JP3061208B2 - 銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製造方法 - Google Patents

銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製造方法

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JP3061208B2
JP3061208B2 JP3137672A JP13767291A JP3061208B2 JP 3061208 B2 JP3061208 B2 JP 3061208B2 JP 3137672 A JP3137672 A JP 3137672A JP 13767291 A JP13767291 A JP 13767291A JP 3061208 B2 JP3061208 B2 JP 3061208B2
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superconducting wire
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  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、超電導発電、MRI、
粒子加速器等に用いられる銅安定化多芯Nb−Ti超電
導線の製造方法に関し、特に複合ビレットの組立て工程
を改良した銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製造方法
に係わる。
【0002】
【従来の技術および課題】近年、銅安定化多芯Nb−T
i超電導線は、超電導特性を向上するために直径30μ
m以下の極細のNb−Tiフィラメントを約2000〜
8000本埋設した極細多芯化構造を有し、かつ永久電
流の減衰原因となる接続部を可能なかぎり少なくした長
尺材の開発が求められている。
【0003】ところで、従来、前記銅安定化多芯Nb−
Ti超電導線は次のような方法により製造されている。
まず、アーク溶解法等によりNb−Ti合金インゴット
を鋳造する。つづいて、前記Nb−Ti合金インゴット
を押出、圧延等により丸棒とする。ひきつづき、前記丸
棒を銅管内に挿入した後、押出、伸線等を施して断面円
形の超電導素線を作製する。このように作製した複数本
の超電導素線を並べて所定の長さに切断する。長さの揃
った複数本の超電導素線を束ねて前記銅管より直径の大
きい別の銅管内に充填して複合ビレットを作製する。こ
の場合、必要に応じて前記銅管の中心に銅芯を配置した
後、前記複数本の超電導素線を前記銅管内面と前記銅芯
の間に充填して複合ビレットを組立てる。次いで、前記
複合ビレットに稠密加工を施した後、熱間押出、引抜き
加工等の延伸加工を施して多数のNb−Tiフィラメン
トを埋設された所定寸法の銅安定化多芯Nb−Ti超電
導線を製造する。
【0004】なお、銅マトリックスに埋設された多数本
のNb−Tiフィラメントを更に極細多芯化する場合に
は、前記超電導線を銅管内に複数本充填した後、延伸加
工を施す方法が採用される。
【0005】上述した超電導線の製造方法において、前
記複合ビレットは熱間押出前にタッピングや熱間静水圧
プレス(HIP)等の稠密加工により前記銅管内の複数
の超電導素線をその断面形状が六角形になるように成形
される。かかる稠密加工により前記銅管内の前記超電導
素線の充填密度が高められる。前記タッピングによる稠
密加工は、対向面が半円形状をなす一対の割型間に前記
複合ビレットを回転させながら長さ方向に移動させると
共に、前記各割型を対向方向に近接または離れるように
動作させて前記複合ビレットを叩くことにより行われ
る。前記HIPによる稠密加工は、圧力容器内に両端面
を銅板で封止した構造の複合ビレットを入れ、前記圧力
容器を例えば500〜800℃に加熱して前記圧力容器
内のガスを膨脹させて前記複合ビレットを加圧(100
0〜1500気圧)することにより行われる。
【0006】しかしながら、前記複合ビレットの稠密加
工において前記銅管の内面近傍の前記超電導素線は断面
形状が六角形に成形され難く、矩形状になる。なお、前
記銅管の中心に銅芯を配置した場合にも前記稠密加工に
際して前記銅芯外周面に配置される前記超電導素線の断
面形状が六角形に成形され難く、矩形状になる。このよ
うな稠密加工後の複合ビレットを熱間押出加工を経て内
部のNb−Tiフィラメント直径が30μm以下になる
まで延伸加工を複数回繰り返すと、前記銅管の内面近傍
(銅芯を配置した場合にはさらに銅芯外周面近傍)に位
置するNb−Tiフィラメントが異常変形を起こして断
線が頻発する。その結果、所期の超電導特性(例えば臨
界電流密度;Jc)を有する超電導線を製造することが
できないという問題を生じる。
【0007】また、前記超電導線の別の製造方法として
は、前述した超電導素線を予め断面形状が正六角形にな
るように加工した後、前記形状の超導電素線を銅管に複
数本充填して複合ビレットを作製し、前記複合ビレット
を稠密加工、熱間押出、延伸加工を行う方法が知られて
いる。しかしながら、かかる製造方法でも前記稠密加工
工程において前記銅管の内面近傍(銅芯を配置した場合
にはさらに銅芯外周面近傍)に位置する超電導素線が六
角形状に維持されず、矩形状となる。その結果、前述し
たのと同様に複合ビレットの延伸加工に際して前記銅管
の内面近傍に位置する超電導素線が断線して超電導特性
の悪化、信頼性の低下を招く。
【0008】本発明の目的は、複合ビレットの延伸加工
工程に際し、Nb−Tiフィラメントの断線を低減して
銅マトリックスに埋設される多数本のNb−Tiフィラ
メントを30μm以下の極細線にすることで可能で、臨
界電流密度などの超電導特性の優れた銅安定化多芯Nb
−Ti超電導線を量産的に製造し得る方法を提供しよう
とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願第1の製造方法は、
銅マトリックス中にNb−Ti合金フィラメントを複合
した断面円形の超電導素線を作製する工程と、
【0010】前記超電導素線を銅管内に複数本充填する
と共に、前記銅管内の超電導素線充填層と前記銅管内面
との間に銅線を1層以上配置して複合ビレットを組立て
る工程と、前記複合ビレットを稠密加工し、さらに延伸
加工を行う工程と、を具備したことを特徴とするもので
ある。
【0011】本願第1の製造方法で組立てられる前記複
合ビレットの一態様(銅線の層数が2層)を図1に示
す。図1は、前記複合ビレットの横断面図である。銅管
1内には、多数本の断面円形の超電導素線2を密に充填
して形成された超電導素線充填層3が配置されている。
断面円形の銅線4は、前記銅管1内面と前記超電導素線
充填層3の間に密に2層配置されている。本願第2の製
造方法は、銅マトリックス中にNb−Ti合金フィラメ
ントを複合した断面円形の超電導素線を作製する工程
と、
【0012】前記超電導素線を中心に銅芯を配置した銅
管内に複数本充填すると共に、前記銅管内の超電導素線
充填層と前記銅管内面との間、および前記充填層と前記
銅芯の間に銅線をそれぞれ1層以上配置して複合ビレッ
トを組立てる工程と、前記複合ビレットを稠密加工し、
さらに延伸加工を行う工程とを具備したことを特徴とす
るものである。
【0013】本願第2の製造方法で組立てられる前記複
合ビレットの一態様(銅線の層数が2層)を図2に示
す。図2は、前記複合ビレットの横断面図である。中心
に銅芯5が配置された銅管1内には、多数本の断面円形
の超電導素線2を密に充填して形成された超電導素線充
填層3が配置されている。断面円形の銅線4は、前記銅
管1内面と前記超電導素線充填層3の間および前記銅芯
5と前記充填層3の間にそれぞれ密に2層配置されてい
る。
【0014】本願第1、第2の製造方法における前記断
面円形の超電導素線は、通常の方法により作製される。
例えば、アーク溶解法等によりNb−Ti合金インゴッ
トを鋳造し、前記Nb−Ti合金インゴットを押出、圧
延等により丸棒とした後、前記丸棒を銅管内に挿入し、
押出、伸線等を施すことにより前記超電導素線を作製す
る。
【0015】本願第1、第2の製造方法における前記銅
線は、前記銅管や銅芯と同様に安定化材として作用す
る。このため、前記銅管の肉厚は前記銅線の占有率に見
合う分、薄くすることが可能である。また、前記銅芯の
径は前記銅線の占有率に見合う分、小さくすることが可
能である。
【0016】本願第1、第2の製造方法における前記銅
線は、断面円形、または断面六角形、断面八角形などの
断面多角形のものを用いることができる。かかる形状の
銅線を用いて1層以上の銅線の層を形成する場合は、通
常、同一形状の銅線が用いられる。ただし、断面円形の
銅線と断面多角形の銅線とを混在させて1層以上の銅線
の層を形成してもよい。具体的には、前記銅線を1層配
置する場合にはその層内で断面円形の銅線と断面多角形
の銅線とを混在させることが可能である。また、2層以
上配置する場合には断面円形の銅線と断面多角形の銅線
を用いて層毎に形状を異ならせることが可能である。
【0017】本願第1、第2の製造方法における前記銅
線が断面円形の場合は、前記銅線の直径は前記超電導線
の直径の0.1〜3倍にすることが望ましい。これは、
次のような理由によるものである。前記銅線の直径が前
記超電導線の直径の0.1倍未満にすると、前記銅管内
に充填する作業が繁雑となる。しかも、前記銅線を1層
配置する場合には前記稠密加工に際しての前記銅管の内
面近傍、または前記銅管の内面近傍および前記銅芯の外
周面近傍で生じる変形を前記銅線で担わせることが困難
となる恐れがある。一方、前記銅線の直径が前記超電導
線の直径の3倍を越えると、製造された超電導線の安定
化材部分が多くなり、断面積当りに占めるNb−Tiフ
ィラメント密度が低下する恐れがある。この場合、前述
したように前記銅管の肉厚を前記銅線の占有率に見合う
分、薄くしたり、或いは前記銅芯の径を前記銅線の占有
率に見合う分、小さくすることにより対応することが可
能である。ただし、前記銅線の層数を増加させた場合に
は前記銅管の肉厚を薄くしたり、前記銅芯の径を小さく
することでは十分に対応できなくなる恐れがある。より
好ましい前記銅線の直径は、前記超電導線の直径の0.
5〜2倍である。
【0018】本願第1、第2の製造方法における前記銅
線のより好ましい層数は、2〜6層である。ただし、前
記銅線の層数が6層を越えると前記超電導素線が異常形
状になるのを抑制する作用が飽和するばかりか、製造さ
れた超電導線の断面積当りに占めるNb−Tiフィラメ
ント密度が低下する恐れがある。本願第1、第2の製造
方法における前記稠密加工は、例えばタッピングや熱間
静水圧プレス(HIP)により行われる。本願第1、第
2の製造方法における前記延伸加工としては、例えば引
き抜き加工等を採用し得る。なお、本願第1、第2の製
造方法において前記稠密加工後、前記延伸加工前に、必
要に応じて熱間押出しを行うことを許容する。本願第3
の製造方法は、銅マトリックス中にNb−Ti合金フィ
ラメントを複合した断面六角形の超電導素線を作製する
工程と、
【0019】前記超電導素線を銅管内に複数本充填する
と共に、前記銅管内の超電導素線充填層と前記銅管内面
との間に銅線を1層以上(ただし、1層の場合は前記銅
線は断面六角形のもの、2層以上の場合は少なくとも前
記充填層と接する1層目の銅線は断面六角形のものを用
いる)配置して複合ビレットを組立てる工程と、前記複
合ビレットを稠密加工し、さらに延伸加工を行う工程と
を具備したことを特徴とするものである。
【0020】本願第3の製造方法により組立てられる前
記複合ビレットの一態様(銅線の層数が1層)を図3に
示す。図3は、前記複合ビレットの横断面図である。銅
管11内には、多数本の断面六角形の超電導素線12を
密に充填して形成された超電導素線充填層13が配置さ
れている。断面六角形の銅線14は、前記銅管11内面
と前記超電導素線充填層13の間に密に1層配置されて
いる。本願第4の製造方法は、銅マトリックス中にNb
−Ti合金フィラメントを複合した断面六角形の超電導
素線を作製する工程と、
【0021】前記超電導素線を中心に銅芯を配置した銅
管内に複数本充填すると共に、前記銅管内の超電導素線
充填層と前記銅管内面との間、および前記超電導素線充
填層と前記銅芯の間に銅線をそれぞれ1層以上(ただ
し、1層の場合は前記銅線は断面六角形のもの、2層以
上の場合は少なくとも前記充填層と接する1層目の銅線
は断面六角形のものを用いる)配置して複合ビレットを
組立てる工程と、前記複合ビレットを稠密加工し、さら
に延伸加工を行う工程とを具備したことを特徴とするす
るものである。
【0022】本願第4の製造方法により組立てられた前
記複合ビレットの一態様(銅線の層数が1層)を図4に
示す。図4は、前記複合ビレットの横断面図である。中
心に銅芯15が配置された銅管11内には、多数本の断
面六角形の超電導素線12を密に充填して形成された超
電導素線充填層13が配置されている。断面六角形の銅
線14は、前記銅管11内面と前記超電導素線充填層1
3の間および前記銅芯15と前記充填層13の間にそれ
ぞれ密に1層配置されている。
【0023】本願第3、第4の製造方法における前記断
面六角形の超電導素線は、通常の方法により作製され
る。例えば、アーク溶解法等によりNb−Ti合金イン
ゴットを鋳造し、前記Nb−Ti合金インゴットを押
出、圧延等により丸棒とした後、前記丸棒を銅管内に挿
入し、押出、伸線等を施し、最終伸線工程で断面六角形
となるように加工することにより前記超電導素線を作製
する。
【0024】本願第3、第4の製造方法における前記銅
線は、前記銅管と同様に安定化材として作用する。この
ため、前記銅管の肉厚は前記銅線の占有率に見合う分、
薄くすることが可能である。また、前記銅芯の径は前記
銅線の占有率に見合う分、小さくすることが可能であ
る。
【0025】本願第3、第4の製造方法における前記断
面六角形の銅線は、その断面の対辺距離が前記超電導線
の対辺距離の0.9〜1倍にすることが望ましい。これ
は、次のような理由によるものである。前記銅線の対辺
距離が前記範囲を逸脱すると、前記銅管の内面近傍に配
置される銅線と前記銅線より内側に配置される前記断面
六角形の超電導線とを密に接触することが困難となる。
また、銅芯を配置した場合には前記銅芯の外周面近傍に
配置される銅線と前記銅線より外側に配置される前記断
面六角形の超電導線とを密に接触することが困難とな
る。このため、前記稠密加工に際して前記銅管の内面近
傍で生じる変形や前記銅芯の外面近傍で生じる変形を前
記銅線で担わせることが困難となる恐れがある。つま
り、前記稠密加工に際して前記銅管の内面近傍に配置し
た前記銅線が変形した場合、或いは前記銅芯の外周面近
傍に配置した前記銅線が変形した場合、前記銅線と前記
超電導素線との隙間に起因して前記超電導素線が矩形等
の異常形状となる恐れがある。より好ましい前記断面六
角形の銅線の対辺距離は、前記超電導線の対辺距離の
0.95〜1倍である。
【0026】本願第3、第4の製造方法における前記銅
線のより好ましい層数は、1〜3層である。すなわち、
前記銅線の層数が3層を越えると前記超電導素線が異常
形状になるのを抑制する作用が飽和するばかりか、製造
された超電導線の断面積当りに占めるNb−Tiフィラ
メント密度が低下する恐れがある。
【0027】本願第3、第4の製造方法における前記銅
線の層数を2層以上とする場合には、少なくとも前記充
填層と接する1層目の銅線として断面六角形のものを用
いればよい。ただし、1層目以外の銅線は断面円形のも
の、または断面六角形、断面八角形のもの、もしくはこ
れらの多角形を2分割した形状のもの等を用いることが
可能である。本願第3、第4の製造方法における前記稠
密加工は、例えばタッピングや熱間静水圧プレス(HI
P)により行われる。本願第3、第4の製造方法におけ
る前記延伸加工としては、例えば引き抜き加工等を採用
し得る。なお、本願第3、第4の製造方法において前記
稠密加工後、前記延伸加工前に、必要に応じて熱間押出
しを行うことを許容する。
【0028】
【作用】このような本願第1の製造方法によれば、前記
超電導素線を銅管内に複数本充填すると共に、前記銅管
内の超電導素線充填層と前記銅管内面との間に銅線を1
層以上配置して複合ビレットを組立てた後、前記複合ビ
レットを稠密加工することによって、前記銅管の内面近
傍で生じる変形を前記銅線に担わせることができる。こ
のため、前記超電導素線(特に前記銅管の内面近傍側に
位置する超電導素線)が矩形等の異常形状になるのを抑
制できる。このような稠密加工後の前記複合ビレットを
延伸加工することによって、前記超電導素線の異常形状
箇所に起因する断線発生を抑制できる。
【0029】本願第2の製造方法によれば、前記超電導
素線を中心に銅芯を配置した銅管内に複数本充填すると
共に、前記銅管内の超電導素線充填層と前記銅管内面と
の間、および前記充填層と前記銅芯の間に銅線をそれぞ
れ1層以上配置して複合ビレットを組立てた後、前記複
合ビレットを稠密加工することによって、前記銅管の内
面近傍および前記銅芯の外周近傍で生じる変形を前記各
銅線に担わせることができる。このため、前記超電導素
線(特に前記銅管の内面近傍側および前記銅芯の外周面
近傍側に位置する超電導素線)が矩形等の異常形状にな
るのを抑制できる。このような稠密加工後の前記複合ビ
レットを延伸加工することによって、前記超電導素線の
異常形状箇所に起因する断線発生を抑制できる。
【0030】従って、本願第1、第2の製造方法によれ
ば前記複合ビレットの延伸加工工程に際してのNb−T
iフィラメントの断線率を低減することにより銅安定化
多芯Nb−Ti超電導線を高歩留まりで製造できる。し
かも、延伸加工に際して前記断線の発生を抑制できるこ
とによって、最終の延伸加工工程でNb−Tiフィラメ
ントの直径を30μm以下にすることが可能となるた
め、臨界電流密度等の超電導特性の優れた銅安定化多芯
Nb−Ti超電導線を製造できる。
【0031】また、本願第3の製造方法によれば前記断
面六角形の超電導素線を銅管内に複数本充填すると共
に、前記銅管内の超電導素線充填層と前記銅管内面との
間に銅線を1層以上(ただし、1層の場合は前記銅線は
断面六角形のもの、2層以上の場合は少なくとも前記充
填層と接する1層目の銅線は断面六角形のものを用い
る)配置して複合ビレットを組立てた後、前記複合ビレ
ットを稠密加工することによって、前記銅管の内面近傍
で生じる変形を前記銅線に担わせることができる。この
ため、前記超電導素線(特に前記銅管の内面近傍側に位
置する超電導素線)が矩形等の異常形状になるのを抑制
できる。このような稠密加工後の前記複合ビレットを延
伸加工することによって、前記超電導素線の異常形状箇
所に起因する断線発生を抑制できる。
【0032】本願第4の製造方法によれば、前記超電導
素線を中心に銅芯を配置した銅管内に複数本充填すると
共に、前記銅管内の超電導素線充填層と前記銅管内面と
の間、および前記充填層と前記銅芯の間に銅線をそれぞ
れ1層以上(ただし、1層の場合は前記銅線は断面六角
形のもの、2層以上の場合は少なくとも前記充填層と接
する1層目の銅線は断面六角形のものを用いる)配置し
て複合ビレットを組立てた後、前記複合ビレットを稠密
加工することによって、前記銅管の内面近傍および前記
銅芯の外周近傍で生じる変形を前記各銅線に担わせるこ
とができる。このため、前記超電導素線(特に前記銅管
の内面近傍側および前記銅芯の外周面近傍側に位置する
超電導素線)が矩形等の異常形状になるのを抑制でき
る。このような稠密加工後の前記複合ビレットを延伸加
工することによって、前記超電導素線の異常形状箇所に
起因する断線発生を抑制することができる。
【0033】従って、本願第3、第4の製造方法によれ
ば複合ビレットの延伸加工工程に際してのNb−Tiフ
ィラメントの断線率を低減することにより銅安定化多芯
Nb−Ti超電導線を高歩留まりで製造できる。しか
も、延伸加工に際して前記断線の発生を抑制できること
によって、最終の延伸加工工程でNb−Tiフィラメン
トの直径を30μm以下にすることが可能となるため、
臨界電流密度等の超電導特性の優れた銅安定化多芯Nb
−Ti超電導線を製造できる。
【0034】
【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。 実施例1〜5
【0035】まず、外径200mm、内径155mmの
銅管に外径150mmのNb−Tiインゴットを挿入
し、押出加工を行って外径22mmとした後、冷間で抽
伸と伸線加工を施して銅マトリックス中にNb−46.
5wt%Ti合金線を複合した外径2.38mmの断面
円形の超電導素線を作製した。
【0036】次いで、前記超電導素線を外径260mm
の中空銅ビレット(銅管)内に7000本充填して超電
導充填層を前記管中空銅ビレットに配置した。同時に、
前記中空銅ビレットと前記超電導充填層の間に外径2.
38mmの断面円形の銅線を1層、2層、3層、5層、
6層それぞれ配置して銅線の層数の異なる5種の複合ビ
レットを組立てた。なお、前記中空銅ビレットはその内
面に配置される前記銅線の層数に応じて肉厚を変えたも
のを用いた。すなわち、前記銅線を1層配置する場合に
は内径186mmの中空ビレットを、前記銅線を2層配
置する場合には内径191mmの中空ビレットを、前記
銅線を3配置する場合には内径195mmの中空ビレッ
トを、前記銅線を5層配置する場合には内径205mm
の中空ビレットを、前記銅線を6層配置する場合には内
径209mmの中空ビレットを、それぞれ用いた。
【0037】次いで、前記各複合ビレットを熱間静水圧
プレス(HIP)により圧縮成形して稠密加工した後、
面削し、さらに熱間押出を行って外径30mmの複合棒
材とした。つづいて、前記各複合棒材を引き抜き加工し
て外径0.8mmの5種の銅安定化多芯Nb−Ti超電
導線を製造した。なお、前記引き抜き加工は途中工程で
熱処理を併用して行った。このような方法で製造された
各超電導線に埋設されたNb−Tiフィラメント径は、
6μmであった。また、前記Nb−Tiフィラメントに
対する銅マトリックスの比(マトリックス/Nb−Ti
フィラメント)は1.9であった。 比較例1
【0038】実施例1と同様な超電導素線を外径260
mm、内径181の中空銅ビレット内に7000本充填
して超電導充填層のみ前記中空銅ビレットに配置して組
立てた複合ビレットを用いた以外、実施例1と同様な方
法により銅安定化多芯Nb−Ti超電導線を製造した。
本実施例1〜5および比較例1により製造された超電導
線について、臨海電流密度(Jc)、n値およびフィラ
メントの断線率を測定した。
【0039】前記Jcは、前記超電導線を液体ヘリウム
(4.2K)中に5Tの磁場をかけた状態で電流を徐々
に増加させて通電し、抵抗が10-11 Ωcmに達した時
の値から求めた。
【0040】前記n値は、前記超電導線に通電する電流
をI(アンペア)、その時に発生する電圧をV(ボル
ト)とすると、V=aIn で定義されるもので、フィラ
メントの健全性を示す値である。
【0041】前記フィラメントの断線率は、前記超電導
線を硝酸水溶液に浸漬してマトリリックスとしての銅を
溶解除去し、埋設されたNb−Tiフィラメントを露出
させることにより前記フィラメントの断線本数を数え、
この断線本数に基づいて求めた。このような結果を下記
表1に示す。
【0042】
【表1】
【0043】前記表1から明らかなように本発明の実施
例1〜5により製造された超電導線は、いずれも高いJ
c値を示し、またn値が高く銅マトリックスに埋設され
たフィラメントが健全であり、さらにフィラメントの断
線率も低いことがわかる。
【0044】これに対し、比較例1により製造された超
電導線はフィラメントの断線率が高く、そのためn値及
びJcが低くなる。なお、かかる超電導線のフィラメン
トの断線は、中空銅ビレットの内面近傍に相当する箇所
に集中していた。 実施例6
【0045】実施例1と同様な断面円形の超電導素線
を、中心に外径73mmの銅芯を配置した外径260m
m、内径206mmの中空銅ビレット(銅管)内に70
00本充填して超電導充填層を前記中空銅ビレットに配
置した。同時に、前記中空銅ビレットと前記超電導充填
層の間、および前記充填層と前記銅芯の間に外径2.3
8mmの断面円形の銅線をそれぞれ2層配置して複合ビ
レットを組立てた。つづいて、この複合ビレットを実施
例1と同様な稠密加工、面削、熱間押出を行って外径3
0mmの複合棒材とし、さらに実施例1と同様に引き抜
き加工して外径0.8mmの銅安定化多芯Nb−Ti超
電導線を製造した。このような方法で製造された超電導
線に埋設されたNb−Tiフィラメント径は、6μmで
あった。また、前記Nb−Tiフィラメントに対する銅
マトリックスの比(マトリックス/Nb−Tiフィラメ
ント)は1.9であった。
【0046】本実施例6により製造された超電導線につ
いて、実施例1と同様な方法により臨海電流密度(J
c)、n値およびフィラメントの断線率を測定した。そ
の結果、Jcは3050A/mm2 と高い値を示し、n
値は70と高く健全なフィラメントが形成され、さらに
断線率は2%と低いことが確認された。 実施例7〜9
【0047】まず、外径200mm、内径155mmの
銅管に外径150mmのNb−Tiインゴットを挿入
し、押出加工を行って外径22mmとした後、冷間で抽
伸と伸線加工を施し、最終工程で六角穴のダイスを用い
て伸線加工を施すことにより銅マトリックス中にNb−
47wt%Ti合金線を複合した対辺距離2.27mm
の断面正六角形の超電導素線を作製した。
【0048】次いで、前記断面六角形の超電導素線を外
径260mmの中空銅ビレット(銅管)内に7000本
充填して超電導充填層を前記中空銅ビレットに配置し
た。同時に、前記中空銅ビレットと前記超電導充填層の
間に対辺距離2.27mmの断面正六角形の銅線を1層
〜3層の範囲でそれぞれ配置して銅線の層数の異なる3
種の複合ビレットを組立てた。なお、前記中空銅ビレッ
トはその内面に配置される前記銅線の層数に応じて肉厚
を変えたものを用いた。すなわち、前記銅線を1層配置
する場合には内径186mmの中空ビレットを、前記銅
線を2層配置する場合には内径191mmの中空ビレッ
トを、前記銅線を3層配置する場合には内径195mm
の中空ビレットを、それぞれ用いた。
【0049】次いで、前記各複合ビレットを熱間静水圧
プレス(HIP)により圧縮成形して稠密加工した後、
面削し、さらに熱間押出を行って外径30mmの複合棒
材とした。つづいて、前記各複合棒材を引き抜き加工し
て外径0.8mmの3種の銅安定化多芯Nb−Ti超電
導線を製造した。なお、前記引き抜き加工は途中工程で
熱処理を併用して行った。このような方法で製造された
各超電導線に埋設されたNb−Tiフィラメント径は、
6μmであった。また、前記Nb−Tiフィラメントに
対する銅マトリックスの比(マトリックス/Nb−Ti
フィラメント)は1.9であった。 比較例2
【0050】実施例7と同様な断面正六角形の超電導素
線を外径260mm、内径181の中空銅ビレット内に
7000本充填して超電導充填層のみ前記中空銅ビレッ
トに配置して組立てた複合ビレットを用いた以外、実施
例7と同様な方法により銅安定化多芯Nb−Ti超電導
線を製造した。
【0051】本実施例7〜9および比較例2により製造
された超電導線について、実施例1と同様な方法により
臨海電流密度(Jc)、n値およびフィラメントの断線
率を測定した。その結果を下記表2に示す。
【0052】
【表2】
【0053】前記表2から明らかなように本発明の実施
例7〜9により製造された超電導線は、いずれも高いJ
c値を示し、またn値が高く銅マトリックスに埋設され
たフィラメントが健全であり、さらにフィラメントの断
線率も低いことがわかる。
【0054】これに対し、比較例2により製造された超
電導線はフィラメントの断線率が高く、そのためn値及
びJcが低くなる。なお、かかる超電導線のフィラメン
トの断線は、中空銅ビレットの内面近傍に相当する箇所
に集中していた。 実施例10
【0055】実施例7と同様な断面正六角形の超電導素
線を、中心に外径77mmの銅芯を配置した外径260
mm、内径201mmの中空銅ビレット(銅管)内に7
000本充填して超電導充填層を前記中空銅ビレットに
配置した。同時に、前記中空銅ビレットと前記超電導充
填層の間、および前記充填層と前記銅芯の間に対辺距離
2.27mmの断面正六角形の銅線をそれぞれ1層配置
して複合ビレットを組立てた。つづいて、この複合ビレ
ットを実施例7と同様な稠密加工、面削、熱間押出を行
って外径30mmの複合棒材とし、さらに実施例7と同
様に引き抜き加工して外径0.8mmの銅安定化多芯N
b−Ti超電導線を製造した。このような方法で製造さ
れた超電導線に埋設されたNb−Tiフィラメント径
は、6μmであった。また、前記Nb−Tiフィラメン
トに対する銅マトリックスの比(マトリックス/Nb−
Tiフィラメント)は1.9であった。
【0056】本実施例10により製造された超電導線に
ついて、実施例1と同様な方法により臨海電流密度(J
c)、n値およびフィラメントの断線率を測定した。そ
の結果、Jcは3045A/mm2 と高い値を示し、n
値は65と高く健全なフィラメントが形成され、さらに
断線率は1%と低いことが確認された。
【0057】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば複
合ビレットの延伸加工工程に際し、Nb−Tiフィラメ
ントの断線を低減して銅マトリックスに埋設される多数
本のNb−Tiフィラメントを30μm以下の極細線に
することで可能で、臨界電流密度などの超電導特性が優
れた超電導発電、MRI、粒子加速器等に好適な銅安定
化多芯Nb−Ti超電導線を量産的に製造し得る方法を
提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願第1の製造方法により組立てられた複合ビ
レットの一態様を示す横断面図。
【図2】本願第2の製造方法により組立てられた複合ビ
レットの一態様を示す横断面図。
【図3】本願第3の製造方法により組立てられた複合ビ
レットの一態様を示す横断面図。
【図4】本願第4の製造方法により組立てられた複合ビ
レットの一態様を示す横断面図。
【符号の説明】
1、11…銅管、2、12…超電導素線、3、13…超
電導素線充填層、4、14…銅線、5、15…銅芯。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 卓哉 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古河電気工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−281210(JP,A) 実開 昭57−170208(JP,U) 実開 昭58−131515(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 12/00 - 13/00 B21F 19/00 C22F 1/00

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 銅マトリックス中にNb−Ti合金フィ
    ラメントを複合した断面円形の超電導素線を作製する工
    程;前記超電導素線を銅管内に複数本充填すると共に、
    前記銅管内の超電導素線充填層と前記銅管内面との間に
    銅線を1層以上配置して複合ビレットを組立てる工程;
    前記複合ビレットを稠密加工し、さらに延伸加工を行う
    工程;を具備したことを特徴とする銅安定化多芯Nb−
    Ti超電導線の製造方法。
  2. 【請求項2】 銅マトリックス中にNb−Ti合金フィ
    ラメントを複合した断面円形の超電導素線を作製する工
    程と、前記超電導素線を中心に銅芯を配置した銅管内に
    複数本充填すると共に、前記銅管内の超電導素線充填層
    と前記銅管内面との間、および前記超電導素線充填層と
    前記銅芯の間に銅線をそれぞれ1層以上配置して複合ビ
    レットを組立てる工程と、前記複合ビレットを稠密加工
    し、さらに延伸加工を行う工程とを具備したことを特徴
    とする銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記銅線は、断面円形であり、かつその
    太さは前記超電導素線の0.1〜3倍の直径を有するこ
    とを特徴とする請求項1または2記載の銅安定化多芯N
    b−Ti超電導線の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記銅線は、前記超電導素線充填層と前
    記銅管内面との間に2〜6層配置されることを特徴とす
    る請求項1記載の銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製
    造方法。
  5. 【請求項5】 前記銅線は、前記超電導素線充填層と前
    記銅管内面との間、および前記超電導素線充填層と前記
    銅芯の間にそれぞれ2〜6層配置されることを特徴とす
    る請求項2記載の銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製
    造方法。
  6. 【請求項6】 前記銅安定化多芯Nb−Ti超電導線
    は、太さが30μm以下のNb−Tiフィラメントを多
    数本埋設された構造を有することを特徴とする請求項1
    または2記載の銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製造
    方法。
  7. 【請求項7】 銅マトリックス中にNb−Ti合金フィ
    ラメントを複合した断面六角形の超電導素線を作製する
    工程と、前記超電導素線を銅管内に複数本充填すると共
    に、前記銅管内の超電導素線充填層と前記銅管内面との
    間に銅線を1層以上(ただし、1層の場合は前記銅線は
    断面六角形のもの、2層以上の場合は少なくとも前記充
    填層と接する1層目の銅線は断面六角形のものを用い
    る)配置して複合ビレットを組立てる工程と、前記複合
    ビレットを稠密加工し、さらに延伸加工を行う工程とを
    具備したことを特徴とする銅安定化多芯Nb−Ti超電
    導線の製造方法。
  8. 【請求項8】 銅マトリックス中にNb−Ti合金フィ
    ラメントを複合した断面六角形の超電導素線を作製する
    工程と、前記超電導素線を中心に銅芯を配置した銅管内
    に複数本充填すると共に、前記銅管内の超電導素線充填
    層と前記銅管内面との間、および前記超電導素線充填層
    と前記銅芯の間に銅線をそれぞれ1層以上(ただし、1
    層の場合は前記銅線は断面六角形のもの、2層以上の場
    合は少なくとも前記充填層と接する1層目の銅線は断面
    六角形のものを用いる)配置して複合ビレットを組立て
    る工程と、前記複合ビレットを稠密加工し、さらに延伸
    加工を行う工程とを具備したことを特徴とする銅安定化
    多芯Nb−Ti超電導線の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記断面六角形の銅線は、その断面の対
    辺距離が前記断面六角形の超電導素線の対辺距離の0.
    9〜1倍であることを特徴とする請求項7または8記載
    の銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記銅線は、前記超電導素線充填層と
    前記銅管内面との間に1〜3層配置されることを特徴と
    する請求項7記載の銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の
    製造方法。
  11. 【請求項11】 前記銅線は、前記充填層と前記銅管内
    面との間、および前記充填層と前記銅芯の間にそれぞれ
    1〜3層配置されることを特徴とする請求項8記載の銅
    安定化多芯Nb−Ti超電導線の製造方法。
  12. 【請求項12】 前記銅安定化多芯Nb−Ti超電導線
    は、太さが30μm以下のNb−Tiフィラメントを多
    数本埋設された構造を有することを特徴とする請求項7
    または8記載の銅安定化多芯Nb−Ti超電導線の製造
    方法。
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