JP3192926B2 - Transparent nonlinear resistive film - Google Patents

Transparent nonlinear resistive film

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、透明で、かつブレーク
ダウン電圧の小さな非線形抵抗膜、それを形成する塗
料、およびそれにより成膜された透明バリスターに関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent non-linear resistive film having a small breakdown voltage, a coating material for forming the same, and a transparent varistor formed thereby.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、非線形抵抗材料として、一定の
電圧がかかると急激に抵抗率が低下して、電流が流れや
すくなるバリスターが知られている。バリスターには、
酸化亜鉛に、酸化ビスマスおよびその他の添加物を加え
たものや、酸化亜鉛に、酸化プラセオジウムなどの希土
類およびその他の添加物を加えたものなどのような酸化
亜鉛系のものが広く用いられている。これらバリスター
は、いずれも高温で焼結させて合成され、その後加工し
て、電子部品として使用されている。
2. Description of the Related Art In general, as a non-linear resistance material, a varistor is known in which when a certain voltage is applied, the resistivity is sharply reduced and a current easily flows. The varistors
Widely used are zinc oxide-based materials such as those obtained by adding bismuth oxide and other additives to zinc oxide, and those obtained by adding rare earths and other additives such as praseodymium oxide to zinc oxide. . Each of these varistors is synthesized by sintering at a high temperature, then processed, and used as an electronic component.

【0003】バリスターは電子回路に異常電圧が印加さ
れたとき、異常電圧から回路を保護する目的で使用され
たり、または、一定電圧以上で回路を作動させる目的で
使用される。最近の電子機器は、小型化、軽量化、小電
力化の方向にあるため、低電圧で作動するバリスター膜
や、さらには、電子デイスプレー素子においては、基板
上に簡単に形成できる透明バリスター膜の出現が強く望
まれるようになってきた。
A varistor is used to protect a circuit from an abnormal voltage when an abnormal voltage is applied to an electronic circuit, or to operate a circuit at a certain voltage or higher. Since recent electronic devices are in the direction of miniaturization, weight reduction, and power reduction, varistor films that operate at a low voltage and, in electronic display devices, transparent burrs that can be easily formed on a substrate. The appearance of a star film has been strongly desired.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来のバリスター材料
は、上記に述べたように、各種成分を高温で加熱して焼
結させることによって作成されるために、回路や基板上
に直接バリスター膜を形成することは困難である。ま
た、回路や基板上に直接バリスター膜を形成する方法と
しては、前期バリスターを粉砕して微粒化し分散液状媒
体に混合してペースト化し、このような塗料を基体上に
印刷により塗布乾燥してバリスター膜を形成する方法が
ある。しかし、このような方法で得られる従来のバリス
ター膜では、バリスター成分粒子の粒径が大きく、この
ため透明性を確保できるものではなく、さらに、バリス
ターのブレークダウン電圧が高いために、低電圧回路系
における使用は困難であった。
As described above, conventional varistor materials are made by heating and sintering various components at a high temperature, so that the varistor material is directly formed on a circuit or a substrate. It is difficult to form a film. In addition, as a method of forming a varistor film directly on a circuit or a substrate, the varistor is pulverized into fine particles, mixed with a dispersion liquid medium to form a paste, and such a paint is applied on a substrate by printing and dried. To form a varistor film. However, in the conventional varistor film obtained by such a method, the particle size of the varistor component particles is large, so that it is not possible to ensure transparency, and further, since the breakdown voltage of the varistor is high, Use in low voltage circuits has been difficult.

【0005】そこで、本発明は、電気機器などの回路や
基板上に直接形成することができ、しかも、低電圧で作
動する透明なバリスター膜を形成可能な透明非線形抵抗
膜、それを形成する塗料、およびそれにより形成される
透明バリスターを提供しようとするものである。
Accordingly, the present invention provides a transparent non-linear resistance film which can be formed directly on a circuit or a substrate of an electric device or the like and which can form a transparent varistor film which operates at a low voltage. It is intended to provide a paint and a transparent varistor formed thereby.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の透明非線形抵抗
膜形成用塗料は、0.005以上0.05μm未満の粒
径を有する酸化亜鉛超微粒子とバインダー樹脂とを含む
ことを特徴とするものである。本発明の透明非線形抵抗
膜は、前記本発明の透明非線形抵抗膜形成用塗料の固化
により形成されたものである。本発明の透明非線形抵抗
膜において、前記酸化亜鉛超微粒子の含有量が、50〜
95重量%であることが好ましい。本発明の透明バリス
ターはプラスチック又はガラスからなる基板上に形成さ
れた回路又は電極と、その上に、請求項1記載の透明非
線形抵抗膜形成用塗料の固化により、形成された透明非
線形抵抗膜とを有するものである。本発明の透明バリス
ターにおいて、前記透明非線形抵抗膜中の前記酸化亜鉛
超微粒子の含有量が50〜95重量%であることが好ま
しい。
According to the present invention, there is provided a coating material for forming a transparent nonlinear resistance film, comprising ultrafine zinc oxide particles having a particle diameter of 0.005 to less than 0.05 μm and a binder resin. It is. The transparent nonlinear resistance film of the present invention is formed by solidifying the coating material for forming a transparent nonlinear resistance film of the present invention. In the transparent nonlinear resistance film of the present invention, the content of the zinc oxide ultrafine particles is 50 to 50.
Preferably it is 95% by weight. A transparent varistor according to the present invention is a circuit or an electrode formed on a substrate made of plastic or glass, and a transparent non-linear resistance film formed thereon by solidifying the paint for forming a transparent non-linear resistance film according to claim 1. And In the transparent varistor of the present invention, the content of the zinc oxide ultrafine particles in the transparent nonlinear resistance film is preferably 50 to 95% by weight.

【0007】すなわち、本発明において、粒径が0.0
05以上0.05μm未満の酸化亜鉛超微粒子と、バイ
ンダー成分と、必要に応じて溶剤とを3本ロールミル、
ボールミル、サンドミル等の通常の分散方法により混練
して塗料を調製し、この塗料をプラスチック基板又はガ
ラス基板上に作成された回路あるいは電極上に印刷法な
どにより直接塗布、固化して透明非線形抵抗膜を形成
ることにより透明バリスターを形成する。成膜方法とし
ては、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビヤ印
刷、ロールコート、スピンコートなどの通常の方法で成
膜可能である。
That is, in the present invention, the particle size is 0.0
A zinc oxide ultrafine particle of not less than 05 and less than 0.05 μm, a binder component, and a solvent if necessary, in a three-roll mill,
A ball mill, and kneaded to prepare a coating material by conventional dispersion methods such as a sand mill, direct application, a transparent non-linear resistance film is solidified by a printing method the coating on to the circuit or electrode creates a plastic substrate or a glass substrate Is formed to form a transparent varistor. As a film forming method, a film can be formed by an ordinary method such as screen printing, offset printing, gravure printing, roll coating, and spin coating.

【0008】ここで、酸化亜鉛の粒径が0.05μm以
上である場合には、酸化亜鉛粒子による光の散乱光成分
が多くなり、膜の外観は白っぽくなるために、透明性の
点で実用上の不都合を生ずる。本発明で用いられる酸化
亜鉛超微粒子としては、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸
化コバルト、酸化マンガンなどを添加した超微粒子、酸
化ビスマス、酸化ホウ素、酸化コバルト、酸化マンガン
などにより表面にコートされた酸化亜鉛を主体とする超
微粒子も使用できる。
Here, the particle size of zinc oxide is 0.05 μm or less.
When the upper der Ru is scattered light component of the light by the zinc oxide particles is increased, since the composed whitish appearance of the film, causing practical inconvenience in terms of transparency. The ultrafine zinc oxide particles used in the present invention include bismuth oxide, boron oxide, cobalt oxide, ultrafine particles added with manganese oxide, bismuth oxide, boron oxide, cobalt oxide, zinc oxide coated on the surface with manganese oxide and the like. Ultra-fine particles mainly composed of

【0009】また、本発明の塗料に用いられるバインダ
ー成分としては、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、
アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹脂、
およびウレタン系樹脂、アルキド系樹脂などの熱硬化性
樹脂、並びに紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、お
よびレジストなどの感光性樹脂などの一般的な材料を使
用することができる。
The binder component used in the paint of the present invention includes an epoxy resin, a silicone resin,
Acrylic resin, polyester resin, vinyl resin,
Common materials such as thermosetting resins such as urethane resins and alkyd resins, and photosensitive resins such as ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and resists can be used.

【0010】本発明の透明非線形抵抗膜、すなわちバリ
スター膜中の酸化亜鉛超微粒子の含有率は、バインダー
成分の電気的性質により適宜に設定できるが、一般に5
0〜95重量%の範囲が好ましい。
The content of the ultrafine zinc oxide particles in the transparent nonlinear resistance film of the present invention , that is, the varistor film, can be appropriately set according to the electrical properties of the binder component.
A range of 0 to 95% by weight is preferred.

【0011】また、本願発明の塗料において、分散用液
体媒体(溶剤)を用いる場合はその種類に制限はなく、
例えば、ブチルセロソルブなどを用いることができる。
一般にバインダー樹脂を溶解する溶剤を酸化亜鉛超微粒
子分散用主媒体として用いると、得られる皮膜の膜質を
低下させることがないので好ましい。
When a liquid medium (solvent) for dispersion is used in the paint of the present invention, there is no limitation on its type.
For example, butyl cellosolve can be used.
In general, it is preferable to use a solvent that dissolves the binder resin as the main medium for dispersing the ultrafine zinc oxide particles, since the quality of the obtained film is not deteriorated.

【0012】[0012]

【実施例】本発明を下記実施例によりさらに説明する。The present invention will be further described with reference to the following examples.

【0013】実施例1 バリスター形成塗料用組成物を下記組成により調製し
た。 酸化亜鉛超微粒子(ZnO #100、 81 重量部 住友大阪セメント(株)社製) (粒径:0.005〜0.015μm) エポキシ樹脂(商標:エピコート1001、 8.5 重量部 油化シェルエポキシ(株)製) 硬化剤(商標:エピキュアX、油化シェルエポキシ製) 0.5 重量部 ブチルセロソルブ 10 重量部
Example 1 A varistor-forming coating composition was prepared according to the following composition. Ultrafine zinc oxide particles (ZnO # 100, 81 parts by weight, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.) (particle size: 0.005 to 0.015 μm) Epoxy resin (trademark: Epicoat 1001, 8.5 parts by weight) Oil-forming shell epoxy (Manufactured by Co., Ltd.) Hardening agent (trademark: Epicure X, manufactured by Yuka Shell Epoxy) 0.5 parts by weight

【0014】上記組成物を3本にロールミルにて3時間
混練して塗料を調製した。この塗料を、ITO透明電極
付きガラス基板に、スクリーン印刷により塗布、固化し
て成膜した後、200℃で1時間焼き付けを行なうこと
により、透明バリスター膜を作成した。
The above composition was kneaded in a roll mill for 3 hours to prepare a coating. This coating material was applied to a glass substrate with an ITO transparent electrode by screen printing, solidified to form a film, and baked at 200 ° C. for 1 hour to form a transparent varistor film.

【0015】得られた透明バリスター膜について、その
電流−電圧特性(周波数1kHz )を測定し結果を図1
に、また、その膜厚、および透過率を表1に示す。
The current-voltage characteristics (frequency 1 kHz) of the obtained transparent varistor film were measured.
Table 1 shows the film thickness and transmittance.

【0016】電流−電圧特性の評価は図2に示した方法
により行った。すなわち、ガラス基板3上にITO電極
2を設け、その上に透明バリスター膜1を形成し、電極
2を、周波数1kHz の電源4に接続し、この電源4と透
明バリスター1との間に電流計Aを配置し、電源の電圧
を変動させてブレークダウン電圧(V)を測定した。
The evaluation of the current-voltage characteristics was performed by the method shown in FIG. That is, an ITO electrode 2 is provided on a glass substrate 3, a transparent varistor film 1 is formed thereon, and the electrode 2 is connected to a power source 4 having a frequency of 1 kHz. The ammeter A was arranged, and the breakdown voltage (V) was measured by changing the voltage of the power supply.

【0017】実施例2 下記組成の組成物を調製した。 酸化亜鉛超微粒子(ZnO #100、 72 重量部 住友大阪セメント(株)社製) 紫外線硬化樹脂(商標:リポキシSP−1506、 17.5重量部 昭和高分子(株)製) 硬化剤(商標:イルガキュア651、チバガイギー製) 0.5 重量部 ブチルセロソルブ 10 重量部 Example 2 A composition having the following composition was prepared. Ultrafine zinc oxide particles (ZnO # 100, 72 parts by weight, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.) UV curable resin (trademark: Lipoxy SP-1506, 17.5 parts by weight, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) Curing agent (trademark: Irgacure 651, Ciba-Geigy) 0.5 parts by weight Butyl cellosolve 10 parts by weight

【0018】上記組成物を3本ロールミルにて3時間混
練して塗料を調製した。この塗料をプラスチック基板上
のITO透明電極上に、スクリーン印刷により塗布した
後、これに500W紫外線ランプ照射30秒行なうこと
により透明バリスター膜を作成した。得られた透明バリ
スター膜について、電流−電圧特性(周波数1kHz )を
測定した。結果を図1に示す。また、バリスター膜の膜
厚、および透過率を表1に示す。
The above composition was kneaded with a three-roll mill for 3 hours to prepare a coating. This paint was applied on an ITO transparent electrode on a plastic substrate by screen printing, and this was irradiated with a 500 W ultraviolet lamp for 30 seconds to form a transparent varistor film. The current-voltage characteristics (frequency 1 kHz) of the obtained transparent varistor film were measured. The results are shown in FIG. Table 1 shows the thickness and transmittance of the varistor film.

【0019】[0019]

【0020】この組成物をボールミルにて8時間混練し
て塗料を調製した。この塗料をガラス基板上のITO透
明電極の上に、スピナーにより塗布した後、これを25
0℃で30分間の焼き付けを施すことにより、透明バリ
スター膜を作成した。得られた透明バリスター膜につい
て、電流−電圧特性(周波数1kHz )を測定しその結果
を図1に示す。また、このバリスター膜の膜厚、および
透過率を表1に示す。
The composition was kneaded in a ball mill for 8 hours to prepare a coating. This paint was applied on a transparent ITO electrode on a glass substrate by a spinner, and then applied to the transparent electrode.
By baking at 0 ° C. for 30 minutes, a transparent varistor film was formed. The current-voltage characteristics (frequency 1 kHz) of the obtained transparent varistor film were measured, and the results are shown in FIG. Table 1 shows the thickness and transmittance of this varistor film.

【0021】[0021]

【表1】 [Table 1]

【0022】図1から明らかなように、実施例1〜3で
得られた透明非線形抵抗膜(バリスター膜)はすぐれた
透明性と、低いブレークダウン電圧を示すものであっ
た。
As is apparent from FIG. 1, the transparent nonlinear resistance films (varistor films) obtained in Examples 1 to 3 exhibited excellent transparency and low breakdown voltage.

【0023】[0023]

【発明の効果】上記説明から明らかなように、本発明に
係る透明バリスター膜は、すぐれた透明性を有し、しか
もブレークダウン電圧が低いために、電子機器・電子デ
イスプレー素子等の回路を低電圧で動作させることが可
能である。さらに、本発明の透明非線形抵抗膜は、回路
や基板上に直接塗布、硬化して形成できるために量産性
や製造コストにおいても優れている。
As is apparent from the above description, the transparent varistor film according to the present invention has excellent transparency and has a low breakdown voltage. Can be operated at a low voltage. Furthermore, since the transparent nonlinear resistance film of the present invention can be formed by directly applying and curing on a circuit or a substrate, it is excellent in mass productivity and manufacturing cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明に係る実施例1〜3の透明非線形
抵抗膜(バリスター膜)の電圧と電流との関係を示すグ
ラフ。
FIG. 1 is a graph showing a relationship between a voltage and a current of transparent nonlinear resistance films (varistor films) of Examples 1 to 3 according to the present invention.

【図2】図2は、図1の電圧−電流特性を測定するため
に用いられた、測定回路を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a measurement circuit used for measuring the voltage-current characteristics of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…透明バリスター膜 2…ITO電極 3…基板 4…電源 A…電流計 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent varistor film 2 ... ITO electrode 3 ... Substrate 4 ... Power supply A ... Ammeter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01C 7/10 C01G 9/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01C 7/10 C01G 9/02

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】 (57) [Claims] 【請求項1】 0.005以上0.05μm未満の粒径
を有する酸化亜鉛超微粒子とバインダー樹脂とを含む透
明非線形抵抗膜形成用塗料。
1. A transparent non-linear resistance film forming coating material comprising ultrafine zinc oxide particles having a particle size of 0.005 to less than 0.05 μm and a binder resin.
【請求項2】 請求項1記載の透明非線形抵抗膜形成用
塗料の固化により形成された透明非線形抵抗膜。
2. A transparent nonlinear resistance film formed by solidifying the coating material for forming a transparent nonlinear resistance film according to claim 1.
【請求項3】 前記酸化亜鉛超微粒子の含有量が、50
〜95重量%である、請求項2に記載の透明非線形抵抗
膜。
3. The content of the ultrafine zinc oxide particles is 50.
3. The transparent nonlinear resistance film according to claim 2, wherein the content is about 95% by weight.
【請求項4】 プラスチック又はガラスからなる基板上
に形成された回路又は電極と、その上に、請求項1記載
の透明非線形抵抗膜形成用塗料の固化により、形成され
た透明非線形抵抗膜とを有する透明バリスター。
4. A circuit or an electrode formed on a substrate made of plastic or glass, and a transparent nonlinear resistance film formed thereon by solidifying the paint for forming a transparent nonlinear resistance film according to claim 1. Having a transparent varistor.
【請求項5】 前記透明非線形抵抗膜中の前記酸化亜鉛
超微粒子の含有量が50〜95重量%である、請求項4
に記載の透明バリスター。
5. The content of the ultrafine zinc oxide particles in the transparent nonlinear resistance film is 50 to 95% by weight.
The transparent varistor according to the above.
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