JP3063142U - 均圧式基板表面処理構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 均一な基板表面処理を進行可能な均圧式基板
表面処理構造の提供。 【解決手段】 本考案は、処理液タンク、均圧式ウォー
ターナイフ、輸送ローラ、止水ローラ及び液位スイッチ
で組成され、基板を止水ローラと輸送ローラで輸送し、
処理液タンク中に進入させ、並びに孔径の大きさにより
順に配列された貫通孔を具えた均圧式ウォーターナイフ
により基板に薬液を噴射して薬液に層流現象を形成さ
せ、基板を均一処理して多層化、薄板化の品質要求に符
合させられるようにして構成されている。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【考案の属する技術分野】

本考案は一種の均圧式基板表面処理構造に係り、特に一種の、均圧式の薬液噴 射により基板品質の統一性を達成した処理構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】

周知の基板表面処理方式は、水平式ＰＴＨ処理設備を使用するもののように、 ほとんどが進行中の基板を処理液中に浸漬させ、並びに図１のようなウォーター ナイフで処理液を基板表面に噴射して反応速度を高めている。しかし、このよう なウォーターナイフの構造は、長形管体１の表面に等距離に配列した貫通孔１１ より処理液を一定圧力で噴射するようにしてある。しかし、管中の圧力は、前段 で一部処理液を噴射した後、圧力低下するため、前段と後段の圧力が異なり、基 板表面の位置によって反応速度に差が生じてそれが基板品質の均一性に影響を及 ぼした。このため基板の多層化、薄板化の品質要求を達成できなくなった。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

本考案は、一種の均圧式基板表面処理構造を提供することを課題とし、それは 、処理液タンク、均圧式ウォーターナイフ、輸送ローラ、止水ローラ及び液位ス イッチで組成され、基板を止水ローラと輸送ローラで輸送し、処理液タンク中に 進入させ、並びに孔径の大きさにより順に配列された貫通孔を具えた均圧式ウォ ーターナイフにより基板に薬液を噴射して薬液に層流現象を形成させ、基板を均 一処理して多層化、薄板化の品質要求に符合させられるようにして構成したもの とする。

【０００４】 本考案は次に、上述の均圧式基板表面処理構造において、その均圧式ウォータ ーナイフをその表面に孔径の大きさにより順に配列された貫通孔を具えたものと なし、処理液がこれら貫通孔の大きさの順序配列により前段と後段で均等な圧力 を形成するようにし、基板表面の異なる位置における反応速度を一致させて、基 板の品質の均一性を保持させられるものとすることを課題としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

請求項１の考案は、機台の上方に処理液が入れられる処理液タンクが設けられ 、該処理液タンクに、上下に配列された輸送ローラと出口と入口端にそれぞれ設 けられた止水ローラが設けられ、輸送ローラの間隙に薬液を噴射する複数の均圧 式ウォーターナイフが設けられ、機台の下方に貯液タンクが設けられ、該貯液タ ンク内に液位スイッチが設けられて処理液タンクの液位が止水ローラより高くな った時にスイッチ調整により処理液が下方の貯液タンクに流入して液位高度を維 持し、基板を止水ローラと輸送ローラで輸送して連続して処理液タンク中に進入 させ、均圧式ウォーターナイフで処理液中で基板に薬液を噴射させ、層流現象を 発生させ且つ液面を静止状態に保ち、基板を均一処理するようにして構成された 、均圧式基板表面処理構造としている。 請求項２の考案は、前記均圧式ウォーターナイフが中空の外管と単辺が開口と された内管で組成され、該外管の底部に縦向きに間隔を置いて配列された複数の 細長状の出水孔があり、内管にその開口近くより孔径が順に大きくなるように配 列された貫通孔が設けられ、噴射される薬液が内管の異なる孔径の貫通孔により 均圧となるようにしてあることを特徴とする、請求項１に記載の均圧式基板表面 処理構造としている。 請求項３の考案は、前記均圧式ウォーターナイフの外管の底部の出水孔の両側 にそれぞれフィンが設けられ、これらのフィンが適当な厚さを有すると共に底端 が内向きに傾斜したものとされ、フィンの液柱の圧力による変形防止がなされて いることを特徴とする、請求項１に記載の均圧式基板表面処理構造としている。

【０００６】

【考案の実施の形態】

図２に示されるように、本考案は、機台２０を具え、該機台２０の上方に処理 液２０１１が入れられる処理液タンク２０１が設けられ、並びに処理液タンク２ ０１に輸送ローラ２０２と止水ローラ２０３が設けられ、且つ該処理液２０１１ の水平面が上の止水ローラ２０３より高くならないようにしてあり、輸送ローラ ２０２の間隙に複数の均圧式ウォーターナイフ２０４が設けられ、且つ上方のウ ォーターナイフが液面より低い位置にあって薬液を噴射するようにしてあり、機 台２０の下方に一つの貯液タンク２０５が設けられ、該貯液タンク２０５中に二 つの液位スイッチ２０６が設けられ、処理液タンク２０１の液位が上のローラよ り高くなった時にこの液位スイッチ２０６が動作して処理液を下方の貯液タンク ２０５に流入させるようにしてあり、且つ貯液タンク２０５中の液位が液位スイ ッチ２０６に設定された液位より低くなる（基板輸送平面を基準とする）と、機 台２０が自動停止し並びに操作者に警告を発するようにしてある。

【０００７】 以上の構造が組み合わされ、基板２０７が輸送ローラ２０２と止水ローラ２０ ３で輸送されて連続して処理液タンク２０１中に進入し、並びに上、下の多組の 均圧式ウォーターナイフ２０４による薬液噴射を受け、これにより層流現象が発 生し、且つ液面が静止状態を呈するため、基板２４が均一処理効果を得られる。

【０００８】 同時に図３、４、５を参照されたい。本考案の均圧式ウォーターナイフ２０４ は中空の外管２と単辺開口の内管３で組成され、そのうち、外管２の底部に縦向 きに間隔を開けて複数の長細状の出水孔２１が形成され、並びにこれら出水孔２ １の両側が下向きに突伸しその底橋が内向きに傾斜して対称なフィン２２、２３ が形成され、内管３に縦向きに間隔を開けて配列された貫通孔３１が設けられ、 並びにこれら貫通孔３１が孔径の大きさにより順に配列され、該内管３が貫通孔 ３１を上に向けて外管２中に嵌合され、並びに外管２両端にそれぞれ防水パッキ ン２４、２５が嵌め置かれ、さらに内管３の開口端に一つのコネクタ３２に枢接 された後、内管３の一端及びコネクタ３２がそれぞれ架体４に固定され、コネク タ３２に注入された薬液が内管開口より内管３内に導入され、薬液が貫通孔３１ より上向きに排出され、さらに外管２内で循環を形成し、外管２底端の細長状の 出水孔２１より下向きに噴出され、片状の水柱を形成し、且つ水圧の集中により 、一定の圧力が形成され、均圧噴射の作用が達成され、こうして基板に対して層 流現象が形成されて基板の均一性を保持できるようにしてある。

【０００９】 前述の薬液の導入の過程で、内管３に設けられた貫通孔３１がその孔径の大き さにより配列された（その開口端は比較的小さい貫通孔３１Ａとされ漸時孔径が 拡大するよう配列され、末端の貫通孔３１Ｂの孔径が最大とされる）ことで、薬 液が前端の貫通孔３１Ａを通過する時、その孔径が小さいため僅かに内管内の液 圧が減緩され、水流が内管３末端に至る時、液圧がすでに減少しているため、比 較的大孔径の貫通孔３１Ｂが圧力の不足を補い、こうして前端と後端の液圧が均 等とされ、薬液が細長状の出水孔２１より外向きに噴射される時、均一な片状薬 液柱が形成され、基板に噴射される時、その反応速度の均等を保持し、基板の品 質を確保し、且つフィン２２、２３が適当な厚さを呈し、並びに底端に内向きに 傾斜するため、水柱の圧力による変形が防止され、液柱の均一が保持される。

【００１０】

【考案の効果】

総合すると、本考案は処理液タンク、輸送ローラ及び止水ローラに、均圧式ウ ォーターナイフを組み合わせた構造により、基板を均一に処理して基板の多層化 、薄板化の品質要求を達成可能とする実用的な設計とされ、新規性を有し、また 産業上の利用価値を有している。

【図面の簡単な説明】

【図１】周知のウォーターナイフの構造表示図である。

【図２】本考案の均圧式基板表面処理構造表示図であ
る。

【図３】本考案の均圧式ウォーターナイフの斜視図であ
る。

【図４】本考案の均圧式ウォーターナイフの分解斜視図
である。

【図５】本考案の均圧式ウォーターナイフの分解斜視図
である。

【図６】図３の横向き断面表示図である。

【図７】図３の縦向き断面表示図である。

【符号の説明】

１ 長形管体 ２０３ 止水ローラ ２２、２３ フィン １１ 貫通孔 ２０４ 均圧式ウォーターナイフ ２４、２５ 防水パッキン ２０ 機台 ２０５ 貯液タンク ２０６ 液位スイッチ ３ 内管 ２０１ 処理液タンク ２０７ 基板 ３１ 貫通孔 ２０１１ 処理液 ２ 外管 ３２ コネクタ ２０２ 輸送ローラ ２１ 出水口 ４ 架体

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 機台の上方に処理液が入れられる処理液
   タンクが設けられ、該処理液タンクに、上下に配列され
   た輸送ローラと出口と入口端にそれぞれ設けられた止水
   ローラが設けられ、輸送ローラの間隙に薬液を噴射する
   複数の均圧式ウォーターナイフが設けられ、機台の下方
   に貯液タンクが設けられ、該貯液タンク内に液位スイッ
   チが設けられて処理液タンクの液位が止水ローラより高
   くなった時にスイッチ調整により処理液が下方の貯液タ
   ンクに流入して液位高度を維持し、基板を止水ローラと
   輸送ローラで輸送して連続して処理液タンク中に進入さ
   せ、均圧式ウォーターナイフで処理液中で基板に薬液を
   噴射させ、層流現象を発生させ且つ液面を静止状態に保
   ち、基板を均一処理するようにして構成された、均圧式
   基板表面処理構造。
2. 【請求項２】 前記均圧式ウォーターナイフが中空の外
   管と単辺が開口とされた内管で組成され、該外管の底部
   に縦向きに間隔を置いて配列された複数の細長状の出水
   孔があり、内管にその開口近くより孔径が順に大きくな
   るように配列された貫通孔が設けられ、噴射される薬液
   が内管の異なる孔径の貫通孔により均圧となるようにし
   てあることを特徴とする、請求項１に記載の均圧式基板
   表面処理構造。
3. 【請求項３】 前記均圧式ウォーターナイフの外管の底
   部の出水孔の両側にそれぞれフィンが設けられ、これら
   のフィンが適当な厚さを有すると共に底端が内向きに傾
   斜したものとされ、フィンの液柱の圧力による変形防止
   がなされていることを特徴とする、請求項１に記載の均
   圧式基板表面処理構造。