JP3055821B2 - 高電流密度電解の方法および装置 - Google Patents
高電流密度電解の方法および装置Info
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- JP3055821B2 JP3055821B2 JP3169173A JP16917391A JP3055821B2 JP 3055821 B2 JP3055821 B2 JP 3055821B2 JP 3169173 A JP3169173 A JP 3169173A JP 16917391 A JP16917391 A JP 16917391A JP 3055821 B2 JP3055821 B2 JP 3055821B2
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- cathode
- electrolysis
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- electrolytic solution
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属を高電流密度で連
続的に電解する方法およびその方法を実施する際に用い
られる電解装置に関する。
続的に電解する方法およびその方法を実施する際に用い
られる電解装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】低電流密度で電解を連続的に行う装置と
して、「金属の連続電解装置」が実願昭58-97560に、
「銀の電解精練装置」が特開平1-246388に、「円環状電
解槽」が実願昭58-97559にそれぞれ開示されている。従
来、金、白金族等の高価な金属およびこれらを含む合金
は、このような装置を用いて次のような方法により回収
されていた。銅あるいは鉛等の卑金属中に白金等の貴金
属を濃縮した金属板をつくり、この金属板をアノードと
して用いて電解を行い、陰極に電着金属を析出させると
共に、陽極に貴金属を含有するアノードスライムを発生
させ、電解終了後このアノードスライムを陽極から回収
し、別途処理することにより貴金属を回収していた。
して、「金属の連続電解装置」が実願昭58-97560に、
「銀の電解精練装置」が特開平1-246388に、「円環状電
解槽」が実願昭58-97559にそれぞれ開示されている。従
来、金、白金族等の高価な金属およびこれらを含む合金
は、このような装置を用いて次のような方法により回収
されていた。銅あるいは鉛等の卑金属中に白金等の貴金
属を濃縮した金属板をつくり、この金属板をアノードと
して用いて電解を行い、陰極に電着金属を析出させると
共に、陽極に貴金属を含有するアノードスライムを発生
させ、電解終了後このアノードスライムを陽極から回収
し、別途処理することにより貴金属を回収していた。
【０００３】この方法では、通常、陰極に良質の電着金
属を得ることを目指しているために、陰極電流密度を 1
70〜260A/m2 の範囲内にして操業を行うことが不可欠で
あると同時に、貴金属を濃縮した陽極中の貴金属品位も
5,000ppm以下に制御する必要があった。また、アノード
中への貴金属濃縮品位に上述のごとく制限があり、スラ
イムの連続的排出ができなかった。そのため、採算ベー
スの貴金属回収を行うためには、電槽数をかなり多くす
る必要があり、このため初期設備費が莫大なものとなっ
ていた。さらに、貴金属の濃縮度が低いため陽極の電解
ライフを長く取らなければならないという技術上の問題
があり、貴金属の電槽内滞留期間を短かくすることが困
難であった。そのため、滞留金利アップなどの経済上の
大きな問題を抱えていた。
属を得ることを目指しているために、陰極電流密度を 1
70〜260A/m2 の範囲内にして操業を行うことが不可欠で
あると同時に、貴金属を濃縮した陽極中の貴金属品位も
5,000ppm以下に制御する必要があった。また、アノード
中への貴金属濃縮品位に上述のごとく制限があり、スラ
イムの連続的排出ができなかった。そのため、採算ベー
スの貴金属回収を行うためには、電槽数をかなり多くす
る必要があり、このため初期設備費が莫大なものとなっ
ていた。さらに、貴金属の濃縮度が低いため陽極の電解
ライフを長く取らなければならないという技術上の問題
があり、貴金属の電槽内滞留期間を短かくすることが困
難であった。そのため、滞留金利アップなどの経済上の
大きな問題を抱えていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
技術の問題点を解決し、低コストで、金、白金族等のよ
うな高価な金属およびこれらを含む合金を、連続的に分
離回収することができる高電流密度電解の方法および装
置を提供することを目的とする。
技術の問題点を解決し、低コストで、金、白金族等のよ
うな高価な金属およびこれらを含む合金を、連続的に分
離回収することができる高電流密度電解の方法および装
置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは斯る課題を
解決するために鋭意研究した結果、隔膜電槽を用いて高
電流密度電解を行い、両極における生成物を電解液流に
よって連続的に電槽外へ抜出することにより上記目的が
達成されることを見い出し、本発明を提出することがで
きた。
解決するために鋭意研究した結果、隔膜電槽を用いて高
電流密度電解を行い、両極における生成物を電解液流に
よって連続的に電槽外へ抜出することにより上記目的が
達成されることを見い出し、本発明を提出することがで
きた。
【０００６】すなわち、本発明は、電槽内に対向配置し
た陽極と陰極とを隔膜によって分離し、陽極室と陰極室
とにそれぞれ別個に連続的な電解液の供給および排出を
行うことによって両極室内にそれぞれ第１および第２の
電解液流をつくり、精製用の粗金属からなるアノードを
陽極室に供給して 500〜1,500A/m2 の高電流密度で電解
を行い、電解が進行するにつれて陰極に析出する電着金
属粉を上記第１の電解液流によって連続的に電槽外へ排
出し、陽極に生成するアノードスライムを上記第２の電
解液流によって連続的に電槽外へ排出することを特徴と
する高電流密度電解方法；および、 500〜1,500A/m2 の
高電流密度が得られる状態に接続され、かつ水平に配置
された陽極と陰極とが隔膜によって分離されており、該
陽極室および陰極室にそれぞれ別個に連続的な電解液の
供給および排出を行うことができる構造の電槽を有して
なることを特徴とする高電流密度電解装置を提供するも
のである。
た陽極と陰極とを隔膜によって分離し、陽極室と陰極室
とにそれぞれ別個に連続的な電解液の供給および排出を
行うことによって両極室内にそれぞれ第１および第２の
電解液流をつくり、精製用の粗金属からなるアノードを
陽極室に供給して 500〜1,500A/m2 の高電流密度で電解
を行い、電解が進行するにつれて陰極に析出する電着金
属粉を上記第１の電解液流によって連続的に電槽外へ排
出し、陽極に生成するアノードスライムを上記第２の電
解液流によって連続的に電槽外へ排出することを特徴と
する高電流密度電解方法；および、 500〜1,500A/m2 の
高電流密度が得られる状態に接続され、かつ水平に配置
された陽極と陰極とが隔膜によって分離されており、該
陽極室および陰極室にそれぞれ別個に連続的な電解液の
供給および排出を行うことができる構造の電槽を有して
なることを特徴とする高電流密度電解装置を提供するも
のである。
【０００７】本発明の方法および装置は、陽極室に供給
するアノードとして、平均粒径10mm以下の貴金属を含有
する卑金属のメタルショットを用いて、アノード中に濃
縮された貴金属を回収することを主たる目的とする電解
に用いる場合に特に有利である。
するアノードとして、平均粒径10mm以下の貴金属を含有
する卑金属のメタルショットを用いて、アノード中に濃
縮された貴金属を回収することを主たる目的とする電解
に用いる場合に特に有利である。
【０００８】
【作用】本発明によると、隔膜電槽を用い、例えば平均
粒径10mm以下の貴金属を含有させた卑金属からなるメタ
ルショットを陽極室に供給してアノードとし、陽極およ
び陰極室内に別個に連続的な電解液の供給および排出を
行って電解液流をつくり、 500〜1,500A/m2 高電流密度
で効率良く電解処理を行うことができる。このように高
電流密度で電解を行うことにより、陰極に電着金属粉、
陽極に貴金属を含有するスライムを短時間で多量に発生
させることができるため、電槽数を増やす必要がなくな
り、しかも電槽が小型化し、設備コストを低くすること
ができる。
粒径10mm以下の貴金属を含有させた卑金属からなるメタ
ルショットを陽極室に供給してアノードとし、陽極およ
び陰極室内に別個に連続的な電解液の供給および排出を
行って電解液流をつくり、 500〜1,500A/m2 高電流密度
で効率良く電解処理を行うことができる。このように高
電流密度で電解を行うことにより、陰極に電着金属粉、
陽極に貴金属を含有するスライムを短時間で多量に発生
させることができるため、電槽数を増やす必要がなくな
り、しかも電槽が小型化し、設備コストを低くすること
ができる。
【０００９】上記のようにして陰極に析出させた電着金
属粉は、陰極室内への電解液の連続供給および排出によ
ってつくられた電解液流によって電槽外へ排出され、陽
極に生成した貴金属を含有するスライムは、例えばメタ
ルショットの撹拌によって剥離した後、陽極内への電解
液の連続供給および排出によってつくった電解液流によ
って電槽外へ排出される。このように陰極に析出する電
着金属粉や陽極に生成するスライムを連続的に電槽外へ
排出することにより、長時間にわたって電解を続けるこ
とが可能となり、しかも貴金属の槽内滞留期間が短くな
るため滞留金利が大幅に削減される。また、本発明の装
置における電槽部分は、陰極と陽極とが隔膜によって隔
てられているため、粒状の電着金属粉とアノードスライ
ムとが混合することはない。
属粉は、陰極室内への電解液の連続供給および排出によ
ってつくられた電解液流によって電槽外へ排出され、陽
極に生成した貴金属を含有するスライムは、例えばメタ
ルショットの撹拌によって剥離した後、陽極内への電解
液の連続供給および排出によってつくった電解液流によ
って電槽外へ排出される。このように陰極に析出する電
着金属粉や陽極に生成するスライムを連続的に電槽外へ
排出することにより、長時間にわたって電解を続けるこ
とが可能となり、しかも貴金属の槽内滞留期間が短くな
るため滞留金利が大幅に削減される。また、本発明の装
置における電槽部分は、陰極と陽極とが隔膜によって隔
てられているため、粒状の電着金属粉とアノードスライ
ムとが混合することはない。
【００１０】電槽外に排出された電着金属粉含有電解液
およびスライム含有電解液は、濾過されて電着金属粉お
よびスライムが回収される。なお、濾過の際に得られた
濾液は再び電槽に戻される。また、上記回収されたスラ
イムは、精製工程に送られて貴金属が回収される。
およびスライム含有電解液は、濾過されて電着金属粉お
よびスライムが回収される。なお、濾過の際に得られた
濾液は再び電槽に戻される。また、上記回収されたスラ
イムは、精製工程に送られて貴金属が回収される。
【００１１】以下、実施例をもって本発明をさらに詳細
に説明する。しかし本発明の範囲は以下の実施例により
制限されるものではない。
に説明する。しかし本発明の範囲は以下の実施例により
制限されるものではない。
【００１２】
【実施例】図１に示す本発明の装置を用いた高電流密度
電解方法により、自動車工業において発生した貴金属を
含有する原料からＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈを分離回収した。
電解方法により、自動車工業において発生した貴金属を
含有する原料からＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈを分離回収した。
【００１３】図１に示す高電流密度電解装置は、陽極で
あるＴｉ−Ｐｔ板８が隔膜電解装置の電槽３の底板とし
て装備されており、陰極である銅板７を有する陰極ボッ
クス２が電槽３の上部に、両極が平行になるように装備
されている。また、陽極と陰極とは隔膜１によって隔て
られており、陽極生成物と陰極生成物とが混ざらないよ
うになっている。さらに、陽極室および陰極室には、両
極室内に電解液５を強制的に供給および排出することが
できるようになっている 上記の構造の電解装置における陽極室にアノードメタル
４（貴金属を含有する平均粒径10mmの銅ショット）を供
給し、両極を最大 1,500 A/m2 の電流密度が得られる導
体と接続して高電流密度電解を行った。電解が進行する
につれて陰極には電着金属粉が析出し、陽極には貴金属
を含有するスライムが生成した。陰極に析出した電着金
属粉は、陰極ボックス２内に強制供給している電解液５
と共に電槽外に排出し、該電解液５を濾過して回収し
た。なお、このとき得られた濾液は陰極室内に供給され
る。
あるＴｉ−Ｐｔ板８が隔膜電解装置の電槽３の底板とし
て装備されており、陰極である銅板７を有する陰極ボッ
クス２が電槽３の上部に、両極が平行になるように装備
されている。また、陽極と陰極とは隔膜１によって隔て
られており、陽極生成物と陰極生成物とが混ざらないよ
うになっている。さらに、陽極室および陰極室には、両
極室内に電解液５を強制的に供給および排出することが
できるようになっている 上記の構造の電解装置における陽極室にアノードメタル
４（貴金属を含有する平均粒径10mmの銅ショット）を供
給し、両極を最大 1,500 A/m2 の電流密度が得られる導
体と接続して高電流密度電解を行った。電解が進行する
につれて陰極には電着金属粉が析出し、陽極には貴金属
を含有するスライムが生成した。陰極に析出した電着金
属粉は、陰極ボックス２内に強制供給している電解液５
と共に電槽外に排出し、該電解液５を濾過して回収し
た。なお、このとき得られた濾液は陰極室内に供給され
る。
【００１４】一方、陽極に生成したスライムは、アノー
ドメタル４をスクレーパー６で撹拌することによって剥
離させ、陽極室内に強制供給している電解液５と共に電
槽外に排出した。次いで取り出した電解液５を濾過し、
濾液は陽極室内に供給し、得られた固形物は精製工程に
送ってＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈを個別に回収した。なお、アノ
ードメタル４は粒状のメタルショットであるため、レベ
ルの低下を見ながら連続的に補給した。
ドメタル４をスクレーパー６で撹拌することによって剥
離させ、陽極室内に強制供給している電解液５と共に電
槽外に排出した。次いで取り出した電解液５を濾過し、
濾液は陽極室内に供給し、得られた固形物は精製工程に
送ってＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈを個別に回収した。なお、アノ
ードメタル４は粒状のメタルショットであるため、レベ
ルの低下を見ながら連続的に補給した。
【００１５】
【発明の効果】本発明の開発により、陽極を出し入れす
る操作が不要となり、貴金属のハンドリングロスを防ぐ
ことができるようになった。また、電槽の小型化が可能
になり、設備コストを低減させることができるようにな
った。さらに、ライフが短い陽極を連続的に補給するこ
とができ、かつ、生成したスライムを連続的に系外に抜
出すことができるため、貴金属の槽内滞留期間が短縮さ
れ、滞留金利を大幅に削減できるようになった。
る操作が不要となり、貴金属のハンドリングロスを防ぐ
ことができるようになった。また、電槽の小型化が可能
になり、設備コストを低減させることができるようにな
った。さらに、ライフが短い陽極を連続的に補給するこ
とができ、かつ、生成したスライムを連続的に系外に抜
出すことができるため、貴金属の槽内滞留期間が短縮さ
れ、滞留金利を大幅に削減できるようになった。
【図１】本発明の高電流密度電解を行う際に用いられる
高電流密度電解装置の一例を示した模式断面図である。
高電流密度電解装置の一例を示した模式断面図である。
１‥‥‥隔膜 ２‥‥‥陰極ボックス ３‥‥‥電槽 ４‥‥‥アノードメタル ５‥‥‥電解液 ６‥‥‥スクレーパー ７‥‥‥銅板 ８‥‥‥Ｔｉ−Ｐｔ板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高田 正栄 東京都千代田区丸の内１丁目８番２号 小坂製錬株式会社内 (72)発明者 江澤 信泰 千葉県市川市高谷2015番地７ 田中貴金 属工業株式会社市川工場内 (56)参考文献 特開 昭52−41103（ＪＰ，Ａ) 特公 昭49−37682（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25D 1/00 - 7/08
Claims (2)
- 【請求項１】 電槽内に対向配置した陽極と陰極とを隔
膜によって分離し、陽極室と陰極室とにそれぞれ別個に
連続的な電解液の供給および排出を行うことによって両
極室内にそれぞれ第１および第２の電解液流をつくり、
精製用の粗金属からなるアノードを陽極室に供給して 5
00〜1,500A/m2 の高電流密度で電解を行い、電解が進行
するにつれて陰極に析出する電着金属粉を上記第１の電
解液流によって連続的に電槽外へ排出し、陽極に生成す
るアノードスライムを上記第２の電解液流によって連続
的に電槽外へ排出することを特徴とする高電流密度電解
方法。 - 【請求項２】 500〜1,500A/m2 の高電流密度が得られ
る状態に接続され、かつ水平に配置された陽極と陰極と
が隔膜によって分離されており、該陽極室および陰極室
にそれぞれ別個に連続的な電解液の供給および排出を行
うことができる構造の電槽を有してなることを特徴とす
る高電流密度電解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3169173A JP3055821B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 高電流密度電解の方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3169173A JP3055821B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 高電流密度電解の方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04365887A JPH04365887A (ja) | 1992-12-17 |
| JP3055821B2 true JP3055821B2 (ja) | 2000-06-26 |
Family
ID=15881605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3169173A Expired - Lifetime JP3055821B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 高電流密度電解の方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3055821B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP3169173A patent/JP3055821B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04365887A (ja) | 1992-12-17 |
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