを用いた場合には、前述の圧縮処理は、透明導電層形成用塗布液の塗布・乾燥後、可能な限り速やかに行う必要がある。   If the dehydration condensation polymerization proceeds too much, the solution viscosity increases and eventually solidifies. Therefore, the degree of dehydration condensation polymerization is adjusted to be equal to or lower than the upper limit viscosity that can be applied on the transparent substrate. However, the degree of dehydration condensation polymerization is not particularly limited as long as it is a level equal to or lower than the above upper limit viscosity, but considering the film strength, weather resistance and the like, a weight average molecular weight of about 500 to 50,000 is preferable. This alkylsilicate hydrolyzed polymer (silica sol) undergoes almost complete dehydration condensation reaction (crosslinking reaction) upon heating after application and drying of the coating solution for forming the transparent conductive layer, resulting in a hard silicate binder matrix (silicon oxide). A binder matrix containing as a main component. The dehydration-condensation reaction starts immediately after drying the film, and as the time elapses, the conductive oxide fine particles are hardened so that they cannot move. It is necessary to carry out as soon as possible after applying and drying the conductive layer forming coating solution.

バインダーとして、有機−無機のハイブリッドバインダーを用いることもできる。例えば、前述のシリカゾルを一部有機官能基で修飾したバインダーや、シリコンカップリング剤等の各種カップリング剤を主成分とするバインダーが挙げられる。   An organic-inorganic hybrid binder can also be used as the binder. For example, a binder obtained by partially modifying the above-described silica sol with an organic functional group and a binder mainly composed of various coupling agents such as a silicon coupling agent can be given.

上記無機バインダーや有機−無機のハイブリッドバインダーを用いた透明導電層は、必然的に優れた耐溶剤性を有しているが、透明コーティング層との密着力や、透明導電層の柔軟性等が悪化しないように、適宜選定する必要がある。   The transparent conductive layer using the inorganic binder or the organic-inorganic hybrid binder inevitably has excellent solvent resistance, but the adhesion with the transparent coating layer, the flexibility of the transparent conductive layer, etc. It is necessary to select appropriately so as not to deteriorate.

透明導電層形成用塗布液中の、導電性酸化物微粒子とバインダー成分の割合は、仮に導電性酸化物微粒子とバインダー成分の比重をそれぞれ7.2程度(ITOの比重)と1.2程度(通常の有機樹脂バインダーの比重)と仮定した場合、重量比で、導電性酸化物微粒子:バインダー成分=85:15〜97:3、好ましくは87:13〜95:5が好ましい。その理由は、本発明の圧延処理を行う場合、85:15よりバインダー成分が多いと透明導電層の抵抗が高くなりすぎ、逆に97:3よりバインダー成分が少ないと透明導電層の強度が低下すると同時に、透明コーティング層との十分な密着力が得られなくなるからである。   The ratio of the conductive oxide fine particles and the binder component in the coating liquid for forming the transparent conductive layer is assumed that the specific gravity of the conductive oxide fine particles and the binder component is about 7.2 (specific gravity of ITO) and about 1.2 respectively ( Assuming that the specific gravity of a normal organic resin binder), the conductive oxide fine particles: binder component = 85: 15 to 97: 3, preferably 87:13 to 95: 5 is preferred in terms of weight ratio. The reason is that when the rolling treatment of the present invention is carried out, if the binder component is more than 85:15, the resistance of the transparent conductive layer becomes too high, and conversely if the binder component is less than 97: 3, the strength of the transparent conductive layer is lowered. At the same time, sufficient adhesion with the transparent coating layer cannot be obtained.

本発明で用いる前記透明コーティング層形成用塗布液は、必要に応じ表面に接着性向上処理(カップリング剤処理、プラズマ処理等)が施された繊維および/またはフレーク状粒子を透明樹脂(透明コーティング層のバインダー成分)を含む溶剤に分散させて得ることができる。必要に応じてシリコンカップリング剤等の各種カップリング剤、各種高分子分散剤、アニオン系・ノニオン系・カチオン系等の各種界面活性剤を分散剤として用いても良い。これら分散剤は、用いる繊維および/またはフレーク状粒子の種類や分散処理方法に応じて適宜選定することができる。分散処理としては、超音波処理、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ビーズミル等の汎用の方法を適用することができる。透明樹脂と、繊維および/またはフレーク状粒子の濃度は、用いる塗布方法に応じて、適宜設定すればよい。透明樹脂と繊維および/またはフレーク状粒子の配合比率は、用いる材質にも依存するが、透明樹脂と繊維および/またはフレーク状粒子の合計に対し、繊維および/またはフレーク状粒子の配合量が5〜60体積%がよく、更には10〜30体積%好ましい。5体積%未満だと繊維および/またはフレーク状粒子による強化の効果が見られず、60体積%を超えると繊維および/またはフレーク状粒子が多すぎて透明コーティング層がポーラスになり強度が低下すると同時に透明コーティング層の表面凹凸が大きくなり、その上に透明導電層を均一に形成することが困難になるからである。   The coating liquid for forming a transparent coating layer used in the present invention is a transparent resin (transparent coating) containing fibers and / or flaky particles that have been subjected to an adhesion improvement treatment (coupling agent treatment, plasma treatment, etc.) on the surface as necessary. It can be obtained by dispersing in a solvent containing the binder component of the layer. If necessary, various coupling agents such as a silicone coupling agent, various polymer dispersants, and various surfactants such as anionic, nonionic, and cationic surfactants may be used as the dispersant. These dispersants can be appropriately selected according to the type of fiber and / or flaky particles used and the dispersion treatment method. As the dispersion treatment, general-purpose methods such as ultrasonic treatment, homogenizer, paint shaker, and bead mill can be applied. What is necessary is just to set suitably the density | concentration of transparent resin and a fiber and / or flaky particle | grains according to the coating method to be used. The blending ratio of the transparent resin and the fibers and / or flaky particles depends on the material used, but the blending amount of the fibers and / or flaky particles is 5 with respect to the total of the transparent resin and the fibers and / or flaky particles. -60 volume% is good, and 10-30 volume% is more preferable. If the amount is less than 5% by volume, the reinforcing effect by the fibers and / or flaky particles is not observed. If the amount exceeds 60% by volume, the amount of the fibers and / or flaky particles is too much, the transparent coating layer becomes porous, and the strength decreases. At the same time, the surface unevenness of the transparent coating layer becomes large, and it becomes difficult to uniformly form the transparent conductive layer thereon.

本発明で用いる透明導電層形成用塗布液の製造方法を説明する。まず、導電性酸化物微粒子を溶剤、及び必要に応じて分散剤、と混合した後、分散処理を行い導電性酸化物微粒子分散液を得る。分散剤としては、シリコンカップリング剤等の各種カップリング剤、各種高分子分散剤、アニオン系・ノニオン系・カチオン系等の各種界面活性剤が挙げられる。これら分散剤は、用いる導電性酸化物微粒子の種類や分散処理方法に応じて適宜選定することができる。また、分散剤を全く用いなくても、適用する導電性酸化物微粒子と溶剤の組合せ、及び分散方法の如何によっては、良好な分散状態を得ることができる場合がある。分散剤の使用は膜の抵抗値や耐候性を悪化させる可能性があるので、分散剤を用いない透明導電層形成用塗布液が最も好ましい。分散処理としては、超音波処理、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ビーズミル等の汎用の方法を適用することができる。   The manufacturing method of the coating liquid for transparent conductive layer formation used by this invention is demonstrated. First, the conductive oxide fine particles are mixed with a solvent and, if necessary, a dispersant, and then dispersed to obtain a conductive oxide fine particle dispersion. Examples of the dispersant include various coupling agents such as a silicon coupling agent, various polymer dispersants, and various surfactants such as anionic, nonionic, and cationic types. These dispersants can be appropriately selected according to the type of conductive oxide fine particles used and the dispersion treatment method. Even if no dispersant is used, a good dispersion state may be obtained depending on the combination of the conductive oxide fine particles and the solvent to be applied and the dispersion method. Since the use of a dispersant may deteriorate the resistance and weather resistance of the film, a coating liquid for forming a transparent conductive layer that does not use a dispersant is most preferable. As the dispersion treatment, general-purpose methods such as ultrasonic treatment, homogenizer, paint shaker, and bead mill can be applied.

得られた導電性酸化物微粒子分散液にバインダー成分を添加し、更に導電性酸化物微粒子濃度、溶剤組成等の成分調整を行うことにより、透明導電層形成用塗布液が得られる。ここでは、バインダー成分を導電性酸化物微粒子の分散液に加えたが、前述の導電性酸化物微粒子の分散工程前に予め加えてもよく、特に制約はない。導電性酸化物微粒子濃度は、用いる塗布方法に応じて、適宜設定すればよい。   By adding a binder component to the obtained conductive oxide fine particle dispersion, and further adjusting the components such as the concentration of the conductive oxide fine particles and the solvent composition, a coating liquid for forming a transparent conductive layer can be obtained. Here, the binder component is added to the dispersion of the conductive oxide fine particles, but it may be added in advance before the above-described dispersion step of the conductive oxide fine particles, and there is no particular limitation. What is necessary is just to set an electroconductive oxide fine particle density | concentration suitably according to the coating method to be used.

透明導電層形成用塗布液に用いる溶媒としては、特に制限はなく、塗布方法、製膜条件、透明コーティング層の材質により適宜に選定することができる。例えば、水、メタノール(MA)、エタノール(EA)、1−プロパノール(NPA)、イソプロパノール(IPA)、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール(DAA)等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル等のエステル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル(MCS)、エチレングリコールモノエチルエーテル(ECS)、エチレングリコールイソプロピルエーテル(IPC)、エチレングリコールモノブチルエーテル(BCS)、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル(PGM)、プロピレングリコールエチルエーテル(PE)、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGM−AC)、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート(PE−AC)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコール誘導体、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、ホルムアミド(FA)、N−メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、γ−ブチロラクトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テトラヒドロフラン(THF)、クロロホルム、ミネラルスピリッツ、ターピネオール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   There is no restriction | limiting in particular as a solvent used for the coating liquid for transparent conductive layer formation, According to the coating method, film forming conditions, and the material of a transparent coating layer, it can select suitably. For example, water, methanol (MA), ethanol (EA), 1-propanol (NPA), isopropanol (IPA), butanol, pentanol, benzyl alcohol, diacetone alcohol (DAA) and other alcohol solvents, acetone, methyl ethyl ketone ( MEK), methyl propyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), ketone solvents such as cyclohexanone and isophorone, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and methyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether (MCS), ethylene glycol monoethyl ether (ECS), ethylene glycol isopropyl ether (IPC), ethylene glycol monobutyl ether (BCS), ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol Butyl ether acetate, propylene glycol methyl ether (PGM), propylene glycol ethyl ether (PE), propylene glycol methyl ether acetate (PGM-AC), propylene glycol ethyl ether acetate (PE-AC), diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, Glycol derivatives such as propylene glycol monoethyl ether and dipropylene glycol monobutyl ether, benzene derivatives such as toluene, xylene, mesitylene and dodecylbenzene, formamide (FA), N-methylformamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, dimethylsulfate Examples include foxoxide (DMSO), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), γ-butyrolactone, ethylene glycol, diethylene glycol, tetrahydrofuran (THF), chloroform, mineral spirits, terpineol, and the like. Absent.

次に、本発明に係る分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法について説明する。
先ず、樹脂バインダー(透明樹脂)と可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子と溶剤を含む透明コーティング層形成用塗布液を用い、スクリーン印刷、ブレードコーティング、ワイヤーバーコーティング、スプレーコート、ロールコート、グラビア印刷等の方法でベースフィルムの上に塗布・乾燥・硬化して、繊維および/またはフレーク状粒子で強化された透明コーティング層を形成する。ここで、上記透明コーティング層の形成に先立ち、必要に応じて、ベースフィルムの上に導電性酸化物微粒子をバインダー成分を含む溶媒に分散させた透明導電層形成用塗布液を用い、上記と同様の方法で塗布・乾燥して硬化させるか、或いは、塗布・乾燥して形成された第2の塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させるかして第2の透明導電層を形成しておくこともできる。前述のように第2の透明導電層の抵抗値は比較的高い値で良いため、必ずしも圧延処理を施す必要はなく、その場合は、抵抗値は悪化するものの膜強度や密着力を改善する目的で前述の導電性酸化物微粒子とバインダー成分の配合割合よりもバインダー成分の多い透明導電層形成用塗布液を用いても良い。
次に、上記透明導電層形成用塗布液を用い、上記と同様の方法で透明コーティング層の上に塗布・乾燥し塗布層を形成した後、上述の圧縮処理を施す。圧縮処理は、金属ロールの圧延処理により行われることが好ましい。その後、圧延処理された塗布層は、塗布液の種類により乾燥硬化、熱硬化、紫外線硬化等の硬化処理が施され透明導電層となる。
尚、本明細書中、「塗布層」とは、透明導電層形成用塗布液を塗布・乾燥させた膜、という意で用いられ、また、「透明導電層」は、透明導電層形成用塗布液を用いて最終的に得られた膜、という意で用いられている。従って、「透明導電層」は、透明導電層形成用塗布液の「塗布層」と明確に区別して用いている。
Next, the manufacturing method of the dispersive electroluminescent element according to the present invention will be described.
First, using a coating solution for forming a transparent coating layer containing a resin binder (transparent resin), visible light transmissive fibers and / or flaky particles, and a solvent, screen printing, blade coating, wire bar coating, spray coating, roll coating Then, it is applied, dried and cured on the base film by a method such as gravure printing to form a transparent coating layer reinforced with fibers and / or flaky particles. Here, prior to the formation of the transparent coating layer, if necessary, a transparent conductive layer forming coating liquid in which conductive oxide fine particles are dispersed in a solvent containing a binder component on a base film is used, as described above. The second transparent conductive layer is formed by applying and drying by the above method, or by applying a compression treatment to the second application layer formed by applying and drying, followed by curing. It can also be left. As described above, since the resistance value of the second transparent conductive layer may be a relatively high value, it is not always necessary to perform a rolling treatment. In this case, the resistance value is deteriorated, but the purpose is to improve the film strength and adhesion. In addition, a coating liquid for forming a transparent conductive layer having a binder component larger than the blending ratio of the conductive oxide fine particles and the binder component described above may be used.
Next, using the coating liquid for forming the transparent conductive layer, a coating layer is formed by applying and drying on the transparent coating layer in the same manner as described above, and then the above-described compression treatment is performed. The compression treatment is preferably performed by rolling a metal roll. Thereafter, the coating layer that has been subjected to the rolling treatment is subjected to a curing treatment such as drying curing, heat curing, or ultraviolet curing depending on the type of the coating solution to become a transparent conductive layer.
In this specification, “coating layer” is used to mean a film obtained by applying and drying a coating liquid for forming a transparent conductive layer, and “transparent conductive layer” is a coating for forming a transparent conductive layer. It is used to mean a film finally obtained using a liquid. Therefore, the “transparent conductive layer” is clearly distinguished from the “coating layer” of the coating liquid for forming the transparent conductive layer.

上記透明導電層上に形成される蛍光体層、誘電体層、背面電極層は、順次スクリーン印刷等により形成することができる。蛍光体層、誘電体層、背面電極層の各層を塗布(印刷)形成するときに用いるペーストは、市販されているペーストを用いることができる。蛍光体層ペースト、誘電体層ペーストは、それぞれ蛍光体粒子、誘電体微粒子を、フッ素ゴムを主成分としたバインダーを含む溶剤に分散させたものであり、背面電極層ペーストは、カーボン微粒子等の導電性微粒子を、熱硬化樹脂バインダーを含む溶剤に分散させたものである。   The phosphor layer, dielectric layer, and back electrode layer formed on the transparent conductive layer can be sequentially formed by screen printing or the like. The paste used when apply | coating (printing) forming each layer of a fluorescent substance layer, a dielectric material layer, and a back electrode layer can use the paste marketed. The phosphor layer paste and the dielectric layer paste are obtained by dispersing phosphor particles and dielectric fine particles in a solvent containing a binder mainly composed of fluoro rubber, and the back electrode layer paste is composed of carbon fine particles and the like. Conductive fine particles are dispersed in a solvent containing a thermosetting resin binder.

ここで、上記透明導電層上に、蛍光体層等の各層をスクリーン印刷する場合には、一般に、多数の小径の穴があいた吸引ステージを用い、穴の部分を減圧にしてフィルム固定する方法が用いられる。ベースフィルムが薄いと、その穴の部分のフィルムが減圧により変形してくぼみが生じ、スクリーン印刷した膜にこのくぼみの跡が生じる問題が発生するが、前述のように、本発明では、スクリーン印刷時には十分な強度を有するベースフィルムを用い、分散型EL素子の形成後にそれを剥離除去するため、上記問題を防止できる。尚、本発明で用いるベースフィルムは、分散型EL素子製造工程における加熱処理による収縮(寸法変化)、及びフィルムのカールを防止するため、予め分散型EL素子の製造工程の熱処理温度である130〜150℃で加熱処理(熱収縮処理)を施しておくことが好ましい。透明コーティング層形成用塗布液の透明樹脂に熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いた場合には、透明コーティング層形成用塗布液をベースフィルムに塗布した後の乾燥硬化や加熱硬化において加熱処理温度を120〜150℃とすることができれば上記加熱処理(熱収縮処理)を省くことも可能である。   Here, when screen-printing each layer such as a phosphor layer on the transparent conductive layer, generally, there is a method of fixing the film by using a suction stage having a large number of small-diameter holes and reducing the hole portions under reduced pressure. Used. If the base film is thin, the film in the hole portion is deformed by the reduced pressure, resulting in a dent, and the problem arises that the dent marks appear on the screen-printed film. Since a base film having sufficient strength is sometimes used and peeled off after the dispersion type EL element is formed, the above problem can be prevented. The base film used in the present invention has a heat treatment temperature of 130 to 130 in advance in the manufacturing process of the dispersion type EL element in order to prevent shrinkage (dimensional change) due to heat treatment in the manufacturing process of the dispersion type EL element and curling of the film. It is preferable to perform heat treatment (heat shrinkage treatment) at 150 ° C. When a thermoplastic resin or thermosetting resin is used as the transparent resin of the coating liquid for forming the transparent coating layer, the heat treatment temperature is used for drying or heat curing after the coating liquid for forming the transparent coating layer is applied to the base film. If it can be set to 120-150 degreeC, it is also possible to omit the said heat processing (thermal contraction process).

上記透明導電層、蛍光体層、誘電体層、背面電極層で分散型EL素子の主要部分は構成されるが、実際の分散型EL素子においては、透明導電層の集電電極(銀ペーストで形成)、背面電極層のリード電極(銀ペーストで形成)、電極間ショート、感電等を防止するための絶縁保護コーティング(絶縁ペーストで形成)等が更に形成される。   The transparent conductive layer, the phosphor layer, the dielectric layer, and the back electrode layer constitute the main part of the dispersion-type EL element. However, in an actual dispersion-type EL element, the collector electrode (silver paste) of the transparent conduction layer is used. Formation), a lead electrode (formed with silver paste) of the back electrode layer, a short circuit between electrodes, an insulating protective coating (formed with insulating paste) for preventing electric shock, and the like are further formed.

本発明の分散型エレクトロルミネッセンス素子は、繊維および/またはフレーク状粒子で強化された透明コーティング層を用いているため、強度に優れると同時にその厚さが薄く、かつ柔軟なため、分散型EL素子としてフレキシビリティに優れており、デバイスのキー入力部品に組み込まれる発光素子として適用され、キーパッドに特殊な構造や工夫を行わなくても良好なキー操作のクリック感を得ることが可能となる。したがって、携帯電話、リモートコントローラー、携帯情報端末等のデバイスのキー入力部品に組み込まれる発光素子として適用することができる。
[実施例]
Since the dispersion type electroluminescent device of the present invention uses a transparent coating layer reinforced with fibers and / or flaky particles, the dispersion type EL device has excellent strength and is thin and flexible. Therefore, it is applied as a light-emitting element incorporated in a key input component of a device, and it is possible to obtain a good click feeling of key operation without performing a special structure or device on the keypad. Therefore, it can be applied as a light emitting element incorporated in a key input component of a device such as a mobile phone, a remote controller, or a portable information terminal.
[Example]

以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、本文中の「%」は「重量%」を示し、また「部」は「重量部」を示している。   Examples of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited to these examples. Further, “%” in the text indicates “% by weight”, and “part” indicates “part by weight”.

平均粒径0.03μmの粒状のITO微粒子(商品名:SUFP−HX、住友金属鉱山製)36gを溶剤としてのメチルイソブチルケトン(MIBK)24gとシクロヘキサノン36gと混合し、分散処理を行った後、ウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂バインダー3.8gと光開始剤(ダロキュアー1173)0.2gを加えて良く攪拌して、平均分散粒径130nmのITO微粒子が分散した透明導電層形成用塗布液(A液)を得た。   After mixing the granular ITO fine particles (trade name: SUFP-HX, manufactured by Sumitomo Metal Mining) with an average particle size of 0.03 μm with 24 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) as a solvent and 36 g of cyclohexanone, and performing a dispersion treatment, 3.8 g of urethane acrylate UV curable resin binder and 0.2 g of photoinitiator (Darocur 1173) were added and stirred well to form a transparent conductive layer forming coating solution in which ITO fine particles having an average dispersed particle size of 130 nm were dispersed (A Liquid).

シリコンカップリング剤(γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)で表面処理した、長さ10〜20μmで太さ0.3〜0.6μmのチタン酸カリウム繊維[KO・6TiO](大塚化学製、ティスモN、真比重=3.5〜3.6)15gと高分子分散剤0.15gを溶剤としてのメチルイソブチルケトン(MIBK)50gと混合し、分散処理を行った後、透明樹脂としてのウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂(根上工業製、アートレジンH−14[開発品])33.1gと光重合開始剤(ダロキュアー1173)1.75gを加えて良く攪拌して、チタン酸カリウム繊維が透明樹脂を含む溶剤に分散した透明コーティング層形成用塗布液(B液)を得た。この透明コーティング層形成用塗布液における繊維の配合量は、透明樹脂(光重合開始剤を含む)の比重を約1.2として計算すると、12.6vol%である。 Potassium titanate fiber [K 2 O · 6TiO 2 ] (length: 10-20 μm and thickness: 0.3-0.6 μm) surface-treated with a silicon coupling agent (γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane) (Otsuka Chemical) Manufactured by Tismo N, true specific gravity = 3.5 to 3.6) 15 g of polymer dispersing agent 0.15 g of polymer dispersant is mixed with 50 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) as a solvent, and after dispersion treatment, as a transparent resin 33.1 g of urethane acrylate UV curable resin (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., Art Resin H-14 [developed product]) and 1.75 g of photopolymerization initiator (Darocur 1173) were added and stirred well, and potassium titanate fiber Obtained a coating liquid for forming a transparent coating layer (liquid B) dispersed in a solvent containing a transparent resin. The fiber content in the coating liquid for forming a transparent coating layer is 12.6 vol% when the specific gravity of the transparent resin (including the photopolymerization initiator) is calculated to be about 1.2.

ベースフィルムとしての易接着処理を施していないPETフィルム(帝人(株)製、厚さ100μm)上に、上記透明コーティング層形成用塗布液(B液)をワイヤーバーコーティング(線径:0.5mm)し、60℃×5分の乾燥後、紫外線硬化(高圧水銀ランプ、100mW/cm2×4秒)させて、チタン酸カリウム繊維で強化されたアクリルウレタン樹脂からなる透明コーティング層(膜厚:約12μm)を得た。この透明コーティング層が形成されたベースフィルムは、外観は白色塗膜であり、その膜特性は、可視光透過率:40.8%、ヘイズ値:90.8%であった。(可視光線の吸収は少ないが散乱が非常に大きいため、見かけ上測定される透過率は低くなる。)この透明コーティング層上に、上記透明導電層形成用塗布液(A液)をワイヤーバーコーティング(線径:0.15mm)し、60℃で1分間乾燥した後、直径100mmのハードクロムめっきしたスチールロールによる圧延処理(線圧:200kgf/cm=196N/mm、ニップ幅:0.9mm)を行い、更に高圧水銀ランプによりバインダー成分の硬化(窒素中、100mW/cm×2秒間)を行って、透明コーティング層上に緻密に充填されたITO微粒子とバインダーで構成される透明導電層(膜厚:約1.0μm)を形成し、ベースフィルム/繊維で強化された透明コーティング層/透明導電層からなる積層フィルムを得た。圧延処理後の該透明導電膜層中にある導電性微粒子の充填密度は約55vol%であった。上記積層フィルムにおいて、透明導電層を有する繊維で強化された透明コーティング層は、ベースフィルムとの界面で簡単に剥離できた。
尚、上記ベースフィルムは、後述の分散型EL素子製造工程における加熱処理による収縮(寸法変化)、及びフィルムのカールを防止するため、予め150℃×10分間加熱処理を施してから、その上に透明コーティング層を形成している。
A wire bar coating (wire diameter: 0.5 mm) is applied to the transparent coating layer forming coating liquid (B liquid) on a PET film (manufactured by Teijin Ltd., thickness 100 μm) that has not been subjected to an easy adhesion treatment as a base film. ), Dried at 60 ° C. for 5 minutes, and then cured with an ultraviolet ray (high pressure mercury lamp, 100 mW / cm 2 × 4 seconds) and made of an acrylic urethane resin reinforced with potassium titanate fiber (film thickness: about 12 μm) was obtained. The base film on which the transparent coating layer was formed was a white coating film, and the film characteristics were a visible light transmittance of 40.8% and a haze value of 90.8%. (The visible light absorption is small but the scattering is very large, so the apparently measured transmittance is low.) On this transparent coating layer, the transparent conductive layer forming coating liquid (A liquid) is wire bar coated. (Wire diameter: 0.15 mm), dried at 60 ° C. for 1 minute, and then rolled with a hard chromium plated steel roll having a diameter of 100 mm (linear pressure: 200 kgf / cm = 196 N / mm, nip width: 0.9 mm) Further, the binder component is cured with a high-pressure mercury lamp (in nitrogen, 100 mW / cm 2 × 2 seconds), and a transparent conductive layer composed of ITO fine particles and a binder closely packed on the transparent coating layer ( Film thickness: about 1.0 μm), and a laminated film comprising a transparent coating layer / transparent conductive layer reinforced with base film / fiber was obtained. The packing density of the conductive fine particles in the transparent conductive film layer after the rolling treatment was about 55 vol%. In the laminated film, the transparent coating layer reinforced with the fiber having the transparent conductive layer was easily peeled off at the interface with the base film.
The base film is preliminarily subjected to heat treatment at 150 ° C. for 10 minutes in order to prevent shrinkage (size change) due to heat treatment in the manufacturing process of the dispersion type EL element described later and curling of the film. A transparent coating layer is formed.

この透明導電層の膜特性は、可視光透過率:87.7%、ヘイズ値:1.2%、表面抵抗値:610Ω/□であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の1日後に測定している。   The film characteristics of this transparent conductive layer were visible light transmittance: 87.7%, haze value: 1.2%, and surface resistance value: 610Ω / □. Note that the surface resistance value is measured one day after the formation of the transparent conductive layer because it tends to temporarily decrease immediately after curing due to the influence of ultraviolet irradiation during binder curing.

尚、上述の透明導電層の透過率及びヘイズ値は、透明導電層だけの値であり、それぞれ下記計算式1及び2により求められる。(ただし、上述のように、繊維で強化された透明コーティング層が形成されたベースフィルムは、可視光透過率:40.8%、ヘイズ値:90.8%と透光性はあるが透明性という点では良くないため、下記計算式で計算される値は誤差が大きくなる可能性がある。)
[計算式1]
透明導電層の透過率(%)=[(透明導電層と透明コーティング層が形成されたベースフィルムごと測定した透過率)/透明コーティング層が形成されたベースフィルムの透過率]×100
[計算式2]
透明導電層のヘイズ値(%)=(透明導電層と透明コーティング層が形成されたベースフィルムごと測定したヘイズ値)−(透明コーティング層が形成されたベースフィルムのヘイズ値)
In addition, the transmittance | permeability and haze value of the above-mentioned transparent conductive layer are values only of a transparent conductive layer, and are calculated | required by the following formulas 1 and 2, respectively. (However, as described above, the base film on which the transparent coating layer reinforced with fibers is formed has a visible light transmittance of 40.8% and a haze value of 90.8%, but has transparency, but is transparent. (This is not good, so the value calculated by the following formula may have a large error.)
[Calculation Formula 1]
Transmittance (%) of transparent conductive layer = [(transmittance measured with base film on which transparent conductive layer and transparent coating layer are formed) / transmittance of base film on which transparent coating layer is formed] × 100
[Calculation Formula 2]
Haze value of transparent conductive layer (%) = (Haze value measured with base film on which transparent conductive layer and transparent coating layer are formed) − (Haze value of base film on which transparent coating layer is formed)

また、透明導電層の表面抵抗は、三菱化学(株)製の表面抵抗計ロレスタAP(MCP−T400)を用い測定した。ヘイズ値と可視光透過率は、村上色彩技術研究所製のヘイズメーター(HR−200)を用いて測定した。   The surface resistance of the transparent conductive layer was measured using a surface resistance meter Loresta AP (MCP-T400) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. The haze value and visible light transmittance were measured using a haze meter (HR-200) manufactured by Murakami Color Research Laboratory.

次に、上記積層フィルムの透明導電層上に、蛍光体である硫化亜鉛粒子を、フッ素ポリマーを主成分とする樹脂溶液中に分散させた蛍光体ペースト(デュポン製、7154J)を作製し、200メッシュポリエステルスクリーンを用いて4×5cmの大きさにスクリーン印刷し、120℃×30分乾燥して、蛍光体層を形成した。   Next, a phosphor paste (made by DuPont, 7154J) in which zinc sulfide particles, which are phosphors, are dispersed in a resin solution containing a fluoropolymer as a main component on the transparent conductive layer of the laminated film, is prepared. Screen printing was performed to a size of 4 × 5 cm using a mesh polyester screen and dried at 120 ° C. for 30 minutes to form a phosphor layer.

上記蛍光体層の上に、フッ素ポリマーを主成分とする樹脂溶液中にチタン酸バリウム粒子を分散させた誘電体ペースト(デュポン製、7153)を作製し、200メッシュポリエステルスクリーンを用いて4×5cmの大きさにスクリーン印刷し、乾燥(120℃×30分)し、これを2度繰り返して、誘電体層を形成した。   On the phosphor layer, a dielectric paste (made by DuPont, 7153) in which barium titanate particles are dispersed in a resin solution containing a fluoropolymer as a main component is prepared, and 4 × 5 cm using a 200 mesh polyester screen. Was printed (120 ° C. × 30 minutes), and this was repeated twice to form a dielectric layer.

上記誘電体層上に、カーボン導電ペースト(藤倉化成製、FEC−198)を200メッシュポリエステルスクリーンにより3.5×4.5cmの大きさにスクリーン印刷し、130℃×30分間乾燥し背面電極層を形成した。   A carbon conductive paste (FEC-198, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) is screen-printed to a size of 3.5 × 4.5 cm using a 200 mesh polyester screen on the dielectric layer, dried at 130 ° C. for 30 minutes, and back electrode layer Formed.

上記透明導電層、及び背面電極層の一端に、電圧印加用Agリード線を銀導電ペーストを用いて形成し、実施例1に係る分散型EL素子(ベースフィルム/繊維で強化された透明コーティング層/透明導電層/蛍光体層/誘電体層/背面電極層)を得た。尚、電極間ショート、感電等を防止するために、必要に応じて、透明導電層、背面電極層の絶縁保護コーティングとして、絶縁ペースト(藤倉化成製、XB−101G)を用いて絶縁層を形成したが、本発明の本質に係わる部分ではないので、詳細は省略する。   An Ag lead wire for voltage application is formed on one end of the transparent conductive layer and the back electrode layer using a silver conductive paste, and the dispersion type EL device according to Example 1 (base film / transparent coating layer reinforced with fiber) / Transparent conductive layer / phosphor layer / dielectric layer / back electrode layer). In order to prevent short-circuit between electrodes, electric shock, etc., an insulating layer is formed using an insulating paste (XB-101G, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) as an insulating protective coating for the transparent conductive layer and the back electrode layer as necessary. However, since it is not a part related to the essence of the present invention, details are omitted.

上記分散型EL素子において、ベースフィルムは繊維で強化された透明コーティング層との界面で簡単に剥離できた。このベースフィルム剥離して得られた分散型EL素子の電圧印加用リード線間に100V、400Hzの電圧を印加したところ、分散型EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、49Cd/mであった。輝度は、輝度計(トプコン社製 商品名:BM−9)で測定した。 In the dispersion type EL device, the base film was easily peeled off at the interface with the transparent coating layer reinforced with fibers. When a voltage of 100 V and 400 Hz was applied between the voltage application leads of the dispersion type EL element obtained by peeling the base film, the dispersion type EL element emitted light uniformly, and its luminance was measured to be 49 Cd / m. 2 . The luminance was measured with a luminance meter (trade name: BM-9, manufactured by Topcon Corporation).

平均粒径0.03μmの粒状のITO微粒子(商品名:SUFP−HX、住友金属鉱山製)36gを溶剤としてのメチルイソブチルケトン(MIBK)24gとシクロヘキサノン36gと混合し、分散処理を行った後、PETから剥離可能な程度の密着力を有するウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂バインダー3.8gと光開始剤(ダロキュアー1173)0.2gを加えて良く攪拌して、平均分散粒径130nmのITO微粒子が分散した透明導電層形成用塗布液(C液)を得た。
ベースフィルムとしての易接着処理を施していないPETフィルム(帝人(株)製、厚さ100μm)上に透明導電層形成用塗布液(C液)をワイヤーバーコーティング(線径:0.075mm)し、60℃で1分間乾燥した後、実施例1と同様の圧延処理(線圧200kgf/cm=196N/mm、ニップ幅=0.9mm)を行い、更に、高圧水銀ランプによりバインダー成分の硬化(窒素中、100mW/cm×2秒間)を行って、ITO微粒子とバインダーで構成される第2の透明導電層(膜厚:約0.4μm)を形成した。この第2の透明導電層は、可視光透過率:95.2%、ヘイズ値:2.7%、表面抵抗値:2600Ω/□であった。この第2の透明導電層上に繊維で強化された透明コーティング層を形成した以外は実施例1と同様に行い、透明コーティング層上に緻密に充填されたITO微粒子とバインダーで構成される透明導電層(膜厚:約1.0μm)を形成し、ベースフィルム/第2の透明導電層/繊維で強化された透明コーティング層/透明導電層からなる積層フィルムを得た。圧延処理後の該透明導電膜層中にある導電性微粒子の充填密度は約54vol%であった。上記積層フィルムにおいて、第2の透明導電層と透明導電層を有する繊維で強化された透明コーティング層は、ベースフィルムと第2の透明導電層の界面で簡単に剥離できた。
尚、上記ベースフィルムは、分散型EL素子製造工程における加熱処理による収縮(寸法変化)、及びフィルムのカールを防止するため、予め150℃×10分間加熱処理を施してから、その上に第2の透明導電層を形成している。
その透明導電層は、可視光透過率:87.5%、ヘイズ値:1.5%、表面抵抗値:620Ω/□であった。この透明導電層を得た以外は、実施例1と同様に行い、実施例2に係る分散型EL素子を得た。
尚、上述の透明導電層の透過率及びヘイズ値は、透明導電層だけの値であり、それぞれ下記計算式3及び4により求められる。
[計算式3]
透明導電層の透過率(%)=[(透明導電層と透明コーティング層と第2の透明導電層が形成されたベースフィルムごとに測定した透過率)/透明コーティング層と第2の透明導電層が形成されたベースフィルムの透過率]×100
[計算式4]
透明導電層のヘイズ値(%)=(透明導電層と透明コーティング層と第2の透明導電層が形成されたベースフィルムごとに測定したヘイズ値)−(透明コーティング層と第2の透明導電層が形成されたベースフィルムのヘイズ値)
After mixing the granular ITO fine particles (trade name: SUFP-HX, manufactured by Sumitomo Metal Mining) with an average particle size of 0.03 μm with 24 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) as a solvent and 36 g of cyclohexanone, and performing a dispersion treatment, Add 3.8 g of urethane acrylate UV curable resin binder having adhesive strength that can be peeled off from PET and 0.2 g of photoinitiator (Darocur 1173) and stir well to obtain ITO fine particles with an average dispersed particle size of 130 nm. A dispersed coating liquid for forming a transparent conductive layer (C liquid) was obtained.
A transparent conductive layer forming coating solution (C solution) is wire bar coated (wire diameter: 0.075 mm) on a PET film (Teijin Limited, thickness 100 μm) that has not been subjected to easy adhesion treatment as a base film. After drying at 60 ° C. for 1 minute, the same rolling treatment as in Example 1 (linear pressure 200 kgf / cm = 196 N / mm, nip width = 0.9 mm) was performed, and further the binder component was cured with a high-pressure mercury lamp ( A second transparent conductive layer (film thickness: about 0.4 μm) composed of ITO fine particles and a binder was formed by performing 100 mW / cm 2 × 2 seconds in nitrogen. The second transparent conductive layer had a visible light transmittance of 95.2%, a haze value of 2.7%, and a surface resistance value of 2600Ω / □. This is the same as Example 1 except that a transparent coating layer reinforced with fibers is formed on the second transparent conductive layer. A layer (film thickness: about 1.0 μm) was formed, and a laminated film composed of base film / second transparent conductive layer / transparent coating layer reinforced with fibers / transparent conductive layer was obtained. The packing density of the conductive fine particles in the transparent conductive film layer after the rolling treatment was about 54 vol%. In the laminated film, the transparent coating layer reinforced with the fiber having the second transparent conductive layer and the transparent conductive layer was easily peeled off at the interface between the base film and the second transparent conductive layer.
The base film is preliminarily subjected to heat treatment at 150 ° C. for 10 minutes in order to prevent shrinkage (dimensional change) due to heat treatment in the dispersion type EL device manufacturing process and curling of the film, and then a second film is formed thereon. The transparent conductive layer is formed.
The transparent conductive layer had a visible light transmittance of 87.5%, a haze value of 1.5%, and a surface resistance value of 620Ω / □. A dispersion type EL device according to Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that this transparent conductive layer was obtained.
In addition, the transmittance | permeability and haze value of the above-mentioned transparent conductive layer are values only of a transparent conductive layer, and are calculated | required by the following formulas 3 and 4, respectively.
[Calculation Formula 3]
Transmissivity of transparent conductive layer (%) = [(transmittance measured for each base film on which the transparent conductive layer, the transparent coating layer, and the second transparent conductive layer are formed) / the transparent coating layer and the second transparent conductive layer Permeability of base film on which is formed] × 100
[Calculation Formula 4]
Haze value (%) of the transparent conductive layer = (haze value measured for each base film on which the transparent conductive layer, the transparent coating layer, and the second transparent conductive layer are formed) − (the transparent coating layer and the second transparent conductive layer) (Haze value of the base film on which is formed)

上記分散型EL素子において、ベースフィルムは第2の透明導電層との界面で簡単に剥離できた。このベースフィルム剥離して得られた分散型EL素子の電圧印加用リード線間に100V、400Hzの電圧を印加したところ、分散型EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、47Cd/mであった。
[比較例1]
In the dispersion type EL element, the base film was easily peeled off at the interface with the second transparent conductive layer. When a voltage of 100 V and 400 Hz was applied between the voltage application leads of the dispersion type EL element obtained by peeling this base film, the dispersion type EL element emitted light uniformly, and its luminance was measured to be 47 Cd / m. 2 .
[Comparative Example 1]

透明樹脂としてのウレタンアクリレート系紫外線硬化性樹脂(根上工業製、アートレジンH−14[開発品])38gと光重合開始剤(ダロキュアー1173)2gをメチルイソブチルケトン(MIBK)60gと混合し、繊維を含まない透明コーティング層形成用塗布液(D液)を得た。   38 g of urethane acrylate UV curable resin (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., Art Resin H-14 [developed product]) and 2 g of a photopolymerization initiator (Darocur 1173) as a transparent resin are mixed with 60 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) A coating solution for forming a transparent coating layer (D solution) was obtained.

ベースフィルムとしての易接着処理を施していないPETフィルム(帝人(株)製、厚さ100μm)上に、上記透明コーティング層形成用塗布液(D液)をワイヤーバーコーティング(線径:0.5mm)し、60℃×5分の乾燥後、紫外線硬化(高圧水銀ランプ、100mW/cm2×4秒)させて、繊維を含まないアクリルウレタン樹脂からなる透明コーティング層(膜厚:約12μm)を得た。この透明コーティング層が形成されたベースフィルムは、外観は透明であり、その膜特性は、可視光透過率:90.2%、ヘイズ値:2.0%であった。
上記透明コーティング層上に透明導電層を形成した以外は、実施例1と同様に行い、透明コーティング層上に緻密に充填されたITO微粒子とバインダーで構成される透明導電層(膜厚:約1.0μm)を形成し、ベースフィルム/繊維で強化されていない透明コーティング層/透明導電層からなる積層フィルムを得た。この透明導電膜層中にある導電性微粒子の充填密度は約55vol%であった。
上記積層フィルムにおいて、透明導電層を有する繊維で強化されていない透明コーティング層は、ベースフィルムとの界面で簡単に剥離できた。
尚、上記ベースフィルムは、分散型EL素子製造工程における加熱処理による収縮(寸法変化)、及びフィルムのカールを防止するため、予め150℃×10分間加熱処理を施してから、その上に透明コーティング層を形成している。
A wire bar coating (wire diameter: 0.5 mm) is applied to the above coating liquid for forming a transparent coating layer (D liquid) on a PET film (manufactured by Teijin Ltd., thickness: 100 μm) that has not been subjected to easy adhesion treatment as a base film. ), Dried at 60 ° C. for 5 minutes, and then UV-cured (high pressure mercury lamp, 100 mW / cm 2 × 4 seconds) to obtain a transparent coating layer (film thickness: about 12 μm) made of an acrylic urethane resin not containing fibers. It was. The base film on which the transparent coating layer was formed was transparent in appearance, and the film characteristics were a visible light transmittance of 90.2% and a haze value of 2.0%.
Except that the transparent conductive layer was formed on the transparent coating layer, the same procedure as in Example 1 was performed, and the transparent conductive layer (thickness: about 1) composed of ITO fine particles and a binder closely packed on the transparent coating layer. 0.0 μm) to obtain a laminated film comprising a transparent coating layer / transparent conductive layer not reinforced with base film / fiber. The packing density of the conductive fine particles in this transparent conductive film layer was about 55 vol%.
In the laminated film, the transparent coating layer not reinforced with the fiber having the transparent conductive layer was easily peeled off at the interface with the base film.
In order to prevent shrinkage (dimensional change) due to heat treatment in the dispersion type EL device manufacturing process and curling of the film, the base film is preliminarily heated at 150 ° C. for 10 minutes, and then a transparent coating is formed thereon. Forming a layer.

この透明導電層の膜特性は、可視光透過率:90.5%、ヘイズ値:2.7%、表面抵抗値:590Ω/□であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の1日後に測定している。   The film characteristics of this transparent conductive layer were visible light transmittance: 90.5%, haze value: 2.7%, and surface resistance value: 590Ω / □. Note that the surface resistance value is measured one day after the formation of the transparent conductive layer because it tends to temporarily decrease immediately after curing due to the influence of ultraviolet irradiation during binder curing.

上記透明導電層が形成されたベースフィルムを用いた以外は、実施例1と同様にして行い、比較例1に係る分散型EL素子を得た。   A dispersion type EL device according to Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film on which the transparent conductive layer was formed was used.

上記分散型EL素子において、ベースフィルムは透明コーティング層との界面で簡単に剥離できた。このベースフィルム剥離して得られた分散型EL素子の電圧印加用リード線間に100V、400Hzの電圧を印加したところ、分散型EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、53Cd/mであった。 In the dispersion type EL device, the base film was easily peeled off at the interface with the transparent coating layer. When a voltage of 100 V and 400 Hz was applied between the voltage application leads of the dispersion type EL element obtained by peeling off the base film, the dispersion type EL element emitted light uniformly, and its luminance was measured to be 53 Cd / m. 2 .

『分散型EL素子の強度評価』
各実施例で透明導電層を有する繊維で強化された透明コーティング層(積層フィルムからベースフィルムを剥離除去して得られるもの)と、比較例の透明導電層を有する繊維で強化されていない透明コーティング層(積層フィルムからベースフィルムを剥離除去して得られるもの)を短冊状にして破断強度を測定したところ、各実施例の透明導電層を有する透明コーティング層は比較例の透明導電層を有する透明コーティング層の約2倍の破断強度を有していた。
また、各実施例に係る分散型EL素子(ベースフィルムを剥離したもの)と比較例に係る分散型EL素子(ベースフィルムを剥離したもの)の電圧印加用リード線間に100V、400Hzの電圧を印加しながら、素子に引っ張り加重を加えてその発光状態を観察したところ、比較例の素子は各実施例の素子に比べ、低い荷重印加で透明コーティング層に亀裂が生じて透明導電層の導電性が劣化し、発光状態の悪化が見られた。
"Strength evaluation of distributed EL elements"
Transparent coating layer reinforced with fibers having a transparent conductive layer in each Example (obtained by peeling and removing the base film from the laminated film) and transparent coating not reinforced with fibers having the transparent conductive layer of Comparative Example When the breaking strength was measured by making the layer (obtained by peeling and removing the base film from the laminated film) into a strip shape, the transparent coating layer having the transparent conductive layer of each example was transparent having the transparent conductive layer of the comparative example The breaking strength was about twice that of the coating layer.
Further, a voltage of 100 V or 400 Hz is applied between the voltage application lead wires of the dispersion type EL element according to each example (with the base film peeled off) and the dispersion type EL element according to the comparative example (with the base film peeled off). When applying a tensile load to the device while applying it and observing its light emission state, the device of the comparative example was cracked in the transparent coating layer by applying a lower load than the device of each example, and the conductivity of the transparent conductive layer was Deteriorated, and the light emission state deteriorated.

『分散型EL素子のフレキシビリティ評価』
各実施例に係る分散型EL素子(ベースフィルムを剥離したもの)と比較例に係る分散型EL素子(ベースフィルムを剥離したもの)を直径3mmの棒にその発光面がそれぞれ内側、及び外側となるように1回づつ巻きつけた後、分散型EL素子の電圧印加用リード線間に100V、400Hzの電圧を印加して、素子の発光状態を観察した。各実施例と比較例において、発光状態に変化は見られなかった。
"Flexibility evaluation of distributed EL elements"
Dispersion type EL elements according to the respective examples (with the base film peeled off) and dispersion type EL elements according to the comparative examples (with the base film peeled off) on a rod having a diameter of 3 mm and the light emitting surfaces thereof on the inside and outside, respectively After being wound once so that a voltage of 100 V and 400 Hz was applied between the voltage application lead wires of the dispersion type EL element, the light emission state of the element was observed. In each Example and Comparative Example, no change was observed in the light emission state.

『分散型EL素子の耐溶剤性評価』
各実施例と比較例で、透明コーティング層上に透明導電層を形成した後、アセトンを浸した綿棒で透明導電層面を10往復擦って外観変化を観察したが、全く変化が見られなかった。また、この評価を行った透明導電層を用い分散型EL素子を作製し、電圧印加用リード線間に100V、400Hzの電圧を印加して、素子の発光状態を観察したが、綿棒で擦った部分を含めて発光は均一であり、アセトンによる影響は見られなかった。
“Evaluation of solvent resistance of dispersive EL devices”
In each of the Examples and Comparative Examples, after forming a transparent conductive layer on the transparent coating layer, the surface of the transparent conductive layer was rubbed 10 times with a cotton swab dipped in acetone, and the change in appearance was observed. In addition, a dispersion type EL device was manufactured using the transparent conductive layer thus evaluated, and a voltage of 100 V and 400 Hz was applied between the voltage application leads, and the light emission state of the device was observed. Luminescence was uniform including the part, and no influence of acetone was observed.

従来の分散型EL素子の基本的構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the basic structure of the conventional dispersion-type EL element. 従来の分散型EL素子の別な構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another structure of the conventional dispersion-type EL element. 本発明に係る基本的構造の分散型EL素子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the dispersion type EL element of the basic structure which concerns on this invention. 本発明に係る別な構造の分散型EL素子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the dispersion type EL element of another structure which concerns on this invention. 本発明に係る更に別な構造の分散型EL素子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the dispersion type EL element of another structure which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明プラスチックフィルム
2 透明導電層
3 蛍光体層
4 誘電体層
5 背面電極層
6 集電電極
7 絶縁保護層
8 ベースフィルム
9 透明コーティング層
10 第2の透明導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent plastic film 2 Transparent conductive layer 3 Phosphor layer 4 Dielectric layer 5 Back electrode layer 6 Current collecting electrode 7 Insulating protective layer 8 Base film 9 Transparent coating layer 10 2nd transparent conductive layer

Claims (16)

ベースフィルム表面上に順次形成された、少なくとも透明コーティング層と、透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、背面電極層とからなる分散型エレクトロルミネッセンス素子であって、前記透明コーティング層は透明樹脂と可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子を主成分とする透明コーティング層形成用塗布液を用いベースフィルム表面上に形成された繊維および/またはフレーク状粒子で強化されたコーティング層であって且つベースフィルム表面から剥離可能であり、前記透明導電層は導電性酸化物粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を該透明コーティング層の表面上に塗布して形成された塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させたものであることを特徴とする分散型エレクトロルミネッセンス素子。   A dispersive electroluminescence device formed at least on a surface of a base film in order, comprising at least a transparent coating layer, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer, wherein the transparent coating layer Is a coating reinforced with fibers and / or flaky particles formed on the surface of a base film using a coating solution for forming a transparent coating layer mainly composed of transparent resin and visible light transmissive fibers and / or flaky particles The transparent conductive layer is formed by applying a coating solution for forming a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide particles and a binder onto the surface of the transparent coating layer. A dispersive electroluminescent material characterized in that the formed coating layer is subjected to compression treatment and then cured. Scan element. 前記透明ベースフィルムと前記透明コーティング層の間に、更に第2の透明導電層が形成され、前記第2の透明導電層は導電性酸化物粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を該ベースフィルム表面上に塗布し硬化させて形成されたもの、或いは、前記透明導電層形成用塗布液を該ベースフィルム表面上に塗布して形成された第2の塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させたものであることを特徴とする請求項1に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子。   A second transparent conductive layer is further formed between the transparent base film and the transparent coating layer, and the second transparent conductive layer is a coating for forming a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide particles and a binder. A compression treatment is applied to the second coating layer formed by applying the liquid on the surface of the base film and curing, or the second coating layer formed by applying the coating liquid for forming the transparent conductive layer on the surface of the base film. 2. The dispersion type electroluminescent device according to claim 1, wherein the dispersion type electroluminescent device is cured after being applied. 前記透明コーティング層の厚さが50μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子。   The dispersion type electroluminescent device according to claim 1, wherein the transparent coating layer has a thickness of 50 μm or less. 前記導電性酸化物微粒子は、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分として含有していることを特徴とする請求項1又は2に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子。   The dispersion type electroluminescent device according to claim 1, wherein the conductive oxide fine particles contain one or more of indium oxide, tin oxide, and zinc oxide as a main component. 前記酸化インジウムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子であることを特徴とする請求項4に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子。   5. The dispersion type electroluminescent device according to claim 4, wherein the conductive oxide fine particles mainly composed of indium oxide are indium tin oxide fine particles. 前記バインダーは、架橋性を有しており、前記透明導電層及び第2の透明導電層が有機溶剤耐性を有していることを特徴とする請求項1又は2に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子。   The dispersion type electroluminescent device according to claim 1 or 2, wherein the binder has crosslinkability, and the transparent conductive layer and the second transparent conductive layer have organic solvent resistance. . 前記圧縮処理が、金属ロールの圧延処理により行われることを特徴とする請求項1または2に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子。   The dispersion type electroluminescent device according to claim 1, wherein the compression treatment is performed by rolling a metal roll. 前記ベースフィルムが前記透明コーティング層、又は、前記第2の透明導電層との界面で剥離除去されていることを特徴とする請求項1〜7に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子。   The dispersion type electroluminescent device according to claim 1, wherein the base film is peeled and removed at an interface with the transparent coating layer or the second transparent conductive layer. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子が、デバイスのキー入力部品に組み込まれる発光素子として適用されたことを特徴とする分散型エレクトロルミネッセンス素子。   9. A dispersion type electroluminescence element, wherein the dispersion type electroluminescence element according to claim 1 is applied as a light emitting element incorporated in a key input component of the device. 前記デバイスが携帯電話、リモートコントローラー、携帯情報端末であることを特徴とする請求項9記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子。   The distributed electroluminescence device according to claim 9, wherein the device is a mobile phone, a remote controller, or a portable information terminal. ベースフィルム表面上に、少なくとも透明コーティング層と、透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、背面電極層を順次形成する分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、透明樹脂と可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子を主成分とする透明コーティング層形成用塗布液を用いて形成された繊維および/またはフレーク状粒子で強化された前記透明コーティング層の表面上に導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次いで該透明コーティング層及び塗布層が形成された前記ベースフィルムに対し圧縮処理を施した後硬化させて透明導電層を形成することを特徴とする分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   A method for producing a dispersive electroluminescent device, comprising sequentially forming at least a transparent coating layer, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer on a surface of a base film, wherein Conductivity on the surface of the transparent coating layer reinforced with fibers and / or flaky particles formed using a coating liquid for forming a transparent coating layer mainly composed of light-transmitting fibers and / or flaky particles A coating layer is formed using a coating liquid for forming a transparent conductive layer mainly composed of oxide fine particles and a binder, and then the base film on which the transparent coating layer and the coating layer are formed is subjected to a compression treatment and then cured. And forming a transparent conductive layer to produce a dispersion type electroluminescent device. ベースフィルム表面上に、少なくとも透明コーティング層と、透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、背面電極層を順次形成する分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記ベースフィルム表面上に導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用い塗布して硬化させるか、或いは塗布して形成された第2の塗布層に圧縮処理を施した後硬化させるかして第2の透明導電層を形成し、該第2の透明導電層の表面上に透明樹脂と可視光線透過性の繊維および/またはフレーク状粒子を主成分とする透明コーティング層形成用塗布液を用いて繊維および/またはフレーク状粒子で強化された透明コーティング層を塗布形成し、更に該透明コーティング層の表面上に導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次いで該ベースフィルム、該第2の透明導電層、該透明コーティング層及び該塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させて透明導電層を形成することを特徴とする分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   A method for producing a dispersive electroluminescent device, comprising: forming at least a transparent coating layer, a transparent conductive layer, a phosphor layer, a dielectric layer, and a back electrode layer sequentially on a base film surface, wherein the base film surface It is applied and cured using a coating solution for forming a transparent conductive layer mainly composed of conductive oxide fine particles and a binder, or a second coating layer formed by coating is compressed and then cured. A second transparent conductive layer is formed, and a transparent coating layer is formed on the surface of the second transparent conductive layer. The transparent coating layer is mainly composed of a transparent resin and visible light transmissive fibers and / or flaky particles. Using the coating solution, a transparent coating layer reinforced with fibers and / or flaky particles is applied and formed, and conductive oxide fine particles and a binder are formed on the surface of the transparent coating layer. After forming a coating layer using a coating liquid for forming a transparent conductive layer containing as a main component, and then compressing the base film, the second transparent conductive layer, the transparent coating layer, and the coating layer A method for producing a dispersion-type electroluminescent element, comprising curing to form a transparent conductive layer. 請求項11又は12に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造工程後、更にベースフィルムを前記透明コーティング層又は前記第2の透明導電層との界面から剥離除去することを特徴とする分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   The dispersion type electroluminescence, wherein after the production process of the dispersion type electroluminescence device according to claim 11 or 12, the base film is further peeled and removed from the interface with the transparent coating layer or the second transparent conductive layer. Device manufacturing method. 前記圧縮処理を金属ロールの圧延処理で行うことを特徴とする請求項11又は12に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   The method of manufacturing a dispersion type electroluminescent element according to claim 11 or 12, wherein the compression treatment is performed by rolling a metal roll. 前記圧延処理は、線圧:29.4〜784N/mm(30〜800kgf/cm)であることを特徴とする請求項14に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   The method of manufacturing a dispersion type electroluminescent device according to claim 14, wherein the rolling treatment is performed at a linear pressure of 29.4 to 784 N / mm (30 to 800 kgf / cm). 前記圧延処理は、線圧:98〜490N/mm(100〜500kgf/cm)であることを特徴とする請求項14に記載の分散型エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
The said rolling process is linear pressure: 98-490 N / mm (100-500 kgf / cm), The manufacturing method of the dispersion-type electroluminescent element of Claim 14 characterized by the above-mentioned.
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