JP3066895B2 - 顕微鏡チルト機構 - Google Patents

顕微鏡チルト機構

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JP3066895B2
JP3066895B2 JP10351507A JP35150798A JP3066895B2 JP 3066895 B2 JP3066895 B2 JP 3066895B2 JP 10351507 A JP10351507 A JP 10351507A JP 35150798 A JP35150798 A JP 35150798A JP 3066895 B2 JP3066895 B2 JP 3066895B2
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    • F16M11/00Stands or trestles as supports for apparatus or articles placed thereon Stands for scientific apparatus such as gravitational force meters
    • F16M11/02Heads
    • F16M11/04Means for attachment of apparatus; Means allowing adjustment of the apparatus relatively to the stand
    • F16M11/06Means for attachment of apparatus; Means allowing adjustment of the apparatus relatively to the stand allowing pivoting
    • F16M11/10Means for attachment of apparatus; Means allowing adjustment of the apparatus relatively to the stand allowing pivoting around a horizontal axis
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/24Base structure

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造におけ
るベアウェハ、薄膜形成後、エッチング後、洗浄工程後
などのあらゆるプロセスに対して検査が可能な外観検査
装置に使用される顕微鏡のチルト機構に関する。
【0002】
【従来の技術】ICプロセスにおける外観検査の対象と
しては、ホトマスク、ウェハ、レチクルが主であるが、
ウェハ上のパターン欠陥検査においては、電気的特性検
査において発見できないパターン上の線幅の不同、傷、
欠け、その他諸欠陥および工程途中の抜取り検査などに
対して一般に顕微鏡検査が広く行われている。
【0003】ウェハの顕微鏡検査においては、一般的に
図12に示されるような構造となっている。即ち、X方
向、Y方向、Z方向及びθ方向に移動可能な移動ステー
ジ1上に設けられたウェハチャック2に、真空吸着等に
より検査対象のウェハ3が固定される。このウェハの上
方には、チルトサブベース4、チルトベース5、プレー
ト6を介して顕微鏡7が載置されている。顕微鏡には複
数種類の対物レンズ8が設けられており、電動レボルバ
9を回転して所定の対物レンズを検査対象のウェハ上の
検査位置に合わせる。
【0004】その際、ウェハ上の画像を鮮明かつ正確に
とらえるには、ウェハの表面と対物レンズの光軸を直角
にする必要がある。そのための調整機構としてチルト機
構が設けられている。従来、チルト機構として図13,
14に示されるものが使用されている。このチルト機構
は、チルトベース5及びチルトサブベース4とを間隔を
あけて支持するために、固定ボルト10と止めネジ11
とよりなる対の間隔調整手段をその四隅に設けている。
チルトベース5には、固定ボルト10を通すためのボル
トの外径よりも大きくて、固定ボルトのヘッドよりも小
さい貫通孔が設けられると共に、この貫通孔に隣接して
止めネジ11用のネジ孔が設けられている。またチルト
サブベース4には、固定ボルト10を受け入れるネジ孔
が設けられ、止めネジ11はチルトサブベース4上に止
められるようになっている。
【0005】このようなチルト機構において、チルトベ
ース5とチルトサブベース4との間隔を拡げる場合は、
固定ボルト10を回して固定ボルトを持ち上げて、この
固定ボルトのヘッドの下面とチルトベース上面との間に
隙間を設け、この状態で止めネジ11を回してチルトベ
ース5を上昇させて固定ボルトのヘッド下面と接触させ
るようにする。間隔を狭める場合は、前記とは逆に止め
ネジ11を逆に回してチルトベース5を下降させ、次い
で固定ボルトを同じく逆に回して固定ボルトをねじ込む
ことで行う。
【0006】このように、固定ボルト10と止めネジ1
1の両者の働きによってチルトベース5とチルトサブベ
ース4との一隅の間隔調整を行い、この操作を4点支持
であるため、四隅の4点全てを調整しなければならず、
この調整作業が非常に繁雑であった。更にまた、この調
整が困難であるためファインな調整ができなかった。そ
のうえ固定ボルト及び止めネジでの締結後の残留応力が
大きいために、経時変化が生じていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記のよう
な従来の顕微鏡のチルト機構が有している問題に鑑みて
なされたものであり、検査対象物の表面と対物レンズの
光軸との直角度の調整作業が容易に行え、そのうえ微細
で正確な調整を行えると共に、調整後の経時変化を無く
すことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するための手段として、特許請求の範囲の各項に記載
された顕微鏡チルト機構を提供する。請求項1に記載の
顕微鏡チルト機構は、チルトベースとチルトサブベース
とを3つのアジャストボルトによって3点で支持させ、
かつサポートボルトとチルトベースとの間に介在するス
プリングにより、チルトベースが常にチルトサブベース
の方に付勢すると共に、3つのアジャストボルトのうち
1つをチルトベースの一側縁の中心に配置して基準点と
して位置固定し、他の2つのアジャストボルトを2等辺
三角形を形成するようにそれぞれチルトベースの他方の
側縁に配置して、この2つのアジャストボルトを微調整
することで、容易に微細で正確なチルト調整が行えるよ
うにしている。
【0009】請求項2に記載の顕微鏡チルト機構におい
ては、スプリング力として多数の皿バネを利用すること
で重荷重のバネの付勢力を出せるようにしている。請求
項3に記載の顕微鏡チルト機構は、3つの支持点を円錐
状の受部と鋼球とで構成することにより、線接触により
荷重を支えることができるので、重い荷重にも耐えられ
るようにしている。
【0010】請求項4に記載の顕微鏡チルト機構は、基
準点となる第1のアジャストボルトに対応する円錐状座
ぐりが、チルトサブベース上に形成されることで、基準
点が固定されることになるものです。請求項5に記載の
顕微鏡チルト機構は、第2のアジャストボルトに対応す
る座ぐりをチルトサブベース上を摺動可能なボール受上
に設けることにより、第3のアジャストボルトの回転に
よる動きに合わせることができると共に、第2のアジャ
ストボルトの姿勢にも合わせることができるようにして
いる。
【0011】請求項6に記載の顕微鏡チルト機構は、第
3のアジャストボルトに対応するチルトサブベース上の
座ぐりを、第1と第3のアジャストボルトを結ぶ線に沿
って長溝に形成することによって、チルト調整時に第3
のアジャストボルトの回転に伴う回転力によるチルトベ
ースとチルトサブベースとのずれ力を減殺している。請
求項7に記載の顕微鏡チルト機構は、第2と第3のアジ
ャストボルトと螺合するようにチルトベースに嵌合され
た筒体を設けることにより、チルトベースにねじ山を設
ける必要がなく、チルト調整の繰り返しによりねじ山が
つぶれても、大きな部品であるチルトベースを交換する
必要がなく、筒体の交換で済ませることができてメンテ
ナンスに優れ、コストを節減できる。
【0012】請求項8に記載の顕微鏡チルト機構は、チ
ルトベースとチルトサブベースとの側縁間に板バネを設
けることにより、この両者のずれの防止に一層役立つも
のである。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態である
顕微鏡チルト機構について説明する。図1は、本発明の
顕微鏡チルト機構の平面図である。従来と同様にチルト
サブベース4上にチルトベース5が載っており、更にそ
の上に顕微鏡7を載置したプレート6が載っている。図
2は、図1のチルト機構のII−II線に沿って断面図であ
り、図3は同じく図1のIII −III 線に沿う断面図であ
り、チルト機構を明確にするためプレート6及び顕微鏡
7が省略されている。図2においては、3つの第1〜3
のアジャストボルト30a,30b,30cと1つのサ
ポートボルト20が組み込まれているのが示されてお
り、図3においては2つのアジャストボルト30a,3
0cと1つのサポートボルト20が組み込まれているの
が示されている。
【0014】図4はチルトベース5の平面図であり、図
5は、図4のチルトベースのV−V線に沿う断面図であ
る。図4,5から解るように、チルトベース5は長方形
状であってその三方の側縁が中央部よりも突出した形状
となっており、その中央部には顕微鏡のための開口が設
けられている。またチルトベース5の三方の側縁には、
それぞれ4個のサポートボルト20用の開口21と1つ
のアジャストボルト30用の開口31が設けられてお
り、そのうち基準となる第1のアジャストボルト30a
用の開口31aは、真中の側縁の中心に穿孔されてお
り、他の第2、第3のアジャストボルト30b,30c
用の開口31bは、それぞれ基準の第1のアジャストボ
ルト30aから同一距離の左右の側縁に穿孔されてい
る。
【0015】図6はチルトサブベースの平面図である。
チルトサブベース4は、口字状の形状をしており、チル
トベース5の三方の側縁に対応する側部には、それぞれ
4つのサポートボルト20用のねじ穴22が設けられる
と共に、基準の第1のアジャストボルト30aに対応す
る位置には、円錐状の座ぐり32aが形成され、更に第
3のアジャストボルト30cに対応する位置には、図6
に示されるように第1と第3のアジャストボルトを結ぶ
線に沿って、両端が半円錐状で中間が断面V字状の長溝
32cが形成されている。
【0016】図7は、サポートボルト20の据付構造の
拡大断面図である。サポートボルト20は、大径のねじ
なし部20aと小径のねじ部20bとを有している。チ
ルトベース5のサポートボルト20用の開口21は、該
ねじなし部20aの径よりは大きい大径部と小径部とを
もつ段状に形成されており、この段部に複数枚の皿バネ
23をそろばん玉状に構成したスプリングが組み込まれ
ている。サポートボルト20の先端部の小径のねじ部2
0bは、チルトベース5とチルトサブベース4間に介在
する板バネ24の長孔25を貫通して、チルトサブベー
ス4のねじ穴22に螺合する。これによってチルトベー
ス5は、皿バネ23の付勢力によってチルトサブベース
4の方に常に付勢されている。なお、この実施の形態で
はサポートボルトは側縁に4つずつ設けられているが、
この数は適宜変えられるものである。
【0017】次に図8,9,10を参照してアジャスト
ボルト30の据付構造について説明する。図8は、基準
となる第1のアジャストボルト30aの据付構造の拡大
断面図である。チルトベース5には、その側縁の中心に
第1のアジャストボルト30aを螺合する開口31(ね
じ穴)が貫通して形成されており、チルトサブベース4
上には、第1のアジャストボルト30aが対応する位置
に円錐状の座ぐり32aが形成されている。また第1の
アジャストボルト30aの先端部には、円錐状の凹部3
3が形成されており、この凹部33と該座ぐり32aと
の間で鋼球34が挾持されている。更に第1のアジャス
トボルト30aをロックするためのロックナット35が
設けられている。
【0018】図9は、第2のアジャストボルト30bの
据付構造の拡大断面図である。0.35mm〜0.5mm程
の小さなピッチのねじ山が付されている第2のアジャス
トボルト30bの先端部には、第1のアジャストボルト
と同様に円錐状の凹部33が設けられており、この凹部
33と、チルトサブベース4上に載置された四方に摺動
可能なボール受36に形成された円錐状の座ぐり32b
との間で鋼球34が挾持される。チルトベース5の開口
31bには、第2のアジャストボルト30bと螺合する
内周面にねじ山が形成された筒体37が嵌入されてい
る。この筒体37は、一端にリング状のフランジが形成
されており、ボルトによりこのフランジでチルトベース
5に固定されると共に、この筒体37の外周部には、リ
ング状に断面V字状の溝38が形成され、チルトベース
5に形成された横孔39からねじ込まれた止めネジ40
の円錐状先端が、該溝38に係合するようになってい
る。この止めネジ40の円錐状先端の傾斜面と該溝38
の傾斜面との係合により、筒体37を下方に押すように
している。またこの第2のアジャストボルト30bに
も、第1のアジャストボルト30aと同様にロックナッ
ト35が設けられており、第2のアジャストボルト30
bを適切な位置でロックするようになっている。
【0019】図10は、第3のアジャストボルト30c
の据付構造の拡大断面図である。この据付構造は、基本
的には第2のアジャストボルト30bの据付構造と同じ
であるが、ボール受36が存在しない点と、座ぐりの形
状が異なっている点で違っている。第3のアジャストボ
ルト30cに対応する座ぐりは、チルトサブベース4上
に直接に形成されており、しかもその形状は、図6に示
されるように第1と第3のアジャストボルト30aと3
0cとを結ぶ線に沿って形成された両端が半円錐状で中
間が断面V字状の長溝32cである。このように鋼球3
4の座ぐりを長溝32cとすることにより、鋼球34は
長溝に沿って移動しようとする力が生じ、チルト調整に
よる第3のアジャストボルト30cの回転に伴う回転力
によって生じるチルトベース5とチルトサブベース4と
のずれ力を減殺することができる。
【0020】図11は、チルトベース5とチルトサブベ
ース4との側縁間に設置される板バネ24の平面図であ
る。この板バネ24には、サポートボルト20を貫通さ
せる長孔25と、該板バネをチルトベース及びチルトサ
ブベースに固着するための鋲用の小孔26が穿孔されて
いる。この板バネ24は、チルトベースとチルトサブベ
ースとのずれを防止するための一助となっている。また
本発明の顕微鏡チルト機構の材料としては、ヒートサイ
クルがはげしいとずれが生じ易いので、温度変化に影響
の少ない低膨張材料を使用することが好ましい。
【0021】以上のように構成された本発明の顕微鏡チ
ルト機構は、チルト調整においては、第1のアジャスト
ボルトを基準点として固定し、第2又は第3のアジャス
トボルトを回転することのみによってチルト調整を行
う。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように本発明の顕微鏡チル
ト機構においては、1つ又は2つのアジャストボルトを
回転するだけでチルト調整が容易に行え、またチルトベ
ースとチルトサブベースとのずれも防止できて、ファイ
ンな調整が行える。また、円錐状受部と鋼球による線接
触により支持しているため、重荷重に耐えられる。更に
チルト調整に繰り返し使用するアジャストボルトに螺合
するねじ山が、チルトベースに設けられていないため、
ねじ山のつぶれ等によるチルトベースの交換が必要でな
く、筒体を交換すれば良いからメンテナンスに優れてい
る。かつスプリングにより常にチルトベースを付勢して
おり、調整後の経時変化を無くすことができる等の多く
の利点を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の顕微鏡チルト機構の平面
図である。
【図2】図1の顕微鏡チルト機構をII−II線に沿って切
断した断面図であり、簡明にするために顕微鏡とプレー
トとを省略している。
【図3】図1の顕微鏡チルト機構をIII −III 線に沿っ
て切断した断面図であり、簡明にするために顕微鏡とプ
レートとを省略している。
【図4】本発明の顕微鏡チルト機構に使用するチルトベ
ースの平面図である。
【図5】図4のチルトベースのV−V線に沿って切断し
た断面図である。
【図6】本発明の顕微鏡チルト機構に使用するチルトサ
ブベースの平面図である。
【図7】本発明の顕微鏡チルト機構のサポートボルトの
据付構造の拡大断面図である。
【図8】本発明の顕微鏡チルト機構の基準となる第1の
アジャストボルトの据付構造の拡大断面図である。
【図9】本発明の顕微鏡チルト機構の第2のアジャスト
ボルトの据付構造の拡大断面図である。
【図10】本発明の顕微鏡チルト機構の第3のアジャス
トボルトの据付構造の拡大断面図である。
【図11】本発明の顕微鏡チルト機構に使用する板バネ
の平面図である。
【図12】半導体ウェハの検査装置に使用する顕微鏡チ
ルト機構の概念説明図である。
【図13】従来の顕微鏡チルト機構の概略斜視図であ
る。
【図14】図9の顕微鏡チルト機構の拡大した部分縦断
面図である。
【符号の説明】 4…チルトサブベース 5…チルトベース 7…顕微鏡 20…サポートボルト 23…皿バネ 24…板バネ 30a,30b,30c…アジャストボルト 32a,32b,32c…座ぐり 34…鋼球 36…ボール受 37…筒体 40…止めネジ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−241329(JP,A) 特開 昭60−123028(JP,A) 実開 昭56−114540(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 21/00 G02B 21/06 - 21/36 B25H 1/18 G12B 9/08 H01L 21/027 H01L 21/64 - 21/66

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体製造装置及び検査装置に使用され
    る顕微鏡チルト機構において、このチルト機構が、 顕微鏡が載置されるプレートと、該プレートが固定され
    るチルトベースと、該チルトベースを側縁に沿って支え
    るチルトサブベースとを有していて、該チルトベースの
    3つの側縁のそれぞれに1個所ずつ設けられた3つのア
    ジャストボルトによって、該チルトベースが該チルトサ
    ブベースに対して垂直方向に間隔を開けた状態で3点支
    持されると共に、該チルトベースの側縁に沿って設けら
    れた複数個のサポートボルトと該チルトベースとの間に
    介在するスプリングによって、該チルトベースは該チル
    トサブベースの方に間隔が開けられた状態で常に付勢さ
    れ、かつ3つのアジャストボルトのうち第1のアジャス
    トボルトを、該チルトベースの一側縁の中心に配置して
    基準点として位置固定し、他の2つのアジャストボルト
    である第2、第3のアジャストボルトをそれぞれ、該一
    側縁の両端部に連なる側縁であって、第1のアジャスト
    ボルトからそれぞれ等距離に配置して、チルト調整にお
    いては、第2、第3のアジャストボルトの微調節により
    行うことを特徴とする顕微鏡チルト機構。
  2. 【請求項2】 前記スプリングが多数の皿バネをそろば
    ん玉状に積み重ねたものであることを特徴とする請求項
    1に記載の顕微鏡チルト機構。
  3. 【請求項3】 前記第1、第2、第3のアジャストボル
    トの先端を円錐状凹部に形成すると共に、前記チルトサ
    ブベース及びボール受上にも座ぐりを形成し、該凹部と
    該座ぐりとの間に鋼球を配置することを特徴とする請求
    項1又は2に記載の顕微鏡チルト機構。
  4. 【請求項4】 前記第1のアジャストボルトに対応する
    円錐状座ぐりが、前記チルトサブベース上に形成されて
    いることを特徴とする請求項3に記載の顕微鏡チルト機
    構。
  5. 【請求項5】 前記第2のアジャストボルトに対応する
    円錐状座ぐりが、前記チルトサブベース上に四方に摺動
    可能に載せられた前記ボール受上に形成されていること
    を特徴とする請求項3又は4に記載の顕微鏡チルト機
    構。
  6. 【請求項6】 前記第3のアジャストボルトに対応する
    座ぐりが、前記チルトサブベース上に形成され、該座ぐ
    りが、第1と第3のアジャストボルトを結ぶ線に沿って
    設けられた、両端が半円錐状で中間が断面V字状の長溝
    であることを特徴とする請求項3〜5のいずれか一項に
    記載の顕微鏡チルト機構。
  7. 【請求項7】 前記第2と第3のアジャストボルトが、
    これらと螺合するように前記チルトベースに嵌合された
    筒体と、該筒体を止める止めネジと、該アジャストボル
    トを固定するロックナットとを更に備えていることを特
    徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の顕微鏡チ
    ルト機構。
  8. 【請求項8】 前記チルトベースと前記チルトサブベー
    スとの側縁間に更に板バネを設けたことを特徴とする請
    求項1〜7のいずれか1項に記載の顕微鏡チルト機構。
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