JP3070790B2 - 太陽電池モジュール - Google Patents
太陽電池モジュールInfo
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- JP3070790B2 JP3070790B2 JP4084877A JP8487792A JP3070790B2 JP 3070790 B2 JP3070790 B2 JP 3070790B2 JP 4084877 A JP4084877 A JP 4084877A JP 8487792 A JP8487792 A JP 8487792A JP 3070790 B2 JP3070790 B2 JP 3070790B2
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- Japan
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- cell module
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- diode
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の光起電力素子を
直列接続して作製される太陽電池モジュールに係わる。
特に、太陽電池モジュールの作動時に、部分的な光の遮
断によって起きる素子の破壊を防ぐためのバイパスダイ
オードを光起電力素子上に設けた太陽電池に関する。
直列接続して作製される太陽電池モジュールに係わる。
特に、太陽電池モジュールの作動時に、部分的な光の遮
断によって起きる素子の破壊を防ぐためのバイパスダイ
オードを光起電力素子上に設けた太陽電池に関する。
【0002】
【従来の技術】最近、CO2の増加による温室効果で地
球の温暖化が生じることが予測され、クリーンなエネル
ギーの要求がますます高まっている。また、CO2を排
出しない原子力発電も、放射性廃棄物の処理の問題が完
全に解決されているわけではなく、より安全性の高いク
リーンなエネルギーが望まれている。
球の温暖化が生じることが予測され、クリーンなエネル
ギーの要求がますます高まっている。また、CO2を排
出しない原子力発電も、放射性廃棄物の処理の問題が完
全に解決されているわけではなく、より安全性の高いク
リーンなエネルギーが望まれている。
【0003】将来期待されているクリーンなエネルギー
の中でも、特に太陽電池はそのクリーンさと安全性と取
扱い易さから期待が大きい。
の中でも、特に太陽電池はそのクリーンさと安全性と取
扱い易さから期待が大きい。
【0004】各種太陽電池の中で、非晶質シリコンや銅
インジウムセレナイド等は大面積に製造でき、製造コス
トも安価であることから、熱心に研究されている。
インジウムセレナイド等は大面積に製造でき、製造コス
トも安価であることから、熱心に研究されている。
【0005】更に、太陽電池の中でも、耐候性、耐衝撃
性、可とう性に優れていることから、基板材にステンレ
ス等の金属基板を用いる場合がある。ステンレスなどの
金属基体上に下部電極が接続される構造で形成された光
起電力素子から、高い発電電圧を得るためには、複数個
の素子を直列接続する必要がある。
性、可とう性に優れていることから、基板材にステンレ
ス等の金属基板を用いる場合がある。ステンレスなどの
金属基体上に下部電極が接続される構造で形成された光
起電力素子から、高い発電電圧を得るためには、複数個
の素子を直列接続する必要がある。
【0006】直列接続された素子アレイから成る太陽電
池モジユールが動作する場合の難点は、部分的な影の中
に素子が入ったとき、影の中の素子は他の発電している
素子からの総発生電圧が逆方向バイアスとして印加さ
れ、素子の耐圧を越えると素子が破壊されることであ
る。これを防ぐために、素子と並列に反対極性の方向に
ダイオードを接続する方法が一般的にはとられる。
池モジユールが動作する場合の難点は、部分的な影の中
に素子が入ったとき、影の中の素子は他の発電している
素子からの総発生電圧が逆方向バイアスとして印加さ
れ、素子の耐圧を越えると素子が破壊されることであ
る。これを防ぐために、素子と並列に反対極性の方向に
ダイオードを接続する方法が一般的にはとられる。
【0007】しかし、太陽電池モジュールにダイオード
を内蔵させるためには、市販のダイオードの厚みが少な
くとも2〜3mm以上あるため、充填材の厚みを厚くせ
ざるを得ない。
を内蔵させるためには、市販のダイオードの厚みが少な
くとも2〜3mm以上あるため、充填材の厚みを厚くせ
ざるを得ない。
【0008】一方、屋根の上に太陽電池モジュールを設
置して、発電し、電力需要のビーク時のロードレベリン
グを行うことが考えられている。しかし、太陽電池モジ
ュール内の充填材の樹脂量が多い場合には、耐火の点で
問題があり、さらに重量が重くなることによって屋根の
耐荷重にも影響を与える。
置して、発電し、電力需要のビーク時のロードレベリン
グを行うことが考えられている。しかし、太陽電池モジ
ュール内の充填材の樹脂量が多い場合には、耐火の点で
問題があり、さらに重量が重くなることによって屋根の
耐荷重にも影響を与える。
【0009】従って、太陽電池モジュールを構成する上
で、充填材の樹脂量をいかに少なくするかが大きな課題
となっている。
で、充填材の樹脂量をいかに少なくするかが大きな課題
となっている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の従来
の欠点を解決し、充填材の樹脂量の少ない、薄型の太陽
電池モジュールを提供することを目的とする。
の欠点を解決し、充填材の樹脂量の少ない、薄型の太陽
電池モジュールを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者は、従来の欠点
を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、べアチップダイ
オードを直接光起電力素子上に接続することによって、
太陽電池モジュールの樹脂量を削減できることを見いだ
した。
を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、べアチップダイ
オードを直接光起電力素子上に接続することによって、
太陽電池モジュールの樹脂量を削減できることを見いだ
した。
【0012】本発明の太陽電池モジュールは、可とう性
導電性基体上に光電変換層が形成されてなる複数の光起
電力素子が、配線を介して直列に接続され、且つ前記複
数の光起電力素子の内少なくとも一つに、バイパスダイ
オードが設けられた太陽電池モジュールにおいて、前記
バイパスダイオードとしてベアチップダイオードを前記
可とう性導電性基体上に設け、該ベアチップダイオード
の相対する2つの電極の内、一方の電極を該可とう性導
電性基体に電気的に接続し、他方の電極を前記光電変換
層から出る配線に電気的に接続したこと、並びに、該ベ
アチップダイオードが設けられた部分のみがエポキシ樹
脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂の
いずれかから成る絶縁性材料で部分的に封止され、更に
封止された該ベアチップダイオード及び該光電変換層上
が全体にわたって、エチレン−酢酸ビニル共重合体及び
フッ素樹脂フィルムを順に積層した二層構造の表面被膜
層で被覆されていること、を特徴とする。
導電性基体上に光電変換層が形成されてなる複数の光起
電力素子が、配線を介して直列に接続され、且つ前記複
数の光起電力素子の内少なくとも一つに、バイパスダイ
オードが設けられた太陽電池モジュールにおいて、前記
バイパスダイオードとしてベアチップダイオードを前記
可とう性導電性基体上に設け、該ベアチップダイオード
の相対する2つの電極の内、一方の電極を該可とう性導
電性基体に電気的に接続し、他方の電極を前記光電変換
層から出る配線に電気的に接続したこと、並びに、該ベ
アチップダイオードが設けられた部分のみがエポキシ樹
脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂の
いずれかから成る絶縁性材料で部分的に封止され、更に
封止された該ベアチップダイオード及び該光電変換層上
が全体にわたって、エチレン−酢酸ビニル共重合体及び
フッ素樹脂フィルムを順に積層した二層構造の表面被膜
層で被覆されていること、を特徴とする。
【0013】
【作用】以下に本発明の作用と共に発明の構成を詳細に
説明する。
説明する。
【0014】図1は本発明の太陽電池モジュールの概略
構成図の一例で、(a)は平面図で、(b)は断面図で
ある。図1において100は導電性基体、101は光電
変換層で裏面電極層/半導体層/透明導電層からなり、
102はべアチップダイオード、103は隣りの光起電
力素子を直列接続するための配線材、104はべアチッ
プダイオード102を裏面電極層あるいは導電性基体1
00に接続するためのハンダあるいは導電性接着剤、1
05はべアチップダイオード102と配線材103を接
続するためのハンダあるいは導電性接着剤、106はべ
アチップダイオードの保護コート材、107は配線材1
03と光起電力素子101の短絡を防止するための絶縁
材、108は透明導電層のエツチングされた素子分離ラ
イン、109は透明導電層からの電流を集電するための
グリッド電極、110はグリッド電極からの電流を輸送
するためのバスバー、111は光起電力素子、112は
単位セル部、113は表面被覆材層、114は補強材、
ll5は接着層である。
構成図の一例で、(a)は平面図で、(b)は断面図で
ある。図1において100は導電性基体、101は光電
変換層で裏面電極層/半導体層/透明導電層からなり、
102はべアチップダイオード、103は隣りの光起電
力素子を直列接続するための配線材、104はべアチッ
プダイオード102を裏面電極層あるいは導電性基体1
00に接続するためのハンダあるいは導電性接着剤、1
05はべアチップダイオード102と配線材103を接
続するためのハンダあるいは導電性接着剤、106はべ
アチップダイオードの保護コート材、107は配線材1
03と光起電力素子101の短絡を防止するための絶縁
材、108は透明導電層のエツチングされた素子分離ラ
イン、109は透明導電層からの電流を集電するための
グリッド電極、110はグリッド電極からの電流を輸送
するためのバスバー、111は光起電力素子、112は
単位セル部、113は表面被覆材層、114は補強材、
ll5は接着層である。
【0015】図2はべアチップダイオードの概略断面図
である。図2において、200はダイオードチップ、2
01と202はダイオードチップの電極部である。
である。図2において、200はダイオードチップ、2
01と202はダイオードチップの電極部である。
【0016】図3は本発明に用いた光起電力素子の概略
断面図である。図3において、300は導電性基体、3
01は裏面電極層、302は光電変換部材としての半導
体層、303は透明導電層、304は集電用グリッド電
極である。裏面電極301は300の導電性基体で兼ね
ることもできる。
断面図である。図3において、300は導電性基体、3
01は裏面電極層、302は光電変換部材としての半導
体層、303は透明導電層、304は集電用グリッド電
極である。裏面電極301は300の導電性基体で兼ね
ることもできる。
【0017】以下に、本発明の太陽電池モジュールの作
製手順及び使用する材料などを説明する。
製手順及び使用する材料などを説明する。
【0018】まず、本発明の太陽電池モジュールの作製
手順の一例として、図1を用いて説明する。まず、導電
性基体100上に裏面電極層、半導体層、透明導電層を
順次形成した後、エッチングなどの方法で透明電極の一
部108を除去し発電領域と、ダイオードや接続配線を
施す領域に分離する。
手順の一例として、図1を用いて説明する。まず、導電
性基体100上に裏面電極層、半導体層、透明導電層を
順次形成した後、エッチングなどの方法で透明電極の一
部108を除去し発電領域と、ダイオードや接続配線を
施す領域に分離する。
【0019】所望の電圧を得るために直列接続する光起
電力素子111を複数個用意し、次いでバイパスダイオ
ードに用いるべアチップダイオードを接続する部分の半
導体層をグラインダーやレーザーで除去し、導電性接着
剤あるいはハンダ104でべアチップダイオード102
を導電性基体に接続し、さらに直列配線材103を導電
性接着剤あるいはハンダで接続して補強のためにダイオ
ード接続部を保護コート材106で被覆する。
電力素子111を複数個用意し、次いでバイパスダイオ
ードに用いるべアチップダイオードを接続する部分の半
導体層をグラインダーやレーザーで除去し、導電性接着
剤あるいはハンダ104でべアチップダイオード102
を導電性基体に接続し、さらに直列配線材103を導電
性接着剤あるいはハンダで接続して補強のためにダイオ
ード接続部を保護コート材106で被覆する。
【0020】最後に直列接続した複数個の光起電力素子
の補強として、裏面に絶縁化された補強材114を接着
層115を介して接着した後、少なくとも光入射側表面
を透明な耐候性表面被覆材ll3で被覆して太陽電池モ
ジュールを作製する。上記ベアチップダイオードを導電
性基体に接続する為に、除去する半導体層の面積は、好
ましくはベアチップダイオードの面積以下である。
の補強として、裏面に絶縁化された補強材114を接着
層115を介して接着した後、少なくとも光入射側表面
を透明な耐候性表面被覆材ll3で被覆して太陽電池モ
ジュールを作製する。上記ベアチップダイオードを導電
性基体に接続する為に、除去する半導体層の面積は、好
ましくはベアチップダイオードの面積以下である。
【0021】図1の本発明の太陽電池モジュールを上記
太陽電池モジュールの作製手順で作製することにより、
厚みが0.23mm程度のベアチップダイオードをその
まま使用することが可能となり、太陽電池モジユールの
厚みを極度に薄くできる、すなわち太陽電池モジュール
に使用される充填材である樹脂量を大幅に削減できるこ
とになる。
太陽電池モジュールの作製手順で作製することにより、
厚みが0.23mm程度のベアチップダイオードをその
まま使用することが可能となり、太陽電池モジユールの
厚みを極度に薄くできる、すなわち太陽電池モジュール
に使用される充填材である樹脂量を大幅に削減できるこ
とになる。
【0022】次に、本発明の太陽電池モジュールを構成
する材料について説明する。ベアチップダイオードを接
続するための導電性接着剤には、例えばエポキシ系、ア
クリル系、ポリイミド系、シリコーン系などの樹脂に、
例えば銀、金、ニッケル、などの金属粉等を分散させた
ものを使用する。導電性接着剤の樹脂は、これらの内、
金属との接着性のよいエポキシ系を選ぶのが好ましい。
また、べアチップダイオードの電極の少なくとも片面は
異方性導電接着剤を用いるのが好ましい。この異方性導
電接着剤は熱圧着した部分のみが導通するものである。
する材料について説明する。ベアチップダイオードを接
続するための導電性接着剤には、例えばエポキシ系、ア
クリル系、ポリイミド系、シリコーン系などの樹脂に、
例えば銀、金、ニッケル、などの金属粉等を分散させた
ものを使用する。導電性接着剤の樹脂は、これらの内、
金属との接着性のよいエポキシ系を選ぶのが好ましい。
また、べアチップダイオードの電極の少なくとも片面は
異方性導電接着剤を用いるのが好ましい。この異方性導
電接着剤は熱圧着した部分のみが導通するものである。
【0023】ベアチップダイオードの接続に、ハンダを
用いる場合で、光起電力素子の導電性基体がハンダのつ
きにくいステンレス基板である場合には、半導体層を除
いたステンレス基板の露出面に、予め、例えばズス,ハ
ンダ,ニッケル,あるいは銅を局部的にメツキしておく
方が好ましい。ハンダは、ペースト状のもの(ハンダペ
ースト)が取り扱い易い。導電性接着剤とハンダペース
トの塗布は、例えばディスペンサーやスクリーン印刷を
用いて行うことができる。
用いる場合で、光起電力素子の導電性基体がハンダのつ
きにくいステンレス基板である場合には、半導体層を除
いたステンレス基板の露出面に、予め、例えばズス,ハ
ンダ,ニッケル,あるいは銅を局部的にメツキしておく
方が好ましい。ハンダは、ペースト状のもの(ハンダペ
ースト)が取り扱い易い。導電性接着剤とハンダペース
トの塗布は、例えばディスペンサーやスクリーン印刷を
用いて行うことができる。
【0024】接続を終えたベアチップダイオードの接続
部を固定し、保護するための保護コート材には、例えば
エポキシ樹脂,シリコーン樹脂,アクリル樹脂,ポリイ
ミド樹脂,あるいはこれらの樹脂に例えばシリカやアル
ミナなどの無機絶縁材料を混合したものを用いる。
部を固定し、保護するための保護コート材には、例えば
エポキシ樹脂,シリコーン樹脂,アクリル樹脂,ポリイ
ミド樹脂,あるいはこれらの樹脂に例えばシリカやアル
ミナなどの無機絶縁材料を混合したものを用いる。
【0025】本発明の光起電力素子の導電性基体には、
例えばステンレス,アルミニウム,銅,チタン,カーボ
ンシート,亜鉛メッキ鋼板,導電層が形成してある樹脂
フィルムやセラミックス等が挙げられる。透光性基体に
は、例えばガラス基板,石英基板,サファイア基板等が
挙げられる。
例えばステンレス,アルミニウム,銅,チタン,カーボ
ンシート,亜鉛メッキ鋼板,導電層が形成してある樹脂
フィルムやセラミックス等が挙げられる。透光性基体に
は、例えばガラス基板,石英基板,サファイア基板等が
挙げられる。
【0026】本発明に適用する光起電力素子の裏面電極
層には、金属層あるいは金属酸化物、あるいは金属層と
金属酸化物層の複合層が用いられる。金属層の材質とし
ては、例えばTi,Cr,Mo,W,Al,Ag,Ni
などが用いられ、金属酸化物層としては、例えばZn
O,TiO2,SnO2などが採用される。上記金属層お
よび金属酸化物層の形成方法としては、例えば抵抗加熱
蒸着,電子ビーム蒸着,スパッタリング法などがある。
層には、金属層あるいは金属酸化物、あるいは金属層と
金属酸化物層の複合層が用いられる。金属層の材質とし
ては、例えばTi,Cr,Mo,W,Al,Ag,Ni
などが用いられ、金属酸化物層としては、例えばZn
O,TiO2,SnO2などが採用される。上記金属層お
よび金属酸化物層の形成方法としては、例えば抵抗加熱
蒸着,電子ビーム蒸着,スパッタリング法などがある。
【0027】本発明で用いられる光起電力素子の光電変
換部材としての半導体層には、例えばpin接合非晶質
シリコン,pn接合結晶シリコン,CuInSe2/C
dSなどの化合物半導体等が挙げられる。そのほかにシ
ョットキー型接合の半導体層も挙げられる。上記半導体
層は、非晶質シリコンの場合は、例えばシランガスなど
のプラズマCVDにより形成する。多結晶シリコンの場
合は、例えば溶融シリコンのシート化あるいは非晶質シ
リコンの熱処理により形成する。CuInSe2/Cd
Sの場合は、例えば電子ビーム蒸着やスパッタリング,
電析(電解液の電気分解による析出)などの方法で形成
する。
換部材としての半導体層には、例えばpin接合非晶質
シリコン,pn接合結晶シリコン,CuInSe2/C
dSなどの化合物半導体等が挙げられる。そのほかにシ
ョットキー型接合の半導体層も挙げられる。上記半導体
層は、非晶質シリコンの場合は、例えばシランガスなど
のプラズマCVDにより形成する。多結晶シリコンの場
合は、例えば溶融シリコンのシート化あるいは非晶質シ
リコンの熱処理により形成する。CuInSe2/Cd
Sの場合は、例えば電子ビーム蒸着やスパッタリング,
電析(電解液の電気分解による析出)などの方法で形成
する。
【0028】本発明で用いられる光起電力素子の透明導
電層に用いる材料としては、例えばIn2O3,Sn
O2,In2O3−SnO2(ITO),ZnO,Ti
O2,Cd2SnO4,高濃度不純物ドープした結晶性半
導体層などがあり、形成方法としては、例えば抵抗加熱
蒸着,電子ビーム蒸着,スパッタリング法,スプレー
法,CVD法,不純物拡散などがある。
電層に用いる材料としては、例えばIn2O3,Sn
O2,In2O3−SnO2(ITO),ZnO,Ti
O2,Cd2SnO4,高濃度不純物ドープした結晶性半
導体層などがあり、形成方法としては、例えば抵抗加熱
蒸着,電子ビーム蒸着,スパッタリング法,スプレー
法,CVD法,不純物拡散などがある。
【0029】さらに、透明導電層の上の光起電力によっ
て発生した電流を効率よく集電するための、格子(グリ
ッド)状の集電電極の材料としては、例えばTi、C
r,Mo,W,Al,Ag,Ni,Cu,Sn及び銀ペ
ーストなどの導電性ペーストが用いられる。グリッド電
極の形成方法には、例えばマスクパターンを用いたスパ
ッタリング,抵抗加熱,CVDの蒸着方法,あるいは全
面に金属層を蒸着した後にエッチングしてパターニング
する方法,光CVDにより直接グリッド電極パターンを
形成する方法,グリッド電極パターンのネガパターンの
マスクを形成した後にメッキにより形成する方法,導電
性ペーストを印刷して形成する方法などがある。導電性
ペーストは、通常例えば微粉末状の銀,金,銅,ニッケ
ル,カーボンなどをバインダーポリマーに分散させたも
のが使用される。上記バインダーポリマーとしては、例
えばポリエステル,エポキシ,アクリル,アルキド,ポ
リビニルアセテート,ゴム,ウレタン,フェノールなど
の樹脂があげられる。
て発生した電流を効率よく集電するための、格子(グリ
ッド)状の集電電極の材料としては、例えばTi、C
r,Mo,W,Al,Ag,Ni,Cu,Sn及び銀ペ
ーストなどの導電性ペーストが用いられる。グリッド電
極の形成方法には、例えばマスクパターンを用いたスパ
ッタリング,抵抗加熱,CVDの蒸着方法,あるいは全
面に金属層を蒸着した後にエッチングしてパターニング
する方法,光CVDにより直接グリッド電極パターンを
形成する方法,グリッド電極パターンのネガパターンの
マスクを形成した後にメッキにより形成する方法,導電
性ペーストを印刷して形成する方法などがある。導電性
ペーストは、通常例えば微粉末状の銀,金,銅,ニッケ
ル,カーボンなどをバインダーポリマーに分散させたも
のが使用される。上記バインダーポリマーとしては、例
えばポリエステル,エポキシ,アクリル,アルキド,ポ
リビニルアセテート,ゴム,ウレタン,フェノールなど
の樹脂があげられる。
【0030】グリッド電極で集電した電流を集めて輸送
するためのバスバーの材料としては、例えばスズあるい
はハンダコーティングした銅、ニッケルなどを用いる。
するためのバスバーの材料としては、例えばスズあるい
はハンダコーティングした銅、ニッケルなどを用いる。
【0031】バスバーのグリッド電極への接続は、導電
性接着剤あるいはハンダで行う。表面被覆層は、透光性
があり紫外線やオゾンに安定な耐候性があることが必要
であり、フッ素樹脂フィルム・エチレン−酢酸ビニル共
重合体の二層構造のもの(光入射側はフッ素樹脂フィル
ム)が用いられる。
性接着剤あるいはハンダで行う。表面被覆層は、透光性
があり紫外線やオゾンに安定な耐候性があることが必要
であり、フッ素樹脂フィルム・エチレン−酢酸ビニル共
重合体の二層構造のもの(光入射側はフッ素樹脂フィル
ム)が用いられる。
【0032】太陽電池モジュールの裏面の補強材の形状
としては、例えばフィルムあるいは板状のものを用い、
材質としては、例えば塗装亜鉛鋼板のような絶縁処理し
た金属,プラスチック,セラミック,ガラスなどを用い
る。
としては、例えばフィルムあるいは板状のものを用い、
材質としては、例えば塗装亜鉛鋼板のような絶縁処理し
た金属,プラスチック,セラミック,ガラスなどを用い
る。
【0033】
【実施例】以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明す
る。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
る。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【0034】(実施例1) まず、アモルファスシリコン(a−Si)光起電力素子
を作製した。以下、図1と図3を用いて、作製手順を説
明する。
を作製した。以下、図1と図3を用いて、作製手順を説
明する。
【0035】洗浄した0.125mm厚のステンレス基
体(100,300)上に、スパッタ法によって導電体
層の裏面電極301としてAl膜厚500nm、ZnO
膜厚500nmを順次形成した。ついで、プラズマCV
D法によりSiH4とPH3とH2からn型a−Si層
を、SiH4とH2からi型a−Si層を、SiH4とB
F3とH2からp型微結晶μc−Si層を形成し、n層膜
厚15nm/i層膜厚400nm/p層膜厚10nm/
n層膜厚10nm/i層膜厚80nm/p層膜厚10n
mの積層構成の光電変換層302を形成した。次に、透
明導電層303としてIn2O3膜厚70nmを、O2雰
囲気下でInを抵抗加熱法で蒸着することによって形成
してアモルファスシリコン光起電力素子を作製した。
体(100,300)上に、スパッタ法によって導電体
層の裏面電極301としてAl膜厚500nm、ZnO
膜厚500nmを順次形成した。ついで、プラズマCV
D法によりSiH4とPH3とH2からn型a−Si層
を、SiH4とH2からi型a−Si層を、SiH4とB
F3とH2からp型微結晶μc−Si層を形成し、n層膜
厚15nm/i層膜厚400nm/p層膜厚10nm/
n層膜厚10nm/i層膜厚80nm/p層膜厚10n
mの積層構成の光電変換層302を形成した。次に、透
明導電層303としてIn2O3膜厚70nmを、O2雰
囲気下でInを抵抗加熱法で蒸着することによって形成
してアモルファスシリコン光起電力素子を作製した。
【0036】次に、FeCl3をポリビニルアルコール
に混合し、アルコ一ルを添加して粘度調節しペースト状
にしたものを、スクリーン印刷機を用い光起電力素子の
素子分離パターン108を透明導電層上に印刷し、13
0℃で熱処理した後水洗乾燥することによって、透明導
電層がエッチングされたパターン108を形成した。
に混合し、アルコ一ルを添加して粘度調節しペースト状
にしたものを、スクリーン印刷機を用い光起電力素子の
素子分離パターン108を透明導電層上に印刷し、13
0℃で熱処理した後水洗乾燥することによって、透明導
電層がエッチングされたパターン108を形成した。
【0037】ついで、銀ペースト(Dupont Inc製#500
7)をスクリーン印刷し、グリッド電極109を形成し
た。次に、ベアチプダイオードの接続部をグラインダー
で研磨し、ステンレス基板を露出させた後、エポキシ系
銀ペースト(AI Technology Inc製#ME8450)104をデ
ィスペンサーで塗布し、その上に厚さ0.23mmのベ
アチップダイオード(General Instruments製#GPP5A)
102を載せ、l75℃、10分間で銀ペーストを硬化
させ、チップダイオードの片面の電極をステンレス基板
に接続した。さらに、チップダイオードのもう一方の電
極面にもエポキシ系銀ペースト(AI Technology Inc製#
ME8450)105をダイオードの電極部からはみ出さない
ようにディスペンサーで塗布し、その上に直列配線材と
しての125μm厚の銅タッブ103を載せ、175℃
10分間の熱処理で銀ペーストを硬化させた。ただし、
予め銅タッブ下の光起電力素子表面は絶縁樹脂107な
どでコーティングして絶縁化しておいた。
7)をスクリーン印刷し、グリッド電極109を形成し
た。次に、ベアチプダイオードの接続部をグラインダー
で研磨し、ステンレス基板を露出させた後、エポキシ系
銀ペースト(AI Technology Inc製#ME8450)104をデ
ィスペンサーで塗布し、その上に厚さ0.23mmのベ
アチップダイオード(General Instruments製#GPP5A)
102を載せ、l75℃、10分間で銀ペーストを硬化
させ、チップダイオードの片面の電極をステンレス基板
に接続した。さらに、チップダイオードのもう一方の電
極面にもエポキシ系銀ペースト(AI Technology Inc製#
ME8450)105をダイオードの電極部からはみ出さない
ようにディスペンサーで塗布し、その上に直列配線材と
しての125μm厚の銅タッブ103を載せ、175℃
10分間の熱処理で銀ペーストを硬化させた。ただし、
予め銅タッブ下の光起電力素子表面は絶縁樹脂107な
どでコーティングして絶縁化しておいた。
【0038】次に、25μm厚のスズメッキした銅箔を
バスバー110としてグリッド電極に固定し、グリッド
電極とバスバーの接続部にエポキシ系銀ペースト(Al T
echnology Inc製#ME8450)をディスペンサーで塗布し、
また、チツプダイオード接続部に保護コート材(日立化
成製#KE-6309)106をディスペンサーで30μm厚塗
布した後、70℃30分間さらに150℃1時間の硬化
処理を行った。続いて、銅タッブとバスバーをハンダ付
けして単位セル112を作製し、所望の電圧が得られる
ように、複数個の単位セルを直列接続した。直列化の方
法は、隣り合わせた単位セルの一方のセルの銅タッブを
他方のセルのステンレス基板にスポット溶接で接続し
た。
バスバー110としてグリッド電極に固定し、グリッド
電極とバスバーの接続部にエポキシ系銀ペースト(Al T
echnology Inc製#ME8450)をディスペンサーで塗布し、
また、チツプダイオード接続部に保護コート材(日立化
成製#KE-6309)106をディスペンサーで30μm厚塗
布した後、70℃30分間さらに150℃1時間の硬化
処理を行った。続いて、銅タッブとバスバーをハンダ付
けして単位セル112を作製し、所望の電圧が得られる
ように、複数個の単位セルを直列接続した。直列化の方
法は、隣り合わせた単位セルの一方のセルの銅タッブを
他方のセルのステンレス基板にスポット溶接で接続し
た。
【0039】上記方法で直列接続した複数個のセルの裏
面であるステンレス基板表面にエポキシ系接着剤115
を25μm厚塗布し、絶縁処理した0.36mm厚の亜
鉛鋼板114と貼り合わせ、硬化させた。ついで、光入
射側表面を、昭和テクノコート製フッ素樹脂塗料を塗布
し170℃30分間処理し硬化させ、90μm厚の表面
保護被膜113を形成し、太陽電池モジュールを作製し
た。
面であるステンレス基板表面にエポキシ系接着剤115
を25μm厚塗布し、絶縁処理した0.36mm厚の亜
鉛鋼板114と貼り合わせ、硬化させた。ついで、光入
射側表面を、昭和テクノコート製フッ素樹脂塗料を塗布
し170℃30分間処理し硬化させ、90μm厚の表面
保護被膜113を形成し、太陽電池モジュールを作製し
た。
【0040】得られた太陽電池モジュールの樹脂の平均
膜厚は100μm以下、モジュール全体の平均厚は1m
m以下で、局部的に厚い箇所でも1.1mm以下であっ
た。 (実施例2)実施例1において、ベアチップダイオード
と配線材の銅タッブの接続に、エポキシ系銀ペースト
(AI Technology Inc製#ME8450)に換えて、異方性導電
接着剤(AI Technology Inc製#ME8156Z-2)を使用し、
150℃5分間の条件で硬化させて、実施例1と同様の
方法で太陽電池モジュールを作製した。
膜厚は100μm以下、モジュール全体の平均厚は1m
m以下で、局部的に厚い箇所でも1.1mm以下であっ
た。 (実施例2)実施例1において、ベアチップダイオード
と配線材の銅タッブの接続に、エポキシ系銀ペースト
(AI Technology Inc製#ME8450)に換えて、異方性導電
接着剤(AI Technology Inc製#ME8156Z-2)を使用し、
150℃5分間の条件で硬化させて、実施例1と同様の
方法で太陽電池モジュールを作製した。
【0041】得られた太陽電池モジュールの厚みに関し
ては実施例1とほぼ同じく、樹脂の平均膜厚は100μ
m以下、モジュール全体の平均厚は1mm以下で、局部
的に厚い箇所でも1.1mm以下であった。
ては実施例1とほぼ同じく、樹脂の平均膜厚は100μ
m以下、モジュール全体の平均厚は1mm以下で、局部
的に厚い箇所でも1.1mm以下であった。
【0042】(実施例3)実施例1において、ベアチッ
プダイオードと配線材の銅タッブの接続に、エポキシ系
銀ペースト(AI Techno1ogy Inc製#ME8450)に換えて、
無洗浄フラックス入りハンダペーストを用い、ディスペ
ンサーで塗布し加熱してベアチップダイオードと銅タッ
ブを接続した。
プダイオードと配線材の銅タッブの接続に、エポキシ系
銀ペースト(AI Techno1ogy Inc製#ME8450)に換えて、
無洗浄フラックス入りハンダペーストを用い、ディスペ
ンサーで塗布し加熱してベアチップダイオードと銅タッ
ブを接続した。
【0043】直列接続は実施例1と同様にして形成し、
絶縁処理した亜鉛鋼板を貼り合わせた後、50μm厚の
ダイキン工業製フッ素樹脂ETFEフイルムに接着層と
してエチレンー酢酸ビニル共重合ポリマー(EVA)を
300μm厚塗布したフィルムを光入射側表面にラミネ
ートして、太陽電池モジュールを作製した。
絶縁処理した亜鉛鋼板を貼り合わせた後、50μm厚の
ダイキン工業製フッ素樹脂ETFEフイルムに接着層と
してエチレンー酢酸ビニル共重合ポリマー(EVA)を
300μm厚塗布したフィルムを光入射側表面にラミネ
ートして、太陽電池モジュールを作製した。
【0044】得られた太陽電池モジュールの樹脂の平均
膜厚は400μm以下で、モジュール全体の平均厚はl
mm以下で、局部的に厚い箇所でも1.1mm以下であ
った。
膜厚は400μm以下で、モジュール全体の平均厚はl
mm以下で、局部的に厚い箇所でも1.1mm以下であ
った。
【0045】(実施例4) 本実施例では、半導体層が多結晶シリコン(μc−S
i)の光起電力素子を用いた。光起電力素子は以下の通
りに作製した。まず、スパッタ法にてCrをコーティン
グした0.125mm厚のステンレス基板上に、液層成
長法にて水素ガス雰囲気中の炉内で、純度6NのSnに
SbドープのSiを溶かした溶液から、1000℃から
900℃まで毎分2℃の速度で降温して、毎分0.4μ
mの速度で、約30μmの多結晶シリコン膜を成長させ
た。次に、プラズマCVD法で、SiH4とBF3とH2
からp型微結晶μc−Si層を堆積して接合を形成した
後、膜厚60nmのITOを抵抗加熱法で蒸着し、光起
電力素子を形成した。
i)の光起電力素子を用いた。光起電力素子は以下の通
りに作製した。まず、スパッタ法にてCrをコーティン
グした0.125mm厚のステンレス基板上に、液層成
長法にて水素ガス雰囲気中の炉内で、純度6NのSnに
SbドープのSiを溶かした溶液から、1000℃から
900℃まで毎分2℃の速度で降温して、毎分0.4μ
mの速度で、約30μmの多結晶シリコン膜を成長させ
た。次に、プラズマCVD法で、SiH4とBF3とH2
からp型微結晶μc−Si層を堆積して接合を形成した
後、膜厚60nmのITOを抵抗加熱法で蒸着し、光起
電力素子を形成した。
【0046】YAGレーザーでべアチップダイオードを
ステンレス基板に接続する部分の半導体層などを蒸発さ
せ、ステンレス基板表面を露出させたこと以外の工程は
実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
ステンレス基板に接続する部分の半導体層などを蒸発さ
せ、ステンレス基板表面を露出させたこと以外の工程は
実施例1と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
【0047】得られた太陽電池モジュールの厚みに関し
ては実施例1とほぼ同じく、樹脂の平均膜厚は100μ
m以下で、モジュール全体の平均厚は1mm以下で、局
部的に厚い箇所でも1.1mm以下であった。
ては実施例1とほぼ同じく、樹脂の平均膜厚は100μ
m以下で、モジュール全体の平均厚は1mm以下で、局
部的に厚い箇所でも1.1mm以下であった。
【0048】以上、実施例1から4から、従来直列化太
陽電池モジュールにバイパスダイオードを組み込むため
にはダイオードの厚みが2〜3mmあるため、少なくと
もダイオードを被覆するには3mm以上の厚みの樹脂が
必要であったが、本発明の構成の太陽電池モジュールで
は、全厚みを1〜2mmにすることができ、しかも樹脂
量の厚みも400μm以下にすることも可能であること
がわかった。
陽電池モジュールにバイパスダイオードを組み込むため
にはダイオードの厚みが2〜3mmあるため、少なくと
もダイオードを被覆するには3mm以上の厚みの樹脂が
必要であったが、本発明の構成の太陽電池モジュールで
は、全厚みを1〜2mmにすることができ、しかも樹脂
量の厚みも400μm以下にすることも可能であること
がわかった。
【0049】
【発明の効果】本発明の直列化太陽電池モジユールの構
成を採用することによって、太陽電池モジュールの厚み
を薄くすることが可能となり、使用する樹脂量も著しく
低減させることが可能となる。また、これによって難燃
性で軽量な太陽電池モジュールを低コストで提供するこ
とが可能となる。
成を採用することによって、太陽電池モジュールの厚み
を薄くすることが可能となり、使用する樹脂量も著しく
低減させることが可能となる。また、これによって難燃
性で軽量な太陽電池モジュールを低コストで提供するこ
とが可能となる。
【図1】(a)、(b)は、それぞれ本発明の太陽電池
モジュールの概略平面構成図と概略断面構成図である。
モジュールの概略平面構成図と概略断面構成図である。
【図2】本発明の太陽電池モジュールに用いたベアチッ
プダイオードの概略断面構成図である。
プダイオードの概略断面構成図である。
【図3】本発明の太陽電池モジュールに用いた光起電力
素子の概略断面構成図である。
素子の概略断面構成図である。
100,300 導電性基体 101 光電変換層(裏面電極/半導体層/透明導電
層) 102、202 ベアチップダイオード 103 配線材 104,105 導電性接着剤あるいはハンダ 106 保護コート材 107 絶縁材 108 透明導電層除去部 109,304 集電電極 110 バスバー 111 光起電力素子 112 単位セル 113 表面被覆材 114 補強板 115 接着剤 200 ベアチップダイオード 201,203 ダイオードの電極 301 裏面電極 302 半導体層 303 透明導電層
層) 102、202 ベアチップダイオード 103 配線材 104,105 導電性接着剤あるいはハンダ 106 保護コート材 107 絶縁材 108 透明導電層除去部 109,304 集電電極 110 バスバー 111 光起電力素子 112 単位セル 113 表面被覆材 114 補強板 115 接着剤 200 ベアチップダイオード 201,203 ダイオードの電極 301 裏面電極 302 半導体層 303 透明導電層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−69871(JP,A) 特開 昭59−94881(JP,A) 特開 昭60−240172(JP,A) 実開 昭61−1854(JP,U) 実開 昭64−18762(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 31/04
Claims (3)
- 【請求項1】 可とう性導電性基体上に光電変換層が形
成されてなる複数の光起電力素子が、配線を介して直列
に接続され、且つ前記複数の光起電力素子の内少なくと
も一つに、バイパスダイオードが設けられた太陽電池モ
ジュールにおいて、前記バイパスダイオードとしてべア
チップダイオードを前記可とう性導電性基体上に設け、
該べアチップダイオードの相対する2つの電極の内、一
方の電極を該可とう性導電性基体に電気的に接続し、他
方の電極を前記光電変換層から出る配線に電気的に接続
したこと、並びに、該べアチップダイオードが設けられ
た部分のみがエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル
樹脂、ポリイミド樹脂のいずれかから成る絶縁性材料で
部分的に封止され、更に封止された該べアチップダイオ
ード及び該光電変換層上が全体にわたって、エチレン−
酢酸ビニル共重合体及びフッ素樹脂フィルムを順に積層
した二層構造の表面被膜層で被覆されていること、を特
徴とする太陽電池モジュール。 - 【請求項2】 前記ベアチップダイオードは、前記導電
性基体及び前記配線に、導電性接着剤あるいはハンダに
より接続されたことを特徴とする請求項1記載の太陽電
池モジュール。 - 【請求項3】 前記ベアチップダイオードを封止した絶
縁性材料に、無機絶縁材料が混合されていることを特徴
とする請求項1記載の太陽電池モジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4084877A JP3070790B2 (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 太陽電池モジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4084877A JP3070790B2 (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 太陽電池モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05251724A JPH05251724A (ja) | 1993-09-28 |
JP3070790B2 true JP3070790B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=13843019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4084877A Expired - Fee Related JP3070790B2 (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 太陽電池モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3070790B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11430903B2 (en) | 2018-03-20 | 2022-08-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multi-junction solar cell module and photovoltaic system |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7253355B2 (en) | 2001-12-20 | 2007-08-07 | Rwe Schott Solar Gmbh | Method for constructing a layer structure on a substrate |
-
1992
- 1992-03-06 JP JP4084877A patent/JP3070790B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11430903B2 (en) | 2018-03-20 | 2022-08-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multi-junction solar cell module and photovoltaic system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05251724A (ja) | 1993-09-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |