JP3026863B2 - 触媒を使用するスクロース−６−エステル化方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明はジスタノキサンジエステルを触媒
として用いるスクロースの位置選択的エステル化法に関
する。本発明の重要な観点において、本エステル化反応
は３級アミンによッて促進される。

【０００２】スクロース分子は３つの１級ヒドロキシル
基と５つの２級ヒドロキシル基を含む。それ故にヒドロ
キシル基の反応を含むスクロース誘導体を製造したい場
合には、反応を所望のヒドロキシル基に向わせることが
主たる合成上の問題となる。例えば人工甘味料の４,
１′,６′−トリクロロ−４,１′,６′−トリデオキシ
ガラクトスクロース［「スクラロース（sucralos
e）」］は４,１′、及び６′位のヒドロキシルを塩素で
置換することによりスクロースから誘導される。（該甘
味料の製造工程において、４位の立体配置は反転し、従
って化合物はガラクトスクロースとなる。）この化合物
及びその製造法は、米国特許第４,３４３,９３４号、第
４,３６２,８６９号、第４,３８０,４７６号、及び第
４,４３５,４４０号に開示されている。特に異なる反応
性のヒドロキシル基を置換させるから、塩素原子を所望
の位置だけに向わせることは主な合成上の問題である
（置換させる２つは１級、１つは２級であり；６位の１
級ヒドロキシルが最終生成物において未置換であるとい
う事実によって合成は更に複雑となる）。甘味料スクラ
ロースには多くの異なった合成経路が開発されてきた。
先ずは４,１′、及び６′位のヒドロキシル基を塩素化
する前にエステル基による如くして反応性の６位を保護
する方法である。本発明はエステル化をスクロース分子
の所望の６位に向わせるための触媒としてジスタノキサ
ンジエステルを利用するスクロースの６位をエステル化
する１つの方法に関する。

【０００３】スクロース−６−エステルのジスタノキサ
ンによる製造法は、本特許願と同一の譲受人に譲渡され
た１９８８年７月１８日付けのナビア（Navia）による
米国特許願第２２０,６４１号の「位置選択的反応によ
るスクロース誘導体の合成法」に最初に記述された。ナ
ビアは、適当なジ（ヒドロカルビル）スズに基づく種、
例えばジブチルスズオキシド、ジオクチルスズオキシ
ド、ジブチルスズジメトキシドなどを、ヒドロキシル基
含有化合物、例えば１価のアルコール又は簡単なフエノ
ールと組合せて反応性ジスタノキサン中間体［即ち１,
３−ジ（ヒドロカルビロキシ）−１,１,３,３−テトラ
（ヒドロカルビス）ジスタノキサン］を製造し、次いで
これをスクロースと反応させて１,３−ジ−（６−Ｏ−
スクロース）−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビ
ル）ジスタノキサンを得るということを開示した。

【０００４】またナビアはこれらの有機スズ−スクロー
ス付加物を適当なアシル化剤例えば酢酸又は安息香酸無
水物により適当な溶媒又は溶媒混合物中で処理すること
によるスクロース−６−エステルの製造法も記述してい
る。

【０００５】ナビアのスクロース−６−エステル（Ｓ−
６−Ｅ）の製造法は、例示のためにジブチルスズオキシ
ド半水和物（ＤＭＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ）をジ（ヒドロカルビ
ル）スズオキシドとして、ｎ−ブタノールを１価のアル
コールとして、無水酢酸をアシル化剤として、またＮ,
Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）をアシル化溶媒と
して用いて示す次の一連の方程式によって示されるよう
に、３つの明白な工程からなる。第１工程では、ＤＢＴ
Ｏ・¹/₂Ｈ₂Ｏを量論的過剰量のｎ−ブタノールと共に還
流させて縮合水を共沸により除去し且つ１,３−ジブト
キシ−１,１,３,３−テトラブチルジスタノン・１水和
物（ＤＢＤＳ・Ｈ₂Ｏ）を製造する。

【０００６】

【化１】

【０００７】

【化２】

【０００８】

【化３】

【０００９】スクロース−６−アセテート（Ｓ−６−
Ａ）の製造の第２段階では、ＤＢＤＳ・Ｈ₂ＯをＤＭＦ
中で凡そ化学量論量のスクロース（ＳＵＣＯＨと表示）
と反応させ、水とｎ−ブタノールを除去しつつ１,３−
ジ−（６−Ｏ−スクロース）−１,１,３,３−テトラブ
チルジスタノキサン又はジブチルジスタノキシルスクロ
ース（ＤＢＳＳ）を製造する。この方法の第３段階は、
ヒドロキシル溶媒を含まないＤＢＳＳ溶液を僅かに化学
量論的過剰量の無水酢酸で処理することを含む。Ｓ−６
−Ａは典型的には良好な収率で得られ、少量の夾雑物は
残存スクロース、スクロースジアセテート、及び他のス
クロースモノアセテートである。ナビアの特許願の開示
は本明細書に参考文献として引用される。

【００１０】特にバッチ法で用いるのに適当であるスク
ロース−６−エステルの、より簡単な製造法は、本特許
願と同一の譲受人に譲渡された１９９０年４月２３日付
けのニーデイツチ（Neiditch）らによる米国特許願第５
１２,６９２号の「スクロース−６−エステルの製造
法」に開示されている。ニーディッチらの方法は、極性
の中性溶媒（例えば３級アミド）中及びＤＨＴＯの溶解
を促進し且つ系で生成するすべての水の共蒸留的除去に
影響しうる炭化水素様共溶媒の存在下において、スクロ
ースを直接昇温度でジ（ヒドロカルビル）スズオキシド
（ＤＨＴＯ）と反応させることにより有機スズ−スクロ
ース付加物を製造することを含む。これらの付加物はナ
ビア法で製造されるものと同一の構造のジスタノキサン
である［即ちそれは１,３−ジ−（６−Ｏ−スクロー
ス）−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタ
ノキサンである］。ニーディッチらの方法で製造される
スクロース置換ジスタノキサンはその場で容易にアシル
化できて、Ｓ−６−Ｅを良好な収率で与える。この改良
された２段階法を、ＢＤＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ、無水酢酸、及
びＤＭＦに関して以下に記述する。

【００１１】

【化４】

【００１２】

【化５】

【００１３】本明細書を通して、種々のジ（ヒドロカル
ビル）スズに基づく種例えばジブチルスズオキシド及び
１,３−ジブトキシ−１,１,３,３−テトラブチルジスタ
ノキサンはプロセス水和水として示される。これらの水
和水はいくつかの方法で定量化した。その最も有用なも
のは氷酢酸に溶解した基質のカール・フィッシャー水分
析法であった。水和水は本明細書に図示される方程式の
反応のいろいろなところで遊離され、そしてすべてのそ
のような場合に、方程式で示される化学量論量が実験室
において確証された。

【００１４】ナビア及びニーディッチらの方法の経済的
且つ商業的な実施は、双方においてジスタノキサンジエ
ステル（ＤＳＤＥ）である有機スズ最終生成物が、効果
的に回収され且つ循環されるということを必要とする。
これに関しては、本特許願と同一の譲受人に譲渡された
１９９０年４月２３日付けのバーノン（Vernon）らの米
国特許願第５１２,６９０号の「有機スズエステルの、
これを含む反応混合物からの回収と回収した有機スズ化
合物の再使用法」に示されている。バーノンらは、主に
Ｓ−６−Ｅ、ＤＳＤＥ、及び極性の中性溶媒からなる無
水のアシル化反応生成物混合物を比較的少量の水（モル
濃度基準）で処理し、次いでＤＳＤＥを、適当な炭化水
素様の混和しない溶媒により驚くべき効率で１水和物と
して殆んど独占的に抽出するということを開示した。更
にバーノンらは、回収されたＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏが（ａ）
ナビアの方法で再使用するために、ハイドロカーボノー
ルのアルカリ金属塩と反応させて、１,３−ジ−（ハイ
ドロカルビロキシ）−１,１,３,３−テトラヒドロカル
ビル）ジスタノキサンを再生すること、或いは（ｂ）ニ
ーディッチらの方法で再使用するために、アルカリ金属
水酸化物と反応させて、ジ（ヒドロカルビル）スズオキ
シドを再生すること、のいずれかにより再循環しうるこ
とを開示した。これらの２つの再循環法を、（ａ）ジス
タノキサンジアセテート・１水和物（ＤＳＤＡ・Ｈ
₂Ｏ）、カリウムブトキシド（ＫＯＢｕ）、及びＤＢＤ
Ｓ・Ｈ₂Ｏ（ナビア）、及び（ｂ）ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ、水
酸化ナトリウム、及びＤＢＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ（ニーデイツ
チら）、の例に関してそれぞれ下に示す：

【００１５】

【化６】

【００１６】

【化７】

【００１７】工業化学に秀でる者が理解するように、回
収されたＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏを、反応性の有機スズ中間
体、例えばジ（ヒドロカルビル）スズオキシド又はジ
（ヒドロカルビロキシ）ジスタノキサンを再生する必要
なしに再循環しうることは経済的に有利であろう。

【００１８】全く驚くべき且つ予期できぬことに、本発
明者はスクロースを極性の中性媒体中においてＤＳＤＥ
・Ｈ₂Ｏで処理して、（多分）スクロース−ジスタノキ
サンジエステル配位錯体を生成せしめ、これをその場
で、３級アミン促進剤の有無下に位置選択的にアシル化
してＳ−６−Ｅを製造しうることを発見した。更に本発
明者は、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏがバーノンらの言う主張に従
ってアシル化媒体から回収できること、及びそれが本発
明の教示に従ってＳ−６−Ｅの製造に直接再使用しうる
ということを確立した。

【００１９】更に本発明者は、本方法のＤＳＤＥ・Ｈ₂
Ｏ成分がアシル化を受けるスクロースの対応する当量よ
りも実質的に少い化学量論的割合で使用しうることを発
見した。更に本発明者は、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ及びスクロ
ースの反応混合物をアシル化剤で処理する前にジスタノ
キサン誘導体に付随する水和水を除去することが（収率
の観点からは有利であるけれど）必ずしも必要ないとい
うことを確立した。更に本発明者は、スクロースのベン
ゾイル化がスクロース−６−アセテート又は関連するア
セテートエステルの検知しうる量での生成なしにＤＳＤ
Ａ・Ｈ₂Ｏにより接触され、この結果反応混合物中に遊
離のアセテートイオンの存在しないことが推論できると
いうことを確立した。

【００２０】更に本発明者は、３級アミン促進剤を使用
して、また使用しないで、スクロース、ＤＳＤＡ−ｄ₆
（即ちジブチルスズオキシド及びパー重水素化酢酸から
製造されるジスタノキサンジアセテート）、及び標識し
てない無水酢酸を用いることによってアセチル化反応を
行った。ＤＳＤＡ−ｄ₆はＳ−６−Ａ反応混合物から未
変化のまま回収され、ジスタノキサンとアセテートの結
合が反応の過程で切れないということを示した。これら
の４つの理由のために、また１,３−ジ−（６−Ｏ−ス
クロース）−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビル）
ジスタノキサンのカルボン酸に対する良く知られた敏感
性（即ちスクロースと１,３−ジアシロキシ−１,１,３,
３−（テトラヒドロカルビル）−ジスタノキサンへの即
座の転化が起る）の故に、本発明者は本発明の方法がナ
ビア及びニーディッチらの記述する方法に含まれるもの
と同一の性質の１,３−ジ−（６−Ｏ−スクロース）−
置換ジスタノキサンを含まないと考えている。

【００２１】更に本発明者は、本方法がＤＳＤＥ・Ｈ₂
Ｏ（又はＤＳＤＥ）成分に関して接触される、そして
（アシル化に対する）反応性中間体がスクロース及びジ
スタノキサンジエステル触媒の金属原子間で生成する配
位共有結合付加物（即ち供与体−受容体又は配位錯体）
であると考えている。［配位錯体は１つ又はそれ以上の
配位共有結合を含む化合物として定義され、また配位共
有結合は２つの原子の１つが両方の電子を供給する２つ
の原子間の結合として定義される。４価のスズ化合物は
配位性の基、例えばヒドロキシルが存在するならば５及
び６配位種を形成する良く知られた性質を有する。参考
文献として、Ｓ.デービット（David）及びＳ.ハネシア
ン（Hanessian）、テトラヘドロン（Tetrahedron）、４
１、６４３（１９８５）及びＡ.デービス（Davies）
ら、Ｊ.ケム・ソク、ダルトン・トランス（Chem．So
c.，Dalton Trans.）、２９７（１９８６）を参照。５
及び６配位双方のスズ原子を固体状態で含む有機スズ−
マンノース誘導体の例としては、Ｃ.ホルツァフェル（H
olzapfel）ら、Ｓ.アフル（Afr.）Ｊ.ケム（Chem.）、
２５、８１（１９８２）を参照。］本発明の方法は、極
性で中性の反応媒体中及び触媒量の１,３−ジアシロキ
シ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノ
キサンの存在下において、スクロースを、スクロース−
６−エステルの製造に十分な期間及び温度でアシル化剤
と反応させることを含んでなる。本発明の好適な観点で
は、反応が３級アミン促進剤の不存在下に行われる。

【００２２】有機スズ中介の位置選択的なスクロースの
６位でのアシル化によるスクロース−６−エステルの製
造は上述したナビア及びニーディッチらの特許願に記述
されている。人工甘味料４,１′,６′−トリクロル−
４,１′,６′−トリデオキシガラクトスクロースの製造
におけるスクロース−６−エステルの有用性は例えば上
述したナビア及びニーディッチらの特許願に、並びに本
発明と同一の譲受人に譲渡された１９８９年７月１８日
付けのウォーカップ（Walkup）らの米国特許願第３８
２,１４７号の「改良されたスクロース−６−エステル
の塩素化」に記述されている。このウォーカップらの特
許願の許可された開示は本明細書において参考文献とし
て引用される。

【００２３】デービットらは、テトラヘドロン、４１、
６４３〜６６３（１９８５）の総説「有機スズ誘導体を
経るヒドロキシル基の位置選択的反応法」において、ス
ズ化合物の、ヒドロキシル基含有化合物との反応による
スタノキシル化合物の製造、次くこのアルキル化又はア
シル化によるエステル又はエステルの製造を開示してい
る。ビス（トリブチルスズ）オキシドの（スクロースを
含む）種々の炭水化物との反応、続くアシル化による様
々な置換度のエステル混合物の製造が開示されている。
炭水化物との反応におけるジブチルスズオキシドの使用
もその総説に記述されている。著者は、２つのジアルキ
ルスタニレン炭水化物誘導体、メチル４,６−Ｏ−ベン
ジリデン−α−Ｄ−グルコピラノシドの２,３−Ｏ−ジ
ブチルスタニレン誘導体及び４,６−Ｏ−ベンジリデン
−２,３−Ｏ−ジブチルスタニレン−α−Ｄ−マンノピ
ラノシドの製造を開示している。これらの２つのスタニ
レン誘導体の提案された分子構造は総説６４５頁の図３
及び４に示されている。

【００２４】ワグナ−（Wagner）らは、Ｊ.オルグ・ケ
ム（Org．Chem.）、３９、２４（１９７４）において、
ジブチルスズオキシドの、還流メタノール中でのヌクレ
オシドとの反応によるヌクレオシドのジブチルスタニレ
ン誘導体の製造を開示している。メタノールを留去した
後、このスタニレン誘導体を、等モル量の酸クロライド
及びトリエチルアミンとの反応でアシル化した。

【００２５】ホルツァフェル（Holzapfel）らは、Ｓ.ア
フル・チドスクル・ケム（Afr．Tydskr．Chem.）、３
７、５７〜６１（１９８４）の「スクロース誘導体及び
６,１′,６′−トリ−Ｏ−トリチルスクロースの２級ヒ
ドロキシル基の選択的ベンゾイル化」において、ジブチ
ルスズオキシドの６,１′,６′−トリ−Ｏ−トリチルス
クロースとの反応、続くベンゾイルクロライドとの反応
による収率７２％での３′−Ｏ−ベンゾイル−６,１′,
６′−トリ−Ｏ−トリチルスクロース及び９％での２−
Ｏ−ベンゾエート誘導体、及び少量の２,３′−ジベン
ゾエート誘導体の製造を開示している。

【００２６】１,３−ジイソチオシアナト−１,１,３,３
−テトラブチルスタノキサン触媒の、ベンジルアルコー
ル及びメチルブチレートのような物質を含むエステル交
換反応は公知である。例えば次の参考文献を参照のこ
と。

【００２７】１） Ｊ.オテラ、Ｓ.イオカ、及びＨ.ノ
ザキ、Ｊ.オルグ・ケム、５４、４０１３（１９８
９）。

【００２８】２） クロル及びヒドロキシル置換のジス
タノキサンエステル交換触媒について、Ｊ.オテラ、Ｔ.
ヤノ、Ａ.カワバタ、及びＨ.ノザキ、テトラヘドロン・
レット（Tetrahedron Lett.）、２３８３（１９８
６）。

【００２９】３） 天然物への合成応用について、Ｓ.
シュライバー（Schreiber）及びＨ.メイヤーズ（Meyer
s）、Ｊ.アム・ケム・ソク（Am．Chem．Soc.）、１１
０、５１９８（１９８８）；及びＳ.シュライバー、Ｄ.
デスメーレ（Desmaele）、及びＪ.ポルコ（Porco)、テ
トラヘドロン・レット、６０８９（１９８８）。

【００３０】本発明のＤＳＤＥ触媒法は、例示のために
ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ−（ヒドロカルビス）ジスタノキサン・１水和
物として、無水酢酸をアシル化剤として、及びＤＭＦを
アシル化溶媒として用いる次の方程式で示される。方程
式（１）はＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを触媒とした時本方法がい
かに進むかを、また一方で方程式（２）は無水ＤＳＤＡ
を用いた時本方法がいかに進むかを推定的に示す。次の
BR>方程式において、「ＤＳＤＡ・Ｘ」はＤＳＤＡ及び
「Ｘ」間で形成された配位共有結合付加物又は配位錯体
を表わすものとする。

【００３１】

【化８】

【００３２】

【化９】

【００３３】無水アミンで促進された方法は、例示のた
めにＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを１,３−ジアシロキシ−１,１,
３,３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサン・１
水和物として、トリエチルアミンを３級アミンとして、
無水酢酸をアシル化剤として、及びＤＭＦをアシル化溶
媒として用いる次の一連の方程式で詳述される。

【００３４】

【化１０】 (3) DSDA・H₂O + SUCOH → H₂O↑ + DSDA・SUCOH

【００３５】

【化１１】(4) Ac₂O + Et₃N ⇔ Et₃N⁺-Ac + AcO^-

【００３６】

【化１２】 (5) DSDA・SUCOH + Et₃N⁺-Ac → DSDA・DMF + S6A + Et₃NH⁺

【００３７】

【化１３】 (6) DSDA・DMF + SUCOH → DSDA・SUCOH + DMF 方程式（３）はＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏのスクロースとの反応
による反応性（アシル化に対して）ジスタノキサン−ス
クロース配位錯体の製造を示す。方程式（４）は無水酢
酸のトリエチルアミンとの反応による、本方法での実際
のアシル化剤として機能する高反応活性化錯合体（即ち
アシルトリアルキルアンモニウム塩）の製造を示す。方
程式（５）はスクロース配位錯体（方程式３で製造）
の、アシルアンモニウム錯合体（方程式４で製造）との
反応によるスクロース−６−アセテート及び使用済みの
（即ちスクロースに最早や錯化しない）ジスタノキサン
ジアセテートの生成を示す。方程式（６）は遊離の（及
び未だに反応していない）スクロースの使用済みＤＳＤ
Ａとの反応による新しいジスタノキサン−スクロース配
位錯体の製造を示す。

【００３８】上述の２組の方程式は種々の反応成分間に
存在する相互関係を高度に単純化して表示しているにす
ぎない。しかしながらこれらの方程式は、それが反応の
化学量論量を規定し且つジスタノキサンジエステル成分
の触媒の性質を示すという点で教示的である。また全く
重要なことに、方程式（３）〜（６）は、高度に反応活
性化されたアンモニウムアシル化錯合体の一般化及び有
用性も示す。異常に速いアシル化速度を与え、またアミ
ン促進のアシル化反応を連続法で実施することを適当な
らしめるのはこの種の存在による。

【００３９】本発明はいくつかの異なった、但し極く関
連した手法のいずれかで実施することができる。第一
に、有機スズ触媒をアミン促進剤の有無下に使用する本
発明の実施に関して、最初の方法は単にスクロース及び
必要量のＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ触媒を（普通必要ならば穏や
かに加熱して）極性の中性溶媒に溶解し、次いでこの溶
液を室温又はそれより僅かに高温でカルボン酸無水物で
処理することを含む。アシル化の完結後、溶液を少量の
水で処理し、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏを再使用のために抽出に
よって回収する。この時点で主にＳ−６−Ｅ及びそれよ
り少い量の他のスクロースモノエステル、スクロースジ
エステル、及び残存スクロースを、極性中性溶媒、カル
ボン酸、及び水からなる反応媒体中に含むアシル化生成
物混合物から（例えば真空蒸留によって）カルボン酸を
除去し且つ乾燥し、そして上述したウォーカップらの特
設の教示に従って塩素化に供し、スクロース−６−エス
テル（ＴＧＳ−６−Ｅ）を製造することができる。

【００４０】本発明のこの実施法は実施例１〜１２に例
示される。例えば実施例５においては、スクロース１.
００モル当量とＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏの０.５０モル当量をＤ
ＭＦに７５℃で溶解し、このように調製した溶液を大気
温度まで冷却し、そして無水酢酸１.１０モル当量で処
理する。大気温度で約１８時間撹拌した後、反応溶液を
水で処理し、シクロヘキサンで抽出する（ＤＳＤＡ・Ｈ
₂Ｏの回収）。次いでＤＭＦ溶液の部分的蒸発により、
ＨＰＬＣ分析でＳ−６−Ａを６５％の収率で含むシロッ
プを得る。

【００４１】（スクロース基準で）０.１０〜１.００モ
ル当量の範囲のジエステル触媒の化学量論量比は実験的
に示され、約３５〜約７０％の範囲のＳ−６−Ｅ収率を
与える。実験データは、Ｓ−６−Ｅの収率は触媒の化学
量論量が増加するにつれて上昇する。ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ
及びジスタノキサン・ジベンゾエート・モノハイドレー
ト（ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ）の双方は、有効な触媒であり、
ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏの方が僅かに良好な性能を有すること
が示された。

【００４２】実験で用いた極性の中性溶媒はＤＭＦ及び
Ｎ−メチル−２−ピロリジオン（ＮＭＰ）である。他の
適当な溶媒はジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ,
Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、及びヘキサメチ
ルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）を含む。反応混合物中に
おけるＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏの濃度が高い場合、これを溶解
して保つために少量（５〜２０容量％）の炭化水素様共
溶媒を添加することが有利である。この目的に対しては
トルエンが挙げられる。他の有用な共溶媒はベンゼン、
混合キシレン、シクロヘキサン、メチルｔｅｒｔ−ブチ
ルエーテル、クロロホルムなどを含む。

【００４３】（スクロース基準で）約１.００〜約４.０
０モル当量の範囲のカルボン酸無水物の化学量論量比は
実験的に有用であった。好適な化学量論量比は約１.１
０〜約１.８０モル当量の範囲である。約１.１０モル当
量以下の化学量論量比は最終生成物中に望ましくない量
の未反応のスクロースをもたらし、一方約１.８０以上
の比は望ましくないスクロースモノ及びジエステルの生
成を誘導することがある。

【００４４】約０〜約６０℃の範囲のアシル化反応温度
は実験的に有用であった。アシル化反応温度はアシル化
速度に影響し且つ過度な高温は望ましくないスクロース
エステルの生成を増加させるけれど、温度は本発明の特
に厳密な一面であるとは考えられない。好適なアシル化
温度は約２０〜約４５℃の範囲である。

【００４５】無水酢酸及び無水安息香酸の双方は、効果
的なアシル化剤であることが示された。無水酢酸は僅か
に優れているように見える。これは立体因子又は固有の
反応性、或いは多分これらのある組合せの結果であると
考えられる。種々の他のカルボン酸無水物も本発明の実
施において有効に機能すると予期されよう。

【００４６】ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ触媒のアシル化は、１,３
−ジ−（６−Ｏ−スクロース）置換ジスタノキサンを含
むものよりも一般に実質的に遅い。これは多分スクロー
スの６−酸素及びスズ原子間の（正常の共有結合以外
の）配位共有結合の存在、並びにスズ原子の周囲の配位
点に対するスクロース及び他の種例えば水、溶媒、及び
カルボン酸間の競争の結果であろう。ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ
触媒のアシル化は、完結までに約２〜約４８時間を必要
とする。このアシル化速度は、触媒の化学量論量（スク
ロースに対して触媒濃度の増加はアシル化速度を速め
る）、触媒の活性（例えばＤＳＤＡ・Ｈ₂ＯはＤＳＤＢ
・Ｈ₂Ｏよりも活性な触媒であるように見える）、無水
カルボン酸の反応性（例えば無水酢酸は無水安息香酸よ
り反応性である）、そして反応温度及び反応種の相対濃
度（これはアシル化が高次反応であるから）を含む多数
の変数に依存する。

【００４７】ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏは上述したバーノンらの
教示に従って再使用のために回収することができる。ア
シル化混合物を少量の水で処理し、そして混合物を炭化
水素例えばトルエン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、
２,２,４−トリメチルペンタン、又はこれらの混合物、
或いはエーテル例えばジエチルエーテル、ジ（ｎ−プロ
ピル）エーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、な
どと接触させることによってＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏを本質的
に定量的に抽出する。揮発性の抽出溶媒を例えば真空蒸
発によって除去してＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏを（典型的には）
粘稠な油として得、次いでこれをスクロースと一緒に極
性の中性溶媒に再溶解し、アシル化工程を繰返してもよ
い。

【００４８】本発明の第２の実施法は、実施例１３〜１
８で例示されるように、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ触媒を脱水又
は部分的に脱水した反応系で使用することを含む。本発
明のこの方法の実施は、スクロース及びジスタノキサン
ジエステルモノハイドレートを、（上述の如き）極性の
中性溶媒及びジスタノキサンジエステルの水和水（及び
湿った反応物又は溶媒の使用で存在するいずれかの水）
のすべて又は一部を共蒸留で除去しうる炭化水素様共溶
媒からなる混合溶媒系にスラリーとすることから始ま
る。水の除去後、普通２相の（但し固体を含まない）反
応混合物を、室温又は僅かに室温以上でカルボン酸無水
物で処理する。アシル化の完了後、混合物を少量の水で
処理し、ＤＳＤＥを再使用のために抽出によって回収す
る。次いでアシル化生成物混合物を更に処理し（即ち
水、カルボン酸、及び残存抽出溶媒を除去し）、そして
ＴＧＳ−６−Ｅ製造のための塩素化に供する。

【００４９】例えば実施例１６では、１.００モル当量
のスクロース及び１.０５モル当量のＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ
を、ＤＭＦ及びシクロヘキサンの８：３（容量比）混合
物中にスラリーとし、混合物を、還流的に水の除去しう
る装置を備えた反応容器中で激しく６０分間還流させ
た。これは元のＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏの水和水を除去した。
次いで固体を含まない反応混合物を大気温度まで冷却
し、１.１０モル当量の無水酢酸で処理し、約１８時間
撹拌した。この後、反応混合物を水で処理し、シクロヘ
キサンで抽出し（ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを回収し）、そして
部分的に蒸発させて、ＨＰＬＣ分析で収率８２％のＳ−
６−Ａを含むＤＭＦに基づくシロップを得た。（スクロ
ース基準で）０.２５〜１.５０モル当量の範囲の触媒の
化学量論量比は実験的に示され、約５０％〜約８０％以
上のＳ−６−Ｅ収率を与える。実験的データは、Ｓ−６
−Ｅの収率が触媒の化学量論量の増加と共に上昇するこ
とを示す。（これは少くとも一部であるが、増量したＤ
ＳＤＥ触媒が多分配位錯体の生成の結果として、スクロ
ースの２相反応媒体への溶解性を高めるという事実によ
ると思われる。）完全に及び部分的に脱水されたＤＳＰ
Ａ・Ｈ₂Ｏ及びＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ触媒は有効であることが
判明したが、他のジスタノキサンジエステルも有用であ
ると予期される。

【００５０】水和水を共蒸留的に除去しうる共溶媒は、
飽和炭化水素、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素、ケト
ン、及びエーテルを含む。本発明の共溶媒としては広範
な溶媒が使用に適しているようである。共溶媒に対する
主な基準は、それが極性の中性溶媒、ＤＳＤＥ・Ｈ
₂Ｏ、及びスクロースと、約７５〜約１２５℃の範囲の
内部反応温度で還流する混合物を生成すること、それが
ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏの水和水と共蒸留すること、及びそれ
が主要な反応生成物（例えばスクロース）を不溶性にし
ないことである。

【００５１】水と混和しない且つ水と一定の組成の最小
沸点の共沸物を形成する溶媒は好適であるが、共溶媒が
本発明の実施における有効な共溶媒であるためには、水
と一定組成で一定沸点の共沸物を生成することを必ずし
も必要としない。共溶媒が水と混和しないということも
必ずしも必要でない。共溶媒は反応媒体から水和水を共
蒸留しうることだけが必要である。

【００５２】化学的な安定性、水の除去効率、価格、及
び沸点の理由から好適な共溶媒は、シクロヘキサン、ｎ
−ヘプタン、及びイソオクタン（２,２,４−トリメチル
ペンタン）を含む。好適な脱水温度は約８５〜約１０５
℃の温度である。約８５℃以下の温度は不必要に遅い脱
水となり、一方約１０５℃以上の温度は分解をもたらす
ことがある。

【００５３】反応温度は典型的には極性の中性溶媒とそ
れより低沸点の共溶媒の比を調節することによって実験
的に制御される。本発明に対しては約１：１〜約１０：
１の溶媒と共溶媒の比（容量による）が有用であると思
われ、約８：５〜約８：１の比が好適である。

【００５４】溶媒と共溶媒の比は実際上の問題で制限さ
れる。共溶媒が多すぎると、スクロースの溶解を妨害す
るであろうし、また合理的な脱水時間に対しては低すぎ
る沸点の混合物を生成しよう。共溶媒が少すぎると、水
が反応混合物から共蒸留する速度を制限し、また炭水化
物種の熱分解を誘導するほど高い脱水温度となろう。本
発明の実施に対しては、広い範囲の固体（ＤＳＤＥ・Ｈ
₂Ｏ及びスクロース）と溶媒（極性の中性溶媒及びスク
ロース）の比が有用である。これは、スクロースの部分
的溶解を保証する十分な極性の中性溶媒が存在し及び水
の除去を保証し且つ所望の反応温度を与えるのに十分な
共溶媒が存在するならば本発明の特に厳密な一面とは思
われない。実験では、約１：２〜約１：６の固体／溶媒
比（重量／容量比）が有用であった。より高濃度の系は
経済性及び実施性の理由から好適である。

【００５５】ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ及びスクロースの混合物
の完全な又は部分的な脱水に必要とされる還流時間は、
厳密には系からの共蒸留による水の除去効率の関数であ
る。反応系からの水の除去効率は多くのからみ合う変数
の関数である。大程度まで実験的に制御しうるこれらの
変数は、（ａ）内部反応温度、（ｂ）共溶媒の沸点、
（ｃ）共蒸留物の含水量、（ｄ）系への熱供給速度、
（ｅ）撹拌効率、及び（ｆ）用いる反応器の形、を含
む。

【００５６】約０.５〜約８.０時間の完全な又は部分的
な反応混合物の脱水時間は実験的に有用であることがわ
かった。還流期間は、所望の量の水が系から共蒸留され
た時に終了する。これは普通カール・フィッシャー法を
用いる留出物の水分析により決定される。水の除去は普
通存在する全量の約５０〜約１２０％であり、スクロー
スとＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ触媒の化学量論比の関数であるよ
うに見える。

【００５７】存在する触媒の相対量が増大するにつれ
て、反応混合物を完全に脱水するのはますます難しくな
る。例えばスクロース及び０.５０モル当量のＤＳＤＡ
・Ｈ₂Ｏの、ＤＭＦ−シクロヘキサン溶媒系中混合物か
らは水の全量の９６％が共蒸留によつて除去できるが、
ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを１.０５モル当量含有する本質的に同
一の系からは存在する水の全量の６２％が除去できるに
すぎない。（この挙動は多分ヒドロキシル基に必要なス
ズに基づく配位点と関係する。ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ １モル
当りスクロース約２モルの比が、完全な脱水を達成しう
る前に達成されねばならない。）部分的に脱水された反
応系例えば後者の例は、スクロースの過度な分解を引き
起こすことなしに更に脱水することは困難である。前節
に記述した変数を適切に調節することにより、典型的に
は１〜２時間の全体で必要とされる脱水時間が実験的に
達成しうる。

【００５８】水の除去の完了後、通常２相の（但し固体
を含まない）反応混合物を凡そ室温まで冷却し、本発明
の実施の第１法に対して上述した如くアシル化を行う。
ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ触媒の回収及び再使用、並びにＳ−６
−ＥのＴＧＳ−６−Ｅへの転化も上述したように容易に
行うことができる。

【００５９】第３の実施法は、ナビア及びニーディッチ
らの基本的な化学を、ナビアの方法に対する１,３−ジ
（ヒドロカルビロキシ）−１,１,３,３−テトラ（ヒド
ロカルビス）ジスタノキサン及びニーディッチらの方法
に対するジ（ヒドロカルビル）スズオキシドである関連
する反応性有機スズ中間体の（スクロースに対して）化
学量論的に不十分な量と組合せて利用することを含む。
両方法の場合、本発明の教示によれば、（アシル化に対
して）反応性の１,３−ジ−（６−Ｏ−スクロース）−
１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサ
ンを、実質的に無水の極性で中性環境中において、遊離
の（即ちスズに共有結合してない）スクロースの存在下
に生じさせる。僅かに化学量論的過剰量（スクロース基
準）のアシル化剤との反応により、最初に共有結合した
有機スズ−スクロース付加物を反応させてＳ−６−Ｅ及
びＤＳＤＥを生成せしめ、次いで存在する遊離のスクロ
ースをＤＳＤＥ触媒でアシル化する。ここにニーディッ
チらの方法の実施の場合には、さもなければ化学量論的
に十分な量のＤＨＴＯであるものから必要とされる１モ
ル以下の水（ＤＨＴＯ基準）を（共蒸留によつて）除去
することにより反応性ＤＨＴＯの化学量論的な不十分さ
を作ることができる。

【００６０】本発明のこの実施法は実施例１９〜２４で
例示される。例示のために実施例２２では１.０モル当
量のスクロースを、還流するヘプタン−ＤＭＦ混合物中
において４時間、０.５０モル当量のジオクチルスズオ
キシド（ＤＯＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ）で処理した。この時点で
０.５０モル当量の遊離のスクロース及び０.２５モル当
量の１,３−ジ−（６−Ｏ−スクロース）−１,１,３,３
−テトラオクチルジスタノキサンを含む無水の反応混合
物を、約５℃まで冷却し、１.１０モル当量の無水酢酸
で処理し、次いで１,３−ジアセトキシ−１,１,３,３−
テトラオクチルジスタノキサン・１水和物（ＯＤＳＤＡ
・Ｈ₂Ｏ）の抽出後にＳ−６−Ａを８１％の収率で得
た。

【００６１】本発明の第３法の実施法は、前述したアシ
ル化反応時間及び遊離のスクロースの溶解性に関する記
述を除いて、ナビア及びニーディッチらの示した記述に
従う。ニーディッチらの方法の概略はその実施例に従つ
て本明細書に包含される。

【００６２】次の表は、ＤＳＤＥ触媒をアミン促進剤な
しに用いる本発明の一面を例示する最初の２４の実施例
に対する実験的な詳細及び収率を要約する。

【００６３】

【表１】

【００６４】

【表２】

【００６５】¹ 実施例、² 用いた有機スズ試剤、ＤＳＤ
Ａは１,３−ジアセトキシ−１,１,３,３−テトラブチル
ジスタノキサンを示す。ＤＳＤＢは１,３−ジベンゾイ
ロキシ−１,１,３,３−テトラブチルジスタノキサンを
示す。ＯＤＳＤＡは１,３−ジアセトキシ−１,１,３,３
−テトラオクチルジスタノキサンを示す。ＤＢＴＯはジ
ブチルスズオキシドを示す。ＤＯＴＯはジオクチルスズ
オキシドを示す。³ スクロース基準で用いたオクチルス
ズ試剤の当量。⁴ ＤＭＦはＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドである。ＮＭＰはＮ−メチル−２−ピロリドンであ
る。⁵ Ｃ₇Ｈ₈はトルエンである。Ｃ₆Ｈ₁₂はシクロヘキ
サンである。Ｃ₇Ｈ₁₆はｎ−ヘプタンである。Ｃ₈Ｈ₁₈は
イソオクタンである。⁶ 製造されたスクロース−６−エ
ステル。Ａはアセテートであり、Ｂはベンゾエートであ
る。⁷ 反応混合物の脱水に用いた時間（時）。⁸ 反応混
合物の脱水に用いた温度（℃）。⁹ 反応混合物の脱水中
に生成する全水％（カールフィッシャー法）。¹⁰ 精製
したシロップのＨＰＬＣ分析により決定した収率モル％
及び回収率％。¹¹ スクロース−６−エステルの収率
％。¹² 他のスクロースモノエステルの収率％。¹³ スク
ロースジエステルの収率％。¹⁴ 未反応のスクロースの
回収％。

【００６６】

【実施例】実施例１ ０.２５当量のジスタノキサンアセテートを用いるスク
ロース−６−アセテートの製造 機械的撹拌機、温度計、及びアルゴン導入口を上部にも
つ６０ｍｌの滴下濾斗を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸
底フラスコに、スクロース６８.５ｇ（２００ミリモ
ル）、ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ３０.６ｇ（５０.０ミリモ
ル）、及びＤＭＦ５００ｍｌを仕込んだ。懸濁液を７５
℃（内部温度）に１０分間加熱し、得られた透明な溶液
を室温まで冷却し、そしてＤＭＦ５０ｍｌに溶解した無
水酢酸２２.５ｇ（２２０ミリモル）で１５分間にわた
って滴々に処理した。この無水物の添加は穏やかな（５
℃以下の）発熱をもたらした。

【００６７】Ｓ−６−Ａ（Ｒ_f０.４）の生成及びスクロ
ース（Ｒ_f０.２）の消失をシリカゲルのＴＬＣ（ＣＨＣ
ｌ₃−ＣＨ₃ＯＨ−Ｈ₂Ｏ、１５：１０：２；５％エタノ
ール性Ｈ₂ＳＯ₄噴霧で炭化）により追跡した。アルゴン
下、室温で終夜撹拌した後、反応混合物を水（５０ｍ
ｌ）で処理し、シクロヘキサン（２×５００ｍｌ）で抽
出してＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを除去し、そしてＤＭＦを蒸発
（回転蒸発機、機械ポンプでの真空、３０℃の水浴）さ
せて淡黄色のシロップを得た。これはＨＰＬＣ分析によ
るとスクロース−６−アセテート４２.７ｇ（１１１ミ
リモル、収率５５.６％）を含んだ。

【００６８】実施例２ ０.２５当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−ベンゾエートの製造 アシル化のために無水安息香酸４９.８ｇ（２２０ミリ
モル）を用いて実施例１の実験を繰返した。スクロース
−６−ベンゾエート（Ｓ−６−Ｂ、Ｒ_f０.５）の生成は
同一のＴＬＣ系を用いて監視した。３日間撹拌後、反応
物を処理し、ＴＬＣ分析によるとスクロース−６−ベン
ゾエートを４０.６ｇ（９０.９ミリモル、収率４５.４
％）含有する粘稠な油を得た。

【００６９】実施例３ ０.２５当量のジスタノキサンジベンゾエートを用いる
スクロース−６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ ３７.１ｇ（５０.０ミリモル）を触媒
として用いて、実施例２の実験を繰返した。アルゴン下
に室温で３日間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ
分析によるとスクロース−６−ベンゾエート３６.８ｇ
（８２.５ミリモル、収率４１.３％）を含むシロップを
得た。

【００７０】実施例４ ０.２５当量のジスタノキサンジベンゾエートを用いる
スクロース−６−アセテートの製造 スクロース３４.２ｇ（１００ミリモル）、ＤＳＤＢ・
Ｈ₂Ｏ １８.６ｇ（２５.０ミリモル）、ＤＭＦ２５０ｍ
ｌ、及び無水酢酸１１.２ｇ（１１０ミリモル）を用い
て実施例１の実験を繰返し、ＨＰＬＣ分析によるとスク
ロース−６−アセテート２１.０ｇ（５４.６ミリモル、
収率５４.６％）を含有する粘稠な油を得た。

【００７１】実施例５ ０.５０当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−アセテートの製造 ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ６１.２ｇ（１００ミリモル）を用い
て実施例１の実験を繰返した。アルゴン下に室温で２０
時間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析による
とスクロース−６−アセテート４９.８ｇ（１３０ミリ
モル、収率６４.８％）を含むシロップを得た。

【００７２】実施例６ ０.５０当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−ベンゾエートの製造 無水安息香酸４９.８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化
に用いて実施例５の実験を繰返した。アルゴン下に室温
で２日間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析に
よるとスクロース−６−ベンゾエート５６.３ｇ（１２
６ミリモル、収率６３.０％）を含む粘稠な油を得た。

【００７３】実施例７ ０.７５当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−アセテートの製造 ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ９１.８ｇ（１５０ミリモル）を用い
て実施例１の実験を繰返した。アルゴン下に室温で終夜
撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析によるとス
クロース−６−アセテート５３.６ｇ（１４０ミリモ
ル、収率６９.８％）を含むシロップを得た。

【００７４】実施例８ ０.７５当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−ベンゾエートの製造 無水安息香酸４９.８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化
に用いて実施例７の実験を繰返した。アルゴン下に室温
で２日間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析に
よるとスクロース−６−ベンゾエート５８.９ｇ（１３
２ミリモル、収率６６.０％）を含む粘稠な油を得た。

【００７５】実施例９ １.００当量のジスタノキサンアセテートを用いるスク
ロース−６−アセテートの製造 機械的撹拌機、温度計、及びアルゴン導入口を上部にも
つ６０ｍｌの滴下濾斗を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸
底フラスコに、スクロース６８.５ｇ（２００ミリモ
ル）、ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ １２２ｇ（２００ミリモル）、
及びＤＭＦ５００ｍｌを仕込んだ。懸濁液を８５℃（内
部温度）に１０分間加熱し、得られた透明な溶液を室温
まで冷却し、そしてトルエン５０ｍｌ及びＤＭＦ５０ｍ
ｌに溶解した無水酢酸２２.５ｇ（２２０ミリモル）で
連続的に処理した。この無水物の添加は反応温度を２６
から３０℃まで上昇させた。アルゴン下に室温で２１時
間撹拌した後、反応物を実施例１に記述したように処理
し、ＨＰＬＣ分析によるとスクロース−６−アセテート
５２.７ｇ（１３７ミリモル、収率６８.６％）を含むシ
ロップを得た。

【００７６】実施例１０ １.００当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−ベンゾエートの製造 無水安息香酸４９.８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化
に用いて実施例９の実験を繰返した。アルゴン下に室温
で２日間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析に
よるとスクロース−６−ベンゾエート５３.０ｇ（１１
９ミリモル、収率５９.４％）を含む粘稠な油を得た。

【００７７】実施例１１ ０.５０当量の１,３−ジアセトキシ−１,１,３,３−テ
トラオクチルジスタノンを用いるスクロース−６−アセ
テートの製造 ＤＯＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ ３７.９ｇ（１００ミリモル）を氷
酢酸４００ｍｌに溶解することによりテトラオクチルジ
スタノキサンジアセテート・１水和物を調製した（約１
５分必要）。ロータリーエバポレータで処理（水流アス
ピレーターでの真空水浴６５℃）することにより、生成
物を淡黄色で粘稠な油として得た。この油をＤＭＦ５０
０ｍｌに溶解し、溶液を一部蒸発させ（ロータリーエバ
ポレータ、機械ポンプの真空、水浴３０℃）で残存する
酢酸を除去した（最終容量３００ｍｌ）。収量は定量的
であると推定された（４３.０ｇ、５０.０ミリモル）。

【００７８】このテトラオクチル誘導体、スクロース３
４.２ｇ（１００ミリモル）、及び無水酢酸１１.２ｇ
（１１０ミリモル）の上述したＤＭＦ溶液を用いて実施
例１の実験を繰返した。アルゴン下に室温で終夜撹拌し
た後、反応混合物を処理し、ＨＰＬＣ分析によるとスク
ロース−６−アセテート２５.４ｇ（６６.１ミリモル、
収率６６.１％）を含むシロップを得た。

【００７９】実施例１２ ０.５０当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−アセテートの、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン中での製造 ＤＢＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ ５１.６ｇ（２００ミリモル）を室
温で氷酢酸４００ｍｌに溶解することによってＤＳＤＡ
・Ｈ₂Ｏを製造した（約５分必要）。ロータリーエバポ
レータで処理（水流アスピレーターでの真空、水浴５０
℃）することにより、生成物を淡黄色で粘稠な油として
得た。この油をＮＭＰ ７５０ｍｌに溶解し、溶液を一
部蒸発させ（ロータリーエバポレータ、機械ポンプの真
空、水浴５０℃）て残存する酢酸を除去した（最終容量
５００ｍｌ）。収量は定量的であると推定された（６
１.２ｇ、１００ミリモル）。

【００８０】上述したＮＭＰ溶液を用いて実施例５の実
験を繰返した。室温で終夜撹拌した後、反応混合物を処
理し、ＨＰＬＣ分析によるとスクロース−６−アセテー
ト４０.１ｇ（１０４ミリモル、収率５２.２％）を含む
シロツプを得た。

【００８１】実施例１３ ０.２５当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造 機械的撹拌機、温度計、及び還流凝縮器が上部についた
ディーン−スターク水分離器を備えた１０００ｍｌの３
ツ口丸底フラスコに、スクロース６８.５ｇ（２００ミ
リモル）、ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ３０.６ｇ（５０.０ミリモ
ル）、ＤＭＦ３５０ｍｌ、及びシクロヘキサン１５０ｍ
ｌを仕込んだ。このスラリーを還流（反応温度８９℃）
下に２時間加熱した。水分離器の内容物を除去し、無水
イソプロパノールに溶解し、そしてカールフィッシャー
法により水の分析をした（１.１１ｇ、６１.６ミリモ
ル）。

【００８２】スラリーを約５℃まで冷却し、無水酢酸２
２.５ｇ（２２０ミリモル）で約１０分間滴々に処理
し、そして更に６０分間約５℃で撹拌した。無水物の添
加は穏やかな（５℃以下の）発熱をもたらした。アルゴ
ン下に室温で終夜撹拌した後、反応混合物を水（５０ｍ
ｌ）で処理し、シクロヘキサン（２×５００ｍｌ）で抽
出してＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを除去し、そしてＤＭＦを蒸発
（ロータリーエバポレータ、機械ポンプの真空、水浴３
０℃）させて、ＨＰＬＣ分析によるとスクロース−６−
アセテート３９.０ｇ（１０２ミリモル、収率５０.８
％）を含む暗褐色の粘稠な油を得た。

【００８３】実施例１４ ０.５０当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造 ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ６１.２ｇ（１００ミリモル）を触媒
として用いる以外実施例１３の実験を繰返した。脱水温
度は９２℃であった（還流２時間）。処理により、スク
ロース−６−アセテート５０.９ｇ（１３２ミリモル、
収率６６.３％）を含むシロップを得た。

【００８４】実施例１５ ０.７５当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造 ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ９１.８ｇ（１５０ミリモル）を触媒
として用いる以外実施例１３の実験を繰返した。脱水温
度は９２℃であった（還流１.５時間）。処理により、
スクロース−６−アセテート５１.９ｇ（１３５ミリモ
ル、収率６７.６％）を含むシロップを得た。

【００８５】実施例１６ １.０５当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造 機械的撹拌機、温度計、及び還流凝縮器が上部についた
デイーン−スターク水分離器を備えた１０００ｍｌの３
ツ口丸底フラスコに、スクロース６８.５ｇ（２００ミ
リモル）、ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ １２９ｇ（２１０ミリモ
ル）、ＤＭＦ４００ｍｌ、及びシクロヘキサン１５０ｍ
ｌを仕込んだ。このスラリーを還流（反応温度９５℃）
下に加熱し、そして得られる固体を含まない混合物を６
０分間還流させた。水分離器の内容物を除去し、無水イ
ソプロパノールに溶解し、そしてカールフィッシャー法
により水を分析した（２.３２ｇ、１.２９ミリモル）。

【００８６】固体を含まない混合物を約２０℃まで冷却
し、無水酢酸２２.５ｇ（２２０ミリモル）で約３分間
にわたり滴々に処理した。無水物の添加中、必要に応じ
て氷浴で冷却して反応温度を２５℃以下に保った。終夜
室温で撹拌した後、反応混合物を実施例１１に記述した
ように処理して、ＨＰＬＣ分析によるとスクロース−６
−アセテート６２.９ｇ（１６４ミリモル、収率８２.０
％）を含むシロップを得た。

【００８７】実施例１７ １.０５当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−ベンゾエートの製造 無水安息香酸４９.８ｇ（２１０ミリモル）をアシル化
に用いて実施例１６の実験を繰返した。脱水温度は９５
℃であった（還流６０分）。処理により、スクロース−
６−ベンゾエート６５.９ｇ（１４８ミリモル、収率７
３.８％）を含むシロップを得た。

【００８８】実施例１８ １.５０当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造 スクロース３４.２ｇ（１００ミリモル）、ＤＳＤＡ・
Ｈ₂Ｏ ９１.８ｇ（１５０ミリモル）、ＤＭＦ ４００ｍ
ｌ、イソオクタン１５０ｍｌ、及び無水酢酸１１.２ｇ
（１１０ミリモル）を用いて実施例１６の実験を繰返し
た。反応温度は１０７℃であった（還流４５分間）。処
理により、スクロース−６−アセテート３１.２ｇ（８
１.１ミリモル、収率８１.１％）を含むシロップを得
た。

【００８９】実施例１９ ０.２５当量のジブチルスズオキシドを脱水と共に用い
るスクロース−６−ベンゾエートの製造 機械的撹拌機、温度計、及び還流凝縮器が上部についた
ディーン−スターク水分離器を備えた１０００ｍｌの３
ツ口丸底フラスコに、スクロース６８.５ｇ（２００ミ
リモル）、ＤＢＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ １２.９ｇ（５０.０ミ
リモル）、ＤＭＦ ４００ｍｌ、及びｎ−ヘプタン２０
０ｍｌを仕込んだ。このスラリーを還流（反応温度９８
℃）下に６時間加熱した。水分離器の内容物を除去し、
無水イソプロパノールに溶解し、そしてカールフィッシ
ャー法により水の分析をした（１.３６ｇ、７５.８ミリ
モル）。

【００９０】スラリーを約５℃まで冷却し、氷冷したＤ
ＭＦ ５０ｍｌに溶解した無水安息香酸４９.８ｇ（２２
０ミリモル）で１０分間にわたって滴々に処理し、更に
６分間約５℃で撹拌した。アルゴン下に室温で終夜撹拌
した後、反応混合物を濾過して未溶解のスクロースを除
去し、水（５０ｍｌ）で処理し、シクロヘキサン（２×
５００ｍｌ）で抽出してＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏを除去し、Ｄ
ＭＦを蒸発（ロータリーエバポレータ、機械ポンプの真
空、水浴３０℃）させて、ＨＰＬＣによるとスクロース
−６−ベンゾエート３９.２ｇ（８７.８ミリモル、収率
４３.９％）を含むシロップを得た。

【００９１】実施例２０ ０.５０当量のジブチルスズオキシドを脱水と共に用い
るスクロース−６−ベンゾエートの製造 ＤＢＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ ２５.８ｇ（１００ミリモル）を用
いて実施例１９の実験を繰返した。反応温度は９９℃で
あった（還流６時間）。直ぐ前の実験に比べて、この反
応混合物は還流及びベンゾイル化期間中固体がなかつ
た。処理により、スクロース−６−ベンゾエート７５.
５ｇ（１６９ミリモル、収率８４.７％）を含むシロッ
プを得た。

【００９２】実施例２１ ０.５０当量のジブチルスズオキシドを脱水と共に用い
るスクロース−６−アセテートの製造 スクロース６８.５ｇ（２００ミリモル）、ＤＢＴＯ・¹
/₂Ｈ₂Ｏ ２５.８ｇ（１００ミリモル）、ＤＭＦ ４００
ｍｌ、シクロヘキサン１００ｍｌ、及び無水酢酸２２.
５ｇ（２２０ミリモル）を用いて実施例１９の実験を繰
返した。脱水温度は９９℃であった。反応は還流及びア
シル化中固体を含まなかった。処理により、スクロース
−６−アセテート６１.０ｇ（１５９ミリモル、収率７
９.４％）を含むシロップを得た。

【００９３】実施例２２ ０.５０当量のジオクチルスズオキシドを脱水と共に用
いるスクロース−６−アセテートの製造 ＤＯＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ ３７.９ｇ（１００ミリモル）及び
無水酢酸２２.５ｇ（２２０ミリモル）を用いて実施例
１９の実験を繰返した。脱水温度は９９℃であった（還
流は４時間）。この反応は還流及びアセチル化を通して
固体が存在しなかった。処理により、ＨＰＬＣ分析でス
クロース−６−アセテート６２.０ｇ（１６１ミリモ
ル、収率８０.７％）を含むシロップを得た。

【００９４】実施例２３ ０.５０当量のジブチルスズオキシドを脱水なしに用い
るスクロース−６−ベンゾエートの製造 磁気撹拌棒及びアルゴン導入口を備えた５００ｍｌの１
つ口丸底フラスコに、スクロース１７.１ｇ（５０.０ミ
リモル）、ＤＢＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ ６.４５ｇ（２５.０ミ
リモル）、無水安息香酸１８.１ｇ（８０.１ミリモ
ル）、ＤＭＦ ２００ｍｌ、及びシクロヘキサン１００
ｍｌを仕込んだ。この混合物を室温で９日間撹拌し、水
（２５ｍｌ）で処理し、シクロヘキサン（２×１５０ｍ
ｌ）で抽出してＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏを除去した。蒸発（ロ
ータリーエバポレータ、機械ポンプ、水浴３０℃）によ
り、ＨＰＬＣ分析でスクロース−６−ベンゾエート１
１.４ｇ（２５.７ミリモル、収率５１.３％）を含むシ
ロップを得た。

【００９５】実施例２４ １.００当量のジブチルスズオキシドを脱水なしに用い
るスクロース−６−ベンゾエートの製造 ＤＢＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ １２.９ｇ（５０.０ミリモル）を
用いて実施例２３の実験を繰返した。９日間撹拌した後
処理することにより、スクロース−６−ベンゾエート１
６.３ｇ（３６.５ミリモル、収率７３.０％）を含むシ
ロップを得た。

【００９６】実施例２５ １.００当量の再循環されたジスタノキサンジアセテー
トを脱水なしに用いるスクロース−６−アセテートの製
造 実施例１６で製造したシクロヘキサン抽出物を一緒に
し、５０％飽和水性食塩水で洗浄し、そしてロータリー
エバポレータ（水流ポンプの真空下、水浴３０℃；次い
で機械ポンプの真空下、水浴４０℃）に供してＤＳＤＡ
・Ｈ₂Ｏ１２２.６ｇ（２００ミリモル）を回収した。こ
の粘稠な薄茶色の油をシクロヘキサン１５０ｍｌで処理
し、得られた溶液を実施例１６の反復で使用した。反応
温度は９３℃であった（還流６０分）、処理によりスク
ロース−６−アセテート６０.５ｇ（１５８ミリモル、
収率７８.８％）を含むシロップを得た。

【００９７】実施例２６ ジスタノキサンジエステルの一般的な製造法 ＤＢＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ（１０３ｇ、０.４０モル）を、ト
ルエン又はシクロヘキサン（２００〜４００ｍｌ）中に
おいて酢酸又は安息香酸（２４.１ｇ又は４９.１ｇ、
０.４０モル）と共に還流させ、反応水をディーン−ス
ターク捕集器で分離した。ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏは溶液で使
用することができ、或いは溶媒の除去及び５％水性アセ
トニトリル（ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ）２００ｍｌ又は５％水
性ＤＭＦ（ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ）１００ｍｌのいずれかの
溶解によって結晶化できた。ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏは５７〜
８℃の融点を示し、満足しうる元素分析値を与えた（Ｃ
₂₀Ｈ₄₂Ｏ₅Ｓｎ₂・Ｈ₂Ｏに対する計算値：Ｃ、３９.３
９；Ｈ、６.８３。実験値：Ｃ、３８.８７；Ｈ、６.８
３）。ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏは９４〜６℃の融点を示し、そ
して満足しうる元素分析値を与えた（Ｃ₃₀Ｈ₄₆Ｏ₅Ｓｎ₂
・Ｈ₂Ｏに対する計算値：Ｃ、４８.５５；Ｈ、６.５
２。実験値、Ｃ、４７.２６；Ｈ、６.２４）。文献値の
融点５８〜６０℃［Ｄ.アレトソン（Alletson）ら、Ｊ.
ケム・ソク、５４６９（１９６３）］。

【００９８】アシル化反応を促進させるために３級アミ
ンを用いる場合、本発明は種々の異なつた様式で行うこ
とができる。これらの方法は、部分的に、（ａ）有機ス
ズとして用いるＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏの脱水の程度、（ｂ）
用いる３級アミンの求核性、（ｃ）Ｓ−６−Ｅ生成物に
対して用いる回収法、（ｄ）３級アミン成分に対して用
いる回収及び循環法、及び（ｅ）ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ成分
に対して用いる回収及び循環法、によって異なる。連続
法を含む実施法は好適である。

【００９９】３級アミン促進剤を用いる５つの様式をい
くらか詳細に議論する。これらの５つの実施法は代表例
であり、開示された種々の観点を改変することにより多
くの他の本発明の実施法が開発しうる。これらの２つの
最初の２つは回分法を含み、後者の３つは連続法を含
む。第１の方法は単にスクロース及び必要量のＤＳＤＥ
・Ｈ₂Ｏ触媒を極性の中性溶媒に（普通穏やかに加熱し
て）溶解し、次いでこのように得た溶液を低沸点（極性
の中性溶媒に対して）の３級アミン及び無水カルボン酸
で室温下に又は僅かに室温以下で連続的に処理すること
を含む。アシル化が完了した後、溶液を少量の水で処理
し、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏを再使用のために抽出によって回
収する。この時点で極性の中性溶媒、水、３級アミン、
及びカルボン酸中Ｓ−６−Ｅ（及び少量の他のスクロー
スエステル及び残存スクロース）より主になるアシル化
生成物混合物から、（例えば真空蒸発又はカチオン交換
樹脂での処理により）低沸点３級アミン、（例えば真空
蒸発又はアニオン交換樹脂での処理により）カルボン
酸、及び（例えば真空蒸発又は脱水剤での処理により）
水を除去して、Ｓ−６−Ｅが結晶化又は沈殿法によって
単離しうるシロップを製造することができる。他に精製
且つ乾燥したＤＭＦに基づくシロップを塩素化に供し
て、上述のウォーカップらの技術に従ってスクラロース
−６−エステルを製造してもよい。

【０１００】本発明のこの実施法は実施例２７及び２８
で例示される。実施例２７においては、例示すると１.
００モル当量のスクロース及び０.５０モル当量のＤＳ
ＤＡ・Ｈ₂Ｏを７５℃下にＤＭＦに溶解し、このように
調製した溶液を室温まで冷却し、そしてトルエン、トリ
エチルアミン（１.１０モル当量）、及び無水酢酸（１.
１０モル当量）で処理した。大気温度で３０分間撹拌し
た後、反応溶液を水で処理し、シクロヘキサンで抽出し
た（ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏの回収）。真空蒸発を用いてトリ
エチルアミン、酢酸、水、及びＤＭＦの一部分を除去し
て、Ｓ−６−Ａを６４％の収率で含むシロップを得た。

【０１０１】ＤＳＤＥ触媒の化学量論量、アシル化剤の
性質及び割合、並びに（３級アミン促進剤を用いない本
発明の観点と関連して）上述した極性の中性反応媒体の
性質及び割合は、本発明のアミンで促進された観点にも
当てはまる。ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ及びＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏの両
方が有効な触媒であることが示され、ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ
は本発明のアミンで促進された観点において僅かに良好
な性能を示す。この性能の相違は、より立体障害された
ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏが３級アミンによって誘導される副反
応に含まれるようになる傾向の減少の結果であるかも知
れない。

【０１０２】反応混合物中のＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏの濃度が
高い場合、少量（５〜２０容量％）の炭化水素様共溶媒
を添加して、それを溶液に保つことは有利である。トル
エンはこの目的に対して有用であることがわかった。他
の有用な共溶媒はベンゼン、混合キシレン、シクロヘキ
サン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、クロロホルム
などを含む。

【０１０３】約１.００〜約１.２５モル当量（スクロー
ス基準）の範囲の化学量論量比の低沸点３級アミンが用
いられる。好適な化学量論量比は約１.０５〜約１.１０
モル当量の範囲にあり、その特別な方法で使用される無
水カルボン酸のモル当量に等しい。酸無水物よりも（モ
ル基準で）少い量の３級アミンはアシル化速度をかなり
減少させるであろう。３級アミンを化学量論的過剰量で
用いると、３級アミンによって開始される有機スズ触媒
との副反応が起こる場合収率の低下をもたらしうる。

【０１０４】アシル化反応温度は、アミン促進剤を使用
しないＤＳＤＥ触媒でのアシル化に関して上述したもの
と同様の温度が使用できる。

【０１０５】無水酢酸及び無水安息香酸の双方は効果的
なアシル化剤であることがわかつた。無水安息香酸は本
発明のアミン促進の観点において優れた収率を与えるよ
うである。これは、無水安息香酸の固有の低い反応性が
副反応を少ししか起こさないからであると思われる。本
発明においては広範な他のカルボン酸無水物が使用でき
る。

【０１０６】本発明のこの実施法では、多種類の低沸点
３級アミンが使用するのに適当である。この成分に対す
る重要な基準は、それが過度な量でＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ触
媒と副反応しないこと（いくつかの３級アミン例えばイ
ミダゾール及び１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］ウ
ンデク−７−エンはかなり迅速にこれらの触媒の有用性
を損う）、それが無水カルボン酸と反応してアシルアン
モニウムで活性化された錯体を生成するのに十分な求核
性を有すること、及びそれが容易に（例えば真空蒸発に
より）除去されて固体又は精製されたシロップとしての
Ｓ−６−Ｅが容易に単離できることである。成功裏に使
用された３級アミンはトリアルキルアミン例えばトリメ
チルアミン（ＴＭＡ）、トリエチルアミン（ＴＥＡ）、
及びジイソプロピルエチルアミン（ＤＥＡ）、及び芳香
族複素環族アミン例えばピリジン及び２,６−ルチジン
（２,６−ジメチルピリジン）を含む。他の適当なアミ
ンはジエチルメチルアミン、ジメチルエチルアミン、及
びピユリン（メチルピリジン）を含む。好適な３級アミ
ンは、価格及び真空蒸発による除去の容易さの理由でＴ
ＭＡ及びＴＥＡを含む。

【０１０７】これらのアミンで促進されたアシル比は
１,３−ジ−（６−Ｏ−スクロース）置換ジスタノキサ
ンを含むものよりも一般に実質的に速い。これは多分事
実上のアシル化剤であるアシルアンモニウム塩の大きい
反応性の結果である。アミンで促進されたアシル化は完
了するまでに約３〜約６０分間を必要とする。位置選択
的なアシル化の速度は、触媒の化学量論量（スクロース
に対して触媒濃度を増すと、速度が増大する）、触媒の
活性（例えばＤＳＤＡ・Ｈ₂ＯはＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏよりも
活性な触媒であるように見える）、用いる３級アミンの
求核性（例えばトリエチルアミンはピリジンよりも求核
性であり、従つてアシルアンモニウム塩をより高濃度で
与え、この結果反応速度が速くなる）、無水カルボン酸
の反応性（例えば無水酢酸は無水安息香酸より反応性で
ある）、並びに反応温度及び反応性種の相対濃度（アシ
ル化が高次過程であるから）を含む多くの変数に依存す
る。ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏは上述したバーノンらの教示に従
つて再使用のために回収することができる。低沸点の３
級アミンは、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏの抽出後の分留法によつ
て回収しうる。例えばＤＳＤＥを含まないＤＭＦに基づ
くＳ−６−Ｅ溶液から、低沸点３級アミン（例えばトリ
エチルアミン、沸点３℃）、水（沸点１００℃）、及び
ＤＭＦ（沸点１５３℃）の一部を（例えば薄膜蒸発機を
用いて）留去して留出物を得、これから３級アミンを精
留によって回収する。他にＤＳＤＥを含まないＤＭＦに
基づくＳ−６−Ｅ溶液を注意深く精留して３級アミンを
回収してもよい。存在するカルボン酸が３級アミンの回
収を妨害する場合には、酸をＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏの抽出後
に適当なアニオン交換樹脂を用いて除去することができ
る。同様に存在する水が無水の３級アミンの回収を妨害
する場合には、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏの抽出後に水を脱水剤
（例えばモレキュラーシーブ）で除去するとよい。

【０１０８】本発明のアミンで促進された観点の第２の
実施法は、実施例２９〜４５で例示するように、脱水さ
れた又は部分的に脱水された反応系でＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ
を使用することを含む。この実施法は、脱水された又は
部分的に脱水された反応条件下に、但しアミン促進剤を
含まないで行われる本発明の実施法に対して前述したも
のと同様にして行われる。アシル化が完了した後、溶液
を少量の水で処理し、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏを再使用のため
に抽出によって回収する。次いでアシル化生成物混合物
を更に処理し（即ち水、３級アミン、カルボン酸、及び
残存する抽出溶媒を除去し、）そしてＳ−６−Ｅを（例
えば結晶化又は沈殿により）固体として単離し、或いは
ＤＭＦに基づくシロップの場合にはこれをスクラロース
−６−エステルの製造のための塩素化に供する。

【０１０９】実施例３６では、例えば１.００モル当量
のスクロース及び１.００モル当量のＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ
を、ＤＭＦ及びシクロヘキサンの４：１（容量比）混合
物中にスラリーとし、そして混合物を、還流式水分離器
を備えた反応容器中で３０分間激しく還流させた。これ
は元のＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏの水和水の４０％を除去した。
次いで固体を含まない反応混合物を大気温度まで冷却
し、そして１.１０モル当量のトリエチルアミン及び１.
１０モル当量の無水酢酸で連続的に処理した。約３０分
間撹拌した後、反応混合物を水で処理し、シクロヘキサ
ンで抽出し（ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏを回収し）、そして（ト
リエチルアミン、水、酢酸、及びＤＭＦの一部を除去す
るために）一部分を蒸発させて、ＨＰＬＣ分析によると
スクロース−６−アセテートを収率８４％で含むシロッ
プを得た。

【０１１０】ＤＳＤＥ触媒の化学量論量比、共溶媒の性
質及び割合、反応温度、脱水工程の反応時間、及びアシ
ル化剤の性質及び割合は、本発明のアミンで促進されて
ない場合の第２の実施法で上述した通りである。

【０１１１】水の除去の終了後、通常２相の（但し固体
を含まない）反応混合物を室温又はそれ以下まで冷却
し、低沸点３級アミンで処理し、次いで本発明のアミン
で促進された観点の第１法に対して上述したようにアシ
ル化する。ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ触媒及び低沸点３級アミン
の両方の回収及び再使用、Ｓ−６−Ｅの、固体又は精製
シロップ形での単離、及びＳ−６−ＥのＴＧＳ−６−Ｅ
への転化は上述の如く行うことができる。第２法は一般
に第１法で議論した３級アミン及び無水物の化学量論
量、極性の中性溶媒の構造、及びアシル化温度に従う。

【０１１２】第３の実施法は図１として示されるスキー
ムＩに図示される。これは連続法であつて、極性で中性
のアシル化溶媒、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ有機スズ剤の循環抽
出及び脱水の双方のための炭化水素様共溶媒、アシル化
に対する活性化錯体を生じさせるための非揮発性（即ち
極性の中性溶媒よりも実質的に高沸点の）３級アミン、
固体Ｓ−６−Ｅの結晶化（又は沈殿）による単離、ＤＳ
ＤＥ・Ｈ₂Ｏ触媒及び非揮発性アミンの双方の回収及び
（単一工程流での）循環、並びにカルボン酸副生物の、
正確な化学量論量の水性水酸化ナトリウムでの抽出によ
る工程流からの除去を含む。この方法で製造される固体
のＳ−６−Ｅはスクラロース−６−エステルへの塩素化
に対して適当である。

【０１１３】本発明のこの実施法は実施例４６によつて
示される。この実施例は、ＤＭＦを極性で中性の溶媒と
して、トルエンを抽出−脱水共溶媒として、ＤＳＤＢ・
Ｈ₂Ｏを有機スズ触媒として、Ｎ,Ｎ−ジメチルオクチル
アミン（ＤＭＯＡ、沸点１９５℃）を非揮発性３級アミ
ンとして、無水安息香酸をアシル化剤として使用し且つ
Ｓ−６−Ｂをアセトンから結晶化させる方法の３つの反
復サイクルを詳述する。この方法はスクロース（１.０
０モル当量）及びＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ（０.６０モル当量）
を約８０℃でＤＭＦに溶解することで始められる。この
溶液を、約９０℃で減圧下にトルエンと共蒸留すること
によって脱水した。次いで混合物を約２０℃まで冷却
し、続いて約２０℃の反応温度を維持するために冷却し
続けながらＤＭＯＡ（１.１０モル当量）及び無水安息
香酸（１.１０モル当量）で処理した。

【０１１４】短時間撹拌した後、ＤＭＦを（直接の再循
環のために）真空蒸発によつて除去して（ＤＳＤＢ、Ｓ
−６−Ｂ、安息香酸、及びＤＭＣＡを含む）粘稠な油を
得、これをアセトンで処理することによりＳ−６−Ｂが
結晶化する溶液を得た。この炭水化物を濾別し、真空乾
燥した。一方濾液を真空蒸発させて（循環のために）ア
セトンを除去し、（ＤＳＤＢ、安息香酸、及びＤＭＯＡ
を含む）粘稠な油を得、これをトルエン及び１.１０モ
ル当量の水酸化ナトリウムを含む水と接触させた。安息
香酸はナトリウム塩として水性相に定量的に抽出され、
一方ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ及びＤＭＯＡは炭水化物相に残っ
た。（実施例では、水性安息香酸ナトリウム溶液を捨て
た。商業的運転においては、この塩を回収し、無水安息
香酸へ再転化するであろう。）次いでトルエンを（循環
のために）真空蒸発によって除去し、それぞれ原子吸光
分光法及びガスクロマトグラフィーで定量化されるＤＳ
ＤＢ及びＤＭＯＡからなる比較的無水の粘稠な油を得
た。分析した油のトルエン溶液を、続いてスクロース、
ＤＭＦ、及び補充ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏで処理し、そして補
充ＤＭＯＡを工程の適当な部分で添加しつつ工程を繰返
した。実施例４６はこの方法の３回の連続的なサイクル
を示し、単離されたＳ−６−Ｂの収率は平均７１.５％
及び平均純度は（ＨＰＬＣ分析で）９２.７％であっ
た。ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏの回収率は９６.７％であり、また
ＤＭＯＡの回収率は平均９０.９％であった。

【０１１５】スキームＩの方法は、本発明のアミンで促
進された観点の第１法の議論で示した有機スズ試剤、３
級アミン、及び無水物の化学量論量、触媒及び極性で中
性の溶媒の構造、並びに反応温度に対する基準に一般に
従う。またスキームＩの方法は、本発明のアミンで促進
された観点の第２法の議論で示した脱水共溶媒の使用に
関する基準に従う。ここにスキームＩの方法は、適当な
Ｓ−６−Ｅ結晶化溶媒が使用されるならば無水安息香酸
以外の無水物を用いても行いうることを付記する。

【０１１６】ＤＭＯＡ、２,４,６−コリジン（２,４,６
−トリメチルピリジン、沸点１７１℃）、及びＮ,Ｎ−
ジメチルドデシルアミン（ＤＭＤＡ、沸点１１０℃／３
ｍｍＨｇ）はスキームＩの方法を実施するのに有効であ
ることがわかった。多くの種類の他の高沸点３級アミン
例えばトリ−ｎ−ブチルアミン（沸点２１６℃）、トリ
−ｎ−オクチルアミン（沸点３６５℃）、及びＮ−メチ
ルジ−ｎ−オクチルアミン（沸点１６２℃／１５ｍｍＨ
ｇ）も本方法の非揮発性３級アミンとして使用しうる。

【０１１７】本発明の第４の実施法は図２に示されるス
キームＩＩで図示される。これは極性で中性のアシル化
溶媒、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ有機スズ剤の循環抽出及び脱水
の双方に対する炭化水素様共溶媒、アシル化に対する活
性化錯体を生じさせるための揮発性（即ち極性の中性溶
媒よりも実質的に低沸点の）３級アミン、固体Ｓ−６−
Ｅの結晶化（又は沈殿）による単離、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ
触媒の回収及び循環、並びにカルボン酸副生物の、正確
な化学量論量の水性水酸化ナトリウムでの抽出による工
程流からの除去を含む。この方法で製造される固体のＳ
−６−Ｅはスクラロース−６−エステルへの塩素化に対
して適当である。

【０１１８】本発明のこの実施法は実施例４７によって
示される。この実施例は、ＤＭＦを極性で中性の溶媒と
して、トルエンを抽出−脱水共溶媒として、ＤＳＤＢ・
Ｈ₂Ｏを有機スズ触媒として、トリエチルアミンを揮発
性３級アミンとして、無水安息香酸をアシル化剤として
使用し且つＳ−６−Ｂをアセトンから結晶化させる方法
の５回の反復サイクルを詳述する。この方法はスクロー
ス（１.００モル当量）及びＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ（０.６０
モル当量）を約８０℃でＤＭＦに溶解することで始めら
れる。この溶液を、約９０℃で減圧下にトルエンと共蒸
留することによつて脱水した。次いで混合物を約２０℃
まで冷却し、続いて約２０℃の反応温度を維持するため
に冷却し続けながらＴＥＡ（１.１０モル当量）及び無
水安息香酸（１.１０モル当量）で処理した。

【０１１９】短時間撹拌した後、揮発性アミン及びＤＭ
Ｆを真空蒸発によって除去して（これらの２つの反応成
分を分離及び循環することに関しては先の議論を参照の
こと）（ＤＳＤＢ、Ｓ−６−Ｂ、及び安息香酸を含む）
粘稠な油を得、これをアセトンで処理することによりＳ
−６−Ｂが結晶化する溶液を得た。この炭水化物を濾別
し、真空乾燥した。一方濾液を真空蒸発させて（循環の
ために）アセトンを除去し、（ＤＳＤＢ、及び安息香酸
を含む）粘稠な油を得、これをトルエン及び１.１０モ
ル当量の水酸化ナトリウムを含む水と接触させた。安息
香酸はナトリウム塩として水性相に定量的に抽出され、
一方ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏは炭水化物相に残つた。（実施例
では、水性安息香酸ナトリウム溶液を捨てた。商業的運
転においては、この塩を回収し、無水安息香酸へ再転化
するであろう。）次いでトルエンを（循環のために）真
空蒸発によつて除去し、（原子吸光分光法で定量化され
る）ＤＳＤＢからなる比較的無水の粘稠な油を得た。分
析した油のトルエン溶液を、続いてスクロース、ＤＭ
Ｆ、及び補充ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏで処理し、工程を繰返し
た。実施例４７はこの方法の５回の連続的なサイクルを
示し、単離されたＳ−６−Ｂの収率は平均７１.９％及
び平均純度は（ＨＰＬＣ分析で）９２.４％であった。
ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏの回収率は９７.１％であった。

【０１２０】スキームＩＩの方法は、本発明のアミンで
促進された観点の第１法の議論で示した有機スズ触媒、
３級アミン、及び無水物の化学量論量、有機スズ触媒、
３級アミン及び極性で中性の溶媒の構造、並びに反応温
度に対する基準に一般に従う。またスキームＩＩの方法
は、本発明のアミンで促進された観点の第２法の議論で
示した脱水共溶媒の使用に関する基準に従う。ここにス
キームＩＩの方法は、適当なＳ−６−Ｅ結晶化溶媒が使
用されるならば無水安息香酸以外の無水物を用いても行
いうることを付記する。

【０１２１】第５の実施法は図３として示されるスキー
ムＩＩＩに図示される。これは連続法であって、極性で
中性のアシル化溶媒、ＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏ有機スズ剤の循
環抽出及び脱水の双方に対する炭化水素様共溶媒、アシ
ル化に対する活性化錯体を生じさせるための揮発性（即
ち極性の中性溶媒よりも実質的に低沸点の）３級アミ
ン、Ｓ−６−Ｅの精製シロップとしての精製、ＤＳＤＥ
・Ｈ₂Ｏ成分の回収及び循環、並びに揮発性３級アミン
及びカルボン酸副生物の双方の、蒸留法による工程流か
らの除去を含む。この方法で製造されるＳ−６−Ｅシロ
ップはスクラロース−６−エステルへの塩素化に対して
適当である。

【０１２２】本発明のこの実施法は実施例４８によって
示される。この実施例は、ＤＭＦを極性で中性の溶媒と
して、シクロヘキサンを抽出−脱水共溶媒として、ＤＳ
ＤＢ・Ｈ₂Ｏを有機スズ触媒として、トリエチルアミン
を揮発性アミンとして、及び無水酢酸をアシル化剤とし
て用いる方法の５回の反復サイクルを記述する。この方
法はスクロース（１.００モル当量）及びＤＳＤＡ・Ｈ₂
Ｏ（１.００モル当量）を約８０℃でＤＭＦに溶解する
ことによって始められる。この溶液をシクロヘキサンで
処理し、約９０℃で共蒸留することにより脱水した。次
いで混合物を約２０℃まで冷却し、続いて約２０℃の反
応温度を維持するために冷却し続けながらＴＥＡ（１.
１０モル当量）及び無水酢酸（１.１０モル当量）で処
理した。

【０１２３】短時間撹拌した後、反応混合物を水で処理
し、ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏをシクロヘキサンでの抽出により
回収した。次いで（Ｓ−６−Ａ、酢酸、水、及びＴＥＡ
を含む）ＤＭＦに基づく溶液を減圧下に蒸発させ、揮発
性アミン、水、酢酸、及びＤＭＦの一部分を除去して
（これらの反応成分の分離及び循環に関しては先の議論
を参照のこと）、シロップを得、これをそれぞれＨＰＬ
Ｃ及びガスクロマトグラフィーによりＳ−６−Ａ及びＤ
ＭＦ含量を分析した。次いでシクロヘキサンを（循環の
ために）一緒にした抽出物から除去し、ＤＳＤＡ（原子
吸光分光法で分析）からなる比較的無水の粘稠な油を得
た。分析した油のシクロヘキサン溶液を続いてスクロー
ス、ＤＭＦ、及び補充ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏで処理し、そし
て工程を繰返した。実施例２２はこの方法の５つの連続
的なサイクルを示し、シロップＳ−６−Ａは平均７９.
０％の収率であった。ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏの回収率は平均
９８.８％であった。

【０１２４】スキームＩＩＩの方法は、上述した有機ス
ズ試剤、３級アミン、及び無水物の化学量論量、有機ス
ズ試剤、３級アミン及び極性で中性の溶媒の構造、並び
にアシル化温度に対する基準に一般に従う。またスキー
ムＩＩＩの方法は、本発明のアミンで促進された観点の
第２法の議論で示した脱水共溶媒の使用に関する基準に
従う。更にスキームＩＩＩの方法は、上述したバーノン
らの記述するＤＳＤＥ・Ｈ₂Ｏの抽出及び循環に関する
基準に一般に従う。ここに式ＩＩＩの方法は、工程流か
ら副生物を除去するために適当な方法（例えば抽出、続
く中和、或いはアニオン交換樹脂の使用）を利用するな
らば非揮発性のカルボン酸副生物を与える無水物を用い
ても行いうることを付記する。

【０１２５】下表は実施例２７〜４５に対する実験の詳
細と収率を要約する。

【０１２６】

【表３】

【０１２７】

【表４】

【０１２８】¹ 実施例、² 用いた有機スズ試剤、ＤＳＤ
Ａは１,３−ジアセトキシ−１,１,３,３−テトラブチル
ジスタノキサンを示す。ＤＳＤＢは１,３−ジベンゾイ
ロキシ−１,１,３,３−テトラブチルジスタノキサンを
示す。ＯＤＳＤＡは１,３−ジアセトキシ−１,１,３,３
−テトラオクチルジスタノキサンを示す。³ スクロース
基準で用いたオクチルスズ試剤の当量。⁴ ＤＭＦはＮ,
Ｎ−ジメチルホルムアミドである。ＮＭＰはＮ−メチル
−２−ピロリドンである。⁵ Ｃ₇Ｈ₈はトルエンである。
Ｃ₆Ｈ₁₂はシクロヘキサンである。Ｃ₇Ｈ₁₆はｎ−ヘプタ
ンである。⁶ 製造されたスクロース−６−エステル。Ａ
はアセテートであり、Ｂはベンゾエートである。⁷ 反応
混合物の脱水に用いた時間（分)。⁸ 反応混合物の脱水
中に生成する存在する全水の％（カールフィシャー
法）。⁹ 用いた３級アミン。ＴＥＡはトリエチルアミン
である。ＰＹＲはピリジンである。ＤＥＡはジイソプロ
ピルエチルアミンである。ＬＵＴは２,６−ルチジンで
ある。ＴＭＡはトリメチルアミンである。ＤＭＤＡは
Ｎ,Ｎ−ジメチルドデシルアミンである。ＤＭＯＡはＮ,
Ｎ−ジメチルオクチルアミンである。ＣＯＬＬは２,４,
６−コリジンである。¹⁰ 生成したシロップ（実施例２
７〜４０）又は単離した固体（実施例４１〜４５）のＨ
ＰＬＣ分析により決定した収率モル％及び回収率％。¹¹
スクロース−６−エステルの収率％。¹² 他のスクロー
スモノエステルの収率％。¹³ スクロースジエステルの
収率％。¹⁴ 未反応のスクロースの回収％。

【０１２９】実施例２７ トリエチルアミン及び０.５０当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水なしに用いるスクロース−６−アセテ
ートの製造 機械的撹拌機、温度計、及びアルゴン導入口を上部にも
つ６０ｍｌの滴下濾斗を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸
底フラスコに、スクロース６８.５ｇ（２００ミリモ
ル）、ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ６１.２ｇ（１００ミリモ
ル）、及びＤＭＦ ４５０ｍｌを仕込んだ。このスラリ
ーを１０分間７５℃（内部温度）まで加熱し、このよう
にして得た透明な溶液を室温まで冷却し、そしてトルエ
ン５０ｍｌ及びトリエチルアミン２２.３ｇ（２２０ミ
リモル）で連続的に処理した。次いでこの溶液を、ＤＭ
Ｆ５０ｍｌに溶解した無水酢酸２２.５ｇ（２２０ミリ
モル）で１０分間にわたり滴々に処理した。

【０１３０】Ｓ−６−Ａの生成及びスクロースの消失を
シリカゲルのＴＬＣで追跡した。転化は約３０分後に完
結したように見えた。反応混合物を水（５０ｍｌ）で処
理し、シクロヘキサン（２×５００ｍｌ）で抽出してＤ
ＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを除去し、そしてＤＭＦに基づく溶液を
一部蒸発させて（ロータリーエバポレータ、機械ポンプ
の真空下、水浴３０℃）、ＨＰＬＣ分析によるとスクロ
ース−６−アセテート４９.１ｇ（１２８ミリモル、収
率６４.０％）を含む薄茶色のシロップを得た。 実施例２８ トリエチルアミン及び０.５０当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水なしに用いるスクロース−６−ベン
ゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ ７４.２ｇ（１００ミリモル）を有機
スズ試剤として及びＤＭＦ ５０ｍｌに溶解した無水安
息香酸４９.８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化に対し
て用いて実施例２７の実験を繰返した。このベンゾイル
化は完結までに約６０分間を要した（ＴＬＣ分析）。処
理により、スクロース−６−ベンゾエート６４.７ｇ
（１４５ミリモル、収率７２.５％）を含むシロップを
得た。

【０１３１】実施例２９ トリエチルアミン及び０.５０当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテ
ートの製造 機械的撹拌機、温度計、及び還流凝縮器が上部についた
ディーン−スターク水分離器を備えた１０００ｍｌの３
ツ口丸底フラスコに、スクロース６８.５ｇ（２００ミ
リモル）、ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ６１.２ｇ（１００ミリモ
ル）、ＤＭＦ ４００ｍｌ、及びシクロヘキサン１００
ｍｌを仕込んだ。このスラリーを還流（反応温度９７
℃）下に加熱し、得られた固体を含まない混合物を４５
分間還流させた。水分離器の内容物を除去し、無水イソ
プロパノールに溶解し、そしてカールフィッシャ法によ
って水の分析をした（１.３０ｇ、７２.２ミリモル、存
在する全量の７２.２％）。

【０１３２】固体を含まない混合物を約２０℃まで冷却
し、そしてトリエチルアミン２２.３ｇ（２２０ミリモ
ル）で一部ずつ処理した。このアミンの添加は穏やかな
（約２℃の）発熱をもたらした。次いで反応温度を２５
℃以下に保つために必要に応じて氷浴を用いながら無水
酢酸（２２.５ｇ、２２０ミリモル）を１０分間にわた
って滴下した。反応はＴＬＣによると約１５分間室温で
撹拌した後に完結したようであった。この混合物を実施
例２７に記述したように処理して、ＨＰＬＣ分析による
とスクロース−６−アセテートを５７.７ｇ（１５０ミ
リモル、収率７５.１％）を含むシロップを得た。

【０１３３】実施例３０ トリエチルアミン及び０.２５当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテ
ートの製造 ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ ３０.６ｇ（５０.０ミリモル）を有機
スズ試剤として用いて実施例２９の実験を繰返した。脱
水温度は９２℃であり、生ずる水は存在する全量の１１
６％であった（還流６０分間）。アセチル化及び処理に
よりスクロース−６−アセテート４７.６ｇ（１２４ミ
リモル、収率６２.０％）を含むシロップを得た。

【０１３４】実施例３１ ピリジン及び０.５０当量のジスタノキサンジアセテー
トを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテートの製
造 ピリジン１７.４ｇ（２２０ミリモル）を３級アミンと
して用いて実施例２９の実験を繰返した。脱水温度は９
９℃であり、生じた水は存在する全量の６６.４％であ
った（還流４５分間）。アセチル化は完結までに約６０
分間を要した（ＴＬＣ分析）。処理によりスクロース−
６−アセテート４６.８ｇ（１２２ミリモル、収率６０.
９％）を含むシロップを得た。

【０１３５】実施例３２ ジイソプロピルエチルアミン及び０.５０当量のジスタ
ノキサンジアセテートを脱水と共に用いるスクロース−
６−アセテートの製造 ジイソプロピルエチルアミン２８.４ｇ（２２０ミリモ
ル）を３級アミンとして用いて実施例２９の実験を繰返
した。脱水温度は１００℃であり、生じた水は存在する
全量の７６.５％であった（還流４５分間）。処理によ
りスクロース−６−アセテート５５.７ｇ（１４５ミリ
モル、収率７２.６％）を含むシロップを得た。

【０１３６】実施例３３ トリエチルアミン及び０.５０当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセ
テートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ ７４.２ｇ（１００ミリモル）を有機
スズ試剤として用いて実施例２９の実験を繰返した。脱
水温度は１０２℃であり、生ずる水は存在する全量の６
０.５％であった（還流３０分間）。アセチル化は約１
５分後に完結した（ＴＬＣ分析）。処理によりスクロー
ス−６−アセテート５８.５ｇ（１５２ミリモル、収率
７６.２％）を含むシロップを得た。ＴＬＣ分析による
とシロップ中にはスクロース−６−ベンゾエートは検知
できなかつた。

【０１３７】実施例３４ ２,６−ルチジン及び０.５０当量のジスタノキサンジア
セテートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテー
トの製造 ２,６−ルチジン２３.６ｇ（２２０ミリモル）を３級ア
ミンとして用いて実施例２９の実験を繰返した。脱水温
度は９９℃であり、生じた水は存在する全量の７８.２
％であった（還流４５分間）。アセチル化は完結までに
約６０分間を要した（ＴＬＣ分析）。処理によりスクロ
ース−６−アセテート５６.０ｇ（１４６ミリモル、収
率７２.９％）を含むシロップを得た。

【０１３８】実施例３５ トリエチルアミン及び０.５０当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水と共に用いるスクロース−６−ベンゾ
エートの製造 アセチル化のために無水安息香酸４９.８ｇ（２２０ミ
リモル）をＤＭＦ５０ｍｌに溶解して用いて実施例２９
の実験を繰返した。脱水温度は９９℃であり、生じた水
は存在する全量の５６.８％であった（還流４５分
間）。ベンゾイル化は完結までに約６０分間を要した
（ＴＬＣ分析）。処理によりスクロース−６−ベンゾエ
ート７２.９ｇ（１６３ミリモル、収率８１.６％）を含
むシロップを得た。

【０１３９】実施例３６ トリエチルアミン及び１.００当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセ
テートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ １４８ｇ（２００ミリモル）を有機ス
ズ試剤として用いて実施例２９の実験を繰返した。脱水
温度は９９℃であり、生ずる水は存在する全量の１１６
％であった（還流３０分間）。アセチル化及び処理によ
りスクロース−６−アセテート６４.２ｇ（１６７ミリ
モル、収率８３.５％）を含むシロップを得た。

【０１４０】実施例３７ トリエチルアミン及び１.００当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース−６−ベン
ゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ １４８ｇ（２００ミリモル）を有機ス
ズ試剤として、シクロヘキサン１５０ｍｌを脱水共溶媒
として、及びＤＭＦ ５０ｍｌに溶解した無水安息香酸
４９.８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化に用いて実施
例２９の実験を繰返した。脱水温度は９５℃であり、生
じた水は存在する全量の４５.６％であった（還流４５
分間）。ベンゾイル化及び処理により、スクロース−６
−ベンゾエート７７.０ｇ（１７１ミリモル、収率８６.
２％）を含むシロップを得た。実施例３８ トリエチルアミン及び０.７５当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセ
テートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ １１１ｇ（１５０ミリモル）を有機ス
ズ試剤として用いて実施例２９の実験を繰返した。脱水
温度は１０４℃であり、生ずる水は存在する全量の４
６.８％であった（還流３０分間）。アセチル化及び処
理によりスクロース−６−アセテート６３.８ｇ（１６
６ミリモル、収率８３.０％）を含むシロップを得た。

【０１４１】実施例３９ トリエチルアミン及びＮ−メチル−２−ピロリドン中
０.５０当量の１.３−ジアセトキシ−１,１,３,３−テ
トラオクチル−ジスタノキサンを脱水と共に用いるスク
ロース−６−アセテートの製造 ＤＯＴＯ・¹/₂Ｈ₂Ｏ ７５.８ｇ（２００ミリモル）を室
温で氷酢酸５００ｍｌに溶解することによってテトラオ
クチルジスタノキサンジアセテートモノハイドレートを
製造した（約６０分間必要）。ロータリーエバポレータ
（水流ポンプの真空、浴４０℃）で処理することによ
り、生成物を淡黄色の粘稠の油として得た。この油をＮ
ＭＰ ５００ｍｌに溶解し、溶液を蒸発（ロータリーエ
バポレータ、機械ポンプの真空、水浴６５℃）させて残
存する酢酸を除去した。収量は定量的であると推定され
る（８６.０ｇ、１００ミリモル）。

【０１４２】この油をＮＭＰ ４００ｍｌ及びシクロヘ
キサン１５０ｍｌで処理し、実験２９の実験を繰返し
た。脱水を１００℃で４５分間行つた。アセチル化及び
処理により、スクロース−６−アセテート４３.０ｇ
（１１２ミリモル、収率５６.０％）を含むシロップを
得た。

【０１４３】実施例４０ ジイソプロピルエチルアミン及び１.００当量のジスタ
ノキサンジベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース
−６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ １４８ｇ（２００ミリモル）を有機ス
ズ試剤として、ｎ−ヘプタン１５０ｍｌを脱水共溶媒と
して、ジイソプロピルエチルアミン２８.４ｇ（２２０
ミリモル）を３級アミンとして、及びＤＭＦ ５０ｍｌ
に溶解した無水安息香酸４９.８ｇ（２２０ミリモル）
をアシル化に用いて実施例２９の実験を繰返した。脱水
温度は１０４℃であり、生じた水は存在する全量の４
０.８％であった（還流３０分間）。ベンゾイル化は完
結するまで約６０分間を要した（ＴＬＣ分析）。処理に
より、スクロース−６−ベンゾエート７７.９ｇ（１７
５ミリモル、収率８７.３％）を含むシロップを得た。

【０１４４】実施例４１ トリメチルアミン及び０.５５当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いる固体のスクロース−６
−ベンゾエートの製造 機械的撹拌機、温度計、及び真空蒸留組立具を備えた１
０００ｍｌの３ツ口丸底フラスコに、スクロース５０.
０ｇ（１４６ミリモル）、ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ ５９.６ｇ
（８０.３ミリモル）、及びＤＭＦ ２５０ｍｌを仕込ん
だ。スラリーを８０℃（内部温度）まで１０分間加熱
し、このようにして得た透明な溶液をトルエン（１００
ｍｌ）で処理し、存在する水を約１００ｍｍＨｇ及び内
部温度９０℃での共蒸留により除去した。次いで溶液を
室温まで冷却し、そしてトリメチルアミン（９.４９
ｇ、１６１ミリモル、無水の気体として導入）及び無水
安息香酸（３６.４ｇ、１６１ミリモル）で連続的に処
理した。必要に応じて氷浴での冷却を用いて、無水物の
添加中約２０℃の反応温度を維持した。

【０１４５】室温で約２時間撹拌した後、ＤＭＦ及びＴ
ＭＡをロータリーエバポレータ（機械ポンプの真空下、
水浴３０℃）で除去することにより粘稠な油を得た。こ
れをロータリーエバポレータのフラスコ中において５０
℃下にアセトン２５０ｍｌで処理した。このようにして
得た透明な溶液を室温まで冷却し、Ｓ−６−Ｂの種を入
れ、約６０分間撹拌した。生成物を濾過し、アセトン
（３×５０ｍｌ）で洗浄し、真空乾燥（５０℃／０.５
ｍｍＨｇ／１６時間）して、ＨＰＬＣ分析によると９
７.８％スクロース−６−ベンゾエート（４６.９ｇ、１
０５ミリモル、収率７２.０％）からなる灰色がかった
固体４８.０ｇを得た。

【０１４６】実施例４２ トリエチルアミン及び０.６０当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いる固体のスクロース−６
−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ ６５.０ｇ（８７.６ミリモル）を有機
スズ試剤として及びトリエチルアミン１６.３ｇ（１６
１ミリモル）を３級アミンとして用いて実施例４１の実
験を繰返した。ベンゾイル化及び処理により、ＨＰＬＣ
分析によると９２.０％スクロース−６−ベンゾエート
（５０.２ｇ、１１３ミリモル、収率７７.１％）からな
る固体５４.６ｇを得た。

【０１４７】実施例４３ Ｎ,Ｎ−ジメチルドデシルアミン及び０.６０当量のジス
タノキサンジベンゾエートを脱水と共に用いる固体スク
ロース−６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ ６５.０ｇ（８７.６ミリモル）を有機
スズ試剤として及びＮ,Ｎ−ジメチルドデシルアミン３
４.４ｇ（１６１ミリモル）を３級アミンとして用いて
実施例４１の実験を繰返した。ベンゾイル化及び処理に
より（Ｓ−６−Ｂ、ＤＳＤＢ、及びＤＭＤＡを含む）シ
ロップを得た。これは普通の方法によりアセトンで処理
した後、ＨＰＬＣ分析によると８３.４％スクロース−
６−ベンゾエート（３９.１ｇ、８７.６ミリモル、収率
６０.０％）からなる固体４６.９ｇを得た。

【０１４８】実施例４４ Ｎ,Ｎ−ジメチルオクチルアミン及び０.６２当量のジス
タノキサンジベンゾエートを脱水と共に用いる固体スク
ロース−６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ ６７.２ｇ（９０.５ミリモル）を有機
スズ試剤として及びＮ,Ｎ−ジメチルオクチルアミン２
５.３ｇ（１６１ミリモル）を３級アミンとして用いて
実施例４１の実験を繰返した。ベンゾイル化及び処理に
より（Ｓ−６−Ｂ、ＤＳＤＢ、及びＤＭＯＡを含む）シ
ロップを得た。これは普通の方法によりアセトンで処理
した後、ＨＰＬＣ分析によると９６.６％スクロース−
６−ベンゾエート（４５.７ｇ、１０２ミリモル、収率
７０.１％）からなる固体４７.３ｇを得た。

【０１４９】実施例４５ ２,４,６−コリジン及び０.６２当量のジスタノキサン
ジベンゾエートを脱水と共に用いる固体スクロース−６
−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ ６７.２ｇ（９０.５ミリモル）を有機
スズ試剤として及び２,４,６−コリジン１９.５ｇ（１
６１ミリモル）を３級アミンとして用いて実施例４１の
実験を繰返した。ベンゾイル化及び処理により（Ｓ−６
−Ｂ、ＤＳＤＢ、及び２,４,６−コリジンを含む）シロ
ップを得た。これは普通の方法によりアセトンで処理し
た後、ＨＰＬＣ分析によると９０.６％スクロース−６
−ベンゾエート（４８.６ｇ、１０９ミリモル、収率７
４.５％）からなる固体５３.６ｇを得た。

【０１５０】実施例４６ ジスタノキサンジベンゾエート及びＮ,Ｎ−ジメチルオ
クチルアミンを、有機スズ及びアミンの循環を伴つて用
いる固体のスクロース−６−ベンゾエートの製造 直ぐ下の表に詳述する固体のスクロース−６−ベンゾエ
ートの３つの連続的な製造を、スクロース（５０.０
ｇ、１４６ミリモル）及びＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ（６５.０
ｇ、８７.６ミリモル）を約８０℃でＤＭＦ（２５０ｍ
ｌ）中に溶解する方法（ここに記述する最初のサイク
ル）に従つて行つた。この反応混合物をトルエン（１０
０ｍｌ）で処理し、存在する水を約１００ｍｍＨｇ及び
内部温度９０℃での共蒸留によつて除去した。次いで溶
液を室温まで冷却し、そしてＤＭＯＡ ２５.３ｇ（１６
３ミリモル）及び無水安息香酸３６.３ｇ（１６１ミリ
モル）で連続的に処理した。無水物の添加中約２０℃の
反応温度を保つために氷冷浴を使用した。

【０１５１】室温で約１５分間撹拌した後、ＤＭＦをロ
ータリーエバポレータ（機械ポンプの真空、水浴３０
℃）で除去して粘稠な油を得、これをロータリーエバポ
レータのフラスコ内において約５０℃下にアセトン２５
０ｍｌで処理した。このようにして得た透明な溶液を室
温まで冷却し、Ｓ−６−Ｂの種を植え、２.５時間撹拌
した。固体の生成物を濾過し、アセトン（３×５０ｍ
ｌ）で洗浄し、真空乾燥（５０℃／０.５ｍｍＨｇ／１
６時間）して、ＨＰＬＣによりスクロース−６−ベンゾ
エート含量（純度９６.６％、４５.７ｇ、１０２ミリモ
ル、収率７０.１％）に関して分析した灰色がかつた固
体（４７.３ｇ）を得た。

【０１５２】一緒にした洗浄液及び結晶化母液を蒸発さ
せ（ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水
浴５０℃）、トルエン（２００ｍｌ）及び水酸化ナトリ
ウム（６.４４ｇ、１６１ミリモル）を含む水（１００
ｍｌ）間に分配させた。層を分離し、（安息香酸ナトリ
ウムを含む）水性部分を捨てた。有機層を蒸発させて
（ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水浴
４０℃）粘稠な油を得、これをトルエン（１００ｍｌ）
に溶解し、そしてＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ（６３.０ｇ、８４.
９ミリモル、回収率９６.９％）を原子吸光分光法で、
またＤＭＯＡ（２３.０ｇ、１４６ミリモル、回収率９
０.７％）をガスクロマトグラフィーで分析した。次い
で上述した工程を、トルエン溶液及びＤＭＦ ２５０ｍ
ｌに溶解したスクロース５０ｇを用いて繰返した。

【０１５３】

【表５】 最初の １回目の ２回目の 実験 サイクル サイクル サイクル スクロース（当量)¹ 1.00 1.00 1.00 新しい DSDB・H₂O（当量)¹,² 0.60 0.02 0.02 循環 DSDB・H₂O（当量)¹,² 0.00 0.58 0.58 全 DSDB・H₂O（当量)¹,² 0.60 0.60 0.60 新しい DMOA（当量)¹,³ 1.10 0.10 0.10 循環 DMOA（当量)¹,³ 0.00 1.00 1.00 全 DMOA（当量)¹,³ 1.10 1.10 1.10 無水物（当量)¹,⁴ 1.10 1.10 1.10 % 収率（単離)⁵ 70.1 71.4 72.9 HPLC 純度（%)⁶ 96.6 91.1 90.3 ¹ モル当量基準のスクロース。² ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏは
１,３−ジベンジロキシ−１,１,３,３−テトラブチルジ
スタノキサン・１水和物。³ ＤＭＯＡはＮ,Ｎ−ジメチ
ルオクチルアミン。⁴ 無水物は無水安息香酸。⁵ ＨＰＬ
Ｃの純度で補正した単離固体生成物の収率。⁶ ＨＰＬＣ
で決定した単離固体生成物の純度。

【０１５４】実施例４７ ジスタノキサンジベンゾエート及びトリエチルアミンを
有機スズ循環物と共に用いる固体のスクロース−６−ベ
ンゾエートの製造 直ぐ下の表に詳述する固体のスクロース−６−ベンゾエ
ートの５回の連続的な製造を、スクロース（５０.０
ｇ、１４６ミリモル）及びＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ（６５.０
ｇ、８７.６ミリモル）を約８０℃でＤＭＦ（２５０ｍ
ｌ）中に溶解する方法（ここに記述する最初のサイク
ル）に従って行った。この反応混合物をトルエン（１０
０ｍｌ）で処理し、存在する水を約１００ｍｍＨｇ及び
内部温度９０℃での共蒸留によって除去した。次いで溶
液を室温まで冷却し、そしてトリエチルアミン（１６.
３ｇ、１６１ミリモル）及び無水安息香酸（３６.３
ｇ、１６１ミリモル）で連続的に処理した。無水物の添
加中約２０℃の反応温度を維持するために必要に応じて
氷浴での冷却を用いた。

【０１５５】室温で約１５分間撹拌した後、ＤＭＦ及び
ＴＥＡをロータリーエバポレータ（機械ポンプの真空、
水浴３０℃）で除去して粘稠な油を得、これをロータリ
ーエバポレータのフラスコ内において約５０℃下にアセ
トン２５０ｍｌで処理した。このようにして得た透明な
溶液を室温まで冷却し、Ｓ−６−Ｂの種を植え、３.０
時間撹拌した。固体の生成物を濾過し、アセトン（３×
５０ｍｌ）で洗浄し、真空乾燥（５０℃／０.５ｍｍＨ
ｇ／１６時間）して、ＨＰＬＣによりスクロース−６−
ベンゾエート含量（純度９５.３％、４９.４ｇ、１１１
ミリモル、収率７５.７％）に関して分析した灰色がか
つた固体（５１.８ｇ）を得た。

【０１５６】一緒にした洗浄液及び結晶化母液を蒸発さ
せ（ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水
浴３０℃）、トルエン（２００ｍｌ）及び水酸化ナトリ
ウム（６.４４ｇ、１６１ミリモル）を含む水（１００
ｍｌ）間に分配させた。層を分離し、（安息香酸ナトリ
ウムを含む）水性部分を捨てた。有機層を蒸発させて
（ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水浴
４０℃；続いて機械ポンプの真空下、水浴５０℃）、粘
稠な油を得、これをトルエン（１００ｍｌ）に溶解し、
そしてＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏ（６５.０ｇ、８７.６ミリモ
ル、回収率１００％）を原子吸光分光法で分析した。次
いで上述した工程を、トルエン溶液及びＤＭＦ ２５０
ｍｌに溶解したスクロース５０ｇを用いて繰返した。

【０１５７】

【表６】 最初の １回目の ２回目の ３回目の ４回目の 実験 サイクル サイクル サイクル サイクル サイクル スクロース（当量)¹ 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 新しい DSDB・H₂O（当量)¹,² 0.60 0.00 0.00 0.06 0.01 循環 DSDB・H₂O（当量)¹,² 0.00 0.60 0.60 0.54 0.59 全 DSDB・H₂O（当量)¹,² 0.60 0.60 0.60 0.60 0.60 TEA（当量)¹,³ 1.10 1.10 1.10 1.10 1.10 無水物（当量)¹,⁴ 1.10 1.10 1.10 1.10 1.10 % 収率（単離)⁵ 75.7 71.7 71.3 67.5 73.1 HPLC 純度（%)⁶ 95.3 89.8 93.7 90.4 92.6 ¹ モル当量基準のスクロース。² ＤＳＤＢ・Ｈ₂Ｏは
１,３−ジベンジロキシ−１,１,３,３−テトラブチルジ
スタノキサン・１水和物。³ ＴＥＡはトリメチルアミ
ン。⁴ 無水物は無水安息香酸。⁵ ＨＰＬＣの純度で補正
した単離固体生成物の収率。⁶ ＨＰＬＣで決定した単離
固体生成物の純度。

【０１５８】実施例４８ ジスタノキサンジアセテート及びトリエチルアミンを有
機スズの循環と共に用いるスクロース−６−アセテート
のシロップの製造 直ぐ下の表に詳述するスクロース−６−アセテートのシ
ロツプの５回の連続的製造を、スクロース（６８.５
ｇ、２００ミリモル）及びＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏ（１２２
ｇ、２００ミリモル）をＤＭＦ（４００ｍｌ）及びシク
ロヘキサン（１５０ｍｌ）の混合物中において、共蒸留
的に水を除去（脱水温度９３℃、存在する全水の６２.
５％を除去）しつつ６０分間還流させる方法（ここでは
元のサイクルと記述）に従って行った。次いで２相の、
但し固体を含まない混合物を２０℃まで冷却し、そして
トリエチルアミン（２２.３ｇ、２２０ミリモル）及び
無水酢酸（２２.５ｇ、２２０ミリモル）で連続的に処
理した。無水物の添加中約２０℃の反応温度を維持する
ために必要に応じて氷浴で冷却した。

【０１５９】室温で約１５分間撹拌した後、反応混合物
を水（５０ｍｌ）で処理し、シクロヘキサン（３×５０
０ｍｌ）で抽出してＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを除去した。次い
で炭水化物含有の溶液を蒸発させて（ロータリーエバポ
レータ、機械ポンプの真空下、水浴４５℃）、ＨＰＬＣ
分析によるとスクロース−６−アセテート６０.２ｇ
（１５７ミリモル、収率７８.４％）を含む薄茶色のシ
ロップを得た。

【０１６０】一緒にしたシクロヘキサン抽出物を蒸発さ
せ（ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水
浴３０℃）、このようにして得た粘稠な油をシクロヘキ
サン１５０ｍｌに溶解し、そしてＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏを原
子吸光分光法で分析した（１１９ｇ、１９４ミリモル、
回収率９７.２％）。次いでシクロヘキサン溶液及びＤ
ＭＦ ４００ｍｌに溶解したスクロース６８.５ｇを用い
て上述した工程を繰返した。

【０１６１】

【表７】 最初の １回目の ２回目の ３回目の ４回目の 実験 サイクル サイクル サイクル サイクル サイクル スクロース（当量)¹ 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 新しい DSDA・H₂O（当量)¹,² 1.00 0.03 0.01 0.00 0.01 循環 DSDA・H₂O（当量)¹,² 0.00 0.97 0.99 1.00 0.99 全 DSDA・H₂O（当量)¹,² 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 TEA（当量)¹,³ 1.10 1.10 1.10 1.10 1.10 無水物（当量)¹,⁴ 1.10 1.10 1.10 1.10 1.10 % 収率（HPLC)⁵ 78.4 79.1 77.9 79.3 80.1¹ モル当量基準のスクロース。² ＤＳＤＡ・Ｈ₂Ｏは１,
３−ジアセトキシ−１,１,３,３−テトラブチルジスタ
ノキサン・１水和物。³ ＴＥＡはトリエチルアミン。⁴
無水物は無水酢酸。⁵ ＨＰＬＣ分析による生成物シロッ
プ中のＳ−６−Ａの収率。

【０１６２】ニーディッチらの方法を以下に概述する。

【０１６３】この方法は、スクロースを不活性な有機媒
体中においてジ（ヒドロカルビル）スズオキシド例えば
ジブチルスズオキシドと反応させることによって行われ
る。ＤＢＴＯの代りに、スズに結合したヒドロカルビル
基がそれぞれアルキル、シクロアルキル、アリール、又
はアリールアルキル、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、オクチル、ベンジル、フエネチル、フェニ
ル、ナフチル、シクロヘキシル、及び置換フェニルであ
ってよい他のジ（ヒドロカルビル）スズオキシドを用い
ることもできる。好適なヒドロカルビル基は炭素数８ま
でのアルキルである。スズオキシドの代りに、それがそ
の場でジ（ヒドロカルビロキシ）ジスタノキサンを生成
する限りにおいて、ジ（ヒドロカルビル）スズジアルコ
キシド、ジハライド、ジアシレート、又は他の有機スズ
化合物も使用できる。

【０１６４】ＤＨＴＯ及びスクロースは広い範囲の化学
量論量比で使用しうる。しかしながら約１：１の化学量
論量比は好適である。これは、過剰なスクロースの使用
がＳ−６−Ｅの、スクロース及び望ましくないスクロー
スエステルでの汚れをもたらし、一方過剰なＤＨＴＯの
使用がＳ−６−Ｅ生成物のスクロースジエステルでの汚
れを誘導するからである。最も好適な化学量論量比は、
生成物中にスクロースを殆んどなくさせるためにＤＨＴ
Ｏを（スクロース基準で）非常に僅かに（１〜３％）モ
ル過剰量で使用することである。

【０１６５】ニーディッチらの方法は不活性な有機反応
媒体中で行われる。ここに「不活性な」とは、反応媒体
がスクロース又はＤＨＴＯのいずれかと反応するいずれ
の有機官能基を含まないということを意味する。多くの
場合に、発明の目的を達成するための不活性な有機反応
媒体は、極性の中性溶媒及び共溶媒を含んでなる混合溶
媒系であろう。この極性の中性溶媒はスクロースを溶解
させる目的で使用され、また共溶媒はスクロースとＤＨ
ＴＯの反応で生ずるすべての水を共蒸留的に除去し且つ
更にＤＨＴＯの溶解を促進する目的で使用される。使用
しうる極性の中性溶媒はアシル化工程に関して後述する
ものを含む。ＤＭＦは好適な極性の中性溶媒である。

【０１６６】縮合水を共蒸留的に除去しうる共溶媒は、
塩素化炭化水素例えばクロロホルム、種々の飽和及び芳
香族炭化水素例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、及びトルエン、ケトン例えば
メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン、非環
式及び環式エーテル例えばテトラヒドロフラン、及び記
述する、基準に合う他の不活性な有機液体を含む。この
発明における共溶媒としては非常に広い範囲の有機液体
が適当である。共溶媒に対する主な基準は、（１） 極
性の中性溶媒、ＤＨＴＯ、及びスクロースと混合物を作
り、大気圧下に約７５℃〜約１２５℃の範囲内の内部反
応温度で還流すること、（２） ＤＨＴＯとスクロース
の縮合によって生ずる水を共蒸留し、これによって反応
中の水の除去を容易にすること、そして（３） ＤＨＴ
Ｏの反応混合物への溶解を促進し（ＤＨＴＯは普通極性
の中性溶媒中へかなりの程度まで溶解しない）、これに
よってＤＨＴＯとスクロースの反応速度を高めること、
である。

【０１６７】水と混和しない且つ水と一定組成で最小沸
点の共沸物を形成する共溶媒は好適であるが、実験で決
定されるようにそのような共溶媒を用いる反応系は典型
的には水との共沸物の沸点又は純溶媒の沸点よりもかな
り高い温度で還流する。またこれらの系から生ずる留出
物の水−共溶媒組成物がＤＨＴＯ−スクロース縮合期間
を通して一定でないことを示すデータもある。

【０１６８】化学的安定性、水の除去効率、価格、及び
沸点の理由のために好適な共溶媒はシクロヘキサン、ｎ
−ヘプタン、及びイソオクタンを示す。

【０１６９】スクロース及びＤＨＴＯ間の反応は約７５
〜約１２５℃の範囲内の温度で行われる。７５℃以下で
は、反応は不経済的に遅く、また１２５℃以上では、炭
水化物の分解する傾向がある。好適な反応温度は約８０
〜約１００℃、好ましくは約８５〜約９０℃の範囲内で
ある。

【０１７０】スクロースとＤＨＴＯの反応生成物は、下
記の如くアシル化しうる１,３−ジ−（６−Ｏ−スクロ
ース）−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビル）ジス
タノキサンである。

【０１７１】（スクロース基準で）アシル化剤は１モル
当量よりも僅かに（１〜５％）過剰に用いることが好適
である。アシル化反応において使用しうる特別なアシル
化剤の選択は、一部アシル化生成物に意図する用途で決
つてくる。例えばアシル基を、本明細書の最初に議論し
たような人工甘味料の製造の場合のように保護基として
用いるならば、それが安価であり、アシル基が合成の適
当な段階で容易に除去でき、且つアシル化された化合物
がアシル化の除去に先立って受けねばならない反応に対
して安定であるが故に、無水安息香酸又は無水酢酸のよ
うなアシル化剤が使用されよう。Ｓ−６−Ｅが合成の最
終生成物であるならば、用いるアシル化剤はエステル生
成物に対して所望のアシル基を与えるものである。

【０１７２】これらの本質に留意するならば、使用しう
るアシル化剤には、安息香酸及び置換安息香酸（例えば
４−ニトロ安息香酸、３,５−ジニトロ安息香酸な
ど）、例えば炭素数２８までのアルカン酸例えば酢酸、
プロピオン酸、酪酸、シクロヘキサンカルボン酸、長鎖
脂肪酸、即ち飽和及び不飽和酸、例えばステアリン酸、
オレイン酸、リノール酸など、更に不飽和酸、例えばア
クリル酸及びメタクリル酸、置換酸例えばクロル酢酸、
シアノ酢酸、フエノキシ酢酸など、及び飽和及び不飽和
ジカルボン酸例えばフタル酸、ヌレイン酸、グルタル酸
などである。

【０１７３】アシル化反応は不活性な反応媒体例えばＤ
ＭＦ又は他の極性の中性溶媒例えばＤＭＳＯ、ＮＭＰ、
ＤＭＡ、ＨＭＰＡ、及びスクロースが溶解する他の極性
の中性溶媒中で行われる。ＤＭＦは、安価、比較的低沸
点、及びスクラロースを製造する方法の更なる工程に対
する溶媒としての適合性の理由から、好適な極性の中性
溶媒である。アシル化反応はＳ−６−Ｅ生成物を製造す
るのに十分な温度及び期間において行われる。

【０１７４】無水物が液体ならば、それはスクロース−
有機スズ付加物にそのまま添加でき、或いは不活性な共
溶媒で希釈してもよい。無水物が固体ならば、それは固
体形で添加しても、適当な不活性な溶媒中溶液として添
加してもよい。無水物はすべて一度に添加してもよく、
又はある期間にわたってゆっくり添加してもよい。

【０１７５】無水物の化学量論量はこの発明を成功裏に
行う重要な観点である。あまりに少い無水物を用いる
と、残存スクロースで汚れたＳ−６−Ｅ生成物をもたら
す。多すぎる無水物の使用はスクロースジエステル汚染
物を誘導しよう。最も好適な化学量論比は、生成物にス
クロースが殆んど存在しないことを保証するために無水
物を（スクロース基準で）僅かに（５〜１０％）モル過
剰量で使用する。

【０１７６】０℃以下〜約３０℃のアシル化温度は経験
的に使用される。許容しうるアシル化温度の上限は、望
ましくないスクロースモノエステル及びジエステルの生
成に帰結する熱的に活性化された非位置選択的なアシル
化の開始によって支配される。実際的な立場から、この
温度の制限は酸無水物の反応性の関数である。例えば無
水酢酸が比較的反応性の種であるから、これを用いるア
シル化は普通約２０℃以下で行われる。一方それよりい
くらか反応性の低い無水安息香酸は室温で又は僅かにそ
れ以上でアシル化が行われる。

【０１７７】アシル化反応は穏やかに発熱する。最初の
反応温度及び無水物のジ（ヒドロカルビル）スズ−スク
ロース付加物への付加速度に依存して、熱的に活性化さ
れた非位置選択的アシル化を最小にするために、アシル
化工程を外部から冷却することが必要である。

【０１７８】スクロース付加物のアシル化が完結するの
に要する時間は、反応物の濃度（アシル化は高次反応で
あるから）、アシル化剤の反応性、及び反応混合物の温
度に依存する。実験室では１時間〜数日間が用いられる
けれど、アシル化剤の消費に必要な時間よりも長い反応
時間に延長しても利益はない。これは一般に典型的な条
件下に約１〜約５時間内で完了する。

【０１７９】アシル化反応の生成物はスクロース−６−
エステル及びジスタノキサンジエステルである。

【０１８０】本発明の特徴及び態様は以下の通りであ
る： １．極性で中性の反応媒体中及び触媒量の１,３−ジア
シロキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビル）ジ
スタノキサンの存在下において、スクロースを、スクロ
ース−６−エステルの製造に十分な期間及び温度でアシ
ル化剤と反応させることを含んでなる方法。

【０１８１】２．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３−
テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−ジ
アセトキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビル）
ジスタノキサンである上記１の方法。

【０１８２】３．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３−
テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−ジ
ベンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビ
ル）ジスタノキサンである上記１の方法。

【０１８３】４．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３−
テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−ジ
アシロキシ−１,１,３,３−テトラ（アルキル）ジスタ
ノキサンである上記１の方法。

【０１８４】５．１,３−ジアセトキシ−１,１,３,３−
テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−ジ
アセトキシ−１,１,３,３−テトラ（アルキル）ジスタ
ノキサンである上記２の方法。

【０１８５】６．１,３−ジベンゾイロキシ−１,１,３,
３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３
−ジベンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラ（アルキ
ル）ジスタノキサンである上記３の方法。

【０１８６】７．アルキルがブチル又はオクチルである
上記４、５、又は６の方法。

【０１８７】８．極性の中性媒体がＮ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドである上記１の方法。

【０１８８】９．アシル化剤が無水カルボン酸である上
記１の方法。

【０１８９】１０．無水カルボン酸が無水酢酸である上
記９の方法。

【０１９０】１１．無水カルボン酸が無水安息香酸であ
る上記９の方法。

【０１９１】１２．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジアシロキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビ
ル）ジスタノキサン・１水和物である上記１の方法。

【０１９２】１３．反応媒体が更に共蒸留によつて水を
除去しうる共溶媒を含み、そして本方法が反応混合物か
ら水を除去するための共蒸留の工程を含む上記１２の方
法。１４．共溶媒が炭化水素、塩素化炭化水素、ケト
ン、又はエーテルである上記１３の方法。

【０１９３】１５．共溶媒がトルエン、シクロヘキサ
ン、ｎ−ヘプタン、又はイソオクタンである上記１３の
方法。

【０１９４】１６．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジアセトキシ−１,１,３,３−テトラブチルジスタノキ
サン、１,３−ジベンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラ
ブチルジスタノキサン、１,３−ジアセトキシ−１,１,
３,３−テトラオクチルスタノキサン、又は１,３−ジベ
ンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラオクチルジスタノ
キサンであり、反応媒体がＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドであり、そしてアシル化剤が無水酢酸又は無水安息香
酸である上記１の方法。

【０１９５】１７．反応媒体が更にトルエン、シクロヘ
キサン、ｎ−ヘプタン、又はイソオクタンを含有する上
記１６の方法。

【０１９６】１８．極性で中性の反応媒体中及び触媒量
の１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロ
カルビル）ジスタノキサン及び３級アミンの存在下にお
いて、スクロースを、スクロース−６−エステルの製造
に十分な期間及び温度でアシル化剤と反応させることを
含んでなる方法。

【０１９７】１９．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジアセトキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビ
ル）ジスタノキサンである上記１８の方法。

【０１９８】２０．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジベンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカル
ビル）ジスタノキサンである上記１８の方法。

【０１９９】２１．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジアシロキシ−１,１,３,３−テトラ（アルキル）ジス
タノキサンである上記１８の方法。

【０２００】２２．１,３−ジアセトキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジアセトキシ−１,１,３,３−テトラ（アルキル）ジス
タノキサンである上記１９の方法。

【０２０１】２３．１,３−ジベンゾイロキシ−１,１,
３,３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,
３−ジベンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラ（アルキ
ル）ジスタノキサンである上記２０の方法。

【０２０２】２４．アルキルがブチル又はオクチルであ
る上記２１、２２、又は２３の方法。

【０２０３】２５．極性の中性媒体がＮ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミドである上記１８の方法。

【０２０４】２６．アシル化剤が無水カルボン酸である
上記１８の方法。

【０２０５】２７．無水カルボン酸が無水酢酸である上
記２６の方法。

【０２０６】２８．無水カルボン酸が無水安息香酸であ
る上記２６の方法。

【０２０７】２９．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジアシロキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカルビ
ル）ジスタノキサン・１水和物である上記２９の方法。

【０２０８】３０．反応媒体が更に共蒸留によつて水を
除去しうる共溶媒を含み、そして本方法が反応混合物か
ら水を除去するための共蒸留の工程を含む上記１８の方
法。３１．共溶媒が炭化水素、塩素化炭化水素、ケト
ン、又はエーテルである上記３０の方法。

【０２０９】３２．共溶媒がトルエン、シクロヘキサ
ン、ｎ−ヘプタン、又はイソオクタンである上記３０の
方法。

【０２１０】３３．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジアセトキシ−１,１,３,３−テトラブチルジスタノキ
サン、１,３−ジベンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラ
ブチルジスタノキサン、１,３−ジアセトキシ−１,１,
３,３−テトラオクチルスタノキサン、又は１,３−ジベ
ンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラオクチルジスタノ
キサンであり、反応媒体がＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドであり、そしてアシル化剤が無水酢酸又は無水安息香
酸である上記１８の方法。

【０２１１】３４．反応媒体が更にトルエン、シクロヘ
キサン、ｎ−ヘプタン、又はイソオクタンを含有する上
記３３の方法。

【０２１２】３５．３級アミンが極性の中性反応媒体よ
りも高揮発性である上記１８の方法。

【０２１３】３６．３級アミンがトリメチルアミンであ
り、そして極性の中性反応媒体がＮ,Ｎ−ジメチルホル
ムアミドである上記３５の方法。

【０２１４】３７．３級アミンがトリエチルアミンであ
り、そして極性の中性反応媒体がＮ,Ｎ−ジメチルホル
ムアミドである上記３５の方法。

【０２１５】３８．３級アミンが極性の中性反応媒体よ
りも低揮発性である上記１８の方法。

【０２１６】３９．３級アミンがＮ,Ｎ−ジメチルオク
チルアミンであり、そして極性の中性反応媒体がＮ,Ｎ
−ジメチルホルムアミドである上記３８の方法。

【０２１７】４０．３級アミンがＮ,Ｎ−ジメチルドデ
シルアミンであり、そして極性の中性反応媒体がＮ,Ｎ
−ジメチルホルムアミドである上記３８の方法。

【０２１８】４１．１,３−ジアシロキシ−１,１,３,３
−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１,３−
ジアセトキシ−１,１,３,３−テトラブチルジスタノキ
サン、１,３−ジベンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラ
ブチルジスタノキサン、１,３−ジアセトキシ−１,１,
３,３−テトラオクチルスタノキサン、又は１,３−ジベ
ンゾイロキシ−１,１,３,３−テトラオクチルジスタノ
キサンであり、反応媒体がＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドであり、３級アミンがトリメチルアミン、トリエチル
アミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルオクチルアミン、又はＮ,Ｎ−
ジメチルドデシルアミンであり、そしてアシル化剤が無
水酢酸又は無水安息香酸である上記１の方法。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の方法をアミンで促進された連続
法で行う場合の工程図を示す。

【図２】図２は本発明の方法をアミンで促進された連続
法で行う場合の工程図を示す。

【図３】図３は本発明の方法をアミンで促進された連続
法で行う場合の工程図を示す。

フロントページの続き (72)発明者 ロバート・イー・ウインガード・ジユニ ア アメリカ合衆国ジヨージア州30607・ア センス・ウツドサイドロード187 (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07H 13/04,13/06 B01J 31/12 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 極性で中性の反応媒体中及び触媒量の
   １,３−ジアシロキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカ
   ルビル）ジスタノキサンの存在下において、スクロース
   を、スクロース−６−エステルの製造に十分な期間及び
   温度でアシル化剤と反応させることを含んでなる方法。
2. 【請求項２】 極性で中性の反応媒体中及び触媒量の
   １,３−ジアシロキシ−１,１,３,３−テトラ（ヒドロカ
   ルビル）ジスタノキサン及び３級アミンの存在下におい
   て、スクロースを、スクロース−６−エステルの製造に
   十分な期間及び温度でアシル化剤と反応させることを含
   んでなる方法。