JP3047059B2 - ジアゾメタン誘導体の製造方法 - Google Patents
ジアゾメタン誘導体の製造方法Info
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- JP3047059B2 JP3047059B2 JP5318495A JP31849593A JP3047059B2 JP 3047059 B2 JP3047059 B2 JP 3047059B2 JP 5318495 A JP5318495 A JP 5318495A JP 31849593 A JP31849593 A JP 31849593A JP 3047059 B2 JP3047059 B2 JP 3047059B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C245/00—Compounds containing chains of at least two nitrogen atoms with at least one nitrogen-to-nitrogen multiple bond
- C07C245/12—Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom
- C07C245/14—Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom having diazo groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C245/00—Compounds containing chains of at least two nitrogen atoms with at least one nitrogen-to-nitrogen multiple bond
- C07C245/12—Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom
- C07C245/14—Diazo compounds, i.e. compounds having the free valencies of >N2 groups attached to the same carbon atom having diazo groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton
- C07C245/16—Diazomethane
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ジアゾメタン誘導体の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般式
【０００３】
【化３】
【０００４】〔式中Ａｒは置換基を有していてもよいア
リール基を示す。〕で表わされるジアゾメタン誘導体
は、有機化合物のカルボキシル基の保護試薬として有用
な化合物である。
リール基を示す。〕で表わされるジアゾメタン誘導体
は、有機化合物のカルボキシル基の保護試薬として有用
な化合物である。
【０００５】従来、一般式（１）で表わされるジアゾメ
タン誘導体は、一般式
タン誘導体は、一般式
【０００６】
【化４】
【０００７】〔式中Ａｒは前記に同じ。〕で表わされる
ヒドラゾン誘導体から、例えば下記（Ａ）〜（Ｃ）に示
す方法により製造されている。
ヒドラゾン誘導体から、例えば下記（Ａ）〜（Ｃ）に示
す方法により製造されている。
【０００８】（Ａ） 酸化水銀（ジャーナル オブ オ
ーガニック ケミストリィー，２４，５６０，１９５
９）、酸化銀（ジャーナル オブ オーガニック ケミ
ストリィー，１９，７１８，１９５４）、過酸化ニッケ
ル（ジャーナル オブ ケミカルソサイアティー ケミ
カル コミニュケーション，２０，７３０，１９６
６）、二酸化マンガン（特公平３−１３２２２号公報）
等の金属酸化物を使用する方法。
ーガニック ケミストリィー，２４，５６０，１９５
９）、酸化銀（ジャーナル オブ オーガニック ケミ
ストリィー，１９，７１８，１９５４）、過酸化ニッケ
ル（ジャーナル オブ ケミカルソサイアティー ケミ
カル コミニュケーション，２０，７３０，１９６
６）、二酸化マンガン（特公平３−１３２２２号公報）
等の金属酸化物を使用する方法。
【０００９】（Ｂ） 過酢酸（特公昭５９−３４７０１
号公報）、ｍ−クロロ過安息香酸（特公昭５９−３４７
０１号公報、インディアン ジャーナル オブ ケミス
トリィー，２０Ｂ，６９９，１９８１等の有機過酸化物
を使用する方法。
号公報）、ｍ−クロロ過安息香酸（特公昭５９−３４７
０１号公報、インディアン ジャーナル オブ ケミス
トリィー，２０Ｂ，６９９，１９８１等の有機過酸化物
を使用する方法。
【００１０】（Ｃ） その他の酸化剤として、過酸化水
素（特公昭５９−３４７０１号公報や特公昭６１−２１
９４２号公報）、Ｎ置換アミンハライド（特開昭５９−
１７０１４６号公報）等を使用する方法。
素（特公昭５９−３４７０１号公報や特公昭６１−２１
９４２号公報）、Ｎ置換アミンハライド（特開昭５９−
１７０１４６号公報）等を使用する方法。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
（Ａ）〜（Ｃ）の方法には種々の欠点がある。即ち、
（Ａ）の方法は、金属酸化物の廃棄処理に伴う公害上の
問題や金属酸化物を再生再利用する場合でもその活性を
維持するために多くの注意を必要とする等の問題を有し
ている。（Ｂ）の方法には、安全性及び反応後に生成す
る有機酸の除去等の処理上の欠点に加えて、有機過酸化
物自体が高価であるという欠点がある。また（Ｃ）の方
法には、安全性及び酸化によって必然的に水を生じ過酸
化水素の濃度が下がり反応速度が低下するといった欠
点、またこれを防止するために過酸化水素を追加して濃
度を維持する場合は過酸化水素がかなり過剰に必要にな
るという欠点等がある。このように（Ａ）〜（Ｃ）のい
ずれも方法においても工業的見地からの配慮が必要であ
り、工業的に有利なものではない。
（Ａ）〜（Ｃ）の方法には種々の欠点がある。即ち、
（Ａ）の方法は、金属酸化物の廃棄処理に伴う公害上の
問題や金属酸化物を再生再利用する場合でもその活性を
維持するために多くの注意を必要とする等の問題を有し
ている。（Ｂ）の方法には、安全性及び反応後に生成す
る有機酸の除去等の処理上の欠点に加えて、有機過酸化
物自体が高価であるという欠点がある。また（Ｃ）の方
法には、安全性及び酸化によって必然的に水を生じ過酸
化水素の濃度が下がり反応速度が低下するといった欠
点、またこれを防止するために過酸化水素を追加して濃
度を維持する場合は過酸化水素がかなり過剰に必要にな
るという欠点等がある。このように（Ａ）〜（Ｃ）のい
ずれも方法においても工業的見地からの配慮が必要であ
り、工業的に有利なものではない。
【００１２】一方、上記の方法で得られるジアゾメタン
誘導体を結晶として単離精製する方法も知られている
（特開昭６０−１１４５０号公報）。しかるに、該ジア
ゾメタン誘導体は一般に熱に対して不安定であるため、
溶液のまま保護試薬として使用されている。この場合、
反応収率もさることながら如何に高純度のジアゾメタン
誘導体を製造するか、即ち通常ジアゾメタン誘導体製造
時にアジン化合物等の副生物の生成を如何に抑制するか
が重要になる。
誘導体を結晶として単離精製する方法も知られている
（特開昭６０−１１４５０号公報）。しかるに、該ジア
ゾメタン誘導体は一般に熱に対して不安定であるため、
溶液のまま保護試薬として使用されている。この場合、
反応収率もさることながら如何に高純度のジアゾメタン
誘導体を製造するか、即ち通常ジアゾメタン誘導体製造
時にアジン化合物等の副生物の生成を如何に抑制するか
が重要になる。
【００１３】ところで、特公昭５９−３４７０１号公報
やジャーナル オブ ケミカル ソサイアティー，パー
キンＩ，２０３０，１９７５には、ヒドラゾン誘導体を
酸化するに当り、有機過酸、Ｎ−クロロコハク酸イミ
ド、クロラミンＴ、過酸化水素等の有機系酸化剤を使用
する場合、塩基性条件下において相間移動触媒及び無機
沃素化合物の存在下酸化する方法が開示されており、次
亜塩素酸ナトリウムも酸化剤として有効なことが示唆さ
れている。しかしながら、特公昭５９−３４７０１号公
報には次亜塩素酸ナトリウムを用いる具体的な実施例は
なく、該公報において塩基は過酢酸等の有機過酸を使用
した場合に生じる酢酸を中和するために用いられている
に過ぎない。一方ジャーナル オブ ケミカル ソサイ
アティー，パーキンＩ，２０３０，１９７５には次亜塩
素酸ナトリウムを用いる方法が記載されているが、無機
沃素化合物を用いておらず、しかもその酸化収率は１３
％と低い。その後、過酸化水素を酸化剤として用いる方
法について、特公昭６１−２１９４２号公報にアルカリ
金属炭素塩存在下において相間移動触媒及び無機沃素化
合物の存在下、反応系の過酸化水素濃度を２０％以上に
維持して酸化する方法が開示されているが、その収率は
９０％と未だ不充分であり、しかも高純度のジアゾメタ
ン誘導体は得られていない。
やジャーナル オブ ケミカル ソサイアティー，パー
キンＩ，２０３０，１９７５には、ヒドラゾン誘導体を
酸化するに当り、有機過酸、Ｎ−クロロコハク酸イミ
ド、クロラミンＴ、過酸化水素等の有機系酸化剤を使用
する場合、塩基性条件下において相間移動触媒及び無機
沃素化合物の存在下酸化する方法が開示されており、次
亜塩素酸ナトリウムも酸化剤として有効なことが示唆さ
れている。しかしながら、特公昭５９−３４７０１号公
報には次亜塩素酸ナトリウムを用いる具体的な実施例は
なく、該公報において塩基は過酢酸等の有機過酸を使用
した場合に生じる酢酸を中和するために用いられている
に過ぎない。一方ジャーナル オブ ケミカル ソサイ
アティー，パーキンＩ，２０３０，１９７５には次亜塩
素酸ナトリウムを用いる方法が記載されているが、無機
沃素化合物を用いておらず、しかもその酸化収率は１３
％と低い。その後、過酸化水素を酸化剤として用いる方
法について、特公昭６１−２１９４２号公報にアルカリ
金属炭素塩存在下において相間移動触媒及び無機沃素化
合物の存在下、反応系の過酸化水素濃度を２０％以上に
維持して酸化する方法が開示されているが、その収率は
９０％と未だ不充分であり、しかも高純度のジアゾメタ
ン誘導体は得られていない。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、工業的なジ
アゾメタン誘導体の合成という観点においては、工業用
原料として最も安価で安全性の高い酸化剤であり、反
応、排水等の取り扱いが非常に容易な次亜塩素酸ナトリ
ウムが最も適していると考え、これを用いて高収率且つ
高純度でジアゾメタン誘導体を大量に得る方法について
鋭意検討を重ねてきた。その結果、次亜塩素酸ナトリウ
ム、塩基、無機沃素化合物及び相間移動触媒の４つの要
件のうち酸化剤水溶液である塩基と次亜塩素酸ナトリウ
ムとの混合水溶液において塩基濃度と次亜塩素酸ナトリ
ウム濃度とが相互に影響し、ある一定の濃度範囲におい
てのみ反応収率及び反応選択性（ジアゾメタン誘導体純
度）が著しく向上することを発見した。即ち、塩基濃度
及び次亜塩素酸ナトリウム濃度のいずれかが最適濃度条
件から外れた場合には、反応収率及び／又は反応選択性
が低下してアジン化合物等の副生成物が増加することを
見い出した。本発明は、斯かる知見に基づき完成された
ものである。
アゾメタン誘導体の合成という観点においては、工業用
原料として最も安価で安全性の高い酸化剤であり、反
応、排水等の取り扱いが非常に容易な次亜塩素酸ナトリ
ウムが最も適していると考え、これを用いて高収率且つ
高純度でジアゾメタン誘導体を大量に得る方法について
鋭意検討を重ねてきた。その結果、次亜塩素酸ナトリウ
ム、塩基、無機沃素化合物及び相間移動触媒の４つの要
件のうち酸化剤水溶液である塩基と次亜塩素酸ナトリウ
ムとの混合水溶液において塩基濃度と次亜塩素酸ナトリ
ウム濃度とが相互に影響し、ある一定の濃度範囲におい
てのみ反応収率及び反応選択性（ジアゾメタン誘導体純
度）が著しく向上することを発見した。即ち、塩基濃度
及び次亜塩素酸ナトリウム濃度のいずれかが最適濃度条
件から外れた場合には、反応収率及び／又は反応選択性
が低下してアジン化合物等の副生成物が増加することを
見い出した。本発明は、斯かる知見に基づき完成された
ものである。
【００１５】即ち、本発明は、上記一般式（２）で表わ
されるヒドラゾン誘導体を疎水性有機溶剤中、相間移動
触媒及び無機沃素化合物の存在下、水溶液中の濃度が４
〜１４ｗ／ｗ％の苛性アルカリ及び水溶液中の濃度が３
〜１０ｗ／ｗ％の次亜塩素酸ナトリウムの混合水溶液に
て二層系で酸化することを特徴とする一般式（１）で表
わされるジアゾメタン誘導体の製造方法に係る。
されるヒドラゾン誘導体を疎水性有機溶剤中、相間移動
触媒及び無機沃素化合物の存在下、水溶液中の濃度が４
〜１４ｗ／ｗ％の苛性アルカリ及び水溶液中の濃度が３
〜１０ｗ／ｗ％の次亜塩素酸ナトリウムの混合水溶液に
て二層系で酸化することを特徴とする一般式（１）で表
わされるジアゾメタン誘導体の製造方法に係る。
【００１６】本明細書においてＡｒで示される置換基を
有していてもよいアリール基のアリール基としては、例
えばフェニル基、ナフチル基等が例示できる。Ａｒで示
されるアリール基に置換していてもよい置換基として
は、例えばハロゲン原子（弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子等）、ニトロ基、シアノ基、アリール基
（フェニル基、ナフチル基等）、低級アルキル基（メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、低級
アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキ
シ基等）等が例示できる。Ａｒで示されるアリール基
は、上記置換基から選ばれる１〜５個の同一又は異なる
種類の置換基で置換されていてもよい。
有していてもよいアリール基のアリール基としては、例
えばフェニル基、ナフチル基等が例示できる。Ａｒで示
されるアリール基に置換していてもよい置換基として
は、例えばハロゲン原子（弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子等）、ニトロ基、シアノ基、アリール基
（フェニル基、ナフチル基等）、低級アルキル基（メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、低級
アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキ
シ基等）等が例示できる。Ａｒで示されるアリール基
は、上記置換基から選ばれる１〜５個の同一又は異なる
種類の置換基で置換されていてもよい。
【００１７】本発明で用いられる次亜塩素酸ナトリウム
は、水酸化ナトリウム水溶液中に塩素を導入することに
よって容易に製造され得るものであるが、一般には有効
塩素（Ｃｌ2 として）１２〜１４ｗ／ｗ％の濃度の水溶
液が工業用原料として安価で容易に入手可能であるの
で、これを用いるのが望ましい。次亜塩素酸ナトリウム
の使用量は一般式（２）で表わされるヒドラゾン誘導体
に対して通常１〜５当量の範囲、好ましくは１〜２当量
の範囲で使用できるが、９６％以上の反応収率と反応選
択性（ジアゾメタン誘導体純度）を得るためには、苛性
アルカリと次亜塩素酸ナトリウムとの混合水溶液中の次
亜塩素酸ナトリウム濃度が３〜１０ｗ／ｗ％の範囲とす
ることが重要である。
は、水酸化ナトリウム水溶液中に塩素を導入することに
よって容易に製造され得るものであるが、一般には有効
塩素（Ｃｌ2 として）１２〜１４ｗ／ｗ％の濃度の水溶
液が工業用原料として安価で容易に入手可能であるの
で、これを用いるのが望ましい。次亜塩素酸ナトリウム
の使用量は一般式（２）で表わされるヒドラゾン誘導体
に対して通常１〜５当量の範囲、好ましくは１〜２当量
の範囲で使用できるが、９６％以上の反応収率と反応選
択性（ジアゾメタン誘導体純度）を得るためには、苛性
アルカリと次亜塩素酸ナトリウムとの混合水溶液中の次
亜塩素酸ナトリウム濃度が３〜１０ｗ／ｗ％の範囲とす
ることが重要である。
【００１８】一方苛性アルカリとしては、従来公知の苛
性アルカリ、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等を広く使用できるが、好ましくは
水酸化ナトリウムが経済性の点で優れている。苛性アル
カリは一般に水溶液として使用するのが操作性の点で有
利である。また本発明においては、この苛性アルカリ水
溶液を次亜塩素酸ナトリウム水溶液と予め混合してお
き、この混合液を使用することが望ましい。苛性アルカ
リの使用量としては一般式（２）で表わされるヒドラゾ
ン誘導体に対し通常１〜１０当量の範囲、好ましくは後
処理の中和を考慮すると５当量以下の使用が望ましい
が、９６％以上の反応収率と反応選択性（ジアゾメタン
誘導体純度）を得るためには、苛性アルカリと次亜塩素
酸ナトリウムとの混合水溶液中の苛性アルカリ濃度が４
〜１４ｗ／ｗ％の範囲とすることが重要である。
性アルカリ、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等を広く使用できるが、好ましくは
水酸化ナトリウムが経済性の点で優れている。苛性アル
カリは一般に水溶液として使用するのが操作性の点で有
利である。また本発明においては、この苛性アルカリ水
溶液を次亜塩素酸ナトリウム水溶液と予め混合してお
き、この混合液を使用することが望ましい。苛性アルカ
リの使用量としては一般式（２）で表わされるヒドラゾ
ン誘導体に対し通常１〜１０当量の範囲、好ましくは後
処理の中和を考慮すると５当量以下の使用が望ましい
が、９６％以上の反応収率と反応選択性（ジアゾメタン
誘導体純度）を得るためには、苛性アルカリと次亜塩素
酸ナトリウムとの混合水溶液中の苛性アルカリ濃度が４
〜１４ｗ／ｗ％の範囲とすることが重要である。
【００１９】本発明の方法では、疎水性有機溶剤と上記
苛性アルカリ及び次亜塩素酸ナトリウムの混合水溶液と
の二層系で反応を行なうことを必須とする。用いられる
疎水性有機溶剤としては、酸化反応に不活性なものであ
る限り従来公知のものを広く使用でき、例えば塩素化炭
化水素（具体的にはジクロロメタン、１，２−ジクロロ
エタン、クロロホルム等）、脂肪族エステル（具体的に
は酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル（具体的には
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等）、脂肪
族炭化水素（具体的にはｎ−ヘキサン、シクロヘキサン
等）、芳香族炭化水素（具体的にはベンゼン、トルエン
等）等を例示できる。これら疎水性有機溶媒のうち原料
のヒドラゾン誘導体及び目的化合物であるジアゾメタン
誘導体の溶解性、安全性及び経済性の点において塩素化
炭化水素系溶剤、特にジクロロメタンが好ましい。一般
式（２）で表わされるヒドラゾン誘導体の疎水性有機溶
媒に対する濃度は特に制限はないが、操作性、特に反応
終了後の分液の容易さを考慮すると通常１０〜１５０ｗ
／ｖ％程度とするのがよい。
苛性アルカリ及び次亜塩素酸ナトリウムの混合水溶液と
の二層系で反応を行なうことを必須とする。用いられる
疎水性有機溶剤としては、酸化反応に不活性なものであ
る限り従来公知のものを広く使用でき、例えば塩素化炭
化水素（具体的にはジクロロメタン、１，２−ジクロロ
エタン、クロロホルム等）、脂肪族エステル（具体的に
は酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル（具体的には
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等）、脂肪
族炭化水素（具体的にはｎ−ヘキサン、シクロヘキサン
等）、芳香族炭化水素（具体的にはベンゼン、トルエン
等）等を例示できる。これら疎水性有機溶媒のうち原料
のヒドラゾン誘導体及び目的化合物であるジアゾメタン
誘導体の溶解性、安全性及び経済性の点において塩素化
炭化水素系溶剤、特にジクロロメタンが好ましい。一般
式（２）で表わされるヒドラゾン誘導体の疎水性有機溶
媒に対する濃度は特に制限はないが、操作性、特に反応
終了後の分液の容易さを考慮すると通常１０〜１５０ｗ
／ｖ％程度とするのがよい。
【００２０】本発明において、無機沃素化合物として
は、従来公知のもの、例えば沃素、メタ過沃素酸のアル
カリ金属塩（具体的にはメタ過沃素酸ナトリウム、メタ
過沃素酸カリウム）、沃化水素のアルカリ金属塩（具体
的には沃化ナトリウム、沃化カリウム）、沃素のアンモ
ニウム塩（具体的には沃化アンモニウム、沃化テトラメ
チルアンモニウム、沃化テトラエチルアンモニウム、沃
化テトラブチルアンモニウム）等を広く例示することが
できるが、好ましくは沃化水素のアルカリ金属塩を用い
るのがよい。本反応は無機沃素化合物を共存させなくて
も進行するが、一般に反応の進行が遅く原料化合物が残
存する傾向になる。このため無機沃素化合物の使用量
は、一般式（２）で表わされるヒドラゾン誘導体に対し
通常０．００１〜１当量の範囲、反応速度及び経済性の
観点からは０．０１〜０．１当量の範囲が好ましい。ま
たこれら無機沃素化合物は、一般式（２）で表わされる
ヒドラゾン誘導体の疎水性有機溶媒溶液側に添加するほ
うが好適である。
は、従来公知のもの、例えば沃素、メタ過沃素酸のアル
カリ金属塩（具体的にはメタ過沃素酸ナトリウム、メタ
過沃素酸カリウム）、沃化水素のアルカリ金属塩（具体
的には沃化ナトリウム、沃化カリウム）、沃素のアンモ
ニウム塩（具体的には沃化アンモニウム、沃化テトラメ
チルアンモニウム、沃化テトラエチルアンモニウム、沃
化テトラブチルアンモニウム）等を広く例示することが
できるが、好ましくは沃化水素のアルカリ金属塩を用い
るのがよい。本反応は無機沃素化合物を共存させなくて
も進行するが、一般に反応の進行が遅く原料化合物が残
存する傾向になる。このため無機沃素化合物の使用量
は、一般式（２）で表わされるヒドラゾン誘導体に対し
通常０．００１〜１当量の範囲、反応速度及び経済性の
観点からは０．０１〜０．１当量の範囲が好ましい。ま
たこれら無機沃素化合物は、一般式（２）で表わされる
ヒドラゾン誘導体の疎水性有機溶媒溶液側に添加するほ
うが好適である。
【００２１】一方、相間移動触媒としても従来公知のも
のを広く使用でき、例えば四級アンモニウム塩（具体的
にはテトラメチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクチルアン
モニウムクロリド、ベンジルトリオクチルアンモニウム
クロリド、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサ
ルフェイト、テトラブチルアンモニウムヒドロキサイド
等）、クラウンエーテル類（具体的には１５−クラウン
−５、１８−クラウン−６等）、及びポリエーテル類
（具体的にはポリエチレングリコール、ツイン８０等）
等が例示できる。この中でも四級アンモニウム塩が特に
好ましい。斯かる相間移動触媒の使用量は、一般式
（２）で表わされるヒドラゾン誘導体に対し通常０．０
００１〜５０ｗ／ｗ％で使用できるが、高収率、高純度
でジアゾメタン誘導体を得るためには、０．００１〜３
ｗ／ｗ％で使用するのが最も望ましい。即ち、本反応は
相間移動触媒を共存させなくても進行するが、相間移動
触媒を用いない場合反応中及び反応後にジアゾメタン誘
導体の分解が生じ、カルボニル化合物等が多く副生し、
その結果ジアゾメタン誘導体の収率及び純度が著しく低
下するため、相間移動触媒は不可欠である。また相間移
動触媒を上記使用量の範囲を越えて使用した場合にも、
反応収率及び純度が低下し満足のいくジアゾメタン誘導
体を得ることはできないため、極力その使用量を少なく
するほうが好ましい。本発明では、これら相間移動触媒
は疎水性有機溶媒側及び苛性アルカリと次亜塩素酸ナト
リウム混合水溶液側のどちらに含まれていてもよい。相
間移動触媒を苛性アルカリと次亜塩素酸ナトリウム混合
水溶液側に添加する場合において、これら相間移動触媒
の水溶液に対する溶解度が低くその比重が上記混合水溶
液よりも小さい場合には、相間移動触媒が実質的には飽
和濃度以上には混合水溶液に溶けずに上層に分離するた
め、上記使用量の範囲を越えて相間移動触媒を使用して
も構わない。
のを広く使用でき、例えば四級アンモニウム塩（具体的
にはテトラメチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクチルアン
モニウムクロリド、ベンジルトリオクチルアンモニウム
クロリド、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサ
ルフェイト、テトラブチルアンモニウムヒドロキサイド
等）、クラウンエーテル類（具体的には１５−クラウン
−５、１８−クラウン−６等）、及びポリエーテル類
（具体的にはポリエチレングリコール、ツイン８０等）
等が例示できる。この中でも四級アンモニウム塩が特に
好ましい。斯かる相間移動触媒の使用量は、一般式
（２）で表わされるヒドラゾン誘導体に対し通常０．０
００１〜５０ｗ／ｗ％で使用できるが、高収率、高純度
でジアゾメタン誘導体を得るためには、０．００１〜３
ｗ／ｗ％で使用するのが最も望ましい。即ち、本反応は
相間移動触媒を共存させなくても進行するが、相間移動
触媒を用いない場合反応中及び反応後にジアゾメタン誘
導体の分解が生じ、カルボニル化合物等が多く副生し、
その結果ジアゾメタン誘導体の収率及び純度が著しく低
下するため、相間移動触媒は不可欠である。また相間移
動触媒を上記使用量の範囲を越えて使用した場合にも、
反応収率及び純度が低下し満足のいくジアゾメタン誘導
体を得ることはできないため、極力その使用量を少なく
するほうが好ましい。本発明では、これら相間移動触媒
は疎水性有機溶媒側及び苛性アルカリと次亜塩素酸ナト
リウム混合水溶液側のどちらに含まれていてもよい。相
間移動触媒を苛性アルカリと次亜塩素酸ナトリウム混合
水溶液側に添加する場合において、これら相間移動触媒
の水溶液に対する溶解度が低くその比重が上記混合水溶
液よりも小さい場合には、相間移動触媒が実質的には飽
和濃度以上には混合水溶液に溶けずに上層に分離するた
め、上記使用量の範囲を越えて相間移動触媒を使用して
も構わない。
【００２２】本発明の反応は通常−３０〜５０℃で進行
するが、５０℃以上ではジアゾメタン誘導体の分解が生
じるため、より高純度のジアゾメタン誘導体を得るため
には−２０〜３０℃の範囲で行なうのが好ましい。ま
た、本発明の反応は苛性アルカリ水溶液中の次亜塩素酸
ナトリウム水溶液の滴下に伴って発熱するため、反応初
期の温度をより低温に維持する方が有利である。このた
め、疎水性有機溶媒層及び苛性アルカリと次亜塩素酸ナ
トリウムの混合水溶液を予め冷却しておくことが好まし
い。苛性アルカリと次亜塩素酸ナトリウムの混合水溶液
の滴下速度は、上記反応温度範囲に維持される限りにお
いては特に制限はないが、通常０．１〜８時間の範囲内
で滴下するのがよい。
するが、５０℃以上ではジアゾメタン誘導体の分解が生
じるため、より高純度のジアゾメタン誘導体を得るため
には−２０〜３０℃の範囲で行なうのが好ましい。ま
た、本発明の反応は苛性アルカリ水溶液中の次亜塩素酸
ナトリウム水溶液の滴下に伴って発熱するため、反応初
期の温度をより低温に維持する方が有利である。このた
め、疎水性有機溶媒層及び苛性アルカリと次亜塩素酸ナ
トリウムの混合水溶液を予め冷却しておくことが好まし
い。苛性アルカリと次亜塩素酸ナトリウムの混合水溶液
の滴下速度は、上記反応温度範囲に維持される限りにお
いては特に制限はないが、通常０．１〜８時間の範囲内
で滴下するのがよい。
【００２３】尚、本発明の反応は二層系の不均一反応で
あるため攪拌効率には特に注意する必要がある。即ち、
疎水性有機溶媒層と苛性アルカリと次亜塩素酸ナトリウ
ムの混合水溶液層が十分混合できない場合には反応効率
（収率）及び反応選択性（ジアゾメタン誘導体純度）が
低下するため、二層が十分混合可能な攪拌方法及び攪拌
速度を選択することが望ましい。
あるため攪拌効率には特に注意する必要がある。即ち、
疎水性有機溶媒層と苛性アルカリと次亜塩素酸ナトリウ
ムの混合水溶液層が十分混合できない場合には反応効率
（収率）及び反応選択性（ジアゾメタン誘導体純度）が
低下するため、二層が十分混合可能な攪拌方法及び攪拌
速度を選択することが望ましい。
【００２４】上記の方法で得られたジアゾメタン誘導体
の疎水性有機溶媒の溶液は、単に分液するのみで有機化
合物のカルボキシル基の保護試薬として使用可能な純度
で得られそのまま使用可能であるが、低温にて有機溶媒
を濃縮することによってジアゾメタン誘導体を結晶とし
て取り出すこともできる。
の疎水性有機溶媒の溶液は、単に分液するのみで有機化
合物のカルボキシル基の保護試薬として使用可能な純度
で得られそのまま使用可能であるが、低温にて有機溶媒
を濃縮することによってジアゾメタン誘導体を結晶とし
て取り出すこともできる。
【００２５】
【実施例】以下に実施例を掲げ、本発明を更に詳細に説
明する。尚、ジアゾメタン誘導体の分析は、従来のＵＶ
測定法では副生する不純物が把握できず、ジアゾメタン
誘導体の収率及び純度が実際よりも大きく定量されるた
め、液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）法にて行なっ
た。
明する。尚、ジアゾメタン誘導体の分析は、従来のＵＶ
測定法では副生する不純物が把握できず、ジアゾメタン
誘導体の収率及び純度が実際よりも大きく定量されるた
め、液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）法にて行なっ
た。
【００２６】実施例１ 水１８０ｍｌに２５％水酸化ナトリウム水溶液２６７ｍ
ｌ及び有効塩素１３．８％の次亜塩素酸ナトリウム水溶
液２４１ｍｌを加えた後、氷冷下で攪拌冷却した。一
方、ベンゾフェノンヒドラゾン（ＢＰＨ）８９．０ｇを
ジクロロメタン１９０ｍｌに溶解し、これにベンジルジ
メチルオクチルアンモニウムクロリドの５０％水溶液
（ＱＢＡ−８１１）０．１０ｍｌ及び沃化カリウム水溶
液（ＫＩ４．５ｇ／水６ｍｌ）を加え、氷冷下で攪拌冷
却した。どちらの溶液も５℃以下になったのを確認した
後、ベンゾフェノンヒドラゾンのジクロロメタン溶液
に、先に調製した酸化剤水溶液を２時間かけて徐々に滴
下し、更に１０分間そのまま激しく攪拌した。３０分間
静置した後にジクロロメタン層を分離した。ＨＰＬＣ分
析の結果、このジクロロメタン層には、ジフェニルジア
ゾメタン８６．５ｇ（収率９８％）、ベンゾフェノン
０．８ｇ（収率０．９％）、ベンゾフェノンアジン０．
６ｇ（収率０．８％）が含まていた。この時のジフェニ
ルジアゾメタン量をＵＶ測定法にて算出すると９０．９
０ｇ（収率１０３％）となった。
ｌ及び有効塩素１３．８％の次亜塩素酸ナトリウム水溶
液２４１ｍｌを加えた後、氷冷下で攪拌冷却した。一
方、ベンゾフェノンヒドラゾン（ＢＰＨ）８９．０ｇを
ジクロロメタン１９０ｍｌに溶解し、これにベンジルジ
メチルオクチルアンモニウムクロリドの５０％水溶液
（ＱＢＡ−８１１）０．１０ｍｌ及び沃化カリウム水溶
液（ＫＩ４．５ｇ／水６ｍｌ）を加え、氷冷下で攪拌冷
却した。どちらの溶液も５℃以下になったのを確認した
後、ベンゾフェノンヒドラゾンのジクロロメタン溶液
に、先に調製した酸化剤水溶液を２時間かけて徐々に滴
下し、更に１０分間そのまま激しく攪拌した。３０分間
静置した後にジクロロメタン層を分離した。ＨＰＬＣ分
析の結果、このジクロロメタン層には、ジフェニルジア
ゾメタン８６．５ｇ（収率９８％）、ベンゾフェノン
０．８ｇ（収率０．９％）、ベンゾフェノンアジン０．
６ｇ（収率０．８％）が含まていた。この時のジフェニ
ルジアゾメタン量をＵＶ測定法にて算出すると９０．９
０ｇ（収率１０３％）となった。
【００２７】実施例２ 水９０ｍｌに２５％水酸化ナトリウム水溶液１３４ｍｌ
及び有効塩素１３．８％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液
１２１ｍｌを加え、これにベンジルジメチルオクチルア
ンモニウムクロリドの５０％水溶液０．１０ｍｌを加え
た後、氷冷下で攪拌冷却した。一方、ベンゾフェノンヒ
ドラゾン４４．５ｇをジクロロメタン９５ｍｌに溶解
し、これに沃化カリウム水溶液（沃化カリウム２．２５
ｇ／水３ｍｌ）を加え、氷冷下で攪拌冷却した。どちら
の溶液も５℃以下になったのを確認した後、ベンゾフェ
ノンヒドラゾンのジクロロメタン溶液に、先に調製した
酸化剤水溶液を１時間かけて徐々に滴下し、滴下終了後
更に１０分間攪拌した。３０分間静置した後にジクロロ
メタン層を分離した。ＨＰＬＣ分析の結果、このジクロ
ロメタン層には、ジフェニルジアゾメタン４４．０ｇ
（収率定量的）が含まれていた。
及び有効塩素１３．８％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液
１２１ｍｌを加え、これにベンジルジメチルオクチルア
ンモニウムクロリドの５０％水溶液０．１０ｍｌを加え
た後、氷冷下で攪拌冷却した。一方、ベンゾフェノンヒ
ドラゾン４４．５ｇをジクロロメタン９５ｍｌに溶解
し、これに沃化カリウム水溶液（沃化カリウム２．２５
ｇ／水３ｍｌ）を加え、氷冷下で攪拌冷却した。どちら
の溶液も５℃以下になったのを確認した後、ベンゾフェ
ノンヒドラゾンのジクロロメタン溶液に、先に調製した
酸化剤水溶液を１時間かけて徐々に滴下し、滴下終了後
更に１０分間攪拌した。３０分間静置した後にジクロロ
メタン層を分離した。ＨＰＬＣ分析の結果、このジクロ
ロメタン層には、ジフェニルジアゾメタン４４．０ｇ
（収率定量的）が含まれていた。
【００２８】実施例３〜１２ 表１に示す条件以外は実施例２と同じ条件下反応を行な
った結果を表１にまとめて示す。
った結果を表１にまとめて示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】実施例１３〜２１ 相間移動触媒をベンジルジメチルオクチルアンモニウム
クロリドから表２に示した触媒に変更する以外は実施例
２と同様の条件下反応を行なった結果を表２に示す。
クロリドから表２に示した触媒に変更する以外は実施例
２と同様の条件下反応を行なった結果を表２に示す。
【００３１】
【表２】
【００３２】比較例１ 実施例１において沃化カリウム水溶液（沃化カリウム
４．５ｇ／水６ｍｌ）を用いない以外は、実施例１と同
様の条件下反応を行なった後、ジクロロメタン層を分離
した。ＨＰＬＣ分析の結果、このジクロロメタン層に
は、ジフェニルジアゾメタン３６．６ｇ（収率４２
％）、ベンゾフェノン１．３ｇ（収率１．６％）、ベン
ゾフェノンアジン０．１ｇ（収率０．１％）及び原料の
ベンゾフェノンヒドラゾン５０．４ｇ（収率５７％）が
含まれていた。
４．５ｇ／水６ｍｌ）を用いない以外は、実施例１と同
様の条件下反応を行なった後、ジクロロメタン層を分離
した。ＨＰＬＣ分析の結果、このジクロロメタン層に
は、ジフェニルジアゾメタン３６．６ｇ（収率４２
％）、ベンゾフェノン１．３ｇ（収率１．６％）、ベン
ゾフェノンアジン０．１ｇ（収率０．１％）及び原料の
ベンゾフェノンヒドラゾン５０．４ｇ（収率５７％）が
含まれていた。
【００３３】比較例２ 実施例１において２５％水酸化ナトリウム水溶液２６７
ｍｌの代わりに水２６７ｍｌを追加する以外は、実施例
１と同様の条件下反応を行なった後、ジクロロメタン層
を分離した。ＨＰＬＣ分析の結果、このジクロロメタン
層には、ジフェニルジアゾメタン１３．６ｇ（収率１５
％）、ベンゾフェノン８．１ｇ（収率９．８％）、ベン
ゾフェノンアジン２２．７ｇ（収率２７％）が含まれて
いた。
ｍｌの代わりに水２６７ｍｌを追加する以外は、実施例
１と同様の条件下反応を行なった後、ジクロロメタン層
を分離した。ＨＰＬＣ分析の結果、このジクロロメタン
層には、ジフェニルジアゾメタン１３．６ｇ（収率１５
％）、ベンゾフェノン８．１ｇ（収率９．８％）、ベン
ゾフェノンアジン２２．７ｇ（収率２７％）が含まれて
いた。
【００３４】比較例３ 実施例１においてベンジルジメチルオクチルアンモニウ
ムクロリドの５０％水溶液を使用しない以外は、実施例
１と同様の条件下反応を行なった後、ジクロロメタン層
を分離した。ＨＰＬＣ分析の結果、このジクロロメタン
層には、ジフェニルジアゾメタン４８．７ｇ（収率５５
％）、ベンゾフェノン１６．２ｇ（収率１９％）、ベン
ゾフェノンアジン８．２ｇ（収率１０％）が含まれてい
た。
ムクロリドの５０％水溶液を使用しない以外は、実施例
１と同様の条件下反応を行なった後、ジクロロメタン層
を分離した。ＨＰＬＣ分析の結果、このジクロロメタン
層には、ジフェニルジアゾメタン４８．７ｇ（収率５５
％）、ベンゾフェノン１６．２ｇ（収率１９％）、ベン
ゾフェノンアジン８．２ｇ（収率１０％）が含まれてい
た。
【００３５】比較例４ 実施例１においてベンジルジメチルオクチルアンモニウ
ムクロリドの５０％水溶液の使用量を０．１０ｍｌから
７．５０ｍｌに変更する以外は、実施例１と同様の条件
下反応を行なった後、ジクロロメタン層を分離した。Ｈ
ＰＬＣ分析の結果このジクロロメタン層には、ジフェニ
ルジアゾメタン７７．２ｇ（収率８７％）、ベンゾフェ
ノン４．１ｇ（収率５．０％）、ベンゾフェノンアジン
４．６ｇ（収率５．６％）が含まれていた。
ムクロリドの５０％水溶液の使用量を０．１０ｍｌから
７．５０ｍｌに変更する以外は、実施例１と同様の条件
下反応を行なった後、ジクロロメタン層を分離した。Ｈ
ＰＬＣ分析の結果このジクロロメタン層には、ジフェニ
ルジアゾメタン７７．２ｇ（収率８７％）、ベンゾフェ
ノン４．１ｇ（収率５．０％）、ベンゾフェノンアジン
４．６ｇ（収率５．６％）が含まれていた。
【００３６】比較例５〜８ 表３に示す条件以外は実施例２と同じ条件下反応を行な
った結果を表３にまとめて示す。
った結果を表３にまとめて示す。
【００３７】
【表３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−80002（ＪＰ，Ａ) Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉ ｎ Ｔｒａｎｓ．１，Ｖｏｌ．20 （1975）ｐ．2030−2033 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 245/14 - 245/18 ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基を示
す。〕で表わされるヒドラゾン誘導体を疎水性有機溶剤
中、相間移動触媒及び無機沃素化合物の存在下、水溶液
中の濃度が４〜１４ｗ／ｗ％の苛性アルカリ及び水溶液
中の濃度が３〜１０ｗ／ｗ％の次亜塩素酸ナトリウムの
混合水溶液にて二層系で酸化することを特徴とする一般
式 【化２】 〔式中Ａｒは前記に同じ。〕で表わされるジアゾメタン
誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 Ａｒがフェニル基である請求項１に記載
の方法。 - 【請求項３】 相間移動触媒の使用量が原料のヒドラゾ
ン誘導体に対して０．００１〜３ｗｔ％である請求項１
又は２に記載の方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5318495A JP3047059B2 (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | ジアゾメタン誘導体の製造方法 |
| AT95902975T ATE171937T1 (de) | 1993-12-17 | 1994-12-16 | Verfahren zur herstellung von diazomethanderivaten |
| US08/501,090 US5587464A (en) | 1993-12-17 | 1994-12-16 | Process for producing diazomethane derivatives |
| DE69413803T DE69413803T2 (de) | 1993-12-17 | 1994-12-16 | Verfahren zur herstellung von diazomethanderivaten |
| EP95902975A EP0685459B1 (en) | 1993-12-17 | 1994-12-16 | Process for producing diazomethane derivative |
| PCT/JP1994/002124 WO1995016666A1 (fr) | 1993-12-17 | 1994-12-16 | Procede de production de derive de diazomethane |
| KR1019950703417A KR100334218B1 (ko) | 1993-12-17 | 1994-12-16 | 디아조메탄유도체의제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5318495A JP3047059B2 (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | ジアゾメタン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07173124A JPH07173124A (ja) | 1995-07-11 |
| JP3047059B2 true JP3047059B2 (ja) | 2000-05-29 |
Family
ID=18099765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5318495A Expired - Lifetime JP3047059B2 (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | ジアゾメタン誘導体の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5587464A (ja) |
| EP (1) | EP0685459B1 (ja) |
| JP (1) | JP3047059B2 (ja) |
| KR (1) | KR100334218B1 (ja) |
| AT (1) | ATE171937T1 (ja) |
| DE (1) | DE69413803T2 (ja) |
| WO (1) | WO1995016666A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9824023D0 (en) * | 1998-11-03 | 1998-12-30 | Isis Innovation | Surface functionalisation |
| CA2311064A1 (en) * | 1999-06-18 | 2000-12-18 | The Governors Of The University Of Alberta | Substituted tetraarylethylene compounds |
| CN101100444B (zh) * | 2007-07-27 | 2010-06-23 | 浙江工业大学 | 一种二苯基重氮甲烷的合成方法 |
| CN106608788B (zh) * | 2016-11-18 | 2019-05-14 | 东北师范大学 | 一种温和的重氮甲烷衍生物的制备方法 |
| CN106632397B (zh) * | 2016-12-01 | 2019-03-22 | 齐鲁天和惠世制药有限公司 | 一种6α-溴青霉烷-3α-羧酸二苯甲酯-1β-氧化物的制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4083837A (en) * | 1972-07-11 | 1978-04-11 | Glaxo Laboratories Limited | Oxidation of hydrazones to the corresponding diazo compound |
| GB1442755A (en) * | 1972-07-11 | 1976-07-14 | Glaxo Lab Ltd | Diazo compounds |
| US4092306A (en) * | 1973-07-09 | 1978-05-30 | Glaxo Laboratories Limited | Oxidation of hydrazones to the corresponding diazo compounds in the presence of a phase transfer and an oxidation catalyst which is iodine, an iodide or an iodonium salt |
-
1993
- 1993-12-17 JP JP5318495A patent/JP3047059B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-12-16 EP EP95902975A patent/EP0685459B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-16 US US08/501,090 patent/US5587464A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-16 AT AT95902975T patent/ATE171937T1/de active
- 1994-12-16 WO PCT/JP1994/002124 patent/WO1995016666A1/ja active IP Right Grant
- 1994-12-16 DE DE69413803T patent/DE69413803T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-16 KR KR1019950703417A patent/KR100334218B1/ko not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，Ｖｏｌ．２０（１９７５）ｐ．２０３０−２０３３ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0685459A4 (en) | 1996-04-10 |
| EP0685459B1 (en) | 1998-10-07 |
| WO1995016666A1 (fr) | 1995-06-22 |
| DE69413803D1 (de) | 1998-11-12 |
| ATE171937T1 (de) | 1998-10-15 |
| US5587464A (en) | 1996-12-24 |
| JPH07173124A (ja) | 1995-07-11 |
| KR100334218B1 (ko) | 2003-02-05 |
| KR960701001A (ko) | 1996-02-24 |
| EP0685459A1 (en) | 1995-12-06 |
| DE69413803T2 (de) | 1999-05-12 |
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