JP3060963U - 光ディスク初期化装置 - Google Patents

光ディスク初期化装置

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JP3060963U JP1999000238U JP23899U JP3060963U JP 3060963 U JP3060963 U JP 3060963U JP 1999000238 U JP1999000238 U JP 1999000238U JP 23899 U JP23899 U JP 23899U JP 3060963 U JP3060963 U JP 3060963U
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啓堂 謝
世光 李
文中 呉
▲運▼昌 楊
正宜 陳
振群 頼
火棋 陳
延真 林
國全 王
長青 林
プラマー・ウィリアム・ティー
グッドマン・ダグラス・エス
ロブリー・ジェフリー・ダブリュ
ザンブート・ジェームズ・ジェー
ジョレー・リチャード・エー
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華錦光電科技股▲分▼有限公司
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い消去率を有する相変位光記録光ディスク
もしくは高品質の光磁気光ディスクが得られる光ディス
ク初期化装置を提供する。 【解決手段】 初期化光源システムおよびオートフォー
カスシステムを有するオプティカルヘッド301と、オ
プティカルヘッド301を搭載し、光ディスク305、
306の半径方向に移動する直線シフトテーブル302
と、光ディスク305、306を支持して回転する回動
メイン軸303、304とを有し、高効率ダイオードレ
ーザを照射して光ディスク材料層の性質を変更する。初
期化光源システムは、高効率ダイオードレーザと、高効
率ダイオードレーザに対応して照射開口に対して画像転
換を行う光学エレメントシステムと、高効率ダイオード
レーザのビームを集中させて反射させる反射多面鏡と、
反射多面鏡を経たビームを集束し、レーザエネルギーを
オートフォーカスシステムに導入するプリフォーカスレ
ンズとを具える。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【考案の属する技術分野】
本考案は、光ディスク初期化装置に関し、特に特殊な設計による構造および光 学システムによって、すなわち相変位光記録光ディスクの光記録材料層もしくは 光磁気ディスクの光磁気材料層を迅速に初期化する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
相変位光記録光ディスクを例に挙げると、目下既に製品化されている相変位光 記録光ディスクの典型的な構造は、細微な溝模様を有する1.2mmもしくは0. 6mmのポリカーボネイト(以下、ポリカーボネイトを「PC」という)基本材料 と、第1誘電層と、相変位光記録材料層と、第2誘電層と、アルミメッキ反射層 と、紫外線硬化塗布層とによって構成される。そのうち相変位光記録材料層は、 スパッタリングメッキもしくはその他のメッキ法による膜形成工程によって形成 される。ただし、現在使用されている各種のメッキ膜形成工程には制限があり、 非結晶質の形態で光ディスクの基本材料上に均一にメッキを施している。メッキ 層形成処理を経た相変位光記録光ディスクは、初期化過程を通過しなければなら ない。すなわち、相変位光記録光ディスクを200℃以上の結晶質化温度に至る まで加熱し、非結晶質化した相変位光記録材料層を結晶質形態に転移させること によって、相変位光記録光ディスクの反射率を高める。このようにしてこそ、オ プティカルピックアップヘッドに供給できるだけの十分な反射光強度が得られ、 オートトラッキングおよびオートフォーカスの正常な機能を果たして書き込みの 目的を達することができる。目下、相変位光記録光ディスクの記録材料層を非結 晶質化した状態から結晶質形態に転移させる方法には、全体加熱方式および局部 加熱方式の二種類がある。一般に、PC基本機材のガラス温度は150〜200 ℃の間であって、このため全体加熱方式は相変位光記録材料層の初期化に応用す ることができない。局部加熱方式に至っては、PC基本材料のガラス温度を超え ることなくかつ相変位光記録材料層面に約200℃以上の温度を発生させるため の最も理想的な方法として、高効率ダイオードレーザを利用する方法が用いられ る。この方法によれば、高数値口径のレンズを介して高効率ダイオードレーザの ビームエネルギーを相変位光記録材料層面にフォーカスさせ、記録材料層層の局 部を瞬時加熱し、初期化の目的を達成する。この際、フォーカスビームのPC基 本材料上に照射する面積は、相変位光記録材料層の光ポイントよりもずっと大き く、このためPC基本材料に照射する光の量は比較的低い。したがって、フォー カスビームを相変位光記録材料層の局部に照射して瞬時加熱して初期化する場合 、PC基本材料の温度はガラス温度以下を維持することができ、相変位光記録光 ディスクの変形やそり発生などの問題を起こすことはない。
【0003】 相変位光記録光ディスクの消去能力は、ディスクが重複して読み取る回数に直 接影響する。相変位光記録光ディスクの消去能力はまた、初期化の条件と直接関 連する。ここでいうところの初期化条件とは、特にレーザ光ポイントが光ディス クの相変位光記録層のディスクに対するそれぞれ全ての位置を局部的に加熱し、 光ディスク上のそれぞれの位置が全て同等のエネルギーを受けることができ、結 晶化した相変位光記録材料層の結晶粒が一致性を有するようにすること、すなわ ち初期化後の光記録光ディスクが均一の反射率を具えることを指す。この場合、 光記録光ディスクの消去の能力は相対的に高められる。また、相変位光記録光デ ィスクの反射率の均一度を高めるための主な重点は、初期化に使用される高エネ ルギーレーザをフォーカスする相変位記録材料層の光ポイントの大きさおよびエ ネルギー密度の変異度にあり、一定のエネルギー密度を保った状態で相変位光記 録材料層にフォーカスする光ポイントが広ければ広いほど、このような光ポイン トの特性を具える高エネルギーレーザを利用して初期化した光記録光ディスクは 、相変位光記録光ディスクの消去能力が高まり、初期化のライン速度も相対的に 速くなって生産能力を向上させることができる。
【0004】 図9に従来の光記録光ディスク初期化装置を示す。該装置は、回動メイン軸1 03と、直線状シフトテーブル102と、オートフォーカスシステムおよび初期 化光源を含むオプティカルヘッド101とによって構成される。光記録光ディス ク104は、真空吸着もしくはその他機械的方式によって回動メイン軸103上 に固定され、回動メイン軸103と一緒に回動するオプティカルヘッド101は 直線状シフトテーブル102に固定される。オプティカルヘッド101内のオー トフォーカスシステムと初期化光源とは、いずれも同一の高効率ダイオードレー ザから光源を得て、一部のレーザ光源はオートフォーカスに用い、その他のレー ザ光源をフォーカスしたあと、光記録材料層に幅1μm、長さ96μmの細長い 光ポイントを形成し、直線状シフトテーブル102がレーザヘッドを載せた状態 で光記録ディスク104の半径方向に移動する際に、オートフォーカスシステム に合わせて光記録材料層に一定の大きさの光ポイントを保持し、また回動メイン 軸103の回動を保持して初期化の目的を達成する。このような従来の手段にお ける光学システムは、図10に示すように光記録材料層に幅約1μm、長さ96 μmの細長い光ポイント201を形成するものであって、このような方法は一対 一に対応する光学方式を応用して、高効率ダイオードにおいて幅約1μm、長さ 100μmの発射開口から100μm方向の両端の強度不均衡エリアを取り除き、 直接イメージフォーカスを形成して光記録材料層にほぼ幅1μm、長さ96μmの 細長い光ポイントを形成する。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、このような方法は、有効性のある焦点深度が比較的浅いため、 オートフォーカスシステムおよび光ポイントの大きさが振動システム、光ディス クの軸方向のぶれ、およびその他外からの干渉振動に対して敏感になり、オート フォーカスの不安定を引き起こしたり、光記録材料層の光ポイントのエネルギー 密度に変異量をもたせるなどの問題を発生させたりする。そして、このようなマ イナス面での効果は、初期化装置の初期化能力を直接下げることになる。また、 このような従来の方法における初期化およびオートフォーカスシステムの光源は 同一の高効率ダイオードレーザを利用してオプティカルヘッド全体を整合してい る。しかし、一般に高効率ダイオードレーザの寿命は2000〜3000時間の 間であり、この従来のシステムの運転時間がその寿命を超えた場合、オートフォ ーカスシステムを含むレーザヘッド全体が淘汰され、これを交換しなければなら なくなり、高効率ダイオードレーザだけを取り替えることはできない。したがっ て、従来の手段は経済的効果を具えていない。さらに、従来の手段は単一の回動 メイン軸を採用しており、メイン軸の起動と停止時間との関係で、システムの初 期化速度が遅くなる。
【0006】 したがって、本考案の目的は、高い消去率を有する相変位光記録光ディスクも しくは高品質の光磁気光ディスクを得ることができる光ディスク初期化装置を提 供することにある。 本考案の別の目的は、初期化時における外からの干渉振動に抗する能力が強い だけでなく、異なる厚みの基本材料を有する相変位光記録光ディスクに対して初 期化を行う場合、基本材料の厚さによって派生する球面画像差に対して抗画像差 能力を有し、システムの運転をさらに安定させることができる光ディスク初期化 装置を提供することにある。
【0007】 本考案のもう一つの目的は、高効率ダイオードレーザが寿命期限に至った場合 、高効率ダイオードレーザを含む初期化光源モジュールを単独で交換するだけで よく、オートフォーカスシステムを含むオプティカルヘッド全体を交換する必要 がない光ディスク初期化装置を提供することにある。 本考案のさらにもう一つの目的は、メイン軸の起動および停止によって浪費さ れるスタンバイ時間を省くことができる光ディスク初期化装置を提供することに ある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するための本考案の手段によると、相変変位光もしくは光磁 気記録光ディスクの初期化に関する品質および速度を高める。すなわち、光学シ ステムにおいて高効率ダイオードレーザの能力を整合し、輻射方向から入射する 高効率ダイオードレーザを微小な多面鏡にフォーカスし、あらゆる反射光を同一 方向のオプティカルパスにそって前進させ、最後にオートフォーカスシステムの フォーカスレンズで光記録材料層にフォーカスする。このような光学システムの 特殊設計によって、光記録材料層に比較的大きなエリアの光ポイントが形成され るのみならず、光記録材料層に照射するのに十分なレーザ密度を維持して初期化 を進行させることができる。よって、高い消去率を有する相変位光記録光ディス クもしくは高品質の磁気光記録光ディスクを得ることができる。また本考案は、 光学システムにおける独特の設計によって、初期化光源とフォーカス光源とを異 なる光源とし、初期化光源および一部の光学エレメント初期化光源モジュールと なるように設計し、オートフォーカスシステムと二つの独立したモジュールを形 成する。本考案の初期化装置の光学システムに関する特殊設計は、光学イメージ を二回動換する過程において、光学システムのフォーカスビームの焦点深度を従 来の手段の約9倍に高めることができる。しかも、システムの初期化光源モジュ ールおよびオートフォーカスシステムに対する機械的位置決めの誤差許容度もか なり高めることができる。この特性は、初期化装置の初期化時における外来の干 渉振動に抗する能力を強くするのみならず、本考案の初期化装置が異なる厚み( 1.2mmもしくは0.6mm)を有する基本材料の相変位光記録光ディスクに対し て初期化を行う場合、基本材料の厚さによって派生する球面画像差に対して抗画 像差能力を有するため、システムの運転をさらに安定させることができる。しか も、高効率ダイオードレーザが2000〜3000時間の寿命期限に至った場合 、高効率ダイオードレーザを含む初期化光源モジュールを単独に交換するだけで よく、従来の手段のようにオートフォーカスシステムを含むオプティカルヘッド 全体を交換する必要がない。よって、時間的効率および経済的効果から考えると 、本考案の手段は従来のシステム手段に比べて、さらに良好な産業上の利用価値 を有する。また、本考案の初期化装置は、寿留合いのシステム手段の単一メイン 軸を設ける他に、ツイン回動軸もしくはさらに多くの回動メイン軸を採用した構 造に設計してもよく、これを以って従来の手段の単一双方向回動メイン軸に関す る設計に見られるようなメイン軸の起動および停止によって浪費されるスタンバ イ時間(約10秒)を省く。したがって、本考案の初期化装置はシステムの初期 化速度を効果よく大きくすることができ、生産能力を増強することができる。
【0009】
【考案の実施の形態】
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。なお、説明を簡略化するた めに、以下の実施例ではいずれもツイン回動軸を備えた構造となっている。 (第1実施例) 図1に本考案の第1実施例による光ディスク初期化装置を示す。この装置は、 オプティカルヘッド301と、直線状シフトテーブル302と、二本の回動メイ ン軸303、304とを含み、相変位もしくは光磁気記録による光ディスク30 5、306は真空吸着によってそれぞれ回動メイン軸303、304上に固定さ れる。そして、オプティカルヘッド301は直線状シフトテーブル302上に適 宜固定される。光ディスクは等線状速度(CLV)、もしくは等角速度(CAV )に従って相対運動を行う。直線状シフトテーブル302がレーザヘッドを搭載 して回動メイン軸303上の光ディスク305の半径方向に移動して初期化が進 行すると、他方の回動メイン軸304がスタンバイ状態に入り、回動メイン軸3 03上の光ディスク305の初期化が完成すると、直線状シフトテーブル302 はモータ307の駆動によって回動メイン軸303、304の中心を結ぶ線の方 向に沿って運動し、オプティカルヘッド301を搭載して迅速に回動メイン軸3 04上の光ディスク306に移動し、初期化を進行させる。この際、回動メイン 軸303は再度スタンバイ状態に入り、このような循環方式の動作によって本実 施例の初期化装置の初期化工程が進行する。オプティカルヘッド301に1ワッ トの高効率ダイオードレーザを六本取付けることによって、相変位光記録材料層 あるいは光磁気材料層としての光ディスク材料層に幅約3μm、長さ約180μ mのフォーカス光スポットを発生させることができる。この際、光ディスク材料 層は従来の方式と同様のレーザエネルギー密度を有する。直径120mmの相変 位光記録光ディスクの初期化を例に挙げると、一枚毎の初期化は約15秒以内に 完成する。相変位材料層にフォーカスする光ポイントの範囲は従来の手段の約6 倍に高められ、かつ広いエリアの光ポイント内においては従来の手段と同様のエ ネルギー密度を得ることができる。よって、本実施例の初期化装置によって初期 化される相変位光記録光ディスクは最も理想的な結果を得ることができる。すな わち、消去率の高い相変位光記録光ディスクを得ることができる。本実施例の初 期化装置のオプティカルヘッドにおける光学システム構造について、以下に説明 を加える。
【0010】 図2に本実施例の初期化装置におけるオプティカルヘッド301の光学システ ムを示す。該オプティカルヘッド301は、初期化光源システム401およびオ ートフォーカスシステム402の両部分を含む。本実施例における初期化光源シ ステム401は六本の高効率ダイオードレーザ403、404、405、406 、407、408を具え、微小な反射短面鏡409を中心として輻射状に配置さ れ、各高効率ダイオードレーザはそれぞれ複数の光学エレメントを含む光学シス テム410、411、412、413、414、415に対応する。一組毎の光 学エレメントの作用は、各高効率ダイオードレーザの照射開口の数値口径を該照 射開口に対して垂直に交わる数値口径および平行する数値口径に相当させ、かつ 口径数値の矯正口径数値によって発生する收差、非收差点を補正し、これを以っ て各ビームがほとんど平行するビームとなるように調整することである。そして 、フォーカスレンズ416、417、418、419、420、421によって これらビームをフォーカスしたあと、各高効率ダイオードレーザの幅1μm、長 さ100μmの照射開口径を光学システムに対応させ、それぞれ微小な反射多面 鏡409に近在する位置に画像フォーカスを形成する。この六本の高効率ダイオ ードレーザの照射が微小な反射多面鏡409による反射を経て同等効果を有する 画像フォーカスを形成する位置は、共通平面を有する特性を具え、かつ各高効率 ダイオードレーザの照射開口の画像は前記の光学システムを経て長手方向に50 倍、幅方向に6.6倍拡大される。すなわち、微小な反射多面鏡409による反 射を経た各高効率ダイオードレーザの照射が微小な反射多面鏡409の位置に画 像形成する共通平面の光ポイントの大きさは、いずれも50μm、660μmで ある。この微小な反射多面鏡409の作用は、六本の高効率ダイオードレーザの 照射を互いに平行する六本のビームとして光源とし、かつ各高効率ダイオードレ ーザの照射が反射されたビームの長さとエリアの大きさとを正確に制御する。こ の六本のビームが互いに平行する光源は、さらに同等効果拡大倍率が0.06の プリフォーカスレンズ422と、図5に示すオートフォーカスシステムにおける フォーカスレンズ616とによる光学的組み合わせを経て、相変位光記録材料層 としての光ディスク材料層615にビームをフォーカスする。このような光学構 造の下、各高効率ダイオードレーザが相変位光記録光ディスク材料層615に図 4に示すように、幅3μm、長さ30μmの光ポイントを形成し、さらに該光ポ イント502、504、504、505、506、507を横方向に配列して長 さ180μmの光ポイントを形成し、これを以って六本の高効率ダイオードレー ザが光ディスク材料層に形成する幅3μm、長さ180μmの光ポイント501 とする。ここにおいて、光ディスク材料層の光ポイントの長手方向の長さを本来 の40μmから30μmにする。これは、微小な反射多面鏡が各高効率ダイオー ドレーザの照射を反射させたあとのビームの長さとエリアの大きさとを制御した 結果によるものである。
【0011】 図5にオートフォーカスシステム402の光学設計に関する図を示す。ここに 採用される低効率レーザ光源601の波長は高効率ダイオードレーザと異なる。 レーザ光源601は平行化レンズ602を経てビームが平行化した後、偏極スペ クトルレンズ603による反射を経てフォーカスレンズ616の一側面に照射さ れ、高効率ダイオードレーザのビーム423と一緒に光ディスク材料層615に フォーカスされ、発生した反射光は、さらにフォーカスレンズ616のもう一側 面を経て偏極スペクトルレンズ603に戻り、反射後のビームは直角プリズム6 04による屈折を経て、さらにフォーカスレンズ605によって光信号として光 センサ606にフォーカスされる。光センサ606によって測定された信号をソ ニックコイルモータ607に伝えてレンズフォーカスの位置を調整することによ り、オートフォーカスレーザと高効率ダイオードレーザとが初期化の進行時にフ ォーカス状態を保持できるようにする。また、本実施例のオートフォーカスシス テムにおいて、内部に位置測定光学センサを設ける。この装置はフォーカスレン ズ616の位置を測定する機能を有し、その原理は発光ダイオード609、61 0がフォーカスレンズ616の固定スリーブ613外周の目盛り614に照射し 、画像形成レンズ611が目盛り614の画像に基づいて光センサ612上に画 像を形成するものである。そして、光ディスク材料層615とフォーカスレンズ 616との間に相対的な変動量を有する場合、光センサ612は位置に直接関連 する信号が得られる。この信号によって、光ディスク材料層615とフォーカス レンズ616との間の相対的な位置変動量を知ることができる。したがって、光 ディスクに対する初期化を進行させる場合、この位置測定光学センサ608を利 用することによって、光ディスクの垂直偏向振れ量が許容範囲を超過しているか 否かを知ることができる。この機能を加えることによって、光ディスクの偏向振 れの品質を監視する作用をもつ。
【0012】 (第2実施例) 図6に本考案の第2実施例による初期化装置の光学システムを示す。このシス テムにおいて、部分的な光学エレメントの配置は第1実施例とほぼ同じであるが 、第1実施例の微小な反射多面鏡409は、第2実施例では平面屈曲式光学エレ メント409aを以って代替する。該屈曲式光学エレメント409aは細密な平 面にフリンジ模様を有し、六つのエリアに分けられる。細密なフリンジ屈曲を利 用して第1実施例の反射多面鏡409による反射の代替とする原理は、六本の高 効率ダイオードレーザの照射を集中させて六本のビームが平行する光源とし、か つ半導体製造工程もしくはその他製造工程で屈曲式光学エレメント409aの各 エリアの大きさを制御することによって、各高効率ダイオードレーザが照射した ビームの長さとエリアの大きさとを正確に制御する。図7に局部を拡大表示して 屈曲式光学エレメント409aの作用を示す。該屈曲式光学エレメント409a は複数のエリアに分けられ、各エリアは照射される光と屈曲方向とに基づき、そ れぞれフリンジ距離を有する。該屈曲式光学エレメント409aの断面は正弦か 、もしくはのこぎり状とする。ただし、屈曲式光学エレメント409aの屈曲効 果を高めるために、本実施例においてはのこぎり状の設計を採用し、屈曲式光学 エレメント409aによって屈曲して照射される光の強度を最大にした。
【0013】 (第3実施例) 図8に本考案の第3実施例による初期化装置の光学システムを示す。このシス テムにおいては、第1実施例による各高効率ダイオードレーザに対応する光学シ ステムと同様のシステムを採用した。図8において、高効率ダイオードレーザ4 03は複数の光学エレメントモジュール410を経た後、フォーカスレンズ41 6によって高効率ダイオードレーザの照射開口に掲載される画像をオプティカル パスの空間に形成し、プリフォーカスレンズ422と、オートフォーカスシステ ム402内のフォーカスレンズ616とによって、直接光ディスク材料層615 に幅3μm、長さ40μmのフォーカス光ポイントを形成する。この第3実施例 における光学システムは、フォーカスレンズ416およびプリフォーカスレンズ 422の大きさと位置とを適宜に調整することによって、光ディスク615上に 異なる幅と長さ(例えば幅3μm、長さ100μm)のフォーカス光ポイントを 形成することができる。この光学設計は二回のフォーカス形成画像転換の過程を 経ることによって、光学エレメントの機械的位置決めの誤差と許容度とを高め、 これを以て光学システムの品質高めるものである。よって、この第3実施例によ る光学設計は、第1実施例による高効率ダイオードレーザを有するモジュールを 具え、光学特性として機械的誤差に対する比較的大きな誤差許容度を有するため 、初期化モジュール全体を単独で交換する場合、特殊な調整過程を必用としない 。しかも、システム全体の外からの干渉に抗する能力において、同様に優れた性 能を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の第1実施例による光ディスク初期化装
置を示す斜視図である。
【図2】本考案の第1実施例によるオプティカルヘッド
を示す図である。
【図3】本考案の第1実施例による反射多面鏡を示す図
である。
【図4】本考案の第1実施例による高効率ダイオードレ
ーザによって光ディスク材料層に形成された光ポイント
を示す平面図である。
【図5】本考案の第1実施例によるオートフォーカスシ
ステムを示す図である。
【図6】本考案の第2実施例によるオプティカルヘッド
を示す図である。
【図7】本考案の第2実施例による屈曲式光学エレメン
トを示す図である。
【図8】本考案の第3実施例によるオプティカルヘッド
を示す図である。
【図9】従来の光ディスク初期化装置を示す斜視図であ
る。
【図10】従来の光ディスク初期化装置によって光ディ
スク材料層に形成された光ポイントを示す平面図であ
る。
【符号の説明】
301 オプティカルヘッド 302 直線状シフトテーブル 303、304 回動メイン軸 305、306 光ディスク 401 初期化光源システム 402 オートフォーカスシステム 403、404、405、406、407、408 高
効率ダイオードレーザ 501、502、503、504、505、506、5
07 光ポイント 615 光ディスク材料層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 陳 正宜 台湾台北県土城市永安街83巷19号11樓 (72)考案者 頼 振群 台湾新竹県關西鎭明▲徳▼路50之2号 (72)考案者 陳 火棋 台湾台北市基隆路二段166号10樓之1 (72)考案者 林 延真 台湾台北県土城市延和路105巷2弄7号1 樓 (72)考案者 王 國全 台湾台北市士林区福港街262巷15−1号2 樓 (72)考案者 林 長青 台湾台北市士林区華齡街49号4樓 (72)考案者 プラマー・ウィリアム・ティー 台湾台北市基隆路三段130号地下1階 華 錦光電科技股▲分▼有限公司内 (72)考案者 グッドマン・ダグラス・エス 台湾台北市基隆路三段130号地下1階 華 錦光電科技股▲分▼有限公司内 (72)考案者 ロブリー・ジェフリー・ダブリュ 台湾台北市基隆路三段130号地下1階 華 錦光電科技股▲分▼有限公司内 (72)考案者 ザンブート・ジェームズ・ジェー 台湾台北市基隆路三段130号地下1階 華 錦光電科技股▲分▼有限公司内 (72)考案者 ジョレー・リチャード・エー 台湾台北市基隆路三段130号地下1階 華 錦光電科技股▲分▼有限公司内

Claims (12)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オプティカルヘッドと、直線シフトテー
    ブルと、複数の回動メイン軸とを備える光ディスク初期
    化装置であって、 前記オプティカルヘッドは、初期化光源モジュールおよ
    びオートフォーカスモジュールを有し、相変位光記録光
    ディスクの相変位光記録材料層もしくは光磁気光ディス
    クの光磁気材料層に安定した広いエリアの初期化光ポイ
    ントを形成し、 前記直線シフトテーブルは、前記オプティカルヘッドを
    搭載し、相変位光記録光ディスクもしくは光磁気光ディ
    スクの半径方向に移動し、 前記回動メイン軸は、前記相変位光記録光ディスクもし
    くは光磁気光ディスクを支持して特定の速度で回転し、 高効率ダイオードレーザの照射を利用して前記相変位光
    記録材料層もしくは前記光磁気材料層の性質を変更させ
    ることを特徴とする光ディスク初期化装置。
  2. 【請求項2】 前記相変位光記録材料層は、コンパクト
    ディスク−リライタブル、デジタルビデオディスク−リ
    ライタブル、デジタルバースタイル−ランダムアクセス
    メモリもしくはさらに高い容量を有するものであること
    を特徴とする請求項1記載の光ディスク初期化装置。
  3. 【請求項3】 前記初期化光源モジュールは、前記相変
    位光記録材料層もしくは前記光磁気材料層に対する初期
    化エネルギーを提供する複数の高効率ダイオードレーザ
    と、それぞれ複数の光学エレメントを含み、前記複数の
    高効率ダイオードレーザにそれぞれ対応してかつ照射開
    口に対して画像転換を行う複数の光学エレメントシステ
    ムと、前記高効率ダイオードレーザのビームを集中させ
    て反射させ、その反射によって形成されるメインビーム
    が平行するビームを形成する微小な反射多面鏡と、前記
    メインビームが平行するビームを予め集束し、前記高効
    率ダイオードレーザのエネルギーを前記オートフォーカ
    スモジュールに導入するプリフォーカスレンズとを有す
    ることを特徴とする請求項1記載の光ディスク初期化装
    置。
  4. 【請求項4】 前記オートフォーカスモジュールは、前
    記相変位光記録光ディスクもしくは光磁気光ディスクの
    ディスク垂直偏向量を測定するフォーカスレンズ位置セ
    ンサシステムを有することを特徴とする請求項1記載の
    光ディスク初期化装置。
  5. 【請求項5】 前記高効率ダイオードレーザおよび前記
    光学エレメントシステムは、組み合わせて独立したユニ
    ットとすることが可能であって、そのユニットは単独で
    取り外し可能なことを特徴とする請求項3記載の光ディ
    スク初期化装置。
  6. 【請求項6】 前記初期化光源モジュールは、前記相変
    位光記録材料層もしくは前記光磁気材料層に対する初期
    化エネルギーを提供する高効率ダイオードレーザと、そ
    の高効率ダイオードレーザに対応してかつ照射開口に対
    して画像転換を行う複数のエレメントを含む光学エレメ
    ントシステムと、画像転換を行ったあとのビームを予め
    集束し、前記高効率ダイオードレーザのエネルギーを前
    記オートフォーカスモジュールに導入するプリフォーカ
    スレンズとを有することを特徴とする請求項1記載の光
    ディスク初期化装置。
  7. 【請求項7】 前記高効率ダイオードおよび前記光学エ
    レメントシステムは、組み合わせて独立したユニットと
    することが可能であって、そのユニットは単独で取り外
    し可能なことを特徴とする請求項6記載の光ディスク初
    期化装置。
  8. 【請求項8】 前記反射多面鏡は、半導体製造工程を応
    用して製作されることを特徴とする請求項3記載の光デ
    ィスク初期化装置。
  9. 【請求項9】 前記反射多面鏡は、多軸ダイヤモンドタ
    ーニング加工機を応用して製作されることを特徴とする
    請求項3記載の光ディスク初期化装置。
  10. 【請求項10】 前記反射多面鏡は、屈曲式光学エレメ
    ントで代替可能なことを特徴とする請求項3記載の光デ
    ィスク初期化装置。
  11. 【請求項11】 前記屈曲式光学エレメントは、半導体
    製造工程を応用して製作されることを特徴とする請求項
    10記載の光ディスク初期化装置。
  12. 【請求項12】 前記回動メイン軸は、単一の軸であっ
    て、前記相変位光記録光ディスクもしくは光磁気光ディ
    スクを支持して特定の速度で回転することを特徴とする
    請求項1記載の光ディスク初期化装置。
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