JP2931987B2 - 可逆光ディスクの初期化方法 - Google Patents
可逆光ディスクの初期化方法Info
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- JP2931987B2 JP2931987B2 JP2072695A JP7269590A JP2931987B2 JP 2931987 B2 JP2931987 B2 JP 2931987B2 JP 2072695 A JP2072695 A JP 2072695A JP 7269590 A JP7269590 A JP 7269590A JP 2931987 B2 JP2931987 B2 JP 2931987B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、可逆光ディスクを非晶質から結晶質に初期
化する初期化方法に関する。
化する初期化方法に関する。
（従来の技術） この種の可逆光ディスクは、記録膜の結晶質及び非晶
質状態における光の屈折率、反射率の変化を利用してデ
ータの記録、再生、消去を行う相変化形可逆光ディスク
であり、製作時には上記可逆光ディスクは非晶質状態で
反射率が低く、さらにその反射率が均質でないので、ピ
ックアップアークチェータ等のデータ検知装置で、可逆
光ディスクに記録されているデータを検知することがで
きない。そこで、従来では、出力６［mW］の半導体レー
ザ等のレーザ光をビーム径1.6［μｍ］に集光して、線
速度6.0［m/s］で回転する可逆光ディスクに照射して記
録膜を非晶質状態から高反射率で均質な結晶質状態にし
ている。
質状態における光の屈折率、反射率の変化を利用してデ
ータの記録、再生、消去を行う相変化形可逆光ディスク
であり、製作時には上記可逆光ディスクは非晶質状態で
反射率が低く、さらにその反射率が均質でないので、ピ
ックアップアークチェータ等のデータ検知装置で、可逆
光ディスクに記録されているデータを検知することがで
きない。そこで、従来では、出力６［mW］の半導体レー
ザ等のレーザ光をビーム径1.6［μｍ］に集光して、線
速度6.0［m/s］で回転する可逆光ディスクに照射して記
録膜を非晶質状態から高反射率で均質な結晶質状態にし
ている。
なお、レーザ出力をＰ［Ｗ］、ビーム径をΦ［μ
ｍ］、線速度をＶ［m/S］とすると、可逆光ディスクに
照射される単位面積当たりのエネルギーは、（P/π（Φ
/2）2）・（Φ/v）×106となるので、上記例の数値を代
入すると、 （P/π（Φ/2）2）・（Φ/v）×106 ＝（6mW/π（0.8μｍ）2）／（1.6μm/6.0m/s） ≒1000/π（0.8）2≒1120［Ｗ・S/m2］ となる。すなわち、（P/Φｖ）≒103［Ｗ・S/m2］とな
る。
ｍ］、線速度をＶ［m/S］とすると、可逆光ディスクに
照射される単位面積当たりのエネルギーは、（P/π（Φ
/2）2）・（Φ/v）×106となるので、上記例の数値を代
入すると、 （P/π（Φ/2）2）・（Φ/v）×106 ＝（6mW/π（0.8μｍ）2）／（1.6μm/6.0m/s） ≒1000/π（0.8）2≒1120［Ｗ・S/m2］ となる。すなわち、（P/Φｖ）≒103［Ｗ・S/m2］とな
る。
また、可逆光ディスクの内半径、外半径をｒ1、ｒ2、
送りピッチ（トラックピッチ）をｄとすると、 上記トラックピッチｄは、 ｄ＝ｘ（Φ/2） （ただし、ｘは係数） となり、走査全長Ｌは、 Ｌ＝２πｒ1＋２π（ｒ1＋ｄ）＋２π（ｒ1＋ｄ）＋… …＋２π（ｒ1＋Nd） ＝２π｛（Ｎ＋１）ｒ1＋dN（Ｎ＋１）/2｝ ≒２π（Nr1＋dN2/2） ＝πＮ（2r1＋dN） ただし、Ｎは走査の周回数で、Ｎ》１とする。） ここで、ｒ1＋dN＝ｒ2なので、Ｌ≒（π/d）（ｒ2 2−
ｒ1 2）×106となる。また、初期化処理の所要時間Ｔ
は、Ｔ＝（L/v）（1/60）なので、上記走査全長Ｌの式
を代入すると、 Ｔ＝（106×π/60）（（ｒ2 2−ｒ1 2）/vd） となっていた。
送りピッチ（トラックピッチ）をｄとすると、 上記トラックピッチｄは、 ｄ＝ｘ（Φ/2） （ただし、ｘは係数） となり、走査全長Ｌは、 Ｌ＝２πｒ1＋２π（ｒ1＋ｄ）＋２π（ｒ1＋ｄ）＋… …＋２π（ｒ1＋Nd） ＝２π｛（Ｎ＋１）ｒ1＋dN（Ｎ＋１）/2｝ ≒２π（Nr1＋dN2/2） ＝πＮ（2r1＋dN） ただし、Ｎは走査の周回数で、Ｎ》１とする。） ここで、ｒ1＋dN＝ｒ2なので、Ｌ≒（π/d）（ｒ2 2−
ｒ1 2）×106となる。また、初期化処理の所要時間Ｔ
は、Ｔ＝（L/v）（1/60）なので、上記走査全長Ｌの式
を代入すると、 Ｔ＝（106×π/60）（（ｒ2 2−ｒ1 2）/vd） となっていた。
（発明が解決しようとする課題） ところが、上記初期化方法では、レーザ出力が低いの
で、ビーム径を小さくしてレーザ光のトラックピッチを
狭くしなければならず、このため可逆光ディスクを結晶
化して初期化するまで長時間がかかり、例えばｒ1を0.0
3、ｒ2を0.06、ｘを１として、上記半導体レーザの場合
を示すと、処理時間Ｔ≒（141/vd）＝282/vxΦ≒56
（分）、すなわち１枚の可逆光ディスクを初期化処理す
るのに、56分もかかると共に、結晶の均質化が難しい。
また、上記出力が低いレーザでは、ビーム径が小さいの
で、可逆光ディスク上でのレーザ光の焦点合せが難し
く、焦点合せにも時間がかかり、全体の初期化の処理が
遅延してしまうという問題点があった。
で、ビーム径を小さくしてレーザ光のトラックピッチを
狭くしなければならず、このため可逆光ディスクを結晶
化して初期化するまで長時間がかかり、例えばｒ1を0.0
3、ｒ2を0.06、ｘを１として、上記半導体レーザの場合
を示すと、処理時間Ｔ≒（141/vd）＝282/vxΦ≒56
（分）、すなわち１枚の可逆光ディスクを初期化処理す
るのに、56分もかかると共に、結晶の均質化が難しい。
また、上記出力が低いレーザでは、ビーム径が小さいの
で、可逆光ディスク上でのレーザ光の焦点合せが難し
く、焦点合せにも時間がかかり、全体の初期化の処理が
遅延してしまうという問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであって、
レーザを高出力にして可逆光ディスクの初期化処理を迅
速に、かつ均質に行うことができる可逆光ディスクの初
期化方法を提供することを目的とする。
レーザを高出力にして可逆光ディスクの初期化処理を迅
速に、かつ均質に行うことができる可逆光ディスクの初
期化方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために、本発明では、高出力のレ
ーザ光源から出力するレーザ光を光学素子で集光した
後、所定速度で回転する可逆光ディスクの記録膜に照射
し、該可逆光ディスクの記録膜を非晶質から結晶質に初
期化する可逆光ディスクの初期化方法において、前記可
逆光ディスクの代わりにスリットを設けたダミーディス
クをセットし、所定速度で回転する該ダミーディスクに
前記レーザ光を照射し、前記スリットからの透過光を検
出して、該透過光の光強度分布に対応したレーザのスポ
ット径を求めると共に、前記レーザ光が可逆光ディスク
の記録膜で前記スポット径になるように焦点位置合わせ
を行った後、前記可逆光ディスクを初期化する可逆光デ
ィスクの初期化方法が提供される。
ーザ光源から出力するレーザ光を光学素子で集光した
後、所定速度で回転する可逆光ディスクの記録膜に照射
し、該可逆光ディスクの記録膜を非晶質から結晶質に初
期化する可逆光ディスクの初期化方法において、前記可
逆光ディスクの代わりにスリットを設けたダミーディス
クをセットし、所定速度で回転する該ダミーディスクに
前記レーザ光を照射し、前記スリットからの透過光を検
出して、該透過光の光強度分布に対応したレーザのスポ
ット径を求めると共に、前記レーザ光が可逆光ディスク
の記録膜で前記スポット径になるように焦点位置合わせ
を行った後、前記可逆光ディスクを初期化する可逆光デ
ィスクの初期化方法が提供される。
（作用） 可逆光ディスクの代わりに、ダミーディスクをセット
して回転させて、上記ダミーディスクのスリットを透過
する透過光の光強度分布からレーザのスポット径を求
め、照射されたレーザ光が可逆光ディスクの記録膜で上
記求めたスポット径になるように、光学素子を移動させ
て焦点位置合わせを行い、上記位置合わせが終了する
と、上記可逆光ディスクを次々にセットして初期化を行
う。
して回転させて、上記ダミーディスクのスリットを透過
する透過光の光強度分布からレーザのスポット径を求
め、照射されたレーザ光が可逆光ディスクの記録膜で上
記求めたスポット径になるように、光学素子を移動させ
て焦点位置合わせを行い、上記位置合わせが終了する
と、上記可逆光ディスクを次々にセットして初期化を行
う。
従って、可逆光ディスクの記録膜は、高出力のレーザ
光によって非晶質から結晶質に良好に初期化されると共
に、各可逆光ディスクの初期化を迅速に実行することが
できる。
光によって非晶質から結晶質に良好に初期化されると共
に、各可逆光ディスクの初期化を迅速に実行することが
できる。
（実施例） 以下、本発明の実施例を第１図乃至第４図の図面に基
づき詳細に説明する。
づき詳細に説明する。
第１図は、本発明に係る可逆光ディスクの初期化装置
の構成を示す構成ブロック図である。図において、レー
ザー装置11は、アルゴンガス、He-Neガス、クリプト
ン、銅蒸気、エキシマ等のレーザからなり、レーザ出力
0.5〜10［Ｗ］のレーザ光を出力している。上記レーザ
ー装置11から出力されたレーザ光は、エキスパンドコリ
メートレンズ12で平行光となって光学素子であるミラー
13〜15で所定方向に反射される。上記反射された平行光
は、集光レンズ16で集光されて、ディスクマウント17に
セットされたダミーディスク18を照射している。
の構成を示す構成ブロック図である。図において、レー
ザー装置11は、アルゴンガス、He-Neガス、クリプト
ン、銅蒸気、エキシマ等のレーザからなり、レーザ出力
0.5〜10［Ｗ］のレーザ光を出力している。上記レーザ
ー装置11から出力されたレーザ光は、エキスパンドコリ
メートレンズ12で平行光となって光学素子であるミラー
13〜15で所定方向に反射される。上記反射された平行光
は、集光レンズ16で集光されて、ディスクマウント17に
セットされたダミーディスク18を照射している。
上記ミラー15は、モータ20の駆動によってスライドす
るスライドステージ21の所定位置に取り付けられてお
り、集光レンズ16は、レーザフォーカシングが可能なよ
うに、手動ステージ16aを介してスライドステージ21に
取り付けられており、上記スライドステージ21に対して
上下方向に移動が可能になっている。また、ステージコ
ントローラ22は、上記スライドステージ21がレーザ光を
所定ピッチで移動するように、モータ20を駆動制御して
いる。従って、ミラー15及び集光レンズ16は、上記スラ
イドステージ21の移動に伴って、レーザ光を所定ピッチ
でダミーディスク18の中心方向、又は外周方向に移動さ
せることができる。
るスライドステージ21の所定位置に取り付けられてお
り、集光レンズ16は、レーザフォーカシングが可能なよ
うに、手動ステージ16aを介してスライドステージ21に
取り付けられており、上記スライドステージ21に対して
上下方向に移動が可能になっている。また、ステージコ
ントローラ22は、上記スライドステージ21がレーザ光を
所定ピッチで移動するように、モータ20を駆動制御して
いる。従って、ミラー15及び集光レンズ16は、上記スラ
イドステージ21の移動に伴って、レーザ光を所定ピッチ
でダミーディスク18の中心方向、又は外周方向に移動さ
せることができる。
ディスクマウント17は、DCサーボモータ19の駆動によ
って回動してダミーディスク18を回転させており、DCサ
ーボモータ19は、スピンドルコントローラ23によってダ
ミーディスク18を所定方向に、かつ所定速度で回転する
ように、駆動制御されている。
って回動してダミーディスク18を回転させており、DCサ
ーボモータ19は、スピンドルコントローラ23によってダ
ミーディスク18を所定方向に、かつ所定速度で回転する
ように、駆動制御されている。
上記ダミーディスク18は、第２図に示すように、中心
から外周方向に設けられた１つのスリット18a（例え
ば、５［μｍ］幅のスリット）を備え、矢印方向に回転
することによって上記集光レンズ16からのレーザ光をス
リット18aを介して下方に透過している。
から外周方向に設けられた１つのスリット18a（例え
ば、５［μｍ］幅のスリット）を備え、矢印方向に回転
することによって上記集光レンズ16からのレーザ光をス
リット18aを介して下方に透過している。
上記透過光は、ダミーディスク18の下方に設けられた
光センサ24で検出されて、センサ出力としてオシロスコ
ープ等からなるスポット径検出部25に出力される。スポ
ット径検出部25は、光センサ24からのセンサ出力をモニ
タして光強度に応じたガウス分布を表示し、上記ガウス
分布の裾野をスポット径とする（第３図参照）。上記ス
ポット径は、レーザ光のいわゆるビームウエストに相当
し、その径は50〜70［μｍ］程度である。使用者は、上
記幅のスポット径になるように、手動ステージ16aを駆
動させることによって、集光レンズ16を移動させてレー
ザフォーカシングを行い、ダミーディスク18の表面にレ
ーザ光の焦点を合わせる。
光センサ24で検出されて、センサ出力としてオシロスコ
ープ等からなるスポット径検出部25に出力される。スポ
ット径検出部25は、光センサ24からのセンサ出力をモニ
タして光強度に応じたガウス分布を表示し、上記ガウス
分布の裾野をスポット径とする（第３図参照）。上記ス
ポット径は、レーザ光のいわゆるビームウエストに相当
し、その径は50〜70［μｍ］程度である。使用者は、上
記幅のスポット径になるように、手動ステージ16aを駆
動させることによって、集光レンズ16を移動させてレー
ザフォーカシングを行い、ダミーディスク18の表面にレ
ーザ光の焦点を合わせる。
すなわち、本実施例では、スピンドルコントローラ23
によるDCサーボモータ19の駆動制御によって一定の線速
度で回転するダミーディスク18に、集光したレーザ光を
照射して、ステージコントローラ22によるステージモー
タ20の駆動制御によって所定のトラックピッチで上記ダ
ミーディスク18全面にわたるトラッキングを行う。これ
に伴ってスポット径検出部25は、上記スリット18aから
透過する透過光によるガウス分布を表示させ、上記ガウ
ス分布に応じたスポット径を求めることができる。そし
て、使用者は、集光レンズ16を移動させて、上記スポッ
ト径に一致するように、レーザフォーカシングを行い、
スポット径を修正する。修正後は、ダミーディスク18を
取り外して可逆光ディスクをディスクマウント17にセッ
トし、上記修正したレーザ光による可逆光ディスク全面
のトラッキングを行う。上記トラッキングは、ダミーデ
ィスク18の場合と同様、一定の線速度及び所定のトラッ
クピッチで行う。
によるDCサーボモータ19の駆動制御によって一定の線速
度で回転するダミーディスク18に、集光したレーザ光を
照射して、ステージコントローラ22によるステージモー
タ20の駆動制御によって所定のトラックピッチで上記ダ
ミーディスク18全面にわたるトラッキングを行う。これ
に伴ってスポット径検出部25は、上記スリット18aから
透過する透過光によるガウス分布を表示させ、上記ガウ
ス分布に応じたスポット径を求めることができる。そし
て、使用者は、集光レンズ16を移動させて、上記スポッ
ト径に一致するように、レーザフォーカシングを行い、
スポット径を修正する。修正後は、ダミーディスク18を
取り外して可逆光ディスクをディスクマウント17にセッ
トし、上記修正したレーザ光による可逆光ディスク全面
のトラッキングを行う。上記トラッキングは、ダミーデ
ィスク18の場合と同様、一定の線速度及び所定のトラッ
クピッチで行う。
また、第４図は、各レーザ出力を有するレーザ装置に
対し、本発明の方法で求めたレーザ光のスポット径と線
速度と可逆光ディスクの初期化処理時間との関係を示す
一実施例の図である。第４図に示す表は、計算と実験を
組み合わせて作成する。第４図におけるレーザ出力、ス
ポット径及び線速度は、それぞれ密接な関係をもったパ
ラメータであって、初期化しようとする媒体によって異
なる。第４図は、ある特定の可逆光ディスクに対して良
好な結果が得られたパラメータである。媒体が変われ
ば、第４図に示すいずれかのパラメータを変化させて、
良好な初期化ができる数値を実験で求めるのが良い。
対し、本発明の方法で求めたレーザ光のスポット径と線
速度と可逆光ディスクの初期化処理時間との関係を示す
一実施例の図である。第４図に示す表は、計算と実験を
組み合わせて作成する。第４図におけるレーザ出力、ス
ポット径及び線速度は、それぞれ密接な関係をもったパ
ラメータであって、初期化しようとする媒体によって異
なる。第４図は、ある特定の可逆光ディスクに対して良
好な結果が得られたパラメータである。媒体が変われ
ば、第４図に示すいずれかのパラメータを変化させて、
良好な初期化ができる数値を実験で求めるのが良い。
第４図についてさらに詳細に説明すれば、トラックピ
ッチ、レーザ出力、スポット径、線速度、処理時間は、
それぞれ本明細書の（従来の技術）の欄で定義した通り
である。すなわち、トラックピッチとはレーザ光のスポ
ットの送りピッチであり、レーザ出力とはレーザ装置11
の出力の大きさの指標であり、スポット径とは第３図に
示すように測定の結果で得られるスポットの径であり、
線速度とは可逆光ディスクとスポットの相対速度であ
る。なお、トラックピッチは、スポット径が小さいとき
は狭くなりスポット径が大きいときに広くなる。そし
て、処理時間は、１枚の可逆光ディスクの初期化に要す
る時間であって、同一の結果が得られるのであれば処理
時間は短いほうが良い。
ッチ、レーザ出力、スポット径、線速度、処理時間は、
それぞれ本明細書の（従来の技術）の欄で定義した通り
である。すなわち、トラックピッチとはレーザ光のスポ
ットの送りピッチであり、レーザ出力とはレーザ装置11
の出力の大きさの指標であり、スポット径とは第３図に
示すように測定の結果で得られるスポットの径であり、
線速度とは可逆光ディスクとスポットの相対速度であ
る。なお、トラックピッチは、スポット径が小さいとき
は狭くなりスポット径が大きいときに広くなる。そし
て、処理時間は、１枚の可逆光ディスクの初期化に要す
る時間であって、同一の結果が得られるのであれば処理
時間は短いほうが良い。
可逆光ディスクは、（従来の技術）の欄で説明したよ
うに単位面積あたりのエネルギー（エネルギー密度×照
射時間）がある水準を超えると初期化できることに注意
して第４図を説明すれば、 ・ 線速度が一定の場合（例えば10m/s） レーザ出力が１［Ｗ］のときと、100［mW］のときを
比較すると、１［Ｗ］の出力のときのほうが、エネルギ
ー密度を同一にした場合は、スポット径を大きくするこ
とができる。そうすると、トラックピッチ（すなわち送
りピッチ）を大きくすることが可能となり、処理時間が
短くなる。
うに単位面積あたりのエネルギー（エネルギー密度×照
射時間）がある水準を超えると初期化できることに注意
して第４図を説明すれば、 ・ 線速度が一定の場合（例えば10m/s） レーザ出力が１［Ｗ］のときと、100［mW］のときを
比較すると、１［Ｗ］の出力のときのほうが、エネルギ
ー密度を同一にした場合は、スポット径を大きくするこ
とができる。そうすると、トラックピッチ（すなわち送
りピッチ）を大きくすることが可能となり、処理時間が
短くなる。
・ スポット径が一定の場合（例えば100μｍ） レーザ出力が４［Ｗ］のときと、300［mW］のときを
比較すると、４［Ｗ］のときのほうが、線速度を早くす
ることができる。その結果、レーザ出力が大きいとのほ
うが処理時間は短くなる。第４図から明らかなように、
レーザ出力の高いレーザ装置は、従来例で示したレーザ
出力の低いレーザ装置に比べて、大きなスポット径によ
って初期化を行うことができるので、処理時間を格段に
短くすることができる。すなわち、これはスポット径を
大きくすることにより、初期化の際の可逆光ディスクの
回転速度を早くできると共に、レーザ光による可逆光デ
ィスクのトラックピッチを広くすることができるため
で、例えば第４図に示すレーザ出力が４［Ｗ］、スポッ
ト径が100［μｍ］、ｘが１の場合には、トラックピッ
チは約50［μｍ］となり、レーザ出力が６［mW］、スポ
ット径が1.6［μｍ］の場合には、トラックピッチは約
0.8［μｍ］となる。
比較すると、４［Ｗ］のときのほうが、線速度を早くす
ることができる。その結果、レーザ出力が大きいとのほ
うが処理時間は短くなる。第４図から明らかなように、
レーザ出力の高いレーザ装置は、従来例で示したレーザ
出力の低いレーザ装置に比べて、大きなスポット径によ
って初期化を行うことができるので、処理時間を格段に
短くすることができる。すなわち、これはスポット径を
大きくすることにより、初期化の際の可逆光ディスクの
回転速度を早くできると共に、レーザ光による可逆光デ
ィスクのトラックピッチを広くすることができるため
で、例えば第４図に示すレーザ出力が４［Ｗ］、スポッ
ト径が100［μｍ］、ｘが１の場合には、トラックピッ
チは約50［μｍ］となり、レーザ出力が６［mW］、スポ
ット径が1.6［μｍ］の場合には、トラックピッチは約
0.8［μｍ］となる。
なお、レーザ光のスポット径については、可逆光ディ
スクの熱変化（ディスクの歪みや撓み）の問題から任意
に大きくすることはできず、例えば100［μｍ］が妥当
である。
スクの熱変化（ディスクの歪みや撓み）の問題から任意
に大きくすることはできず、例えば100［μｍ］が妥当
である。
また、レーザ光は、可逆光ディスクの記録面上で重な
るように走査した方のがより均一な結晶質を得やすい
が、本実施例のように、スポット径の大きな分だけ、所
定トラックピッチで走査するレーザ光の重なりを容易に
取ることができ、これにより記録面が均一な結晶質の可
逆光ディスクを得やすくなる。
るように走査した方のがより均一な結晶質を得やすい
が、本実施例のように、スポット径の大きな分だけ、所
定トラックピッチで走査するレーザ光の重なりを容易に
取ることができ、これにより記録面が均一な結晶質の可
逆光ディスクを得やすくなる。
また、集光レンズは、焦点距離の比較的長いレンズを
使用すれば、焦点深度が長くなり、可逆光ディスク回転
時のレーザ照射面のいわゆる面ブレの影響を少なくする
ことができる。
使用すれば、焦点深度が長くなり、可逆光ディスク回転
時のレーザ照射面のいわゆる面ブレの影響を少なくする
ことができる。
従って、本実施例では、ダミーディスクを使用して、
可逆光ディスクと同一の回転条件及びトラックピッチで
上記ダミーディスクをトラッキングして、予め可逆光デ
ィスクの記録膜に照射するレーザ光のスポット径を求め
ておき、上記スポット径で順次可逆光ディスクの初期化
を行うことができるので、可逆光ディスクの記録膜は、
高出力のレーザ光で、かつ大きいスポット径によって非
晶質から結晶質に均一に初期化されると共に、各可逆光
ディスクの初期化を迅速に実行することができる。
可逆光ディスクと同一の回転条件及びトラックピッチで
上記ダミーディスクをトラッキングして、予め可逆光デ
ィスクの記録膜に照射するレーザ光のスポット径を求め
ておき、上記スポット径で順次可逆光ディスクの初期化
を行うことができるので、可逆光ディスクの記録膜は、
高出力のレーザ光で、かつ大きいスポット径によって非
晶質から結晶質に均一に初期化されると共に、各可逆光
ディスクの初期化を迅速に実行することができる。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明では、高出力のレーザ光
源から出力するレーザ光を光学素子で集光した後、所定
速度で回転する可逆光ディスクの記録膜に照射し、該可
逆光ディスクの記録膜を非晶質から結晶質に初期化する
可逆光ディスクの初期化方法において、前記可逆光ディ
スクの代わりにスリットを設けたダミーディスクをセッ
トし、所定速度で回転する該ダミーディスクに前記レー
ザ光を照射し、前記スリットからの透過光を検出して、
該透過光のガウス分布に対応したレーザのスポット径を
求めると共に、前記レーザ光が可逆光ディスクの記録膜
で前記スポット径になるように焦点位置合わせを行った
後、前記可逆光ディスクを初期化するので、初期化を行
うレーザ光の最適なスポット径を求めることができ、上
記レーザ光を高出力、かつ大きいスポット径にして可逆
光ディスクの初期化処理を迅速に、かつ均質に行うこと
ができる。
源から出力するレーザ光を光学素子で集光した後、所定
速度で回転する可逆光ディスクの記録膜に照射し、該可
逆光ディスクの記録膜を非晶質から結晶質に初期化する
可逆光ディスクの初期化方法において、前記可逆光ディ
スクの代わりにスリットを設けたダミーディスクをセッ
トし、所定速度で回転する該ダミーディスクに前記レー
ザ光を照射し、前記スリットからの透過光を検出して、
該透過光のガウス分布に対応したレーザのスポット径を
求めると共に、前記レーザ光が可逆光ディスクの記録膜
で前記スポット径になるように焦点位置合わせを行った
後、前記可逆光ディスクを初期化するので、初期化を行
うレーザ光の最適なスポット径を求めることができ、上
記レーザ光を高出力、かつ大きいスポット径にして可逆
光ディスクの初期化処理を迅速に、かつ均質に行うこと
ができる。
第１図は、本発明に係る可逆光ディスクの初期化方法の
構成を示す構成ブロック図、第２図は本発明に係るダミ
ーディスクとスポット径を示す図、第３図は第１図に示
した光センサ出力によるガウス分布を示す図、第４図は
各レーザ出力を有するレーザ装置に対し本発明の方法で
求めたビームのスポット径と線速度と可逆光ディスクの
初期化処理時間との関係を示す一実施例の図である。 11……レーザ装置、12……エキスパンドコリメートレン
ズ、13〜15……ミラー、16……集光レンズ、18……ダミ
ーディスク、18a……スリット、19,20……モータ、21…
…スライドステージ、22、23……コントローラ、24……
光センサ、25……スポット径検出部。
構成を示す構成ブロック図、第２図は本発明に係るダミ
ーディスクとスポット径を示す図、第３図は第１図に示
した光センサ出力によるガウス分布を示す図、第４図は
各レーザ出力を有するレーザ装置に対し本発明の方法で
求めたビームのスポット径と線速度と可逆光ディスクの
初期化処理時間との関係を示す一実施例の図である。 11……レーザ装置、12……エキスパンドコリメートレン
ズ、13〜15……ミラー、16……集光レンズ、18……ダミ
ーディスク、18a……スリット、19,20……モータ、21…
…スライドステージ、22、23……コントローラ、24……
光センサ、25……スポット径検出部。
Claims (1)
- 【請求項１】高出力のレーザ光源から出力するレーザ光
を光学素子で集光した後、所定速度で回転する可逆光デ
ィスクの記録膜に照射し、該可逆光ディスクの記録膜を
非晶質から結晶質に初期化する可逆光ディスクの初期化
方法において、予めレーザ光の強度と線速度に応じたス
ポット径を決定し、前記可逆光ディスクの代わりにスリ
ットを設けたダミーディスクをセットし、所定速度で回
転する該ダミーディスクに前記レーザ光を照射し、前記
スリットからの透過光を検出して、該透過光の光強度分
布に対応したレーザのスポット径を求めると共に、前記
レーザ光が可逆光ディスクの記録膜で前記スポット径に
なるように焦点位置合わせを行った後、前記可逆光ディ
スクを初期化することを特徴とする可逆光ディスクの初
期化方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2072695A JP2931987B2 (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 可逆光ディスクの初期化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2072695A JP2931987B2 (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 可逆光ディスクの初期化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03272021A JPH03272021A (ja) | 1991-12-03 |
| JP2931987B2 true JP2931987B2 (ja) | 1999-08-09 |
Family
ID=13496763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2072695A Expired - Lifetime JP2931987B2 (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 可逆光ディスクの初期化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2931987B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-22 JP JP2072695A patent/JP2931987B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03272021A (ja) | 1991-12-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040312 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040323 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040713 |