JP3506234B2 - 粉粒体供給装置及び排ガス処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、粉粒体供給装置及
び排ガス処理装置に関し、特に、粉粒体を下方へ供給す
る粉粒体供給装置、及び、その粉粒体供給装置を備える
排ガス処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の粉粒体供給装置としては、汎用の
粉体ホッパの他に、例えば、本出願人による特開平８−
３３２３４７号公報に記載の乾式脱硫・脱硝装置を構成
する触媒（粉粒体）の供給部が挙げられる。この触媒の
供給部は、上部分配ホッパに複数のパイプ式シュートが
結合されたものであり、これらのシュートの下方に配置
された移動層内における触媒の粒度分布の均一化を図る
ものである。また、これにより、排ガスの偏流が十分に
防止され、排ガスの処理効率の低下が十分に抑制され
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記公報に
記載の乾式脱硫・脱硝装置は、上述のような優れた効果
を奏するものであり、排ガス処理性能の観点からは十分
に満足のいくものである。これに対し、本発明者らは、
その従来装置について、鋭意検討及び研究を重ねた結
果、僅かではあるが装置の稼動に伴ってシュートが徐々
に摩耗し易い傾向にあることを見出した。このような事
象は、乾式脱硫・脱硝装置における排ガス処理性能を大
きく左右するものではないが、装置を構成する部材の交
換頻度を低減して保守性及び経済性を向上させる観点か
らは、この点について更なる改善が望ましいとの結論に
達した。

【０００４】そこで、本発明はこのような事情に鑑みて
なされたものであり、粉粒体を供給する際の摩耗を低減
できる粉粒体供給装置を提供することを目的とする。ま
た、本発明は、排ガスの偏流を十分に防止しつつ、装置
を構成する部材の交換頻度を低減して保守性及び経済性
を向上できる排ガス処理装置を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者は更に検討を重ねた結果、シュートの摩耗
は、触媒等の粉粒体が流動するシュート面とその粉粒体
との動的な接触（摩擦、擦過等）が主要因の一つである
ことを見出した。また、このような摩耗を防止するに
は、摩耗防止用のライナ材をシュート面に設けるといっ
たこと等が容易に考えられるが、部材構成の複雑化及び
部材コストの増大を招くと共に、将来的にはライナ材自
体の摩耗が問題となる。そして、これらの知見に基づい
て鋭意研究を行い、本発明を完成するに至った。

【０００６】すなわち、本発明による粉粒体供給装置
は、粉粒体を下方へ供給するものであって、水平に対し
て所定の角度を有して延在する主板部と、この主板部上
に突設しており主板部の延在方向に沿って所定の間隔を
有して配置された複数の副板部とを有し、且つ、粉粒体
が供給されるシュートを備えることを特徴とする。

【０００７】このように構成された粉粒体供給装置にお
いては、シュートの主板部に粉粒体が供給されると、主
板部が水平に対して所定の角度を有している、つまり傾
斜して配置されているので、粉粒体は主板部に沿って流
下する。その粉粒体の一部は、主板部から突設する複数
の副板部に妨げられて（遮断されて）堰き止められ、主
板部と副板部との交絡部上に堆積する。これにより、主
板部及び副板部の上面全体が粉粒体で覆われ得るので、
更に供給される粉粒体は、主板部及び副板部と直接的且
つ動的に接触することなく、堆積した粉粒体上を溢流且
つ滑落するようにシュートに沿って流下する。

【０００８】また、粉粒体がシュート上に沿って流下し
得るので、主板部の上方を開放した構造が可能である。
この場合、従来のパイプ式シュートを用いたものに比し
て閉塞する可能性が低くなる。さらに、粉粒体供給装置
全体の周囲を蓋や筐体で覆ってもよい。こうすれば、万
一、シュートに破孔、破断等が生じた場合でも、粉粒体
が外部へ散逸したり、ガスを用いたシステムに適用して
もそのガスが外部へ漏出することを防止され得る。

【０００９】また、主板部が下記式（１）； θａ≦θｓ≦θａ＋３０゜ …（１） で表される関係を満たすように設けられていると好まし
い。ここで、式中、θａは粉粒体が形成する安息角を示
し、θｓは主板部が水平方向に対して成す上記の所定の
角度を示す。このようにすれば、粉粒体の流動性の低下
が抑えられると共に、粉粒体の流下速度が過度に増大す
ることを防止できる。

【００１０】さらに、副板部が下記式（２）； Ｌｐ≦Ｈ×４ …（２） で表される関係を満たすように設けられているとより好
ましい。ここで、式中、Ｌｐは複数の副板部の上記所定
の間隔を示し、Ｈは副板部の主板部面からの高さを示
す。こうすることにより、主板部の上面全体に粉粒体が
堆積し易くなり、主板部上面の露呈が抑えられ、粉粒体
との動的接触に起因するシュートの摩耗を確実に防止で
きる。

【００１１】またさらに、シュートを複数備えており、
複数のシュートをそれら各シュートの上端部において連
結するステージと、ステージの上方に設けられ、粉粒体
が導入されるホッパ部とを更に備えると好適である。

【００１２】一般に、粒度分布を有する粉粒体が自由落
下すると、その粒度分布、材質、形状等に依存した安息
角をもった自由表面を構成するように集積する。このと
き、粒径が大きいものは周辺部へ、粒径が小さいものは
中心部に集まる傾向にある。シュートから落下した粉粒
体も同様の傾向を示すので、シュートから下方に供給さ
れて集積した粉粒体は、全体として粒径の不均一が生じ
る。こうなると、粉粒体の供給対象が例えば乾式脱硫・
脱硝装置である場合に、従来公報に記載されているよう
に、ガスの偏流が発生するおそれがある。

【００１３】これに対し、複数のシュートを適宜配置す
ることにより、粉粒体を複数の箇所から供給できるの
で、集積する粉粒体における全体的な粒径の不均一を緩
和又は防止できる。また、それらのシュートを上端部に
おいてステージで連結し、ホッパ部からそのステージ上
に粉粒体を導入すると、ステージ上に堆積した粉粒体が
溢出して各シュートに略均等に供給される。よって、各
シュートから下方へ供給される粉粒体の量及び粒度の均
一化が良好に図られる。

【００１４】このとき、ホッパ部が、水平方向に沿う設
置位置を調節可能な調節しろを有するとことが望まし
い。このように構成すれば、ホッパ部からの粉粒体の落
下位置をステージの中心に合わせることが簡易となる。
これにより、粉粒体を各シュートへより均等に供給でき
る利点がある。したがって、各シュートから下方へ供給
される粉粒体の量及び粒度の更なる均一化を図り得る。

【００１５】また、本発明による排ガス処理装置は、排
ガスが流通し、その排ガスの吸着能又は分解能を有する
粉粒体が流動する移動層と、移動層の上方に設けられた
複数の本発明の粉粒体供給装置とを備えるものである。

【００１６】ここで、粉粒体としては、活性炭等の炭素
質吸着材、触媒等が用いられると好ましい。このように
構成された排ガス処理装置においては、粉粒体が本発明
の粉粒体供給装置から移動層に供給され、この移動層を
排ガスが流通して粉粒体の吸着能により吸着され、又
は、粉粒体の分解能により分解される。そして、上述の
如く、粉粒体の供給に際して粉粒体供給装置のシュート
の摩耗が十分に抑制されるので、シュートの交換頻度が
低減されることにより装置寿命が延長され、ひいては装
置の保守性及び経済性を向上できる。

【００１７】また、粉粒体は、元来又は排ガス処理装置
の運転に伴って、その粒径が例えば１〜９ｍｍ程度の間
に広く分布したものとなる場合がある。このような粒度
分布を有する粉粒体が排ガス処理装置内で循環使用され
るときに、本発明のシュートを複数有する本発明の粉粒
体供給装置を用いれば、移動層における排ガスの偏流を
抑えることが可能となる。

【００１８】好ましくは、移動層が、略鉛直方向に延び
る区画壁により区画された複数の領域から成り、粉粒体
供給装置のシュートが、下記式（３）； ０．２≦Ｌａ／Ｌｂ≦０．５ …（３）、 で表される関係を満たすように設けられると有用であ
る。ここで、式中、Ｌａはシュートの幅を示し、Ｌｂ
は、領域の水平断面において、排ガスが流通する方向に
直交する方向の幅を示す。

【００１９】この場合、粉粒体供給装置のシュートから
下方に供給された粉粒体は、移動層の複数の領域に流入
し、それらの各領域内を移動（流下）する。つまり、粉
粒体は移動層内の各領域を分流する。このとき、シュー
トが上記式（３）の関係を満たすと、粉粒体が各領域へ
均一に分配され易くなり、各領域を流動する粉粒体の粒
径分布の均等化が達成され易い。よって、特定の領域を
排ガスが流通するといった排ガスの偏流を十分に抑止で
きる。

【００２０】なお、本発明で「粉粒体」とは、粉状叉は
粒状を成す複数の固体粒子（例えば、活性炭等の炭素質
吸着材粒子、触媒粒子等）を示し、それら固体粒子の集
合体叉は凝集体であってもよく、幾何学的叉は立体的な
形状は特に限定されず、例えば、球形、円柱形、円筒
形、等の形状を有するものが挙げられる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
詳細に説明する。なお、同一の要素には同一の符号を付
し、重複する説明を省略する。また、上下左右等の位置
関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づ
くものとする。

【００２２】図１は、本発明による排ガス処理装置を模
式的に示す構成図である。排ガス処理装置１００は、吸
着反応塔１１０と脱離再生塔１２０とを備えたものであ
り、これらの間には、コンベア等の移送機１３１，１３
２が設置されている。移送機１３１，１３２は、各々の
一端部がそれぞれ吸着反応塔１１０の下方及び上方に位
置するように、且つ、各々の他端部がそれぞれ脱離再生
塔１２０の上方及び下方に位置するように配置されてい
る。これらの移送機１３１，１３２は、後述する炭素質
吸着材を吸着反応塔１１０及び脱離再生塔１２０間で移
送するためのものである。また、吸着反応塔１１０及び
脱離再生塔１２０には、その炭素質吸着材が上端部から
供給され、それぞれの内部を流下して下端部から外部へ
排出されるようになっている。

【００２３】また、吸着反応塔１１０は、その側壁に排
ガス供給部１８及び処理済ガス排出部２０を有してい
る。この排ガス供給部１８には、排ガスＷが導入され
る。排ガスＷは、吸着反応塔１１０の内部を横断するよ
うに流通する間に、炭素質吸着材による脱硫（ＳＯｘ成
分の吸着）、及び、除塵等が行われ、処理済ガスＷｓと
して処理済ガス排出部２０からスタック（煙突）１４０
へ送られる。なお、排ガスＷと共にアンモニア等の還元
態窒素Ｎを吸着反応塔１１０に供給すると、排ガスＷの
脱硝（ＮＯｘ成分の分解）を行うことも可能である。

【００２４】脱離再生塔１２０内で排ガスＷ中のＳＯｘ
成分を吸着した炭素質吸着材は、移送機１３１により脱
離再生塔１２０へ送出され、脱離再生塔１２０内で加熱
によりＳＯｘ成分が脱離される。脱離されて言わば濃縮
されたＳＯｘガスは、回収部１５０において副生品（硫
酸等）にて回収される。また、脱離再生塔１２０の下端
部と移送機１３２の他端部との間には、ふるい分機１６
０が設置されている。脱離再生塔１２０で再生された炭
素質吸着材は、このふるい分機１６０で粒径による選別
が行われ、所定の寸法以上の粒径を有する炭素質吸着材
が移送機１３２によって吸着反応塔１１０に返送され
る。

【００２５】図２は、図１に示す排ガス処理装置１００
の要部（吸着反応塔）の構造を模式的に示す斜視図（一
部破断図）である。吸着反応塔１１０は、錐状を成す上
部ホッパ１２の下方に断面矩形の胴部１３が連結され、
この胴部１３の下方に逆錐状（漏斗状）を成す下部ホッ
パ１４が連結されたものである。また、胴部１３の内部
には、対向して互いに平行に配置された一対の移動層１
０，１０が形成されている。

【００２６】さらに、上部ホッパ１２の上端部には、粒
状活性炭等の炭素質吸着材１７（粉粒体）が導入される
供給口１５が設けられている。一方、下部ホッパ１４の
下端部には、炭素質吸着材１７の排出口１６が設けられ
ている。供給口１５を通して上部ホッパ１２に供給され
た炭素質吸着材１７は、各移動層１０及び下部ホッパ１
４を流下し、排出口１６から吸着反応塔１１０の外部に
排出される。上述した移送機１３１，１３２（図１参
照）は、それぞれ排出口１６の下方、及び、供給口１５
の上方に配置されている。

【００２７】またさらに、排ガス供給部１８及び処理済
ガス排出部２０は、それぞれ胴部１３の側壁の一方及び
他方に配設されている。排ガス供給部１８から胴部１３
内に導入された排ガスＷは、供給方向に向かって左右に
分流され、各移動層１０内を流通し、処理済ガスＷｓと
なって処理済ガス排出部２０内で合流し、そこから排出
される。

【００２８】また、移動層１０は、入口ルーバ１０ａ及
び出口ルーバ１０ｂによってそれらの間に画成された空
間である。入口ルーバ１０ａは、流下する炭素質吸着材
１７が通り抜けて外部へ流出しないような開口構造を有
しており、一方、出口ルーバ１０ｂは多孔プレートから
成るものである。なお、出口ルーバ１０ｂの各孔の径
も、流下する炭素質吸着材１７が通り抜けて外部へ流出
することがないような径とされている。このような構造
により、炭素質吸着材１７が移動層１０内を確実に流下
し、排ガスＷ及び処理済ガスＷｓが各移動層１０を通過
できるようにされている。さらに、入口ルーバ１０ａと
出口ルーバ１０ｂとの間には、それらに略直交するよう
に且つ所定の間隔で複数の隔壁９（区画壁）が設置され
ている。これらにより、移動層１０が複数の領域に区画
されている。

【００２９】また、各移動層１０の下端部には、図示し
ない駆動系によって回転されるロールフィーダー等の切
出装置２２が複数配設されている。これらの切出装置２
２は、移動層１０内の炭素質吸着材１７の充填レベルを
一定に調整しながら、排出口１６から炭素質吸着材１７
を定量ずつ排出するためのものである。このような構成
により、各移動層１０内の炭素質吸着材１７を、所望の
一定速度で流下させることが可能となる。

【００３０】図３は、図２におけるIII−III線断面図
（一部省略）であり、主として吸着反応塔１１０を構成
する上部ホッパ１２の内部構成を示すものである。ま
た、図４は、図３におけるIV−IV線断面図である。な
お、図４においては、上部ホッパ１２の描画を省略し
た。さらに、図５は、図３におけるＶ−Ｖ線断面図であ
る。

【００３１】図示の如く、上部ホッパ１２の内部には、
内部ホッパ２（ホッパ部）と複数（本実施形態では四
基）のシュート３とから成る偏析防止装置１（粉粒体供
給装置）が設けられている。内部ホッパ２は、逆錘状
（漏斗状）を成し且つ炭素質吸着材１７が供給される供
給部２ａの下部に、略筒状を成す排出部２ｂが連通して
設けられたものである。また、内部ホッパ２は、水平方
向に調節しろＣを有しており、調節しろＣの範囲で適宜
位置決めされ、所定の位置に固定されている。この調節
しろＣの値としては、特に限定されないが、例えば、部
材の設置精度を考慮すると、内部ホッパ２の断面中心が
東西南北方向に±５０ｍｍ程度調整できる値であると好
ましい。

【００３２】また、シュート３は、板状を成す複数の副
板４２（副板部）が突設された主板４１（主板部）の両
縁に側板４３が結合されたものである。これらのシュー
ト３は、それらの上端部においてステージ５を介して連
結され、放射状に延びている。図４においては、四基の
シュート３のうち二基ずつが、各移動層１０の上方に下
端部が位置するように配置されている。なお、一つの移
動層１０に対してシュート３が二基以上設置されている
と好適である。

【００３３】また、入口ルーバ１０ａと出口ルーバ１０
ｂとの間に形成され各移動層１０は、先に述べたよう
に、多孔プレート１０ｃ，１０ｄにより排ガスＷの流通
方向にそって区画されており、上述した複数の隔壁９に
より移動層１０の長手方向に更に区分けされている。さ
らに、移動層１０，１０は、塔頂部及び傾斜面を有する
凸状部材１２ａを介して入口ルーバ１０ａの上端部で連
結されている。

【００３４】以下、このように構成された排ガス処理装
置１００における偏析防止装置１の作用について説明す
る。図１に示す移送機１３２で移送されてきた炭素質吸
着材１７叉は新たに排ガス処理装置に追加される炭素質
吸着材１７は、上部ホッパ１２の供給口１５から上部ホ
ッパ１２内へ落下等により連続的に導入される。この炭
素質吸着材１７は、供給部２ａから内部ホッパ２に供給
され、その内部を通って排出部２ｂからステージ５上の
中央部へ落下する。炭素質吸着材１７は、ステージ５上
で主としてその粒度分布により決定される安息角を有す
る自由表面を形成して山状に堆積する（図３及び図５に
示す集積体１７ａ（粉粒体）参照）。

【００３５】ステージ５上に更に供給された炭素質吸着
材１７は、集積体１７ａの表面上から溢流し、シュート
３の上端部へ供給され、シュート３の傾斜により主板４
１に沿って流下する。ここで、図６は、シュート３の要
部を示すと共に炭素質吸着材１７がシュート３を流下し
ている状態を模式的に示す断面図（一部省略）である。
流下する炭素質吸着材１７の一部は、その流動を最上方
に位置する副板４２によって妨げられ、主板４１と各副
板４２との接合部（交絡部）付近における上流側に堆積
する。

【００３６】このとき、堆積した炭素質吸着材１７の集
積体１７ｃ（粉粒体）の表面は、上述した粒度分布で決
定される安息角θａを有する自由表面を形成する。最上
方の副板４２で堰き止められなくなった炭素質吸着材１
７は、集積体１７ｃ上を滑落するように流下し、より下
流に位置する副板４２に妨げられ、順次各副板４２の上
流側に堆積する。やがて、炭素質吸着材１７は、全ての
副板４２で堰き止められ、主板４１及び副板４２の上面
が全体的に炭素質吸着材１７で覆われる。更に供給され
る炭素質吸着材１７は、集積体１７ｃ上をシュート３に
沿って下方に滑走（滑落）する。

【００３７】これにより、炭素質吸着材１７は、シュー
ト３から下方に落下し、各移動層１０の所定領域上に供
給される。通常の定常運転状態では、このように供給さ
れた炭素質吸着材１７は、移動層１０内全体に充填され
つつ、各領域に応じた流下速度で連続的且つ定量的に移
動層１０から排出される。よって、上部ホッパ１２内部
における移動層１０の直上方の空間には炭素質吸着材１
７が所定量充填された状態が維持される。そして、その
充填レベルに応じて、炭素質吸着材１７がシュート３か
ら溢れ出るレベルが異なり、且つ、移動層１０の上方に
おいても安息角で決定される自由表面を有する山状に堆
積し（図３及び図５に示す集積体１７ｂ（粉粒体）参
照）、その後、移動層１０内へ流動する。

【００３８】ここで、シュート３を構成する主板４１
は、好ましくは下記式（１）； θａ≦θｓ≦θａ＋３０゜ …（１）、 より好ましくは、下記式（４）； θａ≦θｓ≦θａ＋２０゜ …（４）、 特に好ましくは、下記式（５）； θａ≦θｓ≦θａ＋１０゜ …（５）、 で表される関係を満たすように設けられている。ここ
で、式中、θａは炭素質吸着材１７が形成する安息角
（°）を示し、θｓは主板４１が水平方向に対して成す
所定の角度（°）を示す。安息角θａの具体例として
は、粒径が１〜９ｍｍ程度の粒度分布を有する炭素質吸
着材１７としての円柱状を成す粒状活性炭の場合には、
約３２°となる。ただし、数値はこれに限定されない。

【００３９】このθｓがθａ未満であると、炭素質吸着
材１７はシュート３上に堆積するのみで、シュート３上
を流下し難くなる。一方、θｓがθａ＋３０°を超える
と、炭素質吸着材１７の流下速度が過度に（不必要に）
増大され、シュート３の下端部から下方に排出される炭
素質吸着材１７が胴部１３の側壁側に偏ってしまうおそ
れがある。

【００４０】また、主板４１から突設する副板４２は、
好ましくは下記式（２）； Ｌｐ≦Ｈ×４ …（２）、 より好ましくは下記式（６）； Ｈ≦Ｌｐ≦Ｈ×２ …（６）、 で表される関係を満たすように設けられる。ここで、式
中、Ｌｐは副板４２間の間隔（配置間隔）を示し、Ｈは
副板４２の主板４１面からの高さＨを示す。具体的に
は、炭素質吸着材１７として粒径が１〜９ｍｍ程度の粒
度分布を有する円柱状を成す粒状活性炭が流下する場合
には、例えばＨを５０ｍｍ程度とし、Ｌｐを１８５ｍｍ
程度にすることができる。ただし、数値はこれらに限定
されない。

【００４１】このＬｐがＨ×４を超過すると、主板４１
の上面全体が炭素質吸着材１７で覆われ難くなり、よっ
て主板４１の一部が露呈してしまうおそれがある。こう
なると、流動する炭素質吸着材１７と主板４１との動的
な接触が生じる傾向にある。また、ＬｐがＨを下回る
と、副板４２の員数が増大してコスト上不利となり、ま
た、副板４２による炭素質吸着材１７の流動抵抗が不適
当に増大してしまうことがある。

【００４２】さらに、図４に戻り、シュート３が好まし
くは下記式（３）； ０．２≦Ｌａ／Ｌｂ≦０．５ …（３）、 より好ましくは下記式（７）； ０．２５≦Ｌａ／Ｌｂ≦０．４ …（７）、 で表される関係を満たすように設けられていると好適で
ある。ここで、式中、Ｌａはシュート３の幅を示し、Ｌ
ｂは、移動層１０において区画された領域の長手方向
幅、すなわち、その領域の水平断面において、排ガスＷ
が流通する方向に直交する方向の幅を示す。具体的に
は、例えば、移動層１０の長手方向の全幅を６〜１０ｍ
程度としたときに、Ｌｂを１ｍ程度とし、Ｌａを２０〜
５０ｃｍ程度とすることが可能である。ただし、数値は
これらに限定されるものではない。

【００４３】このＬａ／Ｌｂが０．２未満であると、シ
ュート３から下方に供給される炭素質吸着材１７の落下
範囲が顕著に狭くなり、移動層１０における特定の領域
に炭素質吸着材１７が偏在するおそれがある。これに対
し、Ｌａ／Ｌｂが０．５を超えると、領域毎に炭素質吸
着材１７の粒度分布が異なるといった傾向を生じ易い。
また、式（３）の条件が満たされると、シュート３上に
おける炭素質吸着材１７の流下速度が過少叉は過大とな
ることを防止し易い利点がある。

【００４４】このように構成された偏析防止装置１及び
それを用いた排ガス処理装置１００によれば、上述した
ように、ステージ５上から供給されてシュート３を流下
する炭素質吸着材１７の一部が副板４２で堰き止めら
れ、主板４１及び副板４２の上面が全体的に炭素質吸着
材１７で覆われる。よって、堆積した炭素質吸着材１７
がシュート３の上面部を覆うライナ（言わば‘セルフラ
イナ’）となり、シュート３に沿って流下する炭素質吸
着材１７と、主板４１及び副板４２との直接且つ動的な
接触が防止される。したがって、流動する炭素質吸着材
１７とそれら主板４１及び副板４２との接触に起因する
シュート３の摩耗を十分に防止できる。その結果、シュ
ート３の交換頻度を低減でき、排ガス処理装置１００の
保守性及び経済性を向上できる。

【００４５】また、シュート３は、主板４１の上方に開
放されたているので、従来のパイプ式シュートを用いた
ものに比して閉塞し難い。さらに、偏析防止装置１が周
囲を上部ホッパ１２で覆われているので、シュート３が
万一破孔したり破断等しても、炭素質吸着材１７及び排
ガスＷが吸着反応塔１１０の外部へ散逸叉は拡散してし
まうことがない。これらのことより、排ガス処理装置１
００の信頼性を向上できる。またさらに、炭素質吸着材
１７や排ガスＷが外部へ散逸叉は拡散しないので、その
ような異常が万一発生しても、パイプ式シュートを用い
た従来に比して復旧し易い点で有利である。

【００４６】さらに、シュート３が一基の場合には、先
に述べたように、粒度分布を有する炭素質吸着材１７
は、落下して堆積したときに大粒径のものほど周辺部へ
且つ小粒径のものほど中心部に集積する傾向にある。こ
うなると、シュート３から遠い位置に形成された移動層
１０の領域に大粒径のものが多く供給される。この場
合、排ガスＷの偏流等の不都合が生じるおそれがある。

【００４７】これに対し、排ガス処理装置１００は、一
つの移動層１０に対して各シュート３を複数備えるの
で、移動層１０の各領域へ供給される炭素質吸着材１７
の粒度分布を十分に均一化できる。つまり、粒度分布を
有する炭素質吸着材１７の偏析を十分に防止できる。よ
って、移動層１０を流通する排ガスＷのショートパスの
発生、及び、圧力損失の増大を抑制可能となる。その結
果、排ガスＷの脱硫率や脱硝率といった処理効率の低下
を確実に防ぐことができる。

【００４８】またさらに、主板４１が式（１）で表され
る関係を満たすように設けられているときには、炭素質
吸着材１７の流動性の低下を十分に抑制でき、且つ、炭
素質吸着材１７の流下速度が過度に増大してしまうこと
を十分に防止できる。よって、炭素質吸着材１７を下方
に確実に供給できると共に、炭素質吸着材１７が移動層
１０の特定部位に偏って供給されることを抑止できる。
その結果、移動層１０の各領域を流下する炭素質吸着材
１７の粒度分布の更なる均一化を図ることができ、移動
層１０を流通する排ガスＷのショートパスの発生、及
び、圧力損失の増大を更に防止できる。したがって、排
ガスＷからの脱硫率や脱硝率といった処理効率の低下を
一層防止できる。

【００４９】加えて、副板４２が式（２）で表される関
係を満たすように設けられていると、主板４１の上面全
体を炭素質吸着材１７で覆い易くなる。よって、主板４
１の一部が露呈してしまうことを防止できる。これによ
り、炭素質吸着材１７と主板４１との動的な接触が確実
に妨げられ、シュート３の摩耗を一層抑止できる。した
がって、シュート３の交換頻度を更に低減でき、排ガス
処理装置１００の保守性及び経済性をより向上できる。

【００５０】また、内部ホッパ２が、水平方向に沿う設
置位置を調節可能な調節しろＣを有するので、内部ホッ
パ２からの炭素質吸着材１７の落下位置をステージ５の
中心に簡易に合致させることができる。これにより、炭
素質吸着材１７を各シュート３へ均等に供給できる。よ
って、各シュート３から下方へ供給される炭素質吸着材
１７の量及び粒度の更なる均一化を達成できる。さら
に、調節しろＣによって内部ホッパ２の位置決めが行わ
れ、その位置で内部ホッパ２が固定されているので、排
ガス処理装置１００の運転中（炭素質吸着材１７の供給
中）に内部ホッパ２の位置ずれを確実に防止できる。

【００５１】さらに、シュート３が式（３）で表される
関係を満たすように設けられた場合には、シュート３か
ら下方に供給される炭素質吸着材１７の落下範囲が顕著
に狭くなることを抑制できる。また、この場合、シュー
ト３上における炭素質吸着材１７の流下速度が過少叉は
過大となることを防止し易い利点もある。これらによ
り、移動層１０における特定の領域に炭素質吸着材１７
が偏在することによる排ガスＷの偏流を抑止できる。ま
た、式（３）の条件が満たされると、領域毎の炭素質吸
着材１７の粒度分布に差異が生じることを一層防止でき
る。

【００５２】なお、上述した実施形態において、偏析防
止装置１のシュート３及びステージ５の員数及びそれら
の連結構成は図示のものに限定されない。他の構成とし
ては、例えば図７に示すように構成された偏析防止装置
７を例示できる。図７は、本発明による粉粒体供給装置
に係る他の実施形態の構成を模式的に示す平面図であ
る。偏析防止装置７は、図４に示す偏析防止装置１の各
シュート３の下端部に、更なるシュート３の端部が結合
されたステージ５が連結されたものである。図示の場
合、一つの移動層１０に対してその上方の六箇所から炭
素質吸着材１７が供給され、更なる偏析防止が図られ
る。

【００５３】また、偏析防止装置１，７は、炭素質吸着
材１７以外の粉粒体の供給に用いてもよい。他の粉粒体
の例としては、粉状叉は粒状の触媒、炭粒、各種顆粒、
各種粉砕体、豆類若しくは乾燥果実類叉はそれらを粉砕
した穀粒、製粉等を挙げることができる。そして、本発
明の偏析防止装置は、粉粒体の移送機器、叉は、貯蔵
庫、貯槽、サイロ、高炉等の反応塔といった塔槽類にこ
れらの粉粒体を供給するための装置として極めて有効な
ものである。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の粉粒体供
給装置によれば、副板部が突設された主板部を有するシ
ュートが備わるので、シュートの上面が全体的に粉粒体
で覆われ、流動する（流下する）粉粒体とシュートとの
動的な接触が有効に防止される。これにより、シュート
が摩耗することを確実に抑制できる。また、本発明の排
ガス処理装置は、本発明の粉粒体供給装置を複数有する
ので、排ガスの偏流が防止され、排ガスの処理効率の低
下を十分に防止できる。しかも、シュートの摩耗が抑制
されるので、構成部材であるそれらのシュートの交換頻
度を低減でき、つまり装置寿命を延長できる。その結
果、排ガス処理装置の保守性及び経済性を向上できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による排ガス処理装置を模式的に示す構
成図である。

【図２】図１に示す排ガス処理装置の要部（吸着反応
塔）の構造を模式的に示す斜視図である。

【図３】図２におけるIII−III線断面図（一部省略）で
ある。

【図４】図３におけるIV−IV線断面図である。

【図５】図３におけるＶ−Ｖ線断面図である。

【図６】シュートの要部を示すと共に炭素質吸着材がシ
ュートを流下している状態を模式的に示す断面図であ
る。

【図７】本発明による粉粒体供給装置に係る他の実施形
態の構成を模式的に示す平面図である。

【符号の説明】

１，７…偏析防止装置（粉粒体供給装置）、２…内部ホ
ッパ（ホッパ部）、３…シュート、５…ステージ、９…
隔壁（区画壁）、１０…移動層、１７ａ，１７ｂ，１７
ｃ…集積体（粉粒体）、１７…炭素質吸着材（粉粒
体）、４１…主板（主板部）、４２…副板（副板部）、
１００…排ガス処理装置、１１０…吸着反応塔、１２０
…脱離再生塔、Ｃ…調節しろ、Ｗ…排ガス、Ｗｓ…処理
済ガス、θａ…安息角。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 53/81 ＺＡＢ Ｂ０１Ｄ 53/34 １２３Ｂ 53/94 １２９Ｂ Ｂ０１Ｊ 4/00 １０５ 53/36 １０１Ａ 8/12 ３３１ Ｂ６５Ｇ 11/16 (56)参考文献 特開 昭59−26804（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−332347（ＪＰ，Ａ) 実開 昭54−93981（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭55−101697（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B65G 65/32 B01D 53/34 ZAB B01D 53/81 ZAB B01J 4/00 105 B01J 8/12 331 B65G 11/16

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粉粒体を下方へ供給する粉粒体供給装置
   であって、 水平に対して所定の角度を有して延在する主板部と、該
   主板部上に突設しており該主板部の延在方向に沿って所
   定の間隔を有して配置された複数の副板部とを有し、且
   つ、前記粉粒体が供給される複数のシュートと、前記複数のシュートを該各シュートの上端部において連
   結するステージと、 前記ステージの上方に設けられ、前記粉粒体が導入され
   るホッパ部と、を備え、 前記ステージは、堆積された前記粉粒体の集積体の表面
   上から溢流させて、該粉粒体を前記複数のシュートに向
   けて供給し、 前記複数のシュートは周囲を被覆されている、 ことを特徴とする粉粒体供給装置。
2. 【請求項２】 前記ホッパ部は、水平方向に沿う設置位
   置を調節可能な調節しろを有する、 ことを特徴とする請求項１記載の粉粒体供給装置。
3. 【請求項３】 排ガスが流通し、該排ガスの吸着能又は
   分解能を有する粉粒体が流動する移動層と、 前記移動層の上方に設けられた請求項１又は２に記載の
   粉粒体供給装置と、を備え、前記移動層が、略鉛直方向
   に延びる区画壁により区画された複数の領域から成り、 前記粉粒体供給装置の前記シュートが、下記式（３）； ０．２≦Ｌａ／Ｌｂ≦０．５ …（３）、 Ｌａ：前記シュートの幅、 Ｌｂ：前記領域の水平断面において、前記排ガスが流通
   する方向に直交する方向の幅、で表される関係を満たす
   ように設けられた、 ことを特徴とする排ガス処理装置。