JP3056093B2 - 電磁弁シール構造 - Google Patents

電磁弁シール構造

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JP3056093B2
JP3056093B2 JP8270537A JP27053796A JP3056093B2 JP 3056093 B2 JP3056093 B2 JP 3056093B2 JP 8270537 A JP8270537 A JP 8270537A JP 27053796 A JP27053796 A JP 27053796A JP 3056093 B2 JP3056093 B2 JP 3056093B2
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【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、バネの付勢力を受
けて弁座に当接するダイアフラム形弁体のシール性向上
を図った電磁弁シール構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来からダイアフラム弁体を使用した電
磁弁が種々利用されてきている。そこで、その一例とし
てダイアフラム弁体を備えた3ポート電磁弁を示し、そ
の電磁弁シール構造について説明する。図6は、従来の
電磁弁を示した電磁弁の断面図である。本従来例の電磁
弁は、弁の開閉を制御するソレノイド部と弁部とから構
成されている。そのソレノイド部には、円筒形のコイル
51内部の上方に固定鉄心52が固設され、その下方に
はスプリング53に付勢された可動鉄心54が嵌装され
ている。
【0003】一方、弁部は、ソレノイド部下端に固定さ
れたボディ61内に形成されている。ボディ61の中心
部には、上下に貫いた貫通孔62が可動鉄心54と同軸
上に形成され、そこへ弁棒63が嵌挿されている。ま
た、ボディ61には、貫通孔62の中間位置に連通する
入力ポート64、貫通孔62のソレノイド部側開口部に
連通するノーマルクローズポート65、及び貫通孔62
の他端開口部に連通するノーマルオープンポート66と
が形成されている。貫通孔62に嵌装された弁棒63の
両端には各ポート間を遮断する第1ダイアフラム弁体6
7と第2ダイアフラム弁体68とが固定されてる。そし
て、その第2ダイアフラム弁体68には、カバー69と
の間に嵌装されたスプリング70の付勢力がバネ受け7
1を介して加わっている。
【0004】そして、このよな構成からなる従来の電磁
弁では、コイル51への通電によって生じる励磁力が可
動鉄心54をスプリング53の付勢力に抗して吸引す
る。そのため、通電時には上昇した可動鉄心54によっ
て弁棒63が解放されスプリング70の付勢力によって
上昇する。従って、非通電時には、可動鉄心54に押圧
された第1ダイアフラム弁体67が貫通孔62のソレノ
イド側開口部の第1弁座72に当接するため、入力ポー
ト64がノーマルオープンポート66に連通する。一
方、通電時には、可動鉄心54が固定鉄心53に吸引さ
れるため、スプリング70の付勢力を受けた第2ダイア
フラム弁体68が貫通孔62の下端開口部の第2弁座7
3に当接し、入力ポート64がノーマルクローズポート
65に連通する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構
成からなる従来の電磁弁、特にスプリング72による付
勢力を受ける第2ダイアフラム弁体68及びバネ受け7
1から構成される電磁弁シール構造では、第2弁座に当
接する第2ダイアフラム弁体のシール性が不安定になる
問題があった。即ち、第2ダイアフラム弁体68は、ダ
イアフラムの中心に円盤状で端面が平面をなした弁体が
形成されたものである一方、第2ダイアフラム弁体68
とスプリング72との間に介在し、その弁体に当接する
バネ受け71の当接面も平面をなして形成されたもので
ある。このような構造は、第1ダイアフラム弁体67側
にも見られるものであり、円柱状の端面が平面をなす弁
体に対し、その平面に当接する可動鉄心54端面も平面
をなして形成されている。
【0006】そのため、平面どうしでは接触面積が大き
いため、安定した付勢力の伝達により均一な荷重が加わ
るようにするためには高い平面度が要求される。必要な
平面度が得られない場合にはスプリング72の付勢力が
第1ダイアフラム弁体68に偏って加わるため、シール
面に均一な荷重が得られずバラツキが生じ得る。一方、
第2ダイアフラム弁体68を第2弁座73に対して気密
に当接し高いシール性を得ようとした場合には、スプリ
ング70を大きな荷重を与えるものに変更することで達
成し得るが、その反面、他方のスプリング53も大きく
する必要があり、併せてそのスプリング53の付勢力に
抗して可動鉄心51を吸引するためにソレノイドも大型
化する必要があるため、電磁弁自体が大型化してしまう
という欠点があった。
【0007】そこで、本発明は、かかる問題点を解消す
べくシール性の向上を図った電磁弁シール構造を提供す
ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の電磁弁シール構
造は、ソレノイドへの通電によって移動する可動鉄心の
動きに連動するダイアフラム弁体と、前記ダイアフラム
弁体に対して形成された弁座と、前記弁座に対して前記
ダイアフラム弁体を付勢するバネ部材と、前記ダイアフ
ラム弁体と前記バネ部材との間に介在するバネ受けとを
有し、前記バネ部材の付勢力を受けた前記バネ受けを介
して前記ダイアフラム弁体を前記弁座に当接させるもの
であって、前記ダイアフラム弁体の前記バネ受けに当接
する当接側に取り付け可能な当接カバーが、前記可動鉄
心やダイアフラム弁体等の共通の軸心上に中心を有し当
該軸心上で前記バネ受けの平面と当接する球面が形成さ
れたものであることを特徴とする。
【0009】また、本発明の電磁弁シール構造は、ソレ
ノイドへの通電によって移動する可動鉄心の動きに連動
するダイアフラム弁体と、前記ダイアフラム弁体に対し
て形成された弁座と、前記弁座に対して前記ダイアフラ
ム弁体を付勢するバネ部材と、前記ダイアフラム弁体と
前記バネ部材との間に介在するバネ受けとを有し、前記
バネ部材の付勢力を受けた前記バネ受けを介して前記ダ
イアフラム弁体を前記弁座に当接させるものであって、
前記ダイアフラム弁体には、その中心部に突設し前記バ
ネ受け側に開口した筒形状の位置決穴が形成され、前記
バネ受けには、その中心部に前記位置決穴に嵌入するテ
ーパを有する位置決突起が形成されものであることを特
徴とする。
【0010】このような構成をなす本発明の電磁弁シー
ル構造では、当接カバーをダイアフラム弁体に取り付け
ることによっても、その当接カバーの球面によって常に
軸心上で当接するため、ダイアフラム弁体が弁座に対し
て均等に当接することによってシール性の向上が図られ
る。 また、本発明の電磁弁シール構造では、閉弁に際し
てダイアフラム弁体が弁座に対して当接する場合には、
ダイアフラム弁体の位置決穴に対してバネ受けの位置決
突起が嵌入しているので、不安定なバネ受けが位置決突
起のテーパによって常に同様な状態で位置決めされるた
め、バネ受けとダイアフラム弁体の間にズレ が生じるこ
となく、ダイアフラム弁体が弁座に対して均等に当接す
ることによってシール性の向上が図られる。
【0011】
【発明の実施の形態】次に、本発明にかかる電磁弁シー
ル構造の一実施の形態について図面を参照して説明す
る。図1及び図2は、第1実施の形態の電磁弁シール構
造を有する電磁弁を示した断面図であり、図1には非通
電時の状態を示し、図2には通電時の状態を示した。本
実施の形態での電磁弁も前記従来例のものと同様に3ポ
ート電磁弁であり、次のような構成をなす。本実施の形
態の電磁弁は、弁の開閉を制御するソレノイド部と流体
の流れを調節する弁部とから構成されている。ソレノイ
ド部は、円筒形のコイル1内部の上半分の位置を占める
固定鉄心2が固設され、その下半分にはスプリング3に
付勢された可動鉄心4が嵌挿され支持枠5を貫いて摺動
するよう構成されている。可動鉄心4は円柱形状をな
し、その上端にはスプリング3が嵌装される凹部と下端
には後述するダイアフラム弁体が嵌装される凹部が形成
されている。
【0012】一方、弁部は、ソレノイド部下端に固定さ
れたボディ11内に形成されている。そのボディ11の
中心部には、上下に貫いた貫通孔12が可動鉄心と同
軸上に形成され、そこへ弁棒13が嵌挿されている。貫
通孔12の両開口部にはソレノイド側に第1弁座14
が、その反対側には第2弁座15が形成されている。ま
た、ボディ11には、貫通孔12の中間位置に連通する
入力ポート16、貫通孔12のソレノイド部側開口部に
連通するノーマルクローズポート17、及び貫通孔12
の他端側開口部に連通するノーマルオープンポート18
とが形成されている。貫通孔12に嵌挿された弁棒13
の端部には、第1弁座14に対する第1ダイアフラム弁
体19と、第2弁座15に対する第2ダイアフラム弁体
20とが固定されている。そして、その第2ダイアフラ
ム弁体20には、カバー21との間にスプリング22が
嵌装され、そのスプリング22と第2ダイアフラム弁体
20との間にはバネ受け23が介在している。
【0013】ところで、本実施の形態の電磁弁を構成す
る第1及び第2ダイアフラム弁体19,20には、とも
にダイアフラムの中心部に円柱形状の凸部19a,20
aが弁座14,15の反対側に突出して形成され、しか
もその凸部19a,20aの端面には可動鉄心4や弁棒
13等に共通の軸心上に中心を有する球面が形成されて
いる。また、バネ受け23は、第2ダイアフラム弁体2
0の凸部20aが入り込む凹型形状をなし、その底面に
も球面が形成され、球面の中心が弁棒13等に共通の軸
心上に位置するよう配設されている。そして、その端部
にはスプリング22が当接する張り出し部が円周状に形
成されたものである。従って、第2ダイアフラム弁体2
0の凸部20a端面とバネ受け23の底面は球面どうし
が当接し、互いの中心部分が軸心上で一致するように配
設される。このような第1及び第2ダイアフラム弁体1
9,20は、PTFE(ポリテトラフロロエチレン)に
よって形成され、バネ受け23は、金属や樹脂により形
成される。
【0014】このような構成からなる電磁弁及びその電
磁弁シール構造は、次のように作用する。図1の状態か
らコイル1への通電が行われると、図2に示すように固
定鉄心2に生じる励磁力が可動鉄心4をスプリング3の
付勢力に抗して固定鉄心2側へ吸引する。そのため、通
電時には、弁棒13が上昇した可動鉄心4から解放され
スプリング22の付勢力によって上昇する。従って、弁
棒13上端の第1ダイアフラム弁体19が可動鉄心4の
押圧から解放されると、第1ダイアフラム弁体19が第
1弁座14から離間する一方、弁棒13下端の第2ダイ
アフラム弁体20がスプリング22の付勢力によって第
2弁座15へ当接される。そのため、入力ポート16と
ノーマルオープンポート18間の流路が遮断され、入力
ポート16とノーマルクローズポート17間の流路が連
通することとなる。
【0015】一方、コイル1への通電が遮断されると、
同軸上に配設された一連の可動鉄心4及び弁棒13が、
上方に作用するスプリング22の付勢力に反するスプリ
ング3によって下方へ付勢される。従って、非通電時に
は、可動鉄心4を介してスプリング3に付勢された第1
ダイアフラム弁体19が第1弁座14に当接する一方、
第2ダイアフラム弁体20が第2弁座15から離間す
る。そのため、入力ポート16とノーマルクローズポー
ト17間の流路が遮断され、入力ポート16とノーマル
オープンポート18間の流路が連通することとなる。
【0016】このよな弁の開閉が行われる電磁弁で
は、その電磁弁シール構造をなすバネ受け23の球面と
第2ダイアフラム弁体20の凸部20aの球面との中心
が軸心上で一致し、スプリング22の付勢力がバネ受け
23を介して第2ダイアフラム弁体20へ加わる。従っ
て、第2ダイアフラム弁体20は平衡状態を保った状態
で第2弁座15へ当接することとなる。ここで、このよ
うな電磁弁シール構造をなす本実施の形態のものと、前
記従来のものとのシール性についての実験結果を表1に
示した。実験には、入力ポート16から流入するエア圧
力を徐々に上昇させた場合に、洩れが生じた時点での圧
力値を調べた。そして、表1には、その最大値及び最小
値、更に平均値を示した。
【0017】
【表1】
【0018】従って、表1に示した実験結果から、洩れ
が生じたシール圧の平均値が1.78kg/cm2 から
3.4kg/cm2 へと、そのシール性が約2倍に向上
し、バラツキも約3分の2以下となり、高いエア圧に対
応し得るシール性能が格段に向上したことがわかる。即
ち、本実施形態の電磁弁シール構造は、第2ダイアフ
ラム弁体20の凸部20aの端面に球面を軸心上を中心
に形成する一方、凹型形状をなすバネ受け23の底面に
も球面を形成したので、互いの球面が軸心上で一致し、
スプリング22の付勢力が第2ダイアフラム弁体20に
対してずれることなく均等な状態で働くため、第2弁座
15へ当接する際のシール性の向上が図られた。
【0019】次に、本発明にかかる電磁弁シール構造の
第2実施の形態について図面を参照して説明する。本実
施の形態の電磁弁シール構造は、前記第1実施の形態の
ものと同様の電磁弁に使用されるものであり、その第2
ダイアフラム弁体に係設されたものである。図3は、本
実施の形態の電磁弁シール構造を示した断面図である。
そこで、その構成は、弁棒31の端部に固定されたダイ
アフラム弁体32は、その中心部に円柱形状の凸部32
aが突出して形成され、更にその端面には円錐形状の位
置決突起32bが延設されている。一方、スプリング3
3とダイアフラム弁体32間に介在するバネ受け34
は、凹型形状をなし、その端部にはスプリング33に当
接する張り出し部が円周状に形成されたものであり、バ
ネ受け34の底面にはダイアフラム弁体32の位置決突
起32bが貫通する位置決穴34aが形成されている。
【0020】このような構成からなる本実施の形態の電
磁弁シール構造は、弁棒31の上方への制限が解除され
ると、スプリング33の付勢力によってダイアフラム弁
体32が不図示の弁座に当接する。その際、バネ受け3
4の位置決穴34aに位置決突起32bが嵌合し、ダイ
アフラム弁体32及びバネ受け34の中心が軸心上で一
致する。従って、本実施の形態の電磁弁シール構造にお
いても、スプリング33の付勢力がダイアフラム弁体3
2に対してずれることなく均等な状態で働くため、不図
示の弁座へ当接する際のシール性の向上が図られた。特
に、ダイアフラム弁体32の位置決突起32bが常にバ
ネ受け34の位置決穴34a内を貫通し、横方向へのず
れを防止しているため、更にシール性は増した。
【0021】次に、本発明にかかる電磁弁シール構造の
第3実施の形態について図面を参照して説明する。本実
施の形態の電磁弁シール構造も、前記第1実施の形態の
ものと同様の電磁弁に使用されるものであり、その第2
ダイアフラム弁体に係設されたものである。図4は、本
実施の形態の電磁弁シール構造を示した断面図である。
そこで、その構成は、弁棒41の端部に固定されたダイ
アフラム弁体42は、その中心部に円柱形状の凸部42
aが突出して形成され、更にその端面には円筒形状の位
置決穴42bが形成されている。一方、スプリング43
とダイアフラム弁体42間に介在するバネ受け44は凹
型形状をなし、その端部にはスプリング43に当接する
張り出し部が円周状に形成されたものであり、更にその
底面にはダイアフラム弁体42の凹部42bに嵌入する
円錐形状の位置決突起44aが形成されている。
【0022】このような構成からなる本実施の形態の電
磁弁シール構造は、弁棒41の上方への制限が解除され
ると、スプリング43の付勢力によってダイアフラム弁
体42が不図示の弁座に当接する。その際、ダイアフラ
ム弁体42の位置決穴42bにバネ受け44の位置決突
起44bが嵌入し、ダイアフラム弁体42及びバネ受け
44の中心が軸心上で一致する。従って、本実施の形態
の電磁弁シール構造においても、スプリング43の付勢
力がダイアフラム弁体42に対してずれることなく均等
な状態で働くため、不図示の弁座へ当接する際のシール
性の向上が図られた。特に、バネ受け44の位置決突起
42bが常にダイアフラム弁体42の位置決穴42b内
に嵌入し、横方向へのずれを防止しているため、更にシ
ール性は増した。
【0023】なお、本発明は、前記実施の形態に限定さ
れるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な
変更が可能である。例えば、前記第1実施の形態では、
第2ダイアフラム弁体20の凸部20aに球面を形成し
た場合を示したが、図5に示すようにフッ素樹脂からな
るダイアフラム弁体25に対して、金属又は高度の硬い
樹脂からなるカバー26を取り付け、そのカバー26に
バネ受け27との当接面に球面を形成するようにしても
よい。
【0024】また、例えば、前記第1実施の形態では、
第2ダイアフラム弁体20の凸部20a及びバネ受け2
3の底面の両方に球面を形成した場合を示したが、第1
ダイアフラム弁体19と可動鉄心4との関係のように、
第2ダイアフラム弁体20の凸部20aにのみ球面を形
成し、バネ受け23の底面は平面とするようにしても良
く、またその逆の関係でも良い。これによれば、平面に
対して軸心上に位置する球面の頂点が当接し、平面の仕
上げの悪さや不安定なバネ受けにかかわらず、第2ダイ
アフラム弁体には常に頂点に付勢力が加わるためダイア
フラム弁体の安定性、即ちシール性の向上が図られる。
また、例えば、前記実施の形態では、3ポート電磁弁に
使用した電磁弁シール構造について説明したが、スプリ
ングの付勢力をバネ受けが受けてダイアフラム弁体を付
勢する構造のものであれば使用できる。
【0025】
【発明の効果】本発明は、ダイアフラム弁体のバネ受け
側に取り付け可能な当接カバーに、可動鉄心やダイアフ
ラム弁体等との共通の軸心上に中心をし当該軸心上で
前記バネ受けの平面と当接する球面を形成したことによ
り、シール性の向上を図った電磁弁シール構造を提供す
ることが可能となった。 また、本発明は、ダイアフラム
弁体には、その中心部に突設しバネ受け側に開口した筒
形状の位置決穴を形成し、バネ受けには、凹型形状をな
した底面に位置決穴に嵌入するテーパを有する位置決突
起を形成したことにより、更にシール性の向上を図った
電磁弁シール構造を提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる電磁弁シール構造の第1実施の
形態を有する電磁弁を示した非通電時の断面図である。
【図2】本発明にかかる電磁弁シール構造の第1実施の
形態を有する電磁弁を示した通電時の断面図である。
【図3】本発明にかかる電磁弁シール構造の第2実施の
形態を示した断面図である。
【図4】本発明にかかる電磁弁シール構造の第3実施の
形態を示した断面図である。
【図5】本発明にかかる電磁弁シール構造の一実施の形
態を示した断面図である。
【図6】従来の電磁弁シール構造を有する電磁弁を示し
た通電時の断面図である。
【符号の説明】
1 コイル 2 固定鉄心 4 可動鉄心 12 貫通孔 13 弁棒 15 第2弁座 16 入力ポート 17 ノーマルクローズポート 18 ノーマルオープンポート 20 第2ダイアフラム弁体 20a 凸部 22 スプリング 23 バネ受け
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−105565(JP,A) 特開 平5−133296(JP,A) 実開 平3−30675(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F16K 31/06 F16K 7/16

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ソレノイドへの通電によって移動する可
    動鉄心の動きに連動するダイアフラム弁体と、前記ダイ
    アフラム弁体に対して形成された弁座と、前記弁座に対
    して前記ダイアフラム弁体を付勢するバネ部材と、前記
    ダイアフラム弁体と前記バネ部材との間に介在するバネ
    受けとを有し、前記バネ部材の付勢力を受けた前記バネ
    受けを介して前記ダイアフラム弁体を前記弁座に当接さ
    せる電磁弁シール構造において、 前記ダイアフラム弁体の前記バネ受けに当接する当接側
    に取り付け可能な当接カバーが、前記可動鉄心やダイア
    フラム弁体等の共通の軸心上に中心を有し当該軸心上で
    前記バネ受けの平面と当接する球面が形成されたもので
    あることを特徴とする電磁弁シール構造。
  2. 【請求項2】 ソレノイドへの通電によって移動する可
    動鉄心の動きに連動するダイアフラム弁体と、前記ダイ
    アフラム弁体に対して形成された弁座と、前記弁座に対
    して前記ダイアフラム弁体を付勢するバネ部材と、前記
    ダイアフラム弁体と前記バネ部材との間に介在するバネ
    受けとを有し、前記バネ部材の付勢力を受けた前記バネ
    受けを介して前記ダイアフラム弁体を前記弁座に当接さ
    せる電磁弁シール構造において、 前記ダイアフラム弁体には、その中心部に突設し前記バ
    ネ受け側に開口した筒形状の位置決穴が形成され、 前記バネ受けには、その中心部に前記位置決穴に嵌入す
    るテーパを有する位置決突起が 形成されものであること
    を特徴とする電磁弁シール構造。
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