JP3068352B2 - 半導体メモリ - Google Patents
半導体メモリInfo
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- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
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- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
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-
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- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Semiconductor Memories (AREA)
Description
に複数のメモリセルアレイを配列した構成のセンス増幅
回路等の駆動回路を備えたダイナミックRAM型の半導
体メモリに関する。
(以下DRAMという)では、一つのセンス増幅器に接
続されるメモリセルの数が制限されるため、またメモリ
セルのスイッチングトランジスタのゲート電極と接続す
るワード線に対して低抵抗の金属による裏打ち配線との
コンタクトをとるための領域を含むワード駆動回路を必
要とするため、もしくはメモリ容量増大等のため、図2
に示すように、メモリセルアレイを複数個に分割してい
る。
された複数のメモリセル、選択レベルのときこれら複数
のメモリセルを行単位で選択状態とする複数のワード線
WL、及び上記複数のメモリセルの各列ごとに選択状態
のメモリセルのデータを伝達する複数のビット線BLを
それぞれ備えマトリクス状に配置された複数のメモリセ
ルアレイMA11〜MA23と、これら複数のメモリセ
ルアレイMA11〜MA23のワード線WL延長方向の
各メモリセルアレイ間及び両端のメモリセルアレイの外
側にそれぞれ配置され第1のアドレス信号に従って隣接
するメモリセルアレイの所定のワード線を選択レベルに
駆動する複数のワード駆動回路WD11〜WD23と、
複数のメモリセルアレイMA11〜MA23のビット線
BL延長方向の各メモリセルアレイ間及び両端のメモリ
セルアレイの外側にそれぞれ配置され活性化状態のと
き、隣接するメモリセルアレイのビット線を所定のタイ
ミングでプリチャージするプリチャージ回路、このプリ
チャージ回路とビット線BLとの間の接続制御を行うト
ランスファ回路、及びビット線BLの信号を増幅するセ
ンス増幅回路を含む複数のセンス回路部SCa11〜S
Ca33と、これら複数のセンス回路部SCa11〜S
Ca33のワード線wLと平行に配置された各センス回
路部列の一端に設けられこれらセンス回路部を駆動して
活性化状態とする駆動回路D1〜D3とを有する構成と
なっている。
ルアレイの規模が大きくなり、1つの信号線で駆動され
る回路数が増加し信号線も長くなるなめ、この信号線の
寄生容量が増大しまた信号線の配線抵抗が増加してい
る。このため、上記DRAMでは、駆動回路に近い部分
と遠い部分とで信号の伝達時間に大きな差が生じ、遠い
部分では極めて大きな遅延を生じることになる。
うに駆動回路をセンス回路部SC11〜SC13それぞ
れに分割配置する方法がある。これにより、信号線は短
くなり、寄生容量は大幅に減少する。
C11〜SC13の選択を駆動回路Dc11〜Dc13
を行うようになっている。
イの具体的な回路例を図4に示す。この回路例ではビッ
ト線対(BL1,BL2)一系統のみが示されている。
メモリは、第1の例では、1つの駆動回路(例えばD
1)でワード線WLと平行に配置されたセンス回路部
(SCa1〜SCa13)を全て駆動するため、駆動回
路から遠いセンス回路部への信号の伝達時間が長くなり
動作速度が遅くなるという欠点があり、第2の例では、
各センス回路部を分割された駆動回路によりそれぞれ駆
動するために、信号線が短かくなり動作速度は速くな
り、また分配された駆動回路がセンス回路部例とワード
駆動回路例との交差部の空きスペースに設けられこの点
だけから見ると空きスペースを有効に活用しているかに
見えるが、駆動回路を各センス回路部と1対1で設けて
いるため、駆動回路の面積が上記交差部の空きスペース
より大きくなり、これに伴って各メモリセルアレイ間の
間隔を広げる必要が生じ、無駄なスペースが増加し全体
の面積が大きくなるという問題があった。
て全体の面積を大きくすることなく、動作速度を速くす
ることができる半導体メモリを提供することにある。
は、それぞれが、行列方向に配置された複数のメモリセ
ル、行方向に設けられた複数のワード線、および列方向
に設けられた複数のビット線を備える第1、第2、及び
第3のメモリセルアレイと、前記第1のメモリセルアレ
イに対して設けられ、当該セルアレイの複数のビット線
をプリチャージし、またはビット線に現れた電圧を増幅
する機能を有する第1のセンス回路部と、前記第2のメ
モリセルアレイに対して設けられ、当該セルアレイの複
数のビット線をプリチャージし、またはビット線に現れ
た電圧を増幅する機能を有する第2のセンス回路部と、
前記第3のメモリセルアレイに対して設けられ、当該セ
ルアレイの複数のビット線をプリチャージし、またはビ
ット線に現れた電圧を増幅する機能を有する第3のセン
ス回路部とを有し、前記第1、第2、及び第3のセンス
回路部は前記第1、第2、及び第3のメモリセルアレイ
に対しビット線方向にそれぞれ配置され、前記第1のセ
ンス回路部の一部分の回路と当該回路に対応する前記第
2のセンス回路部の一部分の回路を並列に駆動するため
に前記第1及び第2のセンス回路部の間に設けられた第
1の駆動回路と、前記第2のセンス回路部の他の部分の
回路と当該回路に対応する前記第3のセンス回路部の他
の部分の回路を並列に駆動するために前記第2及び第3
のセンス回路部の間に設けられた第2の駆動回路とを有
することを特徴とする。
説明する。
である。
メモリと相違する点は、駆動回路を、センス回路部SC
11〜SC13の第1の回路(この実施例ではセンス増
幅回路)を駆動し活性化する第1の駆動回路(Da1
1,Da12)と、第1の回路以外の第2の回路(この
実施例ではプリチャージ回路とトランスファ回路)を駆
動し活性化する第2の駆動回路(Db11,Db12)
とに分け、これら第1及び第2の駆動回路を、ワード選
WLと平行に配置された各センス回路部(SC11〜S
C13)間及び両端のセンス回路部の外側に順次交互に
配置した点にある。なお、これに伴い、選択回路SL1
は、1つのセンス回路部(例えばSC11)の全ての回
路が活性化するように、2つの駆動回路(例えばDa1
1,Db11)を選択する回路とする。
列との交差部に配置される駆動回路の面積が小さくな
り、各メモリアレイ間の間隔を広げる必要がなく、無駄
なスペースをなくすことができる。また、駆動回路Da
11,Da12,Db11,Db12は隣接するセンス
回路部を駆動するだけでよいので、駆動信号線の長さは
従来の第2の例と同様に短かく、従って動作速度を早く
することができる。
として、隣接するセンス回路部を駆動するものとしたが
センス回路部の回路構成によっては、駆動回路を3種
類、4種類等としてこれらを順次配置し、この3種類,
4種類の駆動回路で少なくとも1つのセンス回路部を駆
動,活性化することもできる。
動回路列とセンス回路部列のと交差部に、センス回路部
を部分的に分担して駆動,活性化する複数種の駆動回路
を順次設け、これら複数種の駆動回路1組で少なくとも
1つのセンス回路部を駆動、活性化する構成としたの
で、各駆動回路の面積を小さくすることができ、従って
各メモリセルアレイ間の間隔を広げる必要がなく、かつ
駆動信号線の長さを短かくすることができるので、無駄
なスペースをなくし、全体の面積を大きくすることな
く、動作速度を速くすることができる効果がある。
ある。
ある。
びメモリセルアレイの部分の具体例を示す回路図であ
る。
2,Dc11〜Dc14駆動回路 MA11〜MA13,MA21〜MA23 メモリセ
ルアレイ PC11〜PC13 プリチャージ回路 SA11〜PC13 センス増幅回路 SC11〜SC13,SCa11〜SCa13,SCa
21〜Sca23センス回路部 SL1,SLa1〜SLa3,SLb1 選択回路 TG11〜TG13 トランスファ回路 WD11〜WD14,WD21〜WD23 ワード駆
動回路 WL ワード線
Claims (2)
- 【請求項1】それぞれが、行列方向に配置された複数の
メモリセル、行方向に設けられた複数のワード線、およ
び列方向に設けられた複数のビット線を備える第1、第
2、及び第3のメモリセルアレイと、前記第1のメモリ
セルアレイに対して設けられ、当該セルアレイの複数の
ビット線をプリチャージし、またはビット線に現れた電
圧を増幅する機能を有する第1のセンス回路部と、前記
第2のメモリセルアレイに対して設けられ、当該セルア
レイの複数のビット線をプリチャージし、またはビット
線に現れた電圧を増幅する機能を有する第2のセンス回
路部と、前記第3のメモリセルアレイに対して設けら
れ、当該セルアレイの複数のビット線をプリチャージ
し、またはビット線に現れた電圧を増幅する機能を有す
る第3のセンス回路部とを有し、前記第1、第2、及び
第3のセンス回路部は前記第1、第2、及び第3のメモ
リセルアレイに対しビット線方向にそれぞれ配置され、
前記第1のセンス回路部の一部分の回路と当該回路に対
応する前記第2のセンス回路部の一部分の回路を並列に
駆動するために前記第1及び第2のセンス回路部の間に
設けられた第1の駆動回路と、前記第2のセンス回路部
の他の部分の回路と当該回路に対応する前記第3のセン
ス回路部の他の部分の回路を並列に駆動するために前記
第2及び第3のセンス回路部の間に設けられた第2の駆
動回路とを有することを特徴とする半導体メモリ。 - 【請求項2】前記センス回路部は、プリチャージ回路と
トランスファ回路とセンス増幅回路とを有することを特
徴とする請求項1記載の半導体メモリ。
Priority Applications (2)
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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Family
ID=18135978
Family Applications (1)
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- 1992-12-01 JP JP4321745A patent/JP3068352B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-12-01 US US08/159,560 patent/US5363339A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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