JP3065534B2 - 充填層式排ガス処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、充填（てん）層式
排ガス処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、排ガス等の被処理ガスに対して吸
着、分解、ろ過等の処理を施してダスト、有害成分等を
除去する充填層式排ガス処理装置においては、反応塔内
に形成された移動層又は固定層に炭素質吸着剤、ゼオラ
イト、カルシウム質吸着剤、セラミックボール、鉄球、
チタン系触媒、アルミナ系触媒等の粉粒体が充填され、
被処理ガスを反応塔の側方から供給し、移動層又は固定
層内を通過させて、ダスト、有害成分等を除去するよう
にしている。なお、粉粒体としては、１〜３０〔ｍｍ〕
の大きさのものが使用される。

【０００３】図２は従来の反応塔の第１の例を示す斜視
図、図３は従来の充填層式排ガス処理装置の概略図、図
４は図３のＸ−Ｘ断面図である。図において、１１は内
部に一対の充填層としての移動層１０が形成された反応
塔であり、角錐（すい）形状の上部ホッパ１２、該上部
ホッパ１２の下端と連結された断面が矩（く）形状の胴
部１３、及び該胴部１３の下端と連結された角錐形状の
下部ホッパ１４から成る。そして、前記上部ホッパ１２
は上端に供給口１５を、前記下部ホッパ１４は下端に排
出口１６を有し、前記供給口１５から投入された粉粒体
は、上部ホッパ１２、移動層１０及び下部ホッパ１４内
を下方に移動し、排出口１６から外部に排出される。

【０００４】なお、該排出口１６から排出された粉粒体
は、搬送ライン４０ａを介して再生塔３８に送られ、該
再生塔３８によって再生された後、搬送ライン４０ｂを
介して再び反応塔１１に供給される。また、前記胴部１
３は、側壁の一方に被処理ガスを供給するための被処理
ガス供給部１８を、側壁の他方に被処理ガスを排出する
ための被処理ガス排出部２０をそれぞれ有する。そし
て、前記胴部１３内において、被処理ガス供給部１８か
らガス導入分配空間部３５に供給された被処理ガスは、
左右に分流され、各移動層１０内を水平に通過し、ガス
排出集合空間部３６に集められ、被処理ガス排出部２０
から排出される。

【０００５】また、前記移動層１０は、入口側に充填層
入口側ルーバ１０ａを、出口側に充填層出口側ルーバ１
０ｂをそれぞれ有する。前記充填層入口側ルーバ１０ａ
及び充填層出口側ルーバ１０ｂはいずれも一定の傾斜角
で配設された複数の傾斜板から成り、被処理ガスが通過
することができるようにしてある。なお、通常、前記移
動層１０は複数の仕切板４１によって分割される。

【０００６】前記各移動層１０の下端、すなわち、下部
ホッパ１４内には、移動層１０のレベルを一定に調整し
ながら排出口１６から定量ずつ粉粒体を排出するための
一対の切出装置２２が配設される。したがって、移動層
１０内の粉粒体は一定の速度で下方に移動し、その間に
被処理ガスが処理される。図５は従来の反応塔の第２の
例を示す概念図、図６は図５のＹ−Ｙ断面図、図７は図
５のＺ−Ｚ断面図である。なお、従来の反応塔の第１の
例と同じ構造の部分については、同じ符号を付与するこ
とによってその説明を省略する。

【０００７】この場合、図において、１１は内部に一対
の充填層としての移動層１０が形成された反応塔であ
り、胴部１３の下端に一対の下部ホッパ１４が配設さ
れ、各下部ホッパ１４内にコンベア式の切出装置４２が
配設される。したがって、移動層１０の下端に到達した
粉粒体は、切出装置４２によって水平方向に切り出され
る。

【０００８】次に、固定層を備えた反応塔について説明
する。図８は従来の反応塔の第３の例を示す概念図、図
９は図８のＶ−Ｖ断面図である。なお、従来の反応塔の
第１の例と同じ構造の部分については、同じ符号を付与
することによってその説明を省略する。図において、１
１は内部に充填層としての固定層３２が形成された反応
塔であり、該反応塔１１の胴部１３は、側壁の一方に被
処理ガスを供給するための被処理ガス供給部１８を、側
壁の他方に被処理ガスを排出するための被処理ガス排出
部２０をそれぞれ有する。そして、前記胴部１３内にお
いて、被処理ガス供給部１８からガス導入分配空間部３
５に供給された被処理ガスは、前記固定層３２内を水平
に通過し、ガス排出集合空間部３６を介して被処理ガス
排出部２０から排出される。

【０００９】また、前記固定層３２は、入口側に充填層
入口側ルーバ３２ａを、出口側に充填層出口側ルーバ３
２ｂをそれぞれ有するとともに、複数の仕切板４１によ
って分割される。図１０は従来の反応塔の第４の例を示
す概念図、図１１は図１０のＷ−Ｗ断面図である。な
お、従来の反応塔の第３の例と同じ構造の部分について
は、同じ符号を付与することによってその説明を省略す
る。

【００１０】図において、１１は内部に一対の充填層と
しての固定層３２が形成された反応塔であり、該反応塔
１１の胴部１３は、側壁の一方に被処理ガスを供給する
ための被処理ガス供給部１８を、側壁の他方に被処理ガ
スを排出するための被処理ガス排出部２０をそれぞれ有
する。そして、前記胴部１３内において、被処理ガス供
給部１８からガス導入分配空間部３５に供給された被処
理ガスは、左右に分流され、前記固定層３２内を水平に
通過し、ガス排出集合空間部３６に集められ、被処理ガ
ス排出部２０から排出される。

【００１１】図１２は従来の反応塔の第５の例を示す概
念図、図１３は図１２のＵ−Ｕ断面図である。なお、従
来の反応塔の第３の例と同じ構造の部分については、同
じ符号を付与することによってその説明を省略する。こ
の場合、図において、１１は内部に充填層としての環状
の固定層３３が形成された反応塔であり、該反応塔１１
の胴部１３は、底壁に被処理ガスを供給するための被処
理ガス供給部１８を、側壁に被処理ガスを排出するため
の被処理ガス排出部２０をそれぞれ有する。そして、前
記胴部１３内において、被処理ガス供給部１８からガス
導入分配空間部３５に供給された被処理ガスは、前記固
定層３３内を水平に通過し、ガス排出集合空間部３６に
集められ、被処理ガス排出部２０から排出される。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の充填層式排ガス処理装置においては、充填層として
の移動層１０、固定層３２、３３内には、図示しない温
度計、中間多孔板等の付属品が配設されているので、該
各付属品の摩耗、損傷等の有無を点検するなど、充填層
内を保守・管理する必要がある。そして、そのために
は、充填層内の粉粒体を抜き出す必要があるので、抜き
出された粉粒体をコンテナバッグに詰めて系外に一時的
に保管するか、又は別に設置されたパージ槽（抜出充填
物用サイロ）に保管しなければならない。

【００１３】したがって、充填層内を保守・管理するた
めに、広大なコンテナバックの置場を確保したり、通常
の運転中は使用することのないパージ槽を設けなければ
ならない。本発明は、前記従来の充填層式排ガス処理装
置の問題点を解決して、充填層内を容易に保守・管理す
ることができる充填層式排ガス処理装置を提供すること
を目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】そのために、本発明の充
填層式排ガス処理装置においては、粉粒体が充填され、
被処理ガスの入口側に充填層入口側ルーバが、出口側に
充填層出口側ルーバがそれぞれ配設された充填層と、被
処理ガスを前記充填層に供給するための被処理ガス供給
部と、前記充填層において処理が施された被処理ガスを
排出するための被処理ガス排出部と、前記充填層と被処
理ガス供給部との間に形成されたガス導入分配空間部
と、前記充填層と被処理ガス排出部との間に形成された
ガス排出集合空間部と、粉粒体入口部から前記ガス導入
分配空間部及びガス排出集合空間部の少なくとも一方に
粉粒体を供給するラインとを有する。

【００１５】本発明の他の充填層式排ガス処理装置にお
いては、さらに、前記ガス導入分配空間部及びガス排出
集合空間部の少なくとも一方の底部から粉粒体を充填層
側に戻すための連通口を有する。本発明の更に他の充填
層式排ガス処理装置においては、さらに、前記ガス導入
分配空間部及びガス排出集合空間部の少なくとも一方の
底板における、充填層入口ルーバ側及び充填層出口ルー
バ側の少なくとも一方に向けた傾斜角は、粉粒体の安息
角以上である。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
第１の実施の形態における充填層式排ガス処理装置の概
略図、図１４は図１のＡ−Ａ断面図、図１５は図１４の
Ｃ−Ｃ断面図、図１６は図１の部分Ｂの拡大図である。

【００１７】図において、５１は内部に一対の充填層と
しての移動層５２が形成された反応塔であり、断面が矩
形状の胴部３３、及び該胴部３３の下端と連結された角
錐形状の下部ホッパ５８から成る。そして、前記胴部３
３の上方に粉粒体入口部としての供給ホッパ６１が配設
され、該供給ホッパ６１から供給された粉粒体は、ライ
ンｄ１、ｄ２を介して各移動層５２に供給され、該各移
動層５２及び下部ホッパ５８内を下方に移動し、排出口
５９から外部に排出される。

【００１８】なお、本実施の形態においては、図１４に
示すように、前記移動層５２は複数の仕切板４１によっ
て各区画領域ａ１〜ａ８に分割される。したがって、供
給ホッパ６１と各区画領域ａ１〜ａ４との間を接続する
ために４本のラインｄ１（図１には、そのうち１本だけ
を示す。）が、供給ホッパ６１と各区画領域ａ５〜ａ８
との間を接続するために４本のラインｄ２（図１には、
そのうち１本だけを示す。）がそれぞれ配設され、各ラ
インｄ１、ｄ２にバルブｖ１、ｖ２がそれぞれ配設され
る。なお、必要に応じて、各区画領域ａ１〜ａ８のうち
の２個以上の区画領域に、共通のラインを介して粉粒体
を供給することができる。

【００１９】また、前記胴部３３は、側壁の一方に被処
理ガスを供給するための被処理ガス供給部１８を、側壁
の他方に被処理ガスを排出するための被処理ガス排出部
２０をそれぞれ有する。そして、前記胴部３３内におい
て、被処理ガス供給部１８からガス導入分配空間部３５
に供給された被処理ガスは、左右に分流され、各移動層
５２内を水平に通過し、ガス排出集合空間部３６に集め
られ、各被処理ガス排出部２０から排出される。

【００２０】また、前記移動層５２は、入口側に充填層
入口側ルーバ３０を、出口側に充填層出口側ルーバ３１
をそれぞれ有する。前記充填層入口側ルーバ３０及び充
填層出口側ルーバ３１は、いずれも粉粒体は通過しない
が、被処理ガスは通過することができるようにしてあ
る。一方、前記移動層５２の下端、すなわち、下部ホッ
パ５８内には、移動層５２のレベルを一定に調整しなが
ら排出口５９から定量ずつ粉粒体を排出するための切出
装置２２が配設される。したがって、移動層５２内の粉
粒体は一定の速度で下方に移動し、その間に被処理ガス
が処理される。

【００２１】そして、前記移動層５２内において被処理
ガスを処理した後、粉粒体は、排出口５９から排出さ
れ、搬送ライン４０ａを介して再生塔３８に送られ、該
再生塔３８によって再生された後、搬送ライン４０ｂを
介して再び反応塔５１に供給される。ところで、前記移
動層５２内には、図示しない温度計、中間多孔板等の付
属品が配設されているので、各付属品の摩耗、損傷等の
有無を点検するなど、移動層５２内を保守・管理する場
合、移動層５２内の粉粒体を抜き出す必要がある。

【００２２】そこで、移動層５２から抜き出された粉粒
体を前記ガス導入分配空間部３５又はガス排出集合空間
部３６に貯留することができるようになっている。その
ために、前記ガス導入分配空間部３５は、中央に配設さ
れた補助ルーバ５３によって区画され、粉粒体貯留用空
間３５ａ、３５ｂが形成され、前記各ガス排出集合空間
部３６は、中央に配設された各補助ルーバ５４によって
区画され、粉粒体貯留用空間３６ａ〜３６ｄが形成され
る。また、前記被処理ガス供給部１８と粉粒体貯留用空
間３５ａとの間に補助ルーバ５５が、被処理ガス排出部
２０と粉粒体貯留用空間３６ｂ、３６ｄとの間に補助ル
ーバ５６がそれぞれ配設される。該各補助ルーバ５３〜
５６は、いずれも粉粒体を通過させないが、被処理ガス
を通過させるように、一定の傾斜角及びピッチで配設さ
れた複数の傾斜板で構成されるか、又は多孔プレート等
で構成される。

【００２３】また、供給ホッパ６１と各粉粒体貯留用空
間３５ａ、３５ｂとの間を接続するために２本のライン
ｄ３（図１には、そのうち１本だけを示す。）が、供給
ホッパ６１と各粉粒体貯留用空間３６ａ、３６ｂとの間
を接続するために２本のラインｄ４（図１には、そのう
ち１本だけを示す。）が、供給ホッパ６１と各粉粒体貯
留用空間３６ｃ、３６ｄとの間を接続するために２本の
ラインｄ５（図１には、そのうち１本だけを示す。）が
それぞれ配設され、各ラインｄ３〜ｄ５にバルブｖ３〜
ｖ５がそれぞれ配設される。

【００２４】したがって、図示しない制御装置によって
前記バルブｖ１、ｖ２を選択的に閉鎖することによっ
て、任意の区画領域ａ１〜ａ８への粉粒体の供給を停止
させ、該当する区画領域ａ１〜ａ８内の粉粒体を抜き取
ることができる。そして、抜き取られた粉粒体は、排出
口５９から排出された後、搬送ライン４０ａを介して再
生塔３８に供給され、搬送ライン４０ｂを介して供給ホ
ッパ６１に供給される。

【００２５】また、前記制御装置によって前記バルブｖ
３〜ｖ５を選択的に開放することにより、任意の粉粒体
貯留用空間３５ａ、３５ｂ、３６ａ〜３６ｄに貯留する
ことができる。本実施の形態においては、まず、区画領
域ａ７、ａ８に対応する２個のバルブｖ２を閉鎖するこ
とによって粉粒体の供給を停止させ、図１４に示すよう
に、区画領域ａ７、ａ８内の粉粒体を抜き取る。次に、
粉粒体貯留用空間３５ａに対応するバルブｖ３を開放し
て粉粒体貯留用空間３５ａに粉粒体を貯留する。このと
き、粉粒体貯留用空間３５ａに対面する充填層ａ１、ａ
２、ａ５、ａ６には粉粒体が充填されているので、粉粒
体が充填層入口側ルーバ３０を通って充填層ａ１、ａ
２、ａ５、ａ６に流入することはない。

【００２６】このようにして、前記区画領域ａ７、ａ８
内を容易に保守・管理することができる。そして、前記
粉粒体貯留用空間３５ａ、３５ｂ、３６ａ〜３６ｄに貯
留された粉粒体は、各粉粒体貯留用空間３５ａ、３５
ｂ、３６ａ〜３６ｄの底部の出口側と移動層５２の出口
側との間を連通する連通口４８を介して移動層５２に戻
され、移動層５２内の粉粒体と共に排出される。したが
って、各粉粒体貯留用空間３５ａ、３５ｂ、３６ａ〜３
６ｄ内の粉粒体を排出するために特別のバルブを配設す
る必要がない。

【００２７】なお、前記連通口４８は、粉粒体が容易に
通過することができるような幅及び高さを有する。ま
た、通常の運転中に移動層５２内の粉粒体が、連通口４
８を介して前記粉粒体貯留用空間３５ａ、３５ｂ、３６
ａ〜３６ｄ内に進入するのを防止するとともに、粉粒体
貯留用空間３５ａ、３５ｂ、３６ａ〜３６ｄに一時的に
貯留された粉粒体を完全に移動層５２に戻すことができ
るように、前記粉粒体貯留用空間３５ａ、３５ｂ、３６
ａ〜３６ｄの各底板は、例えば、図１６の部分Ｐで示す
ように、移動層５２の出口側に向けて傾斜させられる。
この場合、各底壁の傾斜角は粉粒体の安息角以上にす
る。

【００２８】なお、図１の一点鎖線で示すように、前記
粉粒体貯留用空間３６ｃ、３６ｄの下端を下方に膨出さ
せ、ラインｄ６を介して搬送ライン４０ａと接続し、ラ
インｄ６に配設されたバルブｖ６を開放することによっ
て前記粉粒体貯留用空間３６ｃ、３６ｄ内の粉粒体を排
出することもできる。次に、本発明の第２の実施の形態
について説明する。

【００２９】図１７は本発明の第２の実施の形態におけ
る充填層式排ガス処理装置の概略図、図１８は図１７の
Ｄ−Ｄ断面図、図１９は図１８のＥ−Ｅ断面図である。
なお、本発明の第１の実施の形態と同じ構造を有するも
のについては、同じ符号を付与することによってその説
明を省略する。図において、５１は内部に一対の充填層
としての移動層５２が形成された反応塔であり、該反応
塔５１の胴部３３の下端に一対の下部ホッパ５８が配設
され、該各下部ホッパ５８内にコンベア式の切出装置４
２が配設される。したがって、移動層５２の下端に到達
した粉粒体は、切出装置４２によって水平方向に切り出
される。

【００３０】そして、前記胴部３３の上方に供給ホッパ
６１が配設され、該供給ホッパ６１から供給された粉粒
体は、ラインｄ１、ｄ２を介して各移動層５２に供給さ
れ、該各移動層５２及び下部ホッパ５８内を下方に移動
し、切出装置４２を介して排出口５９から外部に排出さ
れる。なお、本実施の形態においては、図１８に示すよ
うに、前記移動層５２は複数の仕切板４１によって各区
画領域ａ１〜ａ８に分割される。したがって、供給ホッ
パ６１と各区画領域ａ１〜ａ４との間を接続するために
４本のラインｄ１（図７には、そのうち１本だけを示
す。）が、供給ホッパ６１と各区画領域ａ５〜ａ８との
間を接続するために４本のラインｄ２（図７には、その
うち１本だけを示す。）がそれぞれ配設され、各ライン
ｄ１、ｄ２にバルブｖ１、ｖ２がそれぞれ配設される。
なお、必要に応じて、各区画領域ａ１〜ａ８のうちの２
個以上の区画領域に、共通のラインを介して粉粒体を供
給することができる。

【００３１】また、前記胴部３３は、側壁の一方に被処
理ガスを供給するための被処理ガス供給部１８を、側壁
の他方に被処理ガスを排出するための被処理ガス排出部
２０をそれぞれ有する。そして、前記胴部３３内におい
て、被処理ガス供給部１８からガス導入分配空間部３５
に供給された被処理ガスは、左右に分流され、各移動層
５２内を水平に通過し、ガス排出集合空間部３６ｆ、３
６ｇに集められ、被処理ガス排出部２０から排出され
る。

【００３２】また、前記移動層５２は、入口側に充填層
入口側ルーバ３０を、出口側に充填層出口側ルーバ３１
をそれぞれ有する。そして、前記ガス導入分配空間部３
５が中央に配設された補助ルーバ５３によって区画さ
れ、粉粒体貯留用空間３５ａ、３５ｂが形成され、前記
被処理ガス供給部１８と粉粒体貯留用空間３５ａとの間
に補助ルーバ５５が、被処理ガス排出部２０とガス排出
集合空間部３６ｆ、３６ｇとの間に補助ルーバ５６がそ
れぞれ配設される。この場合、ガス排出集合空間部３６
ｆ、３６ｇは粉粒体貯留用空間として使用される。

【００３３】また、供給ホッパ６１とガス導入分配空間
部３５との間を接続するために２本のラインｄ３（図１
７には、そのうち１本だけを示す。）が、供給ホッパ６
１とガス排出集合空間部３６ｆとの間を接続するために
ラインｄ４が、供給ホッパ６１とガス排出集合空間部３
６ｇとの間を接続するためにラインｄ５がそれぞれ配設
され、各ラインｄ３〜ｄ５にバルブｖ３〜ｖ５がそれぞ
れ配設される。

【００３４】したがって、図示しない制御装置によって
前記バルブｖ１、ｖ２を選択的に閉鎖することによっ
て、任意の区画領域ａ１〜ａ８への粉粒体の供給を停止
させ、該当する区画領域ａ１〜ａ８内の粉粒体を抜き取
ることができる。そして、抜き取られた粉粒体は、排出
口５９から排出された後、再び供給される。また、前記
制御装置によって前記バルブｖ３〜ｖ５を選択的に開放
することにより、任意のガス導入分配空間部３５又はガ
ス排出集合空間部３６ｆ、３６ｇに粉粒体を貯留するこ
とができる。

【００３５】本実施の形態においては、まず、区画領域
ａ５〜ａ８に対応する４個のバルブｖ２を閉鎖すること
によって粉粒体の供給を停止させ、図１８に示すよう
に、区画領域ａ５〜ａ８内の粉粒体を抜き取る。次に、
粉粒体貯留用空間３５ａに対応するバルブｖ３及びガス
排出集合空間部３６ｆに対応するバルブｖ４を開放して
粉粒体貯留用空間３５ａ及びガス排出集合空間部３６ｆ
に粉粒体を貯留する。

【００３６】このようにして、前記区画領域ａ５〜ａ８
内を容易に保守・管理することができる。なお、図１７
の一点鎖線で示すように、前記ガス排出集合空間部３６
ｇの下端を下方に膨出させ、バルブｖ６を配設すること
もできる。次に、本発明の第３の実施の形態について説
明する。

【００３７】図２０は本発明の第３の実施の形態におけ
る充填層式排ガス処理装置の概略図、図２１は図２０の
Ｆ−Ｆ断面図である。なお、本発明の第１の実施の形態
と同じ構造を有するものについては、同じ符号を付与す
ることによってその説明を省略する。図において、７１
は内部に充填層としての固定層７２が形成された反応塔
であり、該反応塔７１の胴部７３は、側壁の一方に被処
理ガスを供給するための被処理ガス供給部１８を、側壁
の他方に被処理ガスを排出するための被処理ガス排出部
２０をそれぞれ有する。そして、前記胴部７３内におい
て、被処理ガス供給部１８からガス導入分配空間部３５
に供給された被処理ガスは、前記固定層７２内を水平に
通過し、ガス排出集合空間部３６を介して被処理ガス排
出部２０から排出される。

【００３８】また、前記固定層７２は、入口側に充填層
入口側ルーバ３０を、出口側に充填層出口側ルーバ３１
をそれぞれを有するとともに、複数の仕切板４１によっ
て各区画領域ａ１１〜ａ１６に分割される。そして、該
各区画領域ａ１１〜ａ１６の入口側及び出口側にそれぞ
れ６本のラインｄ１１、ｄ１４（図２０には、そのうち
１本だけを示す。）が配設され、各ラインｄ１１、ｄ１
４にバルブｖ１１、ｖ１４が配設される。また、前記ラ
インｄ１１とラインｄ１４との間がライン７５によって
連結され、閉ループが形成される。なお、ライン７５に
はコンベア、空気輸送装置等が使用される。

【００３９】ところで、前記ガス導入分配空間部３５及
びガス排出集合空間部３６は、粉粒体貯留用空間として
も使用される。そのために、前記被処理ガス供給部１８
とガス導入分配空間部３５との間に補助ルーバ５５が、
被処理ガス排出部２０とガス排出集合空間部３６との間
に補助ルーバ５６がそれぞれ配設される。また、ガス導
入分配空間部３５の入口側及び出口側にラインｄ１２、
ｄ１５が、ガス排出集合空間部３６の入口側及び出口側
にラインｄ１３、ｄ１６がそれぞれ配設され、各ライン
ｄ１２、ｄ１３、ｄ１５、ｄ１６にバルブｖ１２、ｖ１
３、ｖ１５、ｖ１６がそれぞれ配設される。そして、前
記ラインｄ１２、ｄ１３とラインｄ１５、ｄ１６との間
がライン７５によって連結され、閉ループが形成され
る。

【００４０】したがって、図示しない制御装置によって
前記バルブｖ１１を選択的に閉鎖し、前記バルブｖ１４
を開放することによって、任意の区画領域ａ１１〜ａ１
６への粉粒体の供給を停止させ、該当する区画領域ａ１
１〜ａ１６内の粉粒体を抜き取ることができる。そし
て、前記制御装置によって前記バルブｖ１２、ｖ１３を
選択的に開放することにより、任意の区画領域ａ１１〜
ａ１６から抜き取られた粉粒体をガス導入分配空間部３
５又はガス排出集合空間部３６に貯留することができ
る。

【００４１】本実施の形態においては、まず、バルブｖ
１１を閉鎖することによって粉粒体の供給を停止させ、
バルブｖ１４を開放することによって、図２１に示すよ
うに、区画領域ａ１１〜ａ１６内の粉粒体を抜き取る。
次に、バルブｖ１２を開放してガス導入分配空間部３５
に粉粒体を貯留する。このようにして、前記区画領域ａ
１１〜ａ１６内を容易に保守・管理することができる。

【００４２】次に、本発明の第４の実施の形態について
説明する。図２２は本発明の第４の実施の形態における
充填層式排ガス処理装置の概略図、図２３は図２２のＧ
−Ｇ断面図、図２４は図２３のＨ−Ｈ断面図である。な
お、第３の実施の形態と同じ構造を有するものについて
は、同じ符号を付与することによってその説明を省略す
る。

【００４３】図において、７１は内部に充填層としての
固定層７２が形成された反応塔であり、該反応塔７１の
胴部７３は、側壁の一方に被処理ガスを供給するための
被処理ガス供給部１８を、側壁の他方に被処理ガスを排
出するための被処理ガス排出部２０をそれぞれ有する。
そして、前記胴部７３内において、被処理ガス供給部１
８からガス導入分配空間部３５に供給された被処理ガス
は、前記固定層７２内を水平に通過し、ガス排出集合空
間部３６を介して被処理ガス排出部２０から排出され
る。

【００４４】また、前記固定層７２は、入口側に充填層
入口側ルーバ３０を、出口側に充填層出口側ルーバ３１
をそれぞれ有するとともに、複数の仕切板４１によって
各区画領域ａ２１〜ａ２４に分割される。そして、該各
区画領域ａ２１〜ａ２４の入口側及び出口側にそれぞれ
４本のラインｄ１１、ｄ１４（図２２には、そのうち１
本だけを示す。）が配設され、各ラインｄ１１、ｄ１４
にバルブｖ１１、ｖ１４が配設される。また、前記ライ
ンｄ１１とラインｄ１４との間がライン７５によって連
結され、閉ループが形成される。なお、ライン７５には
コンベア、空気輸送装置等が使用される。

【００４５】ところで、前記ガス導入分配空間部３５及
びガス排出集合空間部３６は、粉粒体貯留用空間として
も使用される。そのために、前記ガス導入分配空間部３
５が中央に配設された補助ルーバ５３によって区画さ
れ、粉粒体貯留用空間３５ａ、３５ｂが形成され、前記
ガス排出集合空間部３６が中央に配設された補助ルーバ
５４によって区画され、粉粒体貯留用空間３６ａ、３６
ｂが形成される。また、前記被処理ガス供給部１８と粉
粒体貯留用空間３５ａとの間に補助ルーバ５５が、被処
理ガス排出部２０と粉粒体貯留用空間３６ｂとの間に補
助ルーバ５６がそれぞれ配設される。

【００４６】そして、粉粒体貯留用空間３５ａ、３５ｂ
の入口側及び出口側にそれぞれ２本のラインｄ１２、ｄ
１５（図２２には、そのうち１本だけを示す。）が、粉
粒体貯留用空間３６ａ、３６ｂの入口側及び出口側にそ
れぞれ２本のラインｄ１３、ｄ１６（図２２には、その
うち１本だけを示す。）が配設され、各ラインｄ１２、
ｄ１３、ｄ１５、ｄ１６にバルブｖ１２、ｖ１３、ｖ１
５、ｖ１６がそれぞれ配設される。また、前記ラインｄ
１２、ｄ１３とラインｄ１５、ｄ１６とがライン７５に
よって連結され、閉ループが形成される。

【００４７】したがって、図示しない制御装置によって
前記バルブｖ１１を選択的に閉鎖し、前記バルブｖ１４
を開放することによって、任意の区画領域ａ２１〜ａ２
４への粉粒体の供給を停止させ、該当する区画領域ａ２
１〜ａ２４内の粉粒体を抜き取ることができる。そし
て、前記制御装置によって前記バルブｖ１２、ｖ１３を
選択的に開放することにより、任意の区画領域ａ２１〜
ａ２４から抜き取られた粉粒体を任意の粉粒体貯留用空
間３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂに貯留することがで
きる。

【００４８】本実施の形態においては、まず、バルブｖ
１１を閉鎖することによって粉粒体の供給を停止させ、
バルブｖ１４を開放することによって、図２３に示すよ
うに、区画領域ａ２１、ａ２２内の粉粒体を抜き取る。
次に、バルブｖ１２、ｖ１３を開放して粉粒体貯留用空
間３５ｂ、３６ｂに粉粒体を貯留する。このようにし
て、前記区画領域ａ２１、ａ２２内を容易に保守・管理
することができる。

【００４９】次に、本発明の第５の実施の形態について
説明する。図２５は本発明の第５の実施の形態における
充填層式排ガス処理装置の概略図、図２６は図２５のＩ
−Ｉ断面図、図２７は図２６のＪ−Ｊ断面図である。な
お、本発明の第３の実施の形態と同じ構造の部分につい
ては、同じ符号を付与することによってその説明を省略
する。

【００５０】図において、７１は内部に充填層としての
環状の固定層８２が形成された反応塔である。該固定層
８２は、入口側に充填層入口側ルーバ３０を、出口側に
充填層出口側ルーバ３１をそれぞれ有するとともに、複
数の仕切板４１によって各区画領域ａ３１〜ａ３８に分
割される。そして、該各区画領域ａ３１〜ａ３８の入口
側及び出口側にそれぞれ８本のラインｄ２１、ｄ２２が
配設され、各ラインｄ２１、ｄ２２にバルブｖ２１、ｖ
２２が配設される。また、前記ラインｄ２１とラインｄ
２２との間がライン７５によって連結され、閉ループが
形成される。

【００５１】そして、胴部７３は、底壁に被処理ガスを
供給するための被処理ガス供給部１８を、側壁に被処理
ガスを排出するための被処理ガス排出部２０をそれぞれ
有する。また、前記胴部７３内において、被処理ガス供
給部１８からガス導入分配空間部３５に供給された被処
理ガスは、前記固定層８２内を水平に通過し、ガス排出
集合空間部３６に集められ、被処理ガス排出部２０から
排出される。

【００５２】ところで、前記ガス導入分配空間部３５及
びガス排出集合空間部３６は、粉粒体貯留用空間として
も使用される。そのために、前記ガス排出集合空間部３
６が複数の区画ルーバ５４ａ〜５４ｈによって区画さ
れ、粉粒体貯留用空間３６ｈ〜３６ｏが形成される。ま
た、各粉粒体貯留用空間３６ｈ〜３６ｏの入口側及び出
口側にそれぞれ８本のラインｄ２３、ｄ２４（図２５に
は、そのうち２本だけを示す。）が配設され、各ライン
ｄ２３、ｄ２４にバルブｖ２３、ｖ２４がそれぞれ配設
される。そして、前記ラインｄ２３とラインｄ２４とが
ライン７５によって連結され、閉ループが形成される。

【００５３】したがって、図示しない制御装置によって
前記バルブｖ２１を選択的に閉鎖し、前記バルブｖ２２
を開放することによって、任意の区画領域ａ３１〜ａ３
８への粉粒体の供給を停止させ、該当する区画領域ａ３
１〜ａ３８内の粉粒体を抜き取ることができる。そし
て、前記制御装置によって前記バルブｖ２３を選択的に
開放することにより、任意の区画領域ａ３１〜ａ３８か
ら抜き取られた粉粒体を任意の粉粒体貯留用空間３６ｈ
〜３６ｏに貯留することができる。

【００５４】本実施の形態においては、まず、バルブｖ
２１を閉鎖することによって粉粒体の供給を停止させ、
バルブｖ２２を開放することによって、図２６に示すよ
うに、区画領域ａ３５〜ａ３８内の粉粒体を抜き取る。
次に、バルブｖ２３を開放して粉粒体貯留用空間３６ｈ
〜３６ｋに粉粒体を貯留する。このようにして、前記区
画領域ａ３５〜ａ３８内を容易に保守・管理することが
できる。

【００５５】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させ
ることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除す
るものではない。

【００５６】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、充填層式排ガス処理装置においては、粉粒体が充
填され、被処理ガスの入口側に充填層入口側ルーバが、
出口側に充填層出口側ルーバがそれぞれ配設された充填
層と、被処理ガスを前記充填層に供給するための被処理
ガス供給部と、前記充填層において処理が施された被処
理ガスを排出するための被処理ガス排出部と、前記充填
層と被処理ガス供給部との間に形成されたガス導入分配
空間部と、前記充填層と被処理ガス排出部との間に形成
されたガス排出集合空間部と、粉粒体入口部から前記ガ
ス導入分配空間部及びガス排出集合空間部の少なくとも
一方に粉粒体を供給するラインとを有する。

【００５７】この場合、被処理ガスは、被処理ガス供給
部からガス導入分配空間部に供給され、該ガス導入分配
空間部を介して充填層に供給され、該充填層に充填され
た粉粒体によって処理される。そして、処理された後の
被処理ガスは、ガス排出集合空間部を介して被処理ガス
排出部に供給され、該被処理ガス排出部から排出され
る。

【００５８】また、前記ガス導入分配空間部及びガス排
出集合空間部の少なくとも一方の出口側と充填層の入口
側とがラインによって接続されるので、前記充填層から
粉粒体を抜き出し、抜き出された粉粒体を前記ガス導入
分配空間部及びガス排出集合空間部の少なくとも一方に
貯留することができる。したがって、充填層内を容易に
保守・管理することができる。

【００５９】本発明の他の充填層式排ガス処理装置にお
いては、さらに、前記ガス導入分配空間部及びガス排出
集合空間部の少なくとも一方の底部から粉粒体を充填層
側に戻すための連通口を有する。この場合、充填層内の
保守・管理が終了すると、前記ガス導入分配空間部及び
ガス排出集合空間部の少なくとも一方に貯留された粉粒
体は、前記連通口を介して充填層の出口側に供給され、
該充填層の出口側から充填層内の粉粒体と共に排出され
る。

【００６０】したがって、各粉粒体貯留用空間内の粉粒
体を排出するために特別のバルブを配設する必要がな
い。本発明の更に他の充填層式排ガス処理装置において
は、さらに、前記ガス導入分配空間部及びガス排出集合
空間部の少なくとも一方の底板における、充填層入口ル
ーバ側及び充填層出口ルーバ層の少なくとも一方に向け
た傾斜角は、粉粒体の安息角以上である。

【００６１】この場合、通常の運転中に充填層内の粉粒
体が、連通口を介して前記粉粒体貯留用空間内に進入す
るのを防止することができるとともに、粉粒体貯留空間
に一時的に貯留された粉粒体は完全に充填層に戻すこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態における充填層式排
ガス処理装置の概略図である。

【図２】従来の反応塔の第１の例を示す斜視図である。

【図３】従来の充填層式排ガス処理装置の概略図であ
る。

【図４】図３のＸ−Ｘ断面図である。

【図５】従来の反応塔の第２の例を示す概念図である。

【図６】図５のＹ−Ｙ断面図である。

【図７】図５のＺ−Ｚ断面図である。

【図８】従来の反応塔の第３の例を示す概念図である。

【図９】図８のＶ−Ｖ断面図である。

【図１０】従来の反応塔の第４の例を示す概念図であ
る。

【図１１】図１０のＷ−Ｗ断面図である。

【図１２】従来の反応塔の第５の例を示す概念図であ
る。

【図１３】図１２のＵ−Ｕ断面図である。

【図１４】図１のＡ−Ａ断面図である。

【図１５】図１４のＣ−Ｃ断面図である。

【図１６】図１の部分Ｂの拡大図である。

【図１７】本発明の第２の実施の形態における充填層式
排ガス処理装置の概略図である。

【図１８】図１７のＤ−Ｄ断面図である。

【図１９】図１８のＥ−Ｅ断面図である。

【図２０】本発明の第３の実施の形態における充填層式
排ガス処理装置の概略図である。

【図２１】図２０のＦ−Ｆ断面図である。

【図２２】本発明の第４の実施の形態における充填層式
排ガス処理装置の概略図である。

【図２３】図２２のＧ−Ｇ断面図である。

【図２４】図２３のＨ−Ｈ断面図である。

【図２５】本発明の第５の実施の形態における充填層式
排ガス処理装置の概略図である。

【図２６】図２５のＩ−Ｉ断面図である。

【図２７】図２６のＪ−Ｊ断面図である。

【符号の説明】

１８ 被処理ガス供給部 ２０ 被処理ガス排出部 ３０ 充填層入口側ルーバ ３１ 充填層出口側ルーバ ３５ ガス導入分配空間部 ３６ ガス排出集合空間部 ４０ａ、４０ｂ 搬送ライン ４８ 連通口 ５２ 移動層 ７２、８２ 固定層 ｄ１〜ｄ６、ｄ１１〜ｄ１６、ｄ２１〜ｄ２４、７５
ライン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 53/08 Ｂ０１Ｄ 53/08 53/81 ＺＡＢ (56)参考文献 特開 平１−299621（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−114716（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−220721（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−136445（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 53/34 B01D 46/30 B01D 46/38 B01D 53/02 B01D 53/04 B01D 53/08 B01D 53/81

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）粉粒体が充填され、被処理ガスの
   入口側に充填層入口側ルーバが、出口側に充填層出口側
   ルーバがそれぞれ配設された充填層と、（ｂ）被処理ガ
   スを前記充填層に供給するための被処理ガス供給部と、
   （ｃ）前記充填層において処理が施された被処理ガスを
   排出するための被処理ガス排出部と、（ｄ）前記充填層
   と被処理ガス供給部との間に形成されたガス導入分配空
   間部と、（ｅ）前記充填層と被処理ガス排出部との間に
   形成されたガス排出集合空間部と、（ｆ）粉粒体入口部
   から前記ガス導入分配空間部及びガス排出集合空間部の
   少なくとも一方に粉粒体を供給するラインとを有するこ
   とを特徴とする充填層式排ガス処理装置。
2. 【請求項２】 前記ガス導入分配空間部及びガス排出集
   合空間部の少なくとも一方の底部から粉粒体を充填層側
   に戻すための連通口を有する請求項１に記載の充填層式
   排ガス処理装置。
3. 【請求項３】 前記ガス導入分配空間部及びガス排出集
   合空間部の少なくとも一方の底板における、充填層入口
   ルーバ側及び充填層出口ルーバ側の少なくとも一方に向
   けた傾斜角は、粉粒体の安息角以上である請求項２に記
   載の充填層式排ガス処理装置。