JPH04270297A - 触媒を使用するスクロース−６−エステル化方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明はジスタノキサンジエステルを触媒
として用いるスクロースの位置選択的エステル化法に関
する。本発明の重要な観点において、本エステル化反応
は３級アミンによッて促進される。

【０００２】スクロース分子は３つの１級ヒドロキシル
基と５つの２級ヒドロキシル基を含む。それ故にヒドロ
キシル基の反応を含むスクロース誘導体を製造したい場
合には、反応を所望のヒドロキシル基に向わせることが
主たる合成上の問題となる。例えば人工甘味料の４，１
′，６′−トリクロロ−４，１′，６′−トリデオキシ
ガラクトスクロース［「スクラロース（ｓｕｃｒａｌｏ
ｓｅ）」］は４，１′、及び６′位のヒドロキシルを塩
素で置換することによりスクロースから誘導される。（
該甘味料の製造工程において、４位の立体配置は反転し
、従って化合物はガラクトスクロースとなる。）この化
合物及びその製造法は、米国特許第４，３４３，９３４
号、第４，３６２，８６９号、第４，３８０，４７６号
、及び第４，４３５，４４０号に開示されている。特に
異なる反応性のヒドロキシル基を置換させるから、塩素
原子を所望の位置だけに向わせることは主な合成上の問
題である（置換させる２つは１級、１つは２級であり；
６位の１級ヒドロキシルが最終生成物において未置換で
あるという事実によって合成は更に複雑となる）。甘味
料スクラロースには多くの異なった合成経路が開発され
てきた。 先ずは４，１′、及び６′位のヒドロキシル基を塩素化
する前にエステル基による如くして反応性の６位を保護
する方法である。本発明はエステル化をスクロース分子
の所望の６位に向わせるための触媒としてジスタノキサ
ンジエステルを利用するスクロースの６位をエステル化
する１つの方法に関する。

【０００３】スクロース−６−エステルのジスタノキサ
ンによる製造法は、本特許願と同一の譲受人に譲渡され
た１９８８年７月１８日付けのナビア（Ｎａｖｉａ）に
よる米国特許願第２２０，６４１号の「位置選択的反応
によるスクロース誘導体の合成法」に最初に記述された
。ナビアは、適当なジ（ヒドロカルビル）スズに基づく
種、例えばジブチルスズオキシド、ジオクチルスズオキ
シド、ジブチルスズジメトキシドなどを、ヒドロキシル
基含有化合物、例えば１価のアルコール又は簡単なフエ
ノールと組合せて反応性ジスタノキサン中間体［即ち１
，３−ジ（ヒドロカルビロキシ）−１，１，３，３−テ
トラ（ヒドロカルビス）ジスタノキサン］を製造し、次
いでこれをスクロースと反応させて１，３−ジ−（６−
Ｏ−スクロース）−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカ
ルビル）ジスタノキサンを得るということを開示した。

【０００４】またナビアはこれらの有機スズ−スクロー
ス付加物を適当なアシル化剤例えば酢酸又は安息香酸無
水物により適当な溶媒又は溶媒混合物中で処理すること
によるスクロース−６−エステルの製造法も記述してい
る。

【０００５】ナビアのスクロース−６−エステル（Ｓ−
６−Ｅ）の製造法は、例示のためにジブチルスズオキシ
ド半水和物（ＤＭＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ）をジ（ヒドロカ
ルビル）スズオキシドとして、ｎ−ブタノールを１価の
アルコールとして、無水酢酸をアシル化剤として、また
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）をアシル化溶
媒として用いて示す次の一連の方程式によって示される
ように、３つの明白な工程からなる。第１工程では、Ｄ
ＢＴＯ・１／２Ｈ２Ｏを量論的過剰量のｎ−ブタノール
と共に還流させて縮合水を共沸により除去し且つ１，３
−ジブトキシ−１，１，３，３−テトラブチルジスタノ
ン・１水和物（ＤＢＤＳ・Ｈ２Ｏ）を製造する。

【０００６】

【化１】

【０００７】

【化２】

【０００８】

【化３】

【０００９】スクロース−６−アセテート（Ｓ−６−Ａ
）の製造の第２段階では、ＤＢＤＳ・Ｈ２ＯをＤＭＦ中
で凡そ化学量論量のスクロース（ＳＵＣＯＨと表示）と
反応させ、水とｎ−ブタノールを除去しつつ１，３−ジ
−（６−Ｏ−スクロース）−１，１，３，３−テトラブ
チルジスタノキサン又はジブチルジスタノキシルスクロ
ース（ＤＢＳＳ）を製造する。この方法の第３段階は、
ヒドロキシル溶媒を含まないＤＢＳＳ溶液を僅かに化学
量論的過剰量の無水酢酸で処理することを含む。Ｓ−６
−Ａは典型的には良好な収率で得られ、少量の夾雑物は
残存スクロース、スクロースジアセテート、及び他のス
クロースモノアセテートである。ナビアの特許願の開示
は本明細書に参考文献として引用される。

【００１０】特にバッチ法で用いるのに適当であるスク
ロース−６−エステルの、より簡単な製造法は、本特許
願と同一の譲受人に譲渡された１９９０年４月２３日付
けのニーデイツチ（Ｎｅｉｄｉｔｃｈ）らによる米国特
許願第５１２，６９２号の「スクロース−６−エステル
の製造法」に開示されている。ニーディッチらの方法は
、極性の中性溶媒（例えば３級アミド）中及びＤＨＴＯ
の溶解を促進し且つ系で生成するすべての水の共蒸留的
除去に影響しうる炭化水素様共溶媒の存在下において、
スクロースを直接昇温度でジ（ヒドロカルビル）スズオ
キシド（ＤＨＴＯ）と反応させることにより有機スズ−
スクロース付加物を製造することを含む。これらの付加
物はナビア法で製造されるものと同一の構造のジスタノ
キサンである［即ちそれは１，３−ジ−（６−Ｏ−スク
ロース）−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカルビル）
ジスタノキサンである］。ニーディッチらの方法で製造
されるスクロース置換ジスタノキサンはその場で容易に
アシル化できて、Ｓ−６−Ｅを良好な収率で与える。こ
の改良された２段階法を、ＢＤＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ、無
水酢酸、及びＤＭＦに関して以下に記述する。

【００１１】

【化４】

【００１２】

【化５】

【００１３】本明細書を通して、種々のジ（ヒドロカル
ビル）スズに基づく種例えばジブチルスズオキシド及び
１，３−ジブトキシ−１，１，３，３−テトラブチルジ
スタノキサンはプロセス水和水として示される。これら
の水和水はいくつかの方法で定量化した。その最も有用
なものは氷酢酸に溶解した基質のカール・フィッシャー
水分析法であった。水和水は本明細書に図示される方程
式の反応のいろいろなところで遊離され、そしてすべて
のそのような場合に、方程式で示される化学量論量が実
験室において確証された。

【００１４】ナビア及びニーディッチらの方法の経済的
且つ商業的な実施は、双方においてジスタノキサンジエ
ステル（ＤＳＤＥ）である有機スズ最終生成物が、効果
的に回収され且つ循環されるということを必要とする。 これに関しては、本特許願と同一の譲受人に譲渡された
１９９０年４月２３日付けのバーノン（Ｖｅｒｎｏｎ）
らの米国特許願第５１２，６９０号の「有機スズエステ
ルの、これを含む反応混合物からの回収と回収した有機
スズ化合物の再使用法」に示されている。バーノンらは
、主にＳ−６−Ｅ、ＤＳＤＥ、及び極性の中性溶媒から
なる無水のアシル化反応生成物混合物を比較的少量の水
（モル濃度基準）で処理し、次いでＤＳＤＥを、適当な
炭化水素様の混和しない溶媒により驚くべき効率で１水
和物として殆んど独占的に抽出するということを開示し
た。更にバーノンらは、回収されたＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏが
（ａ）ナビアの方法で再使用するために、ハイドロカー
ボノールのアルカリ金属塩と反応させて、１，３−ジ−
（ハイドロカルビロキシ）−１，１，３，３−テトラヒ
ドロカルビル）ジスタノキサンを再生すること、或いは
（ｂ）ニーディッチらの方法で再使用するために、アル
カリ金属水酸化物と反応させて、ジ（ヒドロカルビル）
スズオキシドを再生すること、のいずれかにより再循環
しうることを開示した。これらの２つの再循環法を、（
ａ）ジスタノキサンジアセテート・１水和物（ＤＳＤＡ
・Ｈ２Ｏ）、カリウムブトキシド（ＫＯＢｕ）、及びＤ
ＢＤＳ・Ｈ２Ｏ（ナビア）、及び（ｂ）ＤＳＤＡ・Ｈ２
Ｏ、水酸化ナトリウム、及びＤＢＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ（
ニーデイツチら）、の例に関してそれぞれ下に示す：

【
００１５】

【化６】

【００１６】

【化７】

【００１７】工業化学に秀でる者が理解するように、回
収されたＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏを、反応性の有機スズ中間体
、例えばジ（ヒドロカルビル）スズオキシド又はジ（ヒ
ドロカルビロキシ）ジスタノキサンを再生する必要なし
に再循環しうることは経済的に有利であろう。

【００１８】全く驚くべき且つ予期できぬことに、本発
明者はスクロースを極性の中性媒体中においてＤＳＤＥ
・Ｈ２Ｏで処理して、（多分）スクロース−ジスタノキ
サンジエステル配位錯体を生成せしめ、これをその場で
、３級アミン促進剤の有無下に位置選択的にアシル化し
てＳ−６−Ｅを製造しうることを発見した。更に本発明
者は、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏがバーノンらの言う主張に従っ
てアシル化媒体から回収できること、及びそれが本発明
の教示に従ってＳ−６−Ｅの製造に直接再使用しうると
いうことを確立した。

【００１９】更に本発明者は、本方法のＤＳＤＥ・Ｈ２
Ｏ成分がアシル化を受けるスクロースの対応する当量よ
りも実質的に少い化学量論的割合で使用しうることを発
見した。更に本発明者は、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ及びスクロ
ースの反応混合物をアシル化剤で処理する前にジスタノ
キサン誘導体に付随する水和水を除去することが（収率
の観点からは有利であるけれど）必ずしも必要ないとい
うことを確立した。更に本発明者は、スクロースのベン
ゾイル化がスクロース−６−アセテート又は関連するア
セテートエステルの検知しうる量での生成なしにＤＳＤ
Ａ・Ｈ２Ｏにより接触され、この結果反応混合物中に遊
離のアセテートイオンの存在しないことが推論できると
いうことを確立した。

【００２０】更に本発明者は、３級アミン促進剤を使用
して、また使用しないで、スクロース、ＤＳＤＡ−ｄ６
（即ちジブチルスズオキシド及びパー重水素化酢酸から
製造されるジスタノキサンジアセテート）、及び標識し
てない無水酢酸を用いることによってアセチル化反応を
行った。ＤＳＤＡ−ｄ６はＳ−６−Ａ反応混合物から未
変化のまま回収され、ジスタノキサンとアセテートの結
合が反応の過程で切れないということを示した。これら
の４つの理由のために、また１，３−ジ−（６−Ｏ−ス
クロース）−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカルビル
）ジスタノキサンのカルボン酸に対する良く知られた敏
感性（即ちスクロースと１，３−ジアシロキシ−１，１
，３，３−（テトラヒドロカルビル）−ジスタノキサン
への即座の転化が起る）の故に、本発明者は本発明の方
法がナビア及びニーディッチらの記述する方法に含まれ
るものと同一の性質の１，３−ジ−（６−Ｏ−スクロー
ス）−置換ジスタノキサンを含まないと考えている。

【００２１】更に本発明者は、本方法がＤＳＤＥ・Ｈ２
Ｏ（又はＤＳＤＥ）成分に関して接触される、そして（
アシル化に対する）反応性中間体がスクロース及びジス
タノキサンジエステル触媒の金属原子間で生成する配位
共有結合付加物（即ち供与体−受容体又は配位錯体）で
あると考えている。［配位錯体は１つ又はそれ以上の配
位共有結合を含む化合物として定義され、また配位共有
結合は２つの原子の１つが両方の電子を供給する２つの
原子間の結合として定義される。４価のスズ化合物は配
位性の基、例えばヒドロキシルが存在するならば５及び
６配位種を形成する良く知られた性質を有する。参考文
献として、Ｓ．デービット（Ｄａｖｉｄ）及びＳ．ハネ
シアン（Ｈａｎｅｓｓｉａｎ）、テトラヘドロン（Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、４１、６４３（１９８５）及び
Ａ．デービス（Ｄａｖｉｅｓ）ら、Ｊ．ケム・ソク、ダ
ルトン・トランス（Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｄａｌｔｏｎ
　Ｔｒａｎｓ．）、２９７（１９８６）を参照。５及び
６配位双方のスズ原子を固体状態で含む有機スズ−マン
ノース誘導体の例としては、Ｃ．ホルツァフェル（Ｈｏ
ｌｚａｐｆｅｌ）ら、Ｓ．アフル（Ａｆｒ．）Ｊ．ケム
（Ｃｈｅｍ．）、２５、８１（１９８２）を参照。］本
発明の方法は、極性で中性の反応媒体中及び触媒量の１
，３−ジアシロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒドロ
カルビル）ジスタノキサンの存在下において、スクロー
スを、スクロース−６−エステルの製造に十分な期間及
び温度でアシル化剤と反応させることを含んでなる。本
発明の好適な観点では、反応が３級アミン促進剤の不存
在下に行われる。

【００２２】有機スズ中介の位置選択的なスクロースの
６位でのアシル化によるスクロース−６−エステルの製
造は上述したナビア及びニーディッチらの特許願に記述
されている。人工甘味料４，１′，６′−トリクロル−
４，１′，６′−トリデオキシガラクトスクロースの製
造におけるスクロース−６−エステルの有用性は例えば
上述したナビア及びニーディッチらの特許願に、並びに
本発明と同一の譲受人に譲渡された１９８９年７月１８
日付けのウォーカップ（Ｗａｌｋｕｐ）らの米国特許願
第３８２，１４７号の「改良されたスクロース−６−エ
ステルの塩素化」に記述されている。このウォーカップ
らの特許願の許可された開示は本明細書において参考文
献として引用される。

【００２３】デービットらは、テトラヘドロン、４１、
６４３〜６６３（１９８５）の総説「有機スズ誘導体を
経るヒドロキシル基の位置選択的反応法」において、ス
ズ化合物の、ヒドロキシル基含有化合物との反応による
スタノキシル化合物の製造、次くこのアルキル化又はア
シル化によるエステル又はエステルの製造を開示してい
る。ビス（トリブチルスズ）オキシドの（スクロースを
含む）種々の炭水化物との反応、続くアシル化による様
々な置換度のエステル混合物の製造が開示されている。 炭水化物との反応におけるジブチルスズオキシドの使用
もその総説に記述されている。著者は、２つのジアルキ
ルスタニレン炭水化物誘導体、メチル４，６−Ｏ−ベン
ジリデン−α−Ｄ−グルコピラノシドの２，３−Ｏ−ジ
ブチルスタニレン誘導体及び４，６−Ｏ−ベンジリデン
−２，３−Ｏ−ジブチルスタニレン−α−Ｄ−マンノピ
ラノシドの製造を開示している。これらの２つのスタニ
レン誘導体の提案された分子構造は総説６４５頁の図３
及び４に示されている。

【００２４】ワグナ−（Ｗａｇｎｅｒ）らは、Ｊ．オル
グ・ケム（Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、３９、２４（１９７
４）において、ジブチルスズオキシドの、還流メタノー
ル中でのヌクレオシドとの反応によるヌクレオシドのジ
ブチルスタニレン誘導体の製造を開示している。メタノ
ールを留去した後、このスタニレン誘導体を、等モル量
の酸クロライド及びトリエチルアミンとの反応でアシル
化した。

【００２５】ホルツァフェル（Ｈｏｌｚａｐｆｅｌ）ら
は、Ｓ．アフル・チドスクル・ケム（Ａｆｒ．Ｔｙｄｓ
ｋｒ．Ｃｈｅｍ．）、３７、５７〜６１（１９８４）の
「スクロース誘導体及び６，１′，６′−トリ−Ｏ−ト
リチルスクロースの２級ヒドロキシル基の選択的ベンゾ
イル化」において、ジブチルスズオキシドの６，１′，
６′−トリ−Ｏ−トリチルスクロースとの反応、続くベ
ンゾイルクロライドとの反応による収率７２％での３′
−Ｏ−ベンゾイル−６，１′，６′−トリ−Ｏ−トリチ
ルスクロース及び９％での２−Ｏ−ベンゾエート誘導体
、及び少量の２，３′−ジベンゾエート誘導体の製造を
開示している。

【００２６】１，３−ジイソチオシアナト−１，１，３
，３−テトラブチルスタノキサン触媒の、ベンジルアル
コール及びメチルブチレートのような物質を含むエステ
ル交換反応は公知である。例えば次の参考文献を参照の
こと。

【００２７】１）　　Ｊ．オテラ、Ｓ．イオカ、及びＨ
．ノザキ、Ｊ．オルグ・ケム、５４、４０１３（１９８
９）。

【００２８】２）　　クロル及びヒドロキシル置換のジ
スタノキサンエステル交換触媒について、Ｊ．オテラ、
Ｔ．ヤノ、Ａ．カワバタ、及びＨ．ノザキ、テトラヘド
ロン・レット（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ．）
、２３８３（１９８６）。

【００２９】３）　　天然物への合成応用について、Ｓ
．シュライバー（Ｓｃｈｒｅｉｂｅｒ）及びＨ．メイヤ
ーズ（Ｍｅｙｅｒｓ）、Ｊ．アム・ケム・ソク（Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、１１０、５１９８（１９８８）
；及びＳ．シュライバー、Ｄ．デスメーレ（Ｄｅｓｍａ
ｅｌｅ）、及びＪ．ポルコ（Ｐｏｒｃｏ）、テトラヘド
ロン・レット、６０８９（１９８８）。

【００３０】本発明のＤＳＤＥ触媒法は、例示のために
ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏを１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ−（ヒドロカルビス）ジスタノキサン・１
水和物として、無水酢酸をアシル化剤として、及びＤＭ
Ｆをアシル化溶媒として用いる次の方程式で示される。 方程式（１）はＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏを触媒とした時本方法
がいかに進むかを、また一方で方程式（２）は無水ＤＳ
ＤＡを用いた時本方法がいかに進むかを推定的に示す。 次の方程式において、「ＤＳＤＡ・Ｘ」はＤＳＤＡ及び
「Ｘ」間で形成された配位共有結合付加物又は配位錯体
を表わすものとする。

【００３１】

【化８】

【００３２】

【化９】

【００３３】無水アミンで促進された方法は、例示のた
めにＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏを１，３−ジアシロキシ−１，１
，３，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサン・
１水和物として、トリエチルアミンを３級アミンとして
、無水酢酸をアシル化剤として、及びＤＭＦをアシル化
溶媒として用いる次の一連の方程式で詳述される。

【００３４】

【化１０】 （３）　　ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　＋　ＳＵＣＯＨ　→　Ｈ
２Ｏ↑　＋　ＤＳＤＡ・ＳＵＣＯＨ

【００３５】

【化１１】（４）　　Ａｃ２Ｏ　＋　Ｅｔ３Ｎ　⇔　Ｅ
ｔ３Ｎ＋−Ａｃ　＋　ＡｃＯ−

【００３６】

【化１２】 （５）　　ＤＳＤＡ・ＳＵＣＯＨ　＋　Ｅｔ３Ｎ＋−Ａ
ｃ　→　ＤＳＤＡ・ＤＭＦ　＋　Ｓ６Ａ　＋　Ｅｔ３Ｎ
Ｈ＋

【００３７】

【化１３】 （６）　　ＤＳＤＡ・ＤＭＦ　＋　ＳＵＣＯＨ　→　Ｄ
ＳＤＡ・ＳＵＣＯＨ　＋　ＤＭＦ方程式（３）はＤＳＤ
Ａ・Ｈ２Ｏのスクロースとの反応による反応性（アシル
化に対して）ジスタノキサン−スクロース配位錯体の製
造を示す。方程式（４）は無水酢酸のトリエチルアミン
との反応による、本方法での実際のアシル化剤として機
能する高反応活性化錯合体（即ちアシルトリアルキルア
ンモニウム塩）の製造を示す。方程式（５）はスクロー
ス配位錯体（方程式３で製造）の、アシルアンモニウム
錯合体（方程式４で製造）との反応によるスクロース−
６−アセテート及び使用済みの（即ちスクロースに最早
や錯化しない）ジスタノキサンジアセテートの生成を示
す。方程式（６）は遊離の（及び未だに反応していない
）スクロースの使用済みＤＳＤＡとの反応による新しい
ジスタノキサン−スクロース配位錯体の製造を示す。

【００３８】上述の２組の方程式は種々の反応成分間に
存在する相互関係を高度に単純化して表示しているにす
ぎない。しかしながらこれらの方程式は、それが反応の
化学量論量を規定し且つジスタノキサンジエステル成分
の触媒の性質を示すという点で教示的である。また全く
重要なことに、方程式（３）〜（６）は、高度に反応活
性化されたアンモニウムアシル化錯合体の一般化及び有
用性も示す。異常に速いアシル化速度を与え、またアミ
ン促進のアシル化反応を連続法で実施することを適当な
らしめるのはこの種の存在による。

【００３９】本発明はいくつかの異なった、但し極く関
連した手法のいずれかで実施することができる。第一に
、有機スズ触媒をアミン促進剤の有無下に使用する本発
明の実施に関して、最初の方法は単にスクロース及び必
要量のＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ触媒を（普通必要ならば穏やか
に加熱して）極性の中性溶媒に溶解し、次いでこの溶液
を室温又はそれより僅かに高温でカルボン酸無水物で処
理することを含む。アシル化の完結後、溶液を少量の水
で処理し、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏを再使用のために抽出によ
って回収する。この時点で主にＳ−６−Ｅ及びそれより
少い量の他のスクロースモノエステル、スクロースジエ
ステル、及び残存スクロースを、極性中性溶媒、カルボ
ン酸、及び水からなる反応媒体中に含むアシル化生成物
混合物から（例えば真空蒸留によって）カルボン酸を除
去し且つ乾燥し、そして上述したウォーカップらの特設
の教示に従って塩素化に供し、スクロース−６−エステ
ル（ＴＧＳ−６−Ｅ）を製造することができる。

【００４０】本発明のこの実施法は実施例１〜１２に例
示される。例えば実施例５においては、スクロース１．
００モル当量とＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏの０．５０モル当量を
ＤＭＦに７５℃で溶解し、このように調製した溶液を大
気温度まで冷却し、そして無水酢酸１．１０モル当量で
処理する。大気温度で約１８時間撹拌した後、反応溶液
を水で処理し、シクロヘキサンで抽出する（ＤＳＤＡ・
Ｈ２Ｏの回収）。次いでＤＭＦ溶液の部分的蒸発により
、ＨＰＬＣ分析でＳ−６−Ａを６５％の収率で含むシロ
ップを得る。

【００４１】（スクロース基準で）０．１０〜１．００
モル当量の範囲のジエステル触媒の化学量論量比は実験
的に示され、約３５〜約７０％の範囲のＳ−６−Ｅ収率
を与える。実験データは、Ｓ−６−Ｅの収率は触媒の化
学量論量が増加するにつれて上昇する。ＤＳＤＡ・Ｈ２
Ｏ及びジスタノキサン・ジベンゾエート・モノハイドレ
ート（ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ）の双方は、有効な触媒であり
、ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏの方が僅かに良好な性能を有するこ
とが示された。

【００４２】実験で用いた極性の中性溶媒はＤＭＦ及び
Ｎ−メチル−２−ピロリジオン（ＮＭＰ）である。他の
適当な溶媒はジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、及びヘキサメチ
ルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）を含む。反応混合物中に
おけるＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏの濃度が高い場合、これを溶解
して保つために少量（５〜２０容量％）の炭化水素様共
溶媒を添加することが有利である。この目的に対しては
トルエンが挙げられる。他の有用な共溶媒はベンゼン、
混合キシレン、シクロヘキサン、メチルｔｅｒｔ−ブチ
ルエーテル、クロロホルムなどを含む。

【００４３】（スクロース基準で）約１．００〜約４．
００モル当量の範囲のカルボン酸無水物の化学量論量比
は実験的に有用であった。好適な化学量論量比は約１．
１０〜約１．８０モル当量の範囲である。約１．１０モ
ル当量以下の化学量論量比は最終生成物中に望ましくな
い量の未反応のスクロースをもたらし、一方約１．８０
以上の比は望ましくないスクロースモノ及びジエステル
の生成を誘導することがある。

【００４４】約０〜約６０℃の範囲のアシル化反応温度
は実験的に有用であった。アシル化反応温度はアシル化
速度に影響し且つ過度な高温は望ましくないスクロース
エステルの生成を増加させるけれど、温度は本発明の特
に厳密な一面であるとは考えられない。好適なアシル化
温度は約２０〜約４５℃の範囲である。

【００４５】無水酢酸及び無水安息香酸の双方は、効果
的なアシル化剤であることが示された。無水酢酸は僅か
に優れているように見える。これは立体因子又は固有の
反応性、或いは多分これらのある組合せの結果であると
考えられる。種々の他のカルボン酸無水物も本発明の実
施において有効に機能すると予期されよう。

【００４６】ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ触媒のアシル化は、１，
３−ジ−（６−Ｏ−スクロース）置換ジスタノキサンを
含むものよりも一般に実質的に遅い。これは多分スクロ
ースの６−酸素及びスズ原子間の（正常の共有結合以外
の）配位共有結合の存在、並びにスズ原子の周囲の配位
点に対するスクロース及び他の種例えば水、溶媒、及び
カルボン酸間の競争の結果であろう。ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ
触媒のアシル化は、完結までに約２〜約４８時間を必要
とする。このアシル化速度は、触媒の化学量論量（スク
ロースに対して触媒濃度の増加はアシル化速度を速める
）、触媒の活性（例えばＤＳＤＡ・Ｈ２ＯはＤＳＤＢ・
Ｈ２Ｏよりも活性な触媒であるように見える）、無水カ
ルボン酸の反応性（例えば無水酢酸は無水安息香酸より
反応性である）、そして反応温度及び反応種の相対濃度
（これはアシル化が高次反応であるから）を含む多数の
変数に依存する。

【００４７】ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏは上述したバーノンらの
教示に従って再使用のために回収することができる。ア
シル化混合物を少量の水で処理し、そして混合物を炭化
水素例えばトルエン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、
２，２，４−トリメチルペンタン、又はこれらの混合物
、或いはエーテル例えばジエチルエーテル、ジ（ｎ−プ
ロピル）エーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、
などと接触させることによってＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏを本質
的に定量的に抽出する。揮発性の抽出溶媒を例えば真空
蒸発によって除去してＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏを（典型的には
）粘稠な油として得、次いでこれをスクロースと一緒に
極性の中性溶媒に再溶解し、アシル化工程を繰返しても
よい。

【００４８】本発明の第２の実施法は、実施例１３〜１
８で例示されるように、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ触媒を脱水又
は部分的に脱水した反応系で使用することを含む。本発
明のこの方法の実施は、スクロース及びジスタノキサン
ジエステルモノハイドレートを、（上述の如き）極性の
中性溶媒及びジスタノキサンジエステルの水和水（及び
湿った反応物又は溶媒の使用で存在するいずれかの水）
のすべて又は一部を共蒸留で除去しうる炭化水素様共溶
媒からなる混合溶媒系にスラリーとすることから始まる
。水の除去後、普通２相の（但し固体を含まない）反応
混合物を、室温又は僅かに室温以上でカルボン酸無水物
で処理する。アシル化の完了後、混合物を少量の水で処
理し、ＤＳＤＥを再使用のために抽出によって回収する
。次いでアシル化生成物混合物を更に処理し（即ち水、
カルボン酸、及び残存抽出溶媒を除去し）、そしてＴＧ
Ｓ−６−Ｅ製造のための塩素化に供する。

【００４９】例えば実施例１６では、１．００モル当量
のスクロース及び１．０５モル当量のＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ
を、ＤＭＦ及びシクロヘキサンの８：３（容量比）混合
物中にスラリーとし、混合物を、還流的に水の除去しう
る装置を備えた反応容器中で激しく６０分間還流させた
。これは元のＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏの水和水を除去した。 次いで固体を含まない反応混合物を大気温度まで冷却し
、１．１０モル当量の無水酢酸で処理し、約１８時間撹
拌した。この後、反応混合物を水で処理し、シクロヘキ
サンで抽出し（ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏを回収し）、そして部
分的に蒸発させて、ＨＰＬＣ分析で収率８２％のＳ−６
−Ａを含むＤＭＦに基づくシロップを得た。（スクロー
ス基準で）０．２５〜１．５０モル当量の範囲の触媒の
化学量論量比は実験的に示され、約５０％〜約８０％以
上のＳ−６−Ｅ収率を与える。実験的データは、Ｓ−６
−Ｅの収率が触媒の化学量論量の増加と共に上昇するこ
とを示す。（これは少くとも一部であるが、増量したＤ
ＳＤＥ触媒が多分配位錯体の生成の結果として、スクロ
ースの２相反応媒体への溶解性を高めるという事実によ
ると思われる。）完全に及び部分的に脱水されたＤＳＰ
Ａ・Ｈ２Ｏ及びＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ触媒は有効であること
が判明したが、他のジスタノキサンジエステルも有用で
あると予期される。

【００５０】水和水を共蒸留的に除去しうる共溶媒は、
飽和炭化水素、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素、ケト
ン、及びエーテルを含む。本発明の共溶媒としては広範
な溶媒が使用に適しているようである。共溶媒に対する
主な基準は、それが極性の中性溶媒、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ
、及びスクロースと、約７５〜約１２５℃の範囲の内部
反応温度で還流する混合物を生成すること、それがＤＳ
ＤＥ・Ｈ２Ｏの水和水と共蒸留すること、及びそれが主
要な反応生成物（例えばスクロース）を不溶性にしない
ことである。

【００５１】水と混和しない且つ水と一定の組成の最小
沸点の共沸物を形成する溶媒は好適であるが、共溶媒が
本発明の実施における有効な共溶媒であるためには、水
と一定組成で一定沸点の共沸物を生成することを必ずし
も必要としない。共溶媒が水と混和しないということも
必ずしも必要でない。共溶媒は反応媒体から水和水を共
蒸留しうることだけが必要である。

【００５２】化学的な安定性、水の除去効率、価格、及
び沸点の理由から好適な共溶媒は、シクロヘキサン、ｎ
−ヘプタン、及びイソオクタン（２，２，４−トリメチ
ルペンタン）を含む。好適な脱水温度は約８５〜約１０
５℃の温度である。約８５℃以下の温度は不必要に遅い
脱水となり、一方約１０５℃以上の温度は分解をもたら
すことがある。

【００５３】反応温度は典型的には極性の中性溶媒とそ
れより低沸点の共溶媒の比を調節することによって実験
的に制御される。本発明に対しては約１：１〜約１０：
１の溶媒と共溶媒の比（容量による）が有用であると思
われ、約８：５〜約８：１の比が好適である。

【００５４】溶媒と共溶媒の比は実際上の問題で制限さ
れる。共溶媒が多すぎると、スクロースの溶解を妨害す
るであろうし、また合理的な脱水時間に対しては低すぎ
る沸点の混合物を生成しよう。共溶媒が少すぎると、水
が反応混合物から共蒸留する速度を制限し、また炭水化
物種の熱分解を誘導するほど高い脱水温度となろう。本
発明の実施に対しては、広い範囲の固体（ＤＳＤＥ・Ｈ
２Ｏ及びスクロース）と溶媒（極性の中性溶媒及びスク
ロース）の比が有用である。これは、スクロースの部分
的溶解を保証する十分な極性の中性溶媒が存在し及び水
の除去を保証し且つ所望の反応温度を与えるのに十分な
共溶媒が存在するならば本発明の特に厳密な一面とは思
われない。実験では、約１：２〜約１：６の固体／溶媒
比（重量／容量比）が有用であった。より高濃度の系は
経済性及び実施性の理由から好適である。

【００５５】ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ及びスクロースの混合物
の完全な又は部分的な脱水に必要とされる還流時間は、
厳密には系からの共蒸留による水の除去効率の関数であ
る。反応系からの水の除去効率は多くのからみ合う変数
の関数である。大程度まで実験的に制御しうるこれらの
変数は、（ａ）内部反応温度、（ｂ）共溶媒の沸点、（
ｃ）共蒸留物の含水量、（ｄ）系への熱供給速度、（ｅ
）撹拌効率、及び（ｆ）用いる反応器の形、を含む。

【００５６】約０．５〜約８．０時間の完全な又は部分
的な反応混合物の脱水時間は実験的に有用であることが
わかった。還流期間は、所望の量の水が系から共蒸留さ
れた時に終了する。これは普通カール・フィッシャー法
を用いる留出物の水分析により決定される。水の除去は
普通存在する全量の約５０〜約１２０％であり、スクロ
ースとＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ触媒の化学量論比の関数である
ように見える。

【００５７】存在する触媒の相対量が増大するにつれて
、反応混合物を完全に脱水するのはますます難しくなる
。例えばスクロース及び０．５０モル当量のＤＳＤＡ・
Ｈ２Ｏの、ＤＭＦ−シクロヘキサン溶媒系中混合物から
は水の全量の９６％が共蒸留によつて除去できるが、Ｄ
ＳＤＡ・Ｈ２Ｏを１．０５モル当量含有する本質的に同
一の系からは存在する水の全量の６２％が除去できるに
すぎない。（この挙動は多分ヒドロキシル基に必要なス
ズに基づく配位点と関係する。ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ　１モ
ル当りスクロース約２モルの比が、完全な脱水を達成し
うる前に達成されねばならない。）部分的に脱水された
反応系例えば後者の例は、スクロースの過度な分解を引
き起こすことなしに更に脱水することは困難である。前
節に記述した変数を適切に調節することにより、典型的
には１〜２時間の全体で必要とされる脱水時間が実験的
に達成しうる。

【００５８】水の除去の完了後、通常２相の（但し固体
を含まない）反応混合物を凡そ室温まで冷却し、本発明
の実施の第１法に対して上述した如くアシル化を行う。 ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ触媒の回収及び再使用、並びにＳ−６
−ＥのＴＧＳ−６−Ｅへの転化も上述したように容易に
行うことができる。

【００５９】第３の実施法は、ナビア及びニーディッチ
らの基本的な化学を、ナビアの方法に対する１，３−ジ
（ヒドロカルビロキシ）−１，１，３，３−テトラ（ヒ
ドロカルビス）ジスタノキサン及びニーディッチらの方
法に対するジ（ヒドロカルビル）スズオキシドである関
連する反応性有機スズ中間体の（スクロースに対して）
化学量論的に不十分な量と組合せて利用することを含む
。 両方法の場合、本発明の教示によれば、（アシル化に対
して）反応性の１，３−ジ−（６−Ｏ−スクロース）−
１，１，３，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキ
サンを、実質的に無水の極性で中性環境中において、遊
離の（即ちスズに共有結合してない）スクロースの存在
下に生じさせる。僅かに化学量論的過剰量（スクロース
基準）のアシル化剤との反応により、最初に共有結合し
た有機スズ−スクロース付加物を反応させてＳ−６−Ｅ
及びＤＳＤＥを生成せしめ、次いで存在する遊離のスク
ロースをＤＳＤＥ触媒でアシル化する。ここにニーディ
ッチらの方法の実施の場合には、さもなければ化学量論
的に十分な量のＤＨＴＯであるものから必要とされる１
モル以下の水（ＤＨＴＯ基準）を（共蒸留によつて）除
去することにより反応性ＤＨＴＯの化学量論的な不十分
さを作ることができる。

【００６０】本発明のこの実施法は実施例１９〜２４で
例示される。例示のために実施例２２では１．０モル当
量のスクロースを、還流するヘプタン−ＤＭＦ混合物中
において４時間、０．５０モル当量のジオクチルスズオ
キシド（ＤＯＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ）で処理した。この時
点で０．５０モル当量の遊離のスクロース及び０．２５
モル当量の１，３−ジ−（６−Ｏ−スクロース）−１，
１，３，３−テトラオクチルジスタノキサンを含む無水
の反応混合物を、約５℃まで冷却し、１．１０モル当量
の無水酢酸で処理し、次いで１，３−ジアセトキシ−１
，１，３，３−テトラオクチルジスタノキサン・１水和
物（ＯＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ）の抽出後にＳ−６−Ａを８１
％の収率で得た。

【００６１】本発明の第３法の実施法は、前述したアシ
ル化反応時間及び遊離のスクロースの溶解性に関する記
述を除いて、ナビア及びニーディッチらの示した記述に
従う。ニーディッチらの方法の概略はその実施例に従つ
て本明細書に包含される。

【００６２】次の表は、ＤＳＤＥ触媒をアミン促進剤な
しに用いる本発明の一面を例示する最初の２４の実施例
に対する実験的な詳細及び収率を要約する。

【００６３】

【表１】

【００６４】

【表２】

【００６５】１　実施例、２　用いた有機スズ試剤、Ｄ
ＳＤＡは１，３−ジアセトキシ−１，１，３，３−テト
ラブチルジスタノキサンを示す。ＤＳＤＢは１，３−ジ
ベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラブチルジスタ
ノキサンを示す。ＯＤＳＤＡは１，３−ジアセトキシ−
１，１，３，３−テトラオクチルジスタノキサンを示す
。ＤＢＴＯはジブチルスズオキシドを示す。ＤＯＴＯは
ジオクチルスズオキシドを示す。３　スクロース基準で
用いたオクチルスズ試剤の当量。４　ＤＭＦはＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミドである。ＮＭＰはＮ−メチル−２
−ピロリドンである。５　Ｃ７Ｈ８はトルエンである。 Ｃ６Ｈ１２はシクロヘキサンである。Ｃ７Ｈ１６はｎ−
ヘプタンである。Ｃ８Ｈ１８はイソオクタンである。６
　製造されたスクロース−６−エステル。Ａはアセテー
トであり、Ｂはベンゾエートである。７　反応混合物の
脱水に用いた時間（時）。８　反応混合物の脱水に用い
た温度（℃）。９　反応混合物の脱水中に生成する全水
％（カールフィッシャー法）。１０　精製したシロップ
のＨＰＬＣ分析により決定した収率モル％及び回収率％
。１１　スクロース−６−エステルの収率％。１２　他
のスクロースモノエステルの収率％。１３　スクロース
ジエステルの収率％。１４　未反応のスクロースの回収
％。

【００６６】

【実施例】実施例１ ０．２５当量のジスタノキサンアセテートを用いるスク
ロース−６−アセテートの製造 機械的撹拌機、温度計、及びアルゴン導入口を上部にも
つ６０ｍｌの滴下濾斗を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸
底フラスコに、スクロース６８．５ｇ（２００ミリモル
）、ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　３０．６ｇ（５０．０ミリモル
）、及びＤＭＦ５００ｍｌを仕込んだ。懸濁液を７５℃
（内部温度）に１０分間加熱し、得られた透明な溶液を
室温まで冷却し、そしてＤＭＦ５０ｍｌに溶解した無水
酢酸２２．５ｇ（２２０ミリモル）で１５分間にわたっ
て滴々に処理した。この無水物の添加は穏やかな（５℃
以下の）発熱をもたらした。

【００６７】Ｓ−６−Ａ（Ｒｆ０．４）の生成及びスク
ロース（Ｒｆ０．２）の消失をシリカゲルのＴＬＣ（Ｃ
ＨＣｌ３−ＣＨ３ＯＨ−Ｈ２Ｏ、１５：１０：２；５％
エタノール性Ｈ２ＳＯ４噴霧で炭化）により追跡した。 アルゴン下、室温で終夜撹拌した後、反応混合物を水（
５０ｍｌ）で処理し、シクロヘキサン（２×５００ｍｌ
）で抽出してＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏを除去し、そしてＤＭＦ
を蒸発（回転蒸発機、機械ポンプでの真空、３０℃の水
浴）させて淡黄色のシロップを得た。これはＨＰＬＣ分
析によるとスクロース−６−アセテート４２．７ｇ（１
１１ミリモル、収率５５．６％）を含んだ。

【００６８】実施例２ ０．２５当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−ベンゾエートの製造 アシル化のために無水安息香酸４９．８ｇ（２２０ミリ
モル）を用いて実施例１の実験を繰返した。スクロース
−６−ベンゾエート（Ｓ−６−Ｂ、Ｒｆ０．５）の生成
は同一のＴＬＣ系を用いて監視した。３日間撹拌後、反
応物を処理し、ＴＬＣ分析によるとスクロース−６−ベ
ンゾエートを４０．６ｇ（９０．９ミリモル、収率４５
．４％）含有する粘稠な油を得た。

【００６９】実施例３ ０．２５当量のジスタノキサンジベンゾエートを用いる
スクロース−６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　３７．１ｇ（５０．０ミリモル）を
触媒として用いて、実施例２の実験を繰返した。アルゴ
ン下に室温で３日間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰ
ＬＣ分析によるとスクロース−６−ベンゾエート３６．
８ｇ（８２．５ミリモル、収率４１．３％）を含むシロ
ップを得た。

【００７０】実施例４ ０．２５当量のジスタノキサンジベンゾエートを用いる
スクロース−６−アセテートの製造 スクロース３４．２ｇ（１００ミリモル）、ＤＳＤＢ・
Ｈ２Ｏ　１８．６ｇ（２５．０ミリモル）、ＤＭＦ２５
０ｍｌ、及び無水酢酸１１．２ｇ（１１０ミリモル）を
用いて実施例１の実験を繰返し、ＨＰＬＣ分析によると
スクロース−６−アセテート２１．０ｇ（５４．６ミリ
モル、収率５４．６％）を含有する粘稠な油を得た。

【００７１】実施例５ ０．５０当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−アセテートの製造 ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　６１．２ｇ（１００ミリモル）を用
いて実施例１の実験を繰返した。アルゴン下に室温で２
０時間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析によ
るとスクロース−６−アセテート４９．８ｇ（１３０ミ
リモル、収率６４．８％）を含むシロップを得た。

【００７２】実施例６ ０．５０当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−ベンゾエートの製造 無水安息香酸４９．８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化
に用いて実施例５の実験を繰返した。アルゴン下に室温
で２日間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析に
よるとスクロース−６−ベンゾエート５６．３ｇ（１２
６ミリモル、収率６３．０％）を含む粘稠な油を得た。

【００７３】実施例７ ０．７５当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−アセテートの製造 ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　９１．８ｇ（１５０ミリモル）を用
いて実施例１の実験を繰返した。アルゴン下に室温で終
夜撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析によると
スクロース−６−アセテート５３．６ｇ（１４０ミリモ
ル、収率６９．８％）を含むシロップを得た。

【００７４】実施例８ ０．７５当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−ベンゾエートの製造 無水安息香酸４９．８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化
に用いて実施例７の実験を繰返した。アルゴン下に室温
で２日間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析に
よるとスクロース−６−ベンゾエート５８．９ｇ（１３
２ミリモル、収率６６．０％）を含む粘稠な油を得た。

【００７５】実施例９ １．００当量のジスタノキサンアセテートを用いるスク
ロース−６−アセテートの製造 機械的撹拌機、温度計、及びアルゴン導入口を上部にも
つ６０ｍｌの滴下濾斗を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸
底フラスコに、スクロース６８．５ｇ（２００ミリモル
）、ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　１２２ｇ（２００ミリモル）、
及びＤＭＦ５００ｍｌを仕込んだ。懸濁液を８５℃（内
部温度）に１０分間加熱し、得られた透明な溶液を室温
まで冷却し、そしてトルエン５０ｍｌ及びＤＭＦ５０ｍ
ｌに溶解した無水酢酸２２．５ｇ（２２０ミリモル）で
連続的に処理した。この無水物の添加は反応温度を２６
から３０℃まで上昇させた。アルゴン下に室温で２１時
間撹拌した後、反応物を実施例１に記述したように処理
し、ＨＰＬＣ分析によるとスクロース−６−アセテート
５２．７ｇ（１３７ミリモル、収率６８．６％）を含む
シロップを得た。

【００７６】実施例１０ １．００当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−ベンゾエートの製造 無水安息香酸４９．８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化
に用いて実施例９の実験を繰返した。アルゴン下に室温
で２日間撹拌した後、反応物を処理し、ＨＰＬＣ分析に
よるとスクロース−６−ベンゾエート５３．０ｇ（１１
９ミリモル、収率５９．４％）を含む粘稠な油を得た。

【００７７】実施例１１ ０．５０当量の１，３−ジアセトキシ−１，１，３，３
−テトラオクチルジスタノンを用いるスクロース−６−
アセテートの製造 ＤＯＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ　３７．９ｇ（１００ミリモル
）を氷酢酸４００ｍｌに溶解することによりテトラオク
チルジスタノキサンジアセテート・１水和物を調製した
（約１５分必要）。ロータリーエバポレータで処理（水
流アスピレーターでの真空水浴６５℃）することにより
、生成物を淡黄色で粘稠な油として得た。この油をＤＭ
Ｆ５００ｍｌに溶解し、溶液を一部蒸発させ（ロータリ
ーエバポレータ、機械ポンプの真空、水浴３０℃）で残
存する酢酸を除去した（最終容量３００ｍｌ）。収量は
定量的であると推定された（４３．０ｇ、５０．０ミリ
モル）。

【００７８】このテトラオクチル誘導体、スクロース３
４．２ｇ（１００ミリモル）、及び無水酢酸１１．２ｇ
（１１０ミリモル）の上述したＤＭＦ溶液を用いて実施
例１の実験を繰返した。アルゴン下に室温で終夜撹拌し
た後、反応混合物を処理し、ＨＰＬＣ分析によるとスク
ロース−６−アセテート２５．４ｇ（６６．１ミリモル
、収率６６．１％）を含むシロップを得た。

【００７９】実施例１２ ０．５０当量のジスタノキサンジアセテートを用いるス
クロース−６−アセテートの、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン中での製造 ＤＢＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ　５１．６ｇ（２００ミリモル
）を室温で氷酢酸４００ｍｌに溶解することによってＤ
ＳＤＡ・Ｈ２Ｏを製造した（約５分必要）。ロータリー
エバポレータで処理（水流アスピレーターでの真空、水
浴５０℃）することにより、生成物を淡黄色で粘稠な油
として得た。この油をＮＭＰ　７５０ｍｌに溶解し、溶
液を一部蒸発させ（ロータリーエバポレータ、機械ポン
プの真空、水浴５０℃）て残存する酢酸を除去した（最
終容量５００ｍｌ）。収量は定量的であると推定された
（６１．２ｇ、１００ミリモル）。

【００８０】上述したＮＭＰ溶液を用いて実施例５の実
験を繰返した。室温で終夜撹拌した後、反応混合物を処
理し、ＨＰＬＣ分析によるとスクロース−６−アセテー
ト４０．１ｇ（１０４ミリモル、収率５２．２％）を含
むシロツプを得た。

【００８１】実施例１３ ０．２５当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造機械的撹拌
機、温度計、及び還流凝縮器が上部についたディーン−
スターク水分離器を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸底フ
ラスコに、スクロース６８．５ｇ（２００ミリモル）、
ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　３０．６ｇ（５０．０ミリモル）、
ＤＭＦ３５０ｍｌ、及びシクロヘキサン１５０ｍｌを仕
込んだ。このスラリーを還流（反応温度８９℃）下に２
時間加熱した。水分離器の内容物を除去し、無水イソプ
ロパノールに溶解し、そしてカールフィッシャー法によ
り水の分析をした（１．１１ｇ、６１．６ミリモル）。

【００８２】スラリーを約５℃まで冷却し、無水酢酸２
２．５ｇ（２２０ミリモル）で約１０分間滴々に処理し
、そして更に６０分間約５℃で撹拌した。無水物の添加
は穏やかな（５℃以下の）発熱をもたらした。アルゴン
下に室温で終夜撹拌した後、反応混合物を水（５０ｍｌ
）で処理し、シクロヘキサン（２×５００ｍｌ）で抽出
してＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏを除去し、そしてＤＭＦを蒸発（
ロータリーエバポレータ、機械ポンプの真空、水浴３０
℃）させて、ＨＰＬＣ分析によるとスクロース−６−ア
セテート３９．０ｇ（１０２ミリモル、収率５０．８％
）を含む暗褐色の粘稠な油を得た。

【００８３】実施例１４ ０．５０当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造ＤＳＤＡ・
Ｈ２Ｏ　６１．２ｇ（１００ミリモル）を触媒として用
いる以外実施例１３の実験を繰返した。脱水温度は９２
℃であった（還流２時間）。処理により、スクロース−
６−アセテート５０．９ｇ（１３２ミリモル、収率６６
．３％）を含むシロップを得た。

【００８４】実施例１５ ０．７５当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造ＤＳＤＡ・
Ｈ２Ｏ　９１．８ｇ（１５０ミリモル）を触媒として用
いる以外実施例１３の実験を繰返した。脱水温度は９２
℃であった（還流１．５時間）。処理により、スクロー
ス−６−アセテート５１．９ｇ（１３５ミリモル、収率
６７．６％）を含むシロップを得た。

【００８５】実施例１６ １．０５当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造機械的撹拌
機、温度計、及び還流凝縮器が上部についたデイーン−
スターク水分離器を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸底フ
ラスコに、スクロース６８．５ｇ（２００ミリモル）、
ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　１２９ｇ（２１０ミリモル）、ＤＭ
Ｆ４００ｍｌ、及びシクロヘキサン１５０ｍｌを仕込ん
だ。このスラリーを還流（反応温度９５℃）下に加熱し
、そして得られる固体を含まない混合物を６０分間還流
させた。水分離器の内容物を除去し、無水イソプロパノ
ールに溶解し、そしてカールフィッシャー法により水を
分析した（２．３２ｇ、１．２９ミリモル）。

【００８６】固体を含まない混合物を約２０℃まで冷却
し、無水酢酸２２．５ｇ（２２０ミリモル）で約３分間
にわたり滴々に処理した。無水物の添加中、必要に応じ
て氷浴で冷却して反応温度を２５℃以下に保った。終夜
室温で撹拌した後、反応混合物を実施例１１に記述した
ように処理して、ＨＰＬＣ分析によるとスクロース−６
−アセテート６２．９ｇ（１６４ミリモル、収率８２．
０％）を含むシロップを得た。

【００８７】実施例１７ １．０５当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−ベンゾエートの製造無水安息
香酸４９．８ｇ（２１０ミリモル）をアシル化に用いて
実施例１６の実験を繰返した。脱水温度は９５℃であっ
た（還流６０分）。処理により、スクロース−６−ベン
ゾエート６５．９ｇ（１４８ミリモル、収率７３．８％
）を含むシロップを得た。

【００８８】実施例１８ １．５０当量のジスタノキサンジアセテートを脱水と共
に用いるスクロース−６−アセテートの製造スクロース
３４．２ｇ（１００ミリモル）、ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　９
１．８ｇ（１５０ミリモル）、ＤＭＦ　４００ｍｌ、イ
ソオクタン１５０ｍｌ、及び無水酢酸１１．２ｇ（１１
０ミリモル）を用いて実施例１６の実験を繰返した。反
応温度は１０７℃であった（還流４５分間）。処理によ
り、スクロース−６−アセテート３１．２ｇ（８１．１
ミリモル、収率８１．１％）を含むシロップを得た。

【００８９】実施例１９ ０．２５当量のジブチルスズオキシドを脱水と共に用い
るスクロース−６−ベンゾエートの製造機械的撹拌機、
温度計、及び還流凝縮器が上部についたディーン−スタ
ーク水分離器を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸底フラス
コに、スクロース６８．５ｇ（２００ミリモル）、ＤＢ
ＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ　１２．９ｇ（５０．０ミリモル）
、ＤＭＦ　４００ｍｌ、及びｎ−ヘプタン２００ｍｌを
仕込んだ。このスラリーを還流（反応温度９８℃）下に
６時間加熱した。水分離器の内容物を除去し、無水イソ
プロパノールに溶解し、そしてカールフィッシャー法に
より水の分析をした（１．３６ｇ、７５．８ミリモル）
。

【００９０】スラリーを約５℃まで冷却し、氷冷したＤ
ＭＦ　５０ｍｌに溶解した無水安息香酸４９．８ｇ（２
２０ミリモル）で１０分間にわたって滴々に処理し、更
に６分間約５℃で撹拌した。アルゴン下に室温で終夜撹
拌した後、反応混合物を濾過して未溶解のスクロースを
除去し、水（５０ｍｌ）で処理し、シクロヘキサン（２
×５００ｍｌ）で抽出してＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏを除去し、
ＤＭＦを蒸発（ロータリーエバポレータ、機械ポンプの
真空、水浴３０℃）させて、ＨＰＬＣによるとスクロー
ス−６−ベンゾエート３９．２ｇ（８７．８ミリモル、
収率４３．９％）を含むシロップを得た。

【００９１】実施例２０ ０．５０当量のジブチルスズオキシドを脱水と共に用い
るスクロース−６−ベンゾエートの製造ＤＢＴＯ・１／
２Ｈ２Ｏ　２５．８ｇ（１００ミリモル）を用いて実施
例１９の実験を繰返した。反応温度は９９℃であった（
還流６時間）。直ぐ前の実験に比べて、この反応混合物
は還流及びベンゾイル化期間中固体がなかつた。処理に
より、スクロース−６−ベンゾエート７５．５ｇ（１６
９ミリモル、収率８４．７％）を含むシロップを得た。

【００９２】実施例２１ ０．５０当量のジブチルスズオキシドを脱水と共に用い
るスクロース−６−アセテートの製造 スクロース６８．５ｇ（２００ミリモル）、ＤＢＴＯ・
１／２Ｈ２Ｏ　２５．８ｇ（１００ミリモル）、ＤＭＦ
　４００ｍｌ、シクロヘキサン１００ｍｌ、及び無水酢
酸２２．５ｇ（２２０ミリモル）を用いて実施例１９の
実験を繰返した。脱水温度は９９℃であった。反応は還
流及びアシル化中固体を含まなかった。処理により、ス
クロース−６−アセテート６１．０ｇ（１５９ミリモル
、収率７９．４％）を含むシロップを得た。

【００９３】実施例２２ ０．５０当量のジオクチルスズオキシドを脱水と共に用
いるスクロース−６−アセテートの製造ＤＯＴＯ・１／
２Ｈ２Ｏ　３７．９ｇ（１００ミリモル）及び無水酢酸
２２．５ｇ（２２０ミリモル）を用いて実施例１９の実
験を繰返した。脱水温度は９９℃であった（還流は４時
間）。この反応は還流及びアセチル化を通して固体が存
在しなかった。処理により、ＨＰＬＣ分析でスクロース
−６−アセテート６２．０ｇ（１６１ミリモル、収率８
０．７％）を含むシロップを得た。

【００９４】実施例２３ ０．５０当量のジブチルスズオキシドを脱水なしに用い
るスクロース−６−ベンゾエートの製造磁気撹拌棒及び
アルゴン導入口を備えた５００ｍｌの１つ口丸底フラス
コに、スクロース１７．１ｇ（５０．０ミリモル）、Ｄ
ＢＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ　６．４５ｇ（２５．０ミリモル
）、無水安息香酸１８．１ｇ（８０．１ミリモル）、Ｄ
ＭＦ　２００ｍｌ、及びシクロヘキサン１００ｍｌを仕
込んだ。この混合物を室温で９日間撹拌し、水（２５ｍ
ｌ）で処理し、シクロヘキサン（２×１５０ｍｌ）で抽
出してＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏを除去した。蒸発（ロータリー
エバポレータ、機械ポンプ、水浴３０℃）により、ＨＰ
ＬＣ分析でスクロース−６−ベンゾエート１１．４ｇ（
２５．７ミリモル、収率５１．３％）を含むシロップを
得た。

【００９５】実施例２４ １．００当量のジブチルスズオキシドを脱水なしに用い
るスクロース−６−ベンゾエートの製造ＤＢＴＯ・１／
２Ｈ２Ｏ　１２．９ｇ（５０．０ミリモル）を用いて実
施例２３の実験を繰返した。９日間撹拌した後処理する
ことにより、スクロース−６−ベンゾエート１６．３ｇ
（３６．５ミリモル、収率７３．０％）を含むシロップ
を得た。

【００９６】実施例２５ １．００当量の再循環されたジスタノキサンジアセテー
トを脱水なしに用いるスクロース−６−アセテートの製
造 実施例１６で製造したシクロヘキサン抽出物を一緒にし
、５０％飽和水性食塩水で洗浄し、そしてロータリーエ
バポレータ（水流ポンプの真空下、水浴３０℃；次いで
機械ポンプの真空下、水浴４０℃）に供してＤＳＤＡ・
Ｈ２Ｏ１２２．６ｇ（２００ミリモル）を回収した。こ
の粘稠な薄茶色の油をシクロヘキサン１５０ｍｌで処理
し、得られた溶液を実施例１６の反復で使用した。反応
温度は９３℃であった（還流６０分）、処理によりスク
ロース−６−アセテート６０．５ｇ（１５８ミリモル、
収率７８．８％）を含むシロップを得た。

【００９７】実施例２６ ジスタノキサンジエステルの一般的な製造法ＤＢＴＯ・
１／２Ｈ２Ｏ（１０３ｇ、０．４０モル）を、トルエン
又はシクロヘキサン（２００〜４００ｍｌ）中において
酢酸又は安息香酸（２４．１ｇ又は４９．１ｇ、０．４
０モル）と共に還流させ、反応水をディーン−スターク
捕集器で分離した。ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏは溶液で使用する
ことができ、或いは溶媒の除去及び５％水性アセトニト
リル（ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ）２００ｍｌ又は５％水性ＤＭ
Ｆ（ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ）１００ｍｌのいずれかの溶解に
よって結晶化できた。ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏは５７〜８℃の
融点を示し、満足しうる元素分析値を与えた（Ｃ２０Ｈ
４２Ｏ５Ｓｎ２・Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ、３９．３
９；Ｈ、６．８３。実験値：Ｃ、３８．８７；Ｈ、６．
８３）。ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏは９４〜６℃の融点を示し、
そして満足しうる元素分析値を与えた（Ｃ３０Ｈ４６Ｏ
５Ｓｎ２・Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ、４８．５５；Ｈ
、６．５２。実験値、Ｃ、４７．２６；Ｈ、６．２４）
。文献値の融点５８〜６０℃［Ｄ．アレトソン（Ａｌｌ
ｅｔｓｏｎ）ら、Ｊ．ケム・ソク、５４６９（１９６３
）］。

【００９８】アシル化反応を促進させるために３級アミ
ンを用いる場合、本発明は種々の異なつた様式で行うこ
とができる。これらの方法は、部分的に、（ａ）有機ス
ズとして用いるＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏの脱水の程度、（ｂ）
用いる３級アミンの求核性、（ｃ）Ｓ−６−Ｅ生成物に
対して用いる回収法、（ｄ）３級アミン成分に対して用
いる回収及び循環法、及び（ｅ）ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ成分
に対して用いる回収及び循環法、によって異なる。連続
法を含む実施法は好適である。

【００９９】３級アミン促進剤を用いる５つの様式をい
くらか詳細に議論する。これらの５つの実施法は代表例
であり、開示された種々の観点を改変することにより多
くの他の本発明の実施法が開発しうる。これらの２つの
最初の２つは回分法を含み、後者の３つは連続法を含む
。第１の方法は単にスクロース及び必要量のＤＳＤＥ・
Ｈ２Ｏ触媒を極性の中性溶媒に（普通穏やかに加熱して
）溶解し、次いでこのように得た溶液を低沸点（極性の
中性溶媒に対して）の３級アミン及び無水カルボン酸で
室温下に又は僅かに室温以下で連続的に処理することを
含む。アシル化が完了した後、溶液を少量の水で処理し
、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏを再使用のために抽出によって回収
する。この時点で極性の中性溶媒、水、３級アミン、及
びカルボン酸中Ｓ−６−Ｅ（及び少量の他のスクロース
エステル及び残存スクロース）より主になるアシル化生
成物混合物から、（例えば真空蒸発又はカチオン交換樹
脂での処理により）低沸点３級アミン、（例えば真空蒸
発又はアニオン交換樹脂での処理により）カルボン酸、
及び（例えば真空蒸発又は脱水剤での処理により）水を
除去して、Ｓ−６−Ｅが結晶化又は沈殿法によって単離
しうるシロップを製造することができる。他に精製且つ
乾燥したＤＭＦに基づくシロップを塩素化に供して、上
述のウォーカップらの技術に従ってスクラロース−６−
エステルを製造してもよい。

【０１００】本発明のこの実施法は実施例２７及び２８
で例示される。実施例２７においては、例示すると１．
００モル当量のスクロース及び０．５０モル当量のＤＳ
ＤＡ・Ｈ２Ｏを７５℃下にＤＭＦに溶解し、このように
調製した溶液を室温まで冷却し、そしてトルエン、トリ
エチルアミン（１．１０モル当量）、及び無水酢酸（１
．１０モル当量）で処理した。大気温度で３０分間撹拌
した後、反応溶液を水で処理し、シクロヘキサンで抽出
した（ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏの回収）。真空蒸発を用いてト
リエチルアミン、酢酸、水、及びＤＭＦの一部分を除去
して、Ｓ−６−Ａを６４％の収率で含むシロップを得た
。

【０１０１】ＤＳＤＥ触媒の化学量論量、アシル化剤の
性質及び割合、並びに（３級アミン促進剤を用いない本
発明の観点と関連して）上述した極性の中性反応媒体の
性質及び割合は、本発明のアミンで促進された観点にも
当てはまる。ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ及びＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏの
両方が有効な触媒であることが示され、ＤＳＤＢ・Ｈ２
Ｏは本発明のアミンで促進された観点において僅かに良
好な性能を示す。この性能の相違は、より立体障害され
たＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏが３級アミンによって誘導される副
反応に含まれるようになる傾向の減少の結果であるかも
知れない。

【０１０２】反応混合物中のＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏの濃度が
高い場合、少量（５〜２０容量％）の炭化水素様共溶媒
を添加して、それを溶液に保つことは有利である。トル
エンはこの目的に対して有用であることがわかった。他
の有用な共溶媒はベンゼン、混合キシレン、シクロヘキ
サン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、クロロホルム
などを含む。

【０１０３】約１．００〜約１．２５モル当量（スクロ
ース基準）の範囲の化学量論量比の低沸点３級アミンが
用いられる。好適な化学量論量比は約１．０５〜約１．
１０モル当量の範囲にあり、その特別な方法で使用され
る無水カルボン酸のモル当量に等しい。酸無水物よりも
（モル基準で）少い量の３級アミンはアシル化速度をか
なり減少させるであろう。３級アミンを化学量論的過剰
量で用いると、３級アミンによって開始される有機スズ
触媒との副反応が起こる場合収率の低下をもたらしうる
。

【０１０４】アシル化反応温度は、アミン促進剤を使用
しないＤＳＤＥ触媒でのアシル化に関して上述したもの
と同様の温度が使用できる。

【０１０５】無水酢酸及び無水安息香酸の双方は効果的
なアシル化剤であることがわかつた。無水安息香酸は本
発明のアミン促進の観点において優れた収率を与えるよ
うである。これは、無水安息香酸の固有の低い反応性が
副反応を少ししか起こさないからであると思われる。本
発明においては広範な他のカルボン酸無水物が使用でき
る。

【０１０６】本発明のこの実施法では、多種類の低沸点
３級アミンが使用するのに適当である。この成分に対す
る重要な基準は、それが過度な量でＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ触
媒と副反応しないこと（いくつかの３級アミン例えばイ
ミダゾール及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］
ウンデク−７−エンはかなり迅速にこれらの触媒の有用
性を損う）、それが無水カルボン酸と反応してアシルア
ンモニウムで活性化された錯体を生成するのに十分な求
核性を有すること、及びそれが容易に（例えば真空蒸発
により）除去されて固体又は精製されたシロップとして
のＳ−６−Ｅが容易に単離できることである。成功裏に
使用された３級アミンはトリアルキルアミン例えばトリ
メチルアミン（ＴＭＡ）、トリエチルアミン（ＴＥＡ）
、及びジイソプロピルエチルアミン（ＤＥＡ）、及び芳
香族複素環族アミン例えばピリジン及び２，６−ルチジ
ン（２，６−ジメチルピリジン）を含む。他の適当なア
ミンはジエチルメチルアミン、ジメチルエチルアミン、
及びピユリン（メチルピリジン）を含む。好適な３級ア
ミンは、価格及び真空蒸発による除去の容易さの理由で
ＴＭＡ及びＴＥＡを含む。

【０１０７】これらのアミンで促進されたアシル比は１
，３−ジ−（６−Ｏ−スクロース）置換ジスタノキサン
を含むものよりも一般に実質的に速い。これは多分事実
上のアシル化剤であるアシルアンモニウム塩の大きい反
応性の結果である。アミンで促進されたアシル化は完了
するまでに約３〜約６０分間を必要とする。位置選択的
なアシル化の速度は、触媒の化学量論量（スクロースに
対して触媒濃度を増すと、速度が増大する）、触媒の活
性（例えばＤＳＤＡ・Ｈ２ＯはＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏよりも
活性な触媒であるように見える）、用いる３級アミンの
求核性（例えばトリエチルアミンはピリジンよりも求核
性であり、従つてアシルアンモニウム塩をより高濃度で
与え、この結果反応速度が速くなる）、無水カルボン酸
の反応性（例えば無水酢酸は無水安息香酸より反応性で
ある）、並びに反応温度及び反応性種の相対濃度（アシ
ル化が高次過程であるから）を含む多くの変数に依存す
る。ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏは上述したバーノンらの教示に従
つて再使用のために回収することができる。低沸点の３
級アミンは、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏの抽出後の分留法によつ
て回収しうる。例えばＤＳＤＥを含まないＤＭＦに基づ
くＳ−６−Ｅ溶液から、低沸点３級アミン（例えばトリ
エチルアミン、沸点３℃）、水（沸点１００℃）、及び
ＤＭＦ（沸点１５３℃）の一部を（例えば薄膜蒸発機を
用いて）留去して留出物を得、これから３級アミンを精
留によって回収する。他にＤＳＤＥを含まないＤＭＦに
基づくＳ−６−Ｅ溶液を注意深く精留して３級アミンを
回収してもよい。存在するカルボン酸が３級アミンの回
収を妨害する場合には、酸をＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏの抽出後
に適当なアニオン交換樹脂を用いて除去することができ
る。同様に存在する水が無水の３級アミンの回収を妨害
する場合には、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏの抽出後に水を脱水剤
（例えばモレキュラーシーブ）で除去するとよい。

【０１０８】本発明のアミンで促進された観点の第２の
実施法は、実施例２９〜４５で例示するように、脱水さ
れた又は部分的に脱水された反応系でＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ
を使用することを含む。この実施法は、脱水された又は
部分的に脱水された反応条件下に、但しアミン促進剤を
含まないで行われる本発明の実施法に対して前述したも
のと同様にして行われる。アシル化が完了した後、溶液
を少量の水で処理し、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏを再使用のため
に抽出によって回収する。次いでアシル化生成物混合物
を更に処理し（即ち水、３級アミン、カルボン酸、及び
残存する抽出溶媒を除去し、）そしてＳ−６−Ｅを（例
えば結晶化又は沈殿により）固体として単離し、或いは
ＤＭＦに基づくシロップの場合にはこれをスクラロース
−６−エステルの製造のための塩素化に供する。

【０１０９】実施例３６では、例えば１．００モル当量
のスクロース及び１．００モル当量のＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ
を、ＤＭＦ及びシクロヘキサンの４：１（容量比）混合
物中にスラリーとし、そして混合物を、還流式水分離器
を備えた反応容器中で３０分間激しく還流させた。これ
は元のＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏの水和水の４０％を除去した。 次いで固体を含まない反応混合物を大気温度まで冷却し
、そして１．１０モル当量のトリエチルアミン及び１．
１０モル当量の無水酢酸で連続的に処理した。約３０分
間撹拌した後、反応混合物を水で処理し、シクロヘキサ
ンで抽出し（ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏを回収し）、そして（ト
リエチルアミン、水、酢酸、及びＤＭＦの一部を除去す
るために）一部分を蒸発させて、ＨＰＬＣ分析によると
スクロース−６−アセテートを収率８４％で含むシロッ
プを得た。

【０１１０】ＤＳＤＥ触媒の化学量論量比、共溶媒の性
質及び割合、反応温度、脱水工程の反応時間、及びアシ
ル化剤の性質及び割合は、本発明のアミンで促進されて
ない場合の第２の実施法で上述した通りである。

【０１１１】水の除去の終了後、通常２相の（但し固体
を含まない）反応混合物を室温又はそれ以下まで冷却し
、低沸点３級アミンで処理し、次いで本発明のアミンで
促進された観点の第１法に対して上述したようにアシル
化する。ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ触媒及び低沸点３級アミンの
両方の回収及び再使用、Ｓ−６−Ｅの、固体又は精製シ
ロップ形での単離、及びＳ−６−ＥのＴＧＳ−６−Ｅへ
の転化は上述の如く行うことができる。第２法は一般に
第１法で議論した３級アミン及び無水物の化学量論量、
極性の中性溶媒の構造、及びアシル化温度に従う。

【０１１２】第３の実施法は図１として示されるスキー
ムＩに図示される。これは連続法であつて、極性で中性
のアシル化溶媒、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ有機スズ剤の循環抽
出及び脱水の双方のための炭化水素様共溶媒、アシル化
に対する活性化錯体を生じさせるための非揮発性（即ち
極性の中性溶媒よりも実質的に高沸点の）３級アミン、
固体Ｓ−６−Ｅの結晶化（又は沈殿）による単離、ＤＳ
ＤＥ・Ｈ２Ｏ触媒及び非揮発性アミンの双方の回収及び
（単一工程流での）循環、並びにカルボン酸副生物の、
正確な化学量論量の水性水酸化ナトリウムでの抽出によ
る工程流からの除去を含む。この方法で製造される固体
のＳ−６−Ｅはスクラロース−６−エステルへの塩素化
に対して適当である。

【０１１３】本発明のこの実施法は実施例４６によつて
示される。この実施例は、ＤＭＦを極性で中性の溶媒と
して、トルエンを抽出−脱水共溶媒として、ＤＳＤＢ・
Ｈ２Ｏを有機スズ触媒として、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクチ
ルアミン（ＤＭＯＡ、沸点１９５℃）を非揮発性３級ア
ミンとして、無水安息香酸をアシル化剤として使用し且
つＳ−６−Ｂをアセトンから結晶化させる方法の３つの
反復サイクルを詳述する。この方法はスクロース（１．
００モル当量）及びＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（０．６０モル当
量）を約８０℃でＤＭＦに溶解することで始められる。 この溶液を、約９０℃で減圧下にトルエンと共蒸留する
ことによって脱水した。次いで混合物を約２０℃まで冷
却し、続いて約２０℃の反応温度を維持するために冷却
し続けながらＤＭＯＡ（１．１０モル当量）及び無水安
息香酸（１．１０モル当量）で処理した。

【０１１４】短時間撹拌した後、ＤＭＦを（直接の再循
環のために）真空蒸発によつて除去して（ＤＳＤＢ、Ｓ
−６−Ｂ、安息香酸、及びＤＭＣＡを含む）粘稠な油を
得、これをアセトンで処理することによりＳ−６−Ｂが
結晶化する溶液を得た。この炭水化物を濾別し、真空乾
燥した。一方濾液を真空蒸発させて（循環のために）ア
セトンを除去し、（ＤＳＤＢ、安息香酸、及びＤＭＯＡ
を含む）粘稠な油を得、これをトルエン及び１．１０モ
ル当量の水酸化ナトリウムを含む水と接触させた。安息
香酸はナトリウム塩として水性相に定量的に抽出され、
一方ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ及びＤＭＯＡは炭水化物相に残っ
た。（実施例では、水性安息香酸ナトリウム溶液を捨て
た。商業的運転においては、この塩を回収し、無水安息
香酸へ再転化するであろう。）次いでトルエンを（循環
のために）真空蒸発によって除去し、それぞれ原子吸光
分光法及びガスクロマトグラフィーで定量化されるＤＳ
ＤＢ及びＤＭＯＡからなる比較的無水の粘稠な油を得た
。分析した油のトルエン溶液を、続いてスクロース、Ｄ
ＭＦ、及び補充ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏで処理し、そして補充
ＤＭＯＡを工程の適当な部分で添加しつつ工程を繰返し
た。実施例４６はこの方法の３回の連続的なサイクルを
示し、単離されたＳ−６−Ｂの収率は平均７１．５％及
び平均純度は（ＨＰＬＣ分析で）９２．７％であった。 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏの回収率は９６．７％であり、またＤ
ＭＯＡの回収率は平均９０．９％であった。

【０１１５】スキームＩの方法は、本発明のアミンで促
進された観点の第１法の議論で示した有機スズ試剤、３
級アミン、及び無水物の化学量論量、触媒及び極性で中
性の溶媒の構造、並びに反応温度に対する基準に一般に
従う。またスキームＩの方法は、本発明のアミンで促進
された観点の第２法の議論で示した脱水共溶媒の使用に
関する基準に従う。ここにスキームＩの方法は、適当な
Ｓ−６−Ｅ結晶化溶媒が使用されるならば無水安息香酸
以外の無水物を用いても行いうることを付記する。

【０１１６】ＤＭＯＡ、２，４，６−コリジン（２，４
，６−トリメチルピリジン、沸点１７１℃）、及びＮ，
Ｎ−ジメチルドデシルアミン（ＤＭＤＡ、沸点１１０℃
／３ｍｍＨｇ）はスキームＩの方法を実施するのに有効
であることがわかった。多くの種類の他の高沸点３級ア
ミン例えばトリ−ｎ−ブチルアミン（沸点２１６℃）、
トリ−ｎ−オクチルアミン（沸点３６５℃）、及びＮ−
メチルジ−ｎ−オクチルアミン（沸点１６２℃／１５ｍ
ｍＨｇ）も本方法の非揮発性３級アミンとして使用しう
る。

【０１１７】本発明の第４の実施法は図２に示されるス
キームＩＩで図示される。これは極性で中性のアシル化
溶媒、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ有機スズ剤の循環抽出及び脱水
の双方に対する炭化水素様共溶媒、アシル化に対する活
性化錯体を生じさせるための揮発性（即ち極性の中性溶
媒よりも実質的に低沸点の）３級アミン、固体Ｓ−６−
Ｅの結晶化（又は沈殿）による単離、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ
触媒の回収及び循環、並びにカルボン酸副生物の、正確
な化学量論量の水性水酸化ナトリウムでの抽出による工
程流からの除去を含む。この方法で製造される固体のＳ
−６−Ｅはスクラロース−６−エステルへの塩素化に対
して適当である。

【０１１８】本発明のこの実施法は実施例４７によって
示される。この実施例は、ＤＭＦを極性で中性の溶媒と
して、トルエンを抽出−脱水共溶媒として、ＤＳＤＢ・
Ｈ２Ｏを有機スズ触媒として、トリエチルアミンを揮発
性３級アミンとして、無水安息香酸をアシル化剤として
使用し且つＳ−６−Ｂをアセトンから結晶化させる方法
の５回の反復サイクルを詳述する。この方法はスクロー
ス（１．００モル当量）及びＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（０．６
０モル当量）を約８０℃でＤＭＦに溶解することで始め
られる。この溶液を、約９０℃で減圧下にトルエンと共
蒸留することによつて脱水した。次いで混合物を約２０
℃まで冷却し、続いて約２０℃の反応温度を維持するた
めに冷却し続けながらＴＥＡ（１．１０モル当量）及び
無水安息香酸（１．１０モル当量）で処理した。

【０１１９】短時間撹拌した後、揮発性アミン及びＤＭ
Ｆを真空蒸発によって除去して（これらの２つの反応成
分を分離及び循環することに関しては先の議論を参照の
こと）（ＤＳＤＢ、Ｓ−６−Ｂ、及び安息香酸を含む）
粘稠な油を得、これをアセトンで処理することによりＳ
−６−Ｂが結晶化する溶液を得た。この炭水化物を濾別
し、真空乾燥した。一方濾液を真空蒸発させて（循環の
ために）アセトンを除去し、（ＤＳＤＢ、及び安息香酸
を含む）粘稠な油を得、これをトルエン及び１．１０モ
ル当量の水酸化ナトリウムを含む水と接触させた。安息
香酸はナトリウム塩として水性相に定量的に抽出され、
一方ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏは炭水化物相に残つた。（実施例
では、水性安息香酸ナトリウム溶液を捨てた。商業的運
転においては、この塩を回収し、無水安息香酸へ再転化
するであろう。）次いでトルエンを（循環のために）真
空蒸発によつて除去し、（原子吸光分光法で定量化され
る）ＤＳＤＢからなる比較的無水の粘稠な油を得た。分
析した油のトルエン溶液を、続いてスクロース、ＤＭＦ
、及び補充ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏで処理し、工程を繰返した
。実施例４７はこの方法の５回の連続的なサイクルを示
し、単離されたＳ−６−Ｂの収率は平均７１．９％及び
平均純度は（ＨＰＬＣ分析で）９２．４％であった。 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏの回収率は９７．１％であった。

【０１２０】スキームＩＩの方法は、本発明のアミンで
促進された観点の第１法の議論で示した有機スズ触媒、
３級アミン、及び無水物の化学量論量、有機スズ触媒、
３級アミン及び極性で中性の溶媒の構造、並びに反応温
度に対する基準に一般に従う。またスキームＩＩの方法
は、本発明のアミンで促進された観点の第２法の議論で
示した脱水共溶媒の使用に関する基準に従う。ここにス
キームＩＩの方法は、適当なＳ−６−Ｅ結晶化溶媒が使
用されるならば無水安息香酸以外の無水物を用いても行
いうることを付記する。

【０１２１】第５の実施法は図３として示されるスキー
ムＩＩＩに図示される。これは連続法であって、極性で
中性のアシル化溶媒、ＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏ有機スズ剤の循
環抽出及び脱水の双方に対する炭化水素様共溶媒、アシ
ル化に対する活性化錯体を生じさせるための揮発性（即
ち極性の中性溶媒よりも実質的に低沸点の）３級アミン
、Ｓ−６−Ｅの精製シロップとしての精製、ＤＳＤＥ・
Ｈ２Ｏ成分の回収及び循環、並びに揮発性３級アミン及
びカルボン酸副生物の双方の、蒸留法による工程流から
の除去を含む。この方法で製造されるＳ−６−Ｅシロッ
プはスクラロース−６−エステルへの塩素化に対して適
当である。

【０１２２】本発明のこの実施法は実施例４８によって
示される。この実施例は、ＤＭＦを極性で中性の溶媒と
して、シクロヘキサンを抽出−脱水共溶媒として、ＤＳ
ＤＢ・Ｈ２Ｏを有機スズ触媒として、トリエチルアミン
を揮発性アミンとして、及び無水酢酸をアシル化剤とし
て用いる方法の５回の反復サイクルを記述する。この方
法はスクロース（１．００モル当量）及びＤＳＤＡ・Ｈ
２Ｏ（１．００モル当量）を約８０℃でＤＭＦに溶解す
ることによって始められる。この溶液をシクロヘキサン
で処理し、約９０℃で共蒸留することにより脱水した。 次いで混合物を約２０℃まで冷却し、続いて約２０℃の
反応温度を維持するために冷却し続けながらＴＥＡ（１
．１０モル当量）及び無水酢酸（１．１０モル当量）で
処理した。

【０１２３】短時間撹拌した後、反応混合物を水で処理
し、ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏをシクロヘキサンでの抽出により
回収した。次いで（Ｓ−６−Ａ、酢酸、水、及びＴＥＡ
を含む）ＤＭＦに基づく溶液を減圧下に蒸発させ、揮発
性アミン、水、酢酸、及びＤＭＦの一部分を除去して（
これらの反応成分の分離及び循環に関しては先の議論を
参照のこと）、シロップを得、これをそれぞれＨＰＬＣ
及びガスクロマトグラフィーによりＳ−６−Ａ及びＤＭ
Ｆ含量を分析した。次いでシクロヘキサンを（循環のた
めに）一緒にした抽出物から除去し、ＤＳＤＡ（原子吸
光分光法で分析）からなる比較的無水の粘稠な油を得た
。分析した油のシクロヘキサン溶液を続いてスクロース
、ＤＭＦ、及び補充ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏで処理し、そして
工程を繰返した。実施例２２はこの方法の５つの連続的
なサイクルを示し、シロップＳ−６−Ａは平均７９．０
％の収率であった。ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏの回収率は平均９
８．８％であった。

【０１２４】スキームＩＩＩの方法は、上述した有機ス
ズ試剤、３級アミン、及び無水物の化学量論量、有機ス
ズ試剤、３級アミン及び極性で中性の溶媒の構造、並び
にアシル化温度に対する基準に一般に従う。またスキー
ムＩＩＩの方法は、本発明のアミンで促進された観点の
第２法の議論で示した脱水共溶媒の使用に関する基準に
従う。更にスキームＩＩＩの方法は、上述したバーノン
らの記述するＤＳＤＥ・Ｈ２Ｏの抽出及び循環に関する
基準に一般に従う。ここに式ＩＩＩの方法は、工程流か
ら副生物を除去するために適当な方法（例えば抽出、続
く中和、或いはアニオン交換樹脂の使用）を利用するな
らば非揮発性のカルボン酸副生物を与える無水物を用い
ても行いうることを付記する。

【０１２５】下表は実施例２７〜４５に対する実験の詳
細と収率を要約する。

【０１２６】

【表３】

【０１２７】

【表４】

【０１２８】１　実施例、２　用いた有機スズ試剤、Ｄ
ＳＤＡは１，３−ジアセトキシ−１，１，３，３−テト
ラブチルジスタノキサンを示す。ＤＳＤＢは１，３−ジ
ベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラブチルジスタ
ノキサンを示す。ＯＤＳＤＡは１，３−ジアセトキシ−
１，１，３，３−テトラオクチルジスタノキサンを示す
。３　スクロース基準で用いたオクチルスズ試剤の当量
。４　ＤＭＦはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。 ＮＭＰはＮ−メチル−２−ピロリドンである。５　Ｃ７
Ｈ８はトルエンである。 Ｃ６Ｈ１２はシクロヘキサンである。Ｃ７Ｈ１６はｎ−
ヘプタンである。６　製造されたスクロース−６−エス
テル。Ａはアセテートであり、Ｂはベンゾエートである
。７　反応混合物の脱水に用いた時間（分）。８　反応
混合物の脱水中に生成する存在する全水の％（カールフ
ィシャー法）。９　用いた３級アミン。ＴＥＡはトリエ
チルアミンである。ＰＹＲはピリジンである。ＤＥＡは
ジイソプロピルエチルアミンである。ＬＵＴは２，６−
ルチジンである。ＴＭＡはトリメチルアミンである。Ｄ
ＭＤＡはＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンである。ＤＭ
ＯＡはＮ，Ｎ−ジメチルオクチルアミンである。ＣＯＬ
Ｌは２，４，６−コリジンである。１０　生成したシロ
ップ（実施例２７〜４０）又は単離した固体（実施例４
１〜４５）のＨＰＬＣ分析により決定した収率モル％及
び回収率％。１１　スクロース−６−エステルの収率％
。１２　他のスクロースモノエステルの収率％。１３　
スクロースジエステルの収率％。１４　未反応のスクロ
ースの回収％。

【０１２９】実施例２７ トリエチルアミン及び０．５０当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水なしに用いるスクロース−６−アセテ
ートの製造 機械的撹拌機、温度計、及びアルゴン導入口を上部にも
つ６０ｍｌの滴下濾斗を備えた１０００ｍｌの３ツ口丸
底フラスコに、スクロース６８．５ｇ（２００ミリモル
）、ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　６１．２ｇ（１００ミリモル）
、及びＤＭＦ　４５０ｍｌを仕込んだ。このスラリーを
１０分間７５℃（内部温度）まで加熱し、このようにし
て得た透明な溶液を室温まで冷却し、そしてトルエン５
０ｍｌ及びトリエチルアミン２２．３ｇ（２２０ミリモ
ル）で連続的に処理した。次いでこの溶液を、ＤＭＦ５
０ｍｌに溶解した無水酢酸２２．５ｇ（２２０ミリモル
）で１０分間にわたり滴々に処理した。

【０１３０】Ｓ−６−Ａの生成及びスクロースの消失を
シリカゲルのＴＬＣで追跡した。転化は約３０分後に完
結したように見えた。反応混合物を水（５０ｍｌ）で処
理し、シクロヘキサン（２×５００ｍｌ）で抽出してＤ
ＳＤＡ・Ｈ２Ｏを除去し、そしてＤＭＦに基づく溶液を
一部蒸発させて（ロータリーエバポレータ、機械ポンプ
の真空下、水浴３０℃）、ＨＰＬＣ分析によるとスクロ
ース−６−アセテート４９．１ｇ（１２８ミリモル、収
率６４．０％）を含む薄茶色のシロップを得た。 実施例２８ トリエチルアミン及び０．５０当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水なしに用いるスクロース−６−ベン
ゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　７４．２ｇ（１００ミリモル）を有
機スズ試剤として及びＤＭＦ　５０ｍｌに溶解した無水
安息香酸４９．８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化に対
して用いて実施例２７の実験を繰返した。このベンゾイ
ル化は完結までに約６０分間を要した（ＴＬＣ分析）。 処理により、スクロース−６−ベンゾエート６４．７ｇ
（１４５ミリモル、収率７２．５％）を含むシロップを
得た。

【０１３１】実施例２９ トリエチルアミン及び０．５０当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテ
ートの製造 機械的撹拌機、温度計、及び還流凝縮器が上部についた
ディーン−スターク水分離器を備えた１０００ｍｌの３
ツ口丸底フラスコに、スクロース６８．５ｇ（２００ミ
リモル）、ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　６１．２ｇ（１００ミリ
モル）、ＤＭＦ　４００ｍｌ、及びシクロヘキサン１０
０ｍｌを仕込んだ。このスラリーを還流（反応温度９７
℃）下に加熱し、得られた固体を含まない混合物を４５
分間還流させた。水分離器の内容物を除去し、無水イソ
プロパノールに溶解し、そしてカールフィッシャ法によ
って水の分析をした（１．３０ｇ、７２．２ミリモル、
存在する全量の７２．２％）。

【０１３２】固体を含まない混合物を約２０℃まで冷却
し、そしてトリエチルアミン２２．３ｇ（２２０ミリモ
ル）で一部ずつ処理した。このアミンの添加は穏やかな
（約２℃の）発熱をもたらした。次いで反応温度を２５
℃以下に保つために必要に応じて氷浴を用いながら無水
酢酸（２２．５ｇ、２２０ミリモル）を１０分間にわた
って滴下した。反応はＴＬＣによると約１５分間室温で
撹拌した後に完結したようであった。この混合物を実施
例２７に記述したように処理して、ＨＰＬＣ分析による
とスクロース−６−アセテートを５７．７ｇ（１５０ミ
リモル、収率７５．１％）を含むシロップを得た。

【０１３３】実施例３０ トリエチルアミン及び０．２５当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテ
ートの製造 ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ　３０．６ｇ（５０．０ミリモル）を
有機スズ試剤として用いて実施例２９の実験を繰返した
。脱水温度は９２℃であり、生ずる水は存在する全量の
１１６％であった（還流６０分間）。アセチル化及び処
理によりスクロース−６−アセテート４７．６ｇ（１２
４ミリモル、収率６２．０％）を含むシロップを得た。

【０１３４】実施例３１ ピリジン及び０．５０当量のジスタノキサンジアセテー
トを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテートの製
造 ピリジン１７．４ｇ（２２０ミリモル）を３級アミンと
して用いて実施例２９の実験を繰返した。脱水温度は９
９℃であり、生じた水は存在する全量の６６．４％であ
った（還流４５分間）。アセチル化は完結までに約６０
分間を要した（ＴＬＣ分析）。処理によりスクロース−
６−アセテート４６．８ｇ（１２２ミリモル、収率６０
．９％）を含むシロップを得た。

【０１３５】実施例３２ ジイソプロピルエチルアミン及び０．５０当量のジスタ
ノキサンジアセテートを脱水と共に用いるスクロース−
６−アセテートの製造 ジイソプロピルエチルアミン２８．４ｇ（２２０ミリモ
ル）を３級アミンとして用いて実施例２９の実験を繰返
した。脱水温度は１００℃であり、生じた水は存在する
全量の７６．５％であった（還流４５分間）。処理によ
りスクロース−６−アセテート５５．７ｇ（１４５ミリ
モル、収率７２．６％）を含むシロップを得た。

【０１３６】実施例３３ トリエチルアミン及び０．５０当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセ
テートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　７４．２ｇ（１００ミリモル）を有
機スズ試剤として用いて実施例２９の実験を繰返した。 脱水温度は１０２℃であり、生ずる水は存在する全量の
６０．５％であった（還流３０分間）。アセチル化は約
１５分後に完結した（ＴＬＣ分析）。処理によりスクロ
ース−６−アセテート５８．５ｇ（１５２ミリモル、収
率７６．２％）を含むシロップを得た。ＴＬＣ分析によ
るとシロップ中にはスクロース−６−ベンゾエートは検
知できなかつた。

【０１３７】実施例３４ ２，６−ルチジン及び０．５０当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテ
ートの製造 ２，６−ルチジン２３．６ｇ（２２０ミリモル）を３級
アミンとして用いて実施例２９の実験を繰返した。脱水
温度は９９℃であり、生じた水は存在する全量の７８．
２％であった（還流４５分間）。アセチル化は完結まで
に約６０分間を要した（ＴＬＣ分析）。処理によりスク
ロース−６−アセテート５６．０ｇ（１４６ミリモル、
収率７２．９％）を含むシロップを得た。

【０１３８】実施例３５ トリエチルアミン及び０．５０当量のジスタノキサンジ
アセテートを脱水と共に用いるスクロース−６−ベンゾ
エートの製造 アセチル化のために無水安息香酸４９．８ｇ（２２０ミ
リモル）をＤＭＦ５０ｍｌに溶解して用いて実施例２９
の実験を繰返した。脱水温度は９９℃であり、生じた水
は存在する全量の５６．８％であった（還流４５分間）
。ベンゾイル化は完結までに約６０分間を要した（ＴＬ
Ｃ分析）。処理によりスクロース−６−ベンゾエート７
２．９ｇ（１６３ミリモル、収率８１．６％）を含むシ
ロップを得た。

【０１３９】実施例３６ トリエチルアミン及び１．００当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセ
テートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　１４８ｇ（２００ミリモル）を有機
スズ試剤として用いて実施例２９の実験を繰返した。脱
水温度は９９℃であり、生ずる水は存在する全量の１１
６％であった（還流３０分間）。アセチル化及び処理に
よりスクロース−６−アセテート６４．２ｇ（１６７ミ
リモル、収率８３．５％）を含むシロップを得た。

【０１４０】実施例３７ トリエチルアミン及び１．００当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース−６−ベン
ゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　１４８ｇ（２００ミリモル）を有機
スズ試剤として、シクロヘキサン１５０ｍｌを脱水共溶
媒として、及びＤＭＦ　５０ｍｌに溶解した無水安息香
酸４９．８ｇ（２２０ミリモル）をアシル化に用いて実
施例２９の実験を繰返した。脱水温度は９５℃であり、
生じた水は存在する全量の４５．６％であった（還流４
５分間）。ベンゾイル化及び処理により、スクロース−
６−ベンゾエート７７．０ｇ（１７１ミリモル、収率８
６．２％）を含むシロップを得た。実施例３８トリエチ
ルアミン及び０．７５当量のジスタノキサンジベンゾエ
ートを脱水と共に用いるスクロース−６−アセテートの
製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　１１１ｇ（１５０ミリモル）を有機
スズ試剤として用いて実施例２９の実験を繰返した。脱
水温度は１０４℃であり、生ずる水は存在する全量の４
６．８％であった（還流３０分間）。アセチル化及び処
理によりスクロース−６−アセテート６３．８ｇ（１６
６ミリモル、収率８３．０％）を含むシロップを得た。

【０１４１】実施例３９ トリエチルアミン及びＮ−メチル−２−ピロリドン中０
．５０当量の１．３−ジアセトキシ−１，１，３，３−
テトラオクチル−ジスタノキサンを脱水と共に用いるス
クロース−６−アセテートの製造 ＤＯＴＯ・１／２Ｈ２Ｏ　７５．８ｇ（２００ミリモル
）を室温で氷酢酸５００ｍｌに溶解することによってテ
トラオクチルジスタノキサンジアセテートモノハイドレ
ートを製造した（約６０分間必要）。ロータリーエバポ
レータ（水流ポンプの真空、浴４０℃）で処理すること
により、生成物を淡黄色の粘稠の油として得た。この油
をＮＭＰ　５００ｍｌに溶解し、溶液を蒸発（ロータリ
ーエバポレータ、機械ポンプの真空、水浴６５℃）させ
て残存する酢酸を除去した。収量は定量的であると推定
される（８６．０ｇ、１００ミリモル）。

【０１４２】この油をＮＭＰ　４００ｍｌ及びシクロヘ
キサン１５０ｍｌで処理し、実験２９の実験を繰返した
。脱水を１００℃で４５分間行つた。アセチル化及び処
理により、スクロース−６−アセテート４３．０ｇ（１
１２ミリモル、収率５６．０％）を含むシロップを得た
。

【０１４３】実施例４０ ジイソプロピルエチルアミン及び１．００当量のジスタ
ノキサンジベンゾエートを脱水と共に用いるスクロース
−６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　１４８ｇ（２００ミリモル）を有機
スズ試剤として、ｎ−ヘプタン１５０ｍｌを脱水共溶媒
として、ジイソプロピルエチルアミン２８．４ｇ（２２
０ミリモル）を３級アミンとして、及びＤＭＦ　５０ｍ
ｌに溶解した無水安息香酸４９．８ｇ（２２０ミリモル
）をアシル化に用いて実施例２９の実験を繰返した。脱
水温度は１０４℃であり、生じた水は存在する全量の４
０．８％であった（還流３０分間）。ベンゾイル化は完
結するまで約６０分間を要した（ＴＬＣ分析）。処理に
より、スクロース−６−ベンゾエート７７．９ｇ（１７
５ミリモル、収率８７．３％）を含むシロップを得た。

【０１４４】実施例４１ トリメチルアミン及び０．５５当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いる固体のスクロース−６
−ベンゾエートの製造 機械的撹拌機、温度計、及び真空蒸留組立具を備えた１
０００ｍｌの３ツ口丸底フラスコに、スクロース５０．
０ｇ（１４６ミリモル）、ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　５９．６
ｇ（８０．３ミリモル）、及びＤＭＦ　２５０ｍｌを仕
込んだ。スラリーを８０℃（内部温度）まで１０分間加
熱し、このようにして得た透明な溶液をトルエン（１０
０ｍｌ）で処理し、存在する水を約１００ｍｍＨｇ及び
内部温度９０℃での共蒸留により除去した。次いで溶液
を室温まで冷却し、そしてトリメチルアミン（９．４９
ｇ、１６１ミリモル、無水の気体として導入）及び無水
安息香酸（３６．４ｇ、１６１ミリモル）で連続的に処
理した。必要に応じて氷浴での冷却を用いて、無水物の
添加中約２０℃の反応温度を維持した。

【０１４５】室温で約２時間撹拌した後、ＤＭＦ及びＴ
ＭＡをロータリーエバポレータ（機械ポンプの真空下、
水浴３０℃）で除去することにより粘稠な油を得た。こ
れをロータリーエバポレータのフラスコ中において５０
℃下にアセトン２５０ｍｌで処理した。このようにして
得た透明な溶液を室温まで冷却し、Ｓ−６−Ｂの種を入
れ、約６０分間撹拌した。生成物を濾過し、アセトン（
３×５０ｍｌ）で洗浄し、真空乾燥（５０℃／０．５ｍ
ｍＨｇ／１６時間）して、ＨＰＬＣ分析によると９７．
８％スクロース−６−ベンゾエート（４６．９ｇ、１０
５ミリモル、収率７２．０％）からなる灰色がかった固
体４８．０ｇを得た。

【０１４６】実施例４２ トリエチルアミン及び０．６０当量のジスタノキサンジ
ベンゾエートを脱水と共に用いる固体のスクロース−６
−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　６５．０ｇ（８７．６ミリモル）を
有機スズ試剤として及びトリエチルアミン１６．３ｇ（
１６１ミリモル）を３級アミンとして用いて実施例４１
の実験を繰返した。ベンゾイル化及び処理により、ＨＰ
ＬＣ分析によると９２．０％スクロース−６−ベンゾエ
ート（５０．２ｇ、１１３ミリモル、収率７７．１％）
からなる固体５４．６ｇを得た。

【０１４７】実施例４３ Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルアミン及び０．６０当量のジ
スタノキサンジベンゾエートを脱水と共に用いる固体ス
クロース−６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　６５．０ｇ（８７．６ミリモル）を
有機スズ試剤として及びＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミ
ン３４．４ｇ（１６１ミリモル）を３級アミンとして用
いて実施例４１の実験を繰返した。ベンゾイル化及び処
理により（Ｓ−６−Ｂ、ＤＳＤＢ、及びＤＭＤＡを含む
）シロップを得た。これは普通の方法によりアセトンで
処理した後、ＨＰＬＣ分析によると８３．４％スクロー
ス−６−ベンゾエート（３９．１ｇ、８７．６ミリモル
、収率６０．０％）からなる固体４６．９ｇを得た。

【０１４８】実施例４４ Ｎ，Ｎ−ジメチルオクチルアミン及び０．６２当量のジ
スタノキサンジベンゾエートを脱水と共に用いる固体ス
クロース−６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　６７．２ｇ（９０．５ミリモル）を
有機スズ試剤として及びＮ，Ｎ−ジメチルオクチルアミ
ン２５．３ｇ（１６１ミリモル）を３級アミンとして用
いて実施例４１の実験を繰返した。ベンゾイル化及び処
理により（Ｓ−６−Ｂ、ＤＳＤＢ、及びＤＭＯＡを含む
）シロップを得た。これは普通の方法によりアセトンで
処理した後、ＨＰＬＣ分析によると９６．６％スクロー
ス−６−ベンゾエート（４５．７ｇ、１０２ミリモル、
収率７０．１％）からなる固体４７．３ｇを得た。

【０１４９】実施例４５ ２，４，６−コリジン及び０．６２当量のジスタノキサ
ンジベンゾエートを脱水と共に用いる固体スクロース−
６−ベンゾエートの製造 ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ　６７．２ｇ（９０．５ミリモル）を
有機スズ試剤として及び２，４，６−コリジン１９．５
ｇ（１６１ミリモル）を３級アミンとして用いて実施例
４１の実験を繰返した。ベンゾイル化及び処理により（
Ｓ−６−Ｂ、ＤＳＤＢ、及び２，４，６−コリジンを含
む）シロップを得た。これは普通の方法によりアセトン
で処理した後、ＨＰＬＣ分析によると９０．６％スクロ
ース−６−ベンゾエート（４８．６ｇ、１０９ミリモル
、収率７４．５％）からなる固体５３．６ｇを得た。

【０１５０】実施例４６ ジスタノキサンジベンゾエート及びＮ，Ｎ−ジメチルオ
クチルアミンを、有機スズ及びアミンの循環を伴つて用
いる固体のスクロース−６−ベンゾエートの製造直ぐ下
の表に詳述する固体のスクロース−６−ベンゾエートの
３つの連続的な製造を、スクロース（５０．０ｇ、１４
６ミリモル）及びＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（６５．０ｇ、８７
．６ミリモル）を約８０℃でＤＭＦ（２５０ｍｌ）中に
溶解する方法（ここに記述する最初のサイクル）に従つ
て行つた。この反応混合物をトルエン（１００ｍｌ）で
処理し、存在する水を約１００ｍｍＨｇ及び内部温度９
０℃での共蒸留によつて除去した。次いで溶液を室温ま
で冷却し、そしてＤＭＯＡ　２５．３ｇ（１６３ミリモ
ル）及び無水安息香酸３６．３ｇ（１６１ミリモル）で
連続的に処理した。無水物の添加中約２０℃の反応温度
を保つために氷冷浴を使用した。

【０１５１】室温で約１５分間撹拌した後、ＤＭＦをロ
ータリーエバポレータ（機械ポンプの真空、水浴３０℃
）で除去して粘稠な油を得、これをロータリーエバポレ
ータのフラスコ内において約５０℃下にアセトン２５０
ｍｌで処理した。このようにして得た透明な溶液を室温
まで冷却し、Ｓ−６−Ｂの種を植え、２．５時間撹拌し
た。固体の生成物を濾過し、アセトン（３×５０ｍｌ）
で洗浄し、真空乾燥（５０℃／０．５ｍｍＨｇ／１６時
間）して、ＨＰＬＣによりスクロース−６−ベンゾエー
ト含量（純度９６．６％、４５．７ｇ、１０２ミリモル
、収率７０．１％）に関して分析した灰色がかつた固体
（４７．３ｇ）を得た。

【０１５２】一緒にした洗浄液及び結晶化母液を蒸発さ
せ（ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水
浴５０℃）、トルエン（２００ｍｌ）及び水酸化ナトリ
ウム（６．４４ｇ、１６１ミリモル）を含む水（１００
ｍｌ）間に分配させた。層を分離し、（安息香酸ナトリ
ウムを含む）水性部分を捨てた。有機層を蒸発させて（
ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水浴４
０℃）粘稠な油を得、これをトルエン（１００ｍｌ）に
溶解し、そしてＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（６３．０ｇ、８４．
９ミリモル、回収率９６．９％）を原子吸光分光法で、
またＤＭＯＡ（２３．０ｇ、１４６ミリモル、回収率９
０．７％）をガスクロマトグラフィーで分析した。次い
で上述した工程を、トルエン溶液及びＤＭＦ　２５０ｍ
ｌに溶解したスクロース５０ｇを用いて繰返した。

【０１５３】

【表５】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　最初の　　　　　　１回目の　　　　
２回目の　　実験　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　サイクル　　　　サイクル　　　
　サイクル　　スクロース（当量）１　　　　　　　　
　　　　　　　１．００　　　　　　　　１．００　　
　　　　　　１．００　　新しい　ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（
当量）１，２　　　　　　　０．６０　　　　　　　　
０．０２　　　　　　　　０．０２　　循環　ＤＳＤＢ
・Ｈ２Ｏ（当量）１，２　　　　　　　　　０．００　
　　　　　　　０．５８　　　　　　　　０．５８　　
全　ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（当量）１，２　　　　　　　　
　　　０．６０　　　　　　　　０．６０　　　　　　
　　０．６０　　新しい　ＤＭＯＡ（当量）１，３　　
　　　　　　　　　　１．１０　　　　　　　　０．１
０　　　　　　　　０．１０　　循環　ＤＭＯＡ（当量
）１，３　　　　　　　　　　　　　　０．００　　　
　　　　　１．００　　　　　　　　１．００　　全　
ＤＭＯＡ（当量）１，３　　　　　　　　　　　　　　
　　１．１０　　　　　　　　１．１０　　　　　　　
　１．１０　　無水物（当量）１，４　　　　　　　　
　　　　　　　　　１．１０　　　　　　　　１．１０
　　　　　　　　１．１０　　％　収率（単離）５　　
　　　　　　　　　　　　　　　　７０．１　　　　　
　　　７１．４　　　　　　　　７２．９　　ＨＰＬＣ
　純度（％）６　　　　　　　　　　　　　　　　　　
９６．６　　　　　　　　９１．１　　　　　　　　９
０．３ 　　１　モル当量基準のスクロース。２　ＤＳＤＢ・Ｈ
２Ｏは１，３−ジベンジロキシ−１，１，３，３−テト
ラブチルジスタノキサン・１水和物。３　ＤＭＯＡはＮ
，Ｎ−ジメチルオクチルアミン。４　無水物は無水安息
香酸。５　ＨＰＬＣの純度で補正した単離固体生成物の
収率。６　ＨＰＬＣで決定した単離固体生成物の純度。

【０１５４】実施例４７ ジスタノキサンジベンゾエート及びトリエチルアミンを
有機スズ循環物と共に用いる固体のスクロース−６−ベ
ンゾエートの製造 直ぐ下の表に詳述する固体のスクロース−６−ベンゾエ
ートの５回の連続的な製造を、スクロース（５０．０ｇ
、１４６ミリモル）及びＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（６５．０ｇ
、８７．６ミリモル）を約８０℃でＤＭＦ（２５０ｍｌ
）中に溶解する方法（ここに記述する最初のサイクル）
に従って行った。この反応混合物をトルエン（１００ｍ
ｌ）で処理し、存在する水を約１００ｍｍＨｇ及び内部
温度９０℃での共蒸留によって除去した。次いで溶液を
室温まで冷却し、そしてトリエチルアミン（１６．３ｇ
、１６１ミリモル）及び無水安息香酸（３６．３ｇ、１
６１ミリモル）で連続的に処理した。無水物の添加中約
２０℃の反応温度を維持するために必要に応じて氷浴で
の冷却を用いた。

【０１５５】室温で約１５分間撹拌した後、ＤＭＦ及び
ＴＥＡをロータリーエバポレータ（機械ポンプの真空、
水浴３０℃）で除去して粘稠な油を得、これをロータリ
ーエバポレータのフラスコ内において約５０℃下にアセ
トン２５０ｍｌで処理した。このようにして得た透明な
溶液を室温まで冷却し、Ｓ−６−Ｂの種を植え、３．０
時間撹拌した。固体の生成物を濾過し、アセトン（３×
５０ｍｌ）で洗浄し、真空乾燥（５０℃／０．５ｍｍＨ
ｇ／１６時間）して、ＨＰＬＣによりスクロース−６−
ベンゾエート含量（純度９５．３％、４９．４ｇ、１１
１ミリモル、収率７５．７％）に関して分析した灰色が
かつた固体（５１．８ｇ）を得た。

【０１５６】一緒にした洗浄液及び結晶化母液を蒸発さ
せ（ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水
浴３０℃）、トルエン（２００ｍｌ）及び水酸化ナトリ
ウム（６．４４ｇ、１６１ミリモル）を含む水（１００
ｍｌ）間に分配させた。層を分離し、（安息香酸ナトリ
ウムを含む）水性部分を捨てた。有機層を蒸発させて（
ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水浴４
０℃；続いて機械ポンプの真空下、水浴５０℃）、粘稠
な油を得、これをトルエン（１００ｍｌ）に溶解し、そ
してＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（６５．０ｇ、８７．６ミリモル
、回収率１００％）を原子吸光分光法で分析した。次い
で上述した工程を、トルエン溶液及びＤＭＦ　２５０ｍ
ｌに溶解したスクロース５０ｇを用いて繰返した。

【０１５７】

【表６】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　最初の　　１回目の　２回目の　３回目の　４回
目の実験　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　サイクル　サイクル　サイクル　サイクル　サイク
ルスクロース（当量）１　　　　　　　　　　　１．０
０　　　　　１．００　　　　　１．００　　　　　１
．００　　　　　１．００　新しい　ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ
（当量）１，２　　　０．６０　　　　　０．００　　
　　　０．００　　　　　０．０６　　　　　０．０１
循環　ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（当量）１，２　　　　　０．
００　　　　　０．６０　　　　　０．６０　　　　　
０．５４　　　　　０．５９　全　ＤＳＤＢ・Ｈ２Ｏ（
当量）１，２　　　　　　　０．６０　　　　　０．６
０　　　　　０．６０　　　　　０．６０　　　　　０
．６０　ＴＥＡ（当量）１，３　　　　　　　　　　　
　　　　　１．１０　　　　　１．１０　　　　　１．
１０　　　　　１．１０　　　　　１．１０無水物（当
量）１，４　　　　　　　　　　　　　１．１０　　　
　　１．１０　　　　　１．１０　　　　　１．１０　
　　　　１．１０％　収率（単離）５　　　　　　　　
　　　　　　７５．７　　　　　７１．７　　　　　７
１．３　　　　　６７．５　　　　　７３．１ＨＰＬＣ
　純度（％）６　　　　　　　　　　　　　　９５．３
　　　　　８９．８　　　　　９３．７　　　　　９０
．４　　　　　９２．６ 　　１　モル当量基準のスクロース。２　ＤＳＤＢ・Ｈ
２Ｏは１，３−ジベンジロキシ−１，１，３，３−テト
ラブチルジスタノキサン・１水和物。３　ＴＥＡはトリ
メチルアミン。４　無水物は無水安息香酸。５　ＨＰＬ
Ｃの純度で補正した単離固体生成物の収率。６　ＨＰＬ
Ｃで決定した単離固体生成物の純度。

【０１５８】実施例４８ ジスタノキサンジアセテート及びトリエチルアミンを有
機スズの循環と共に用いるスクロース−６−アセテート
のシロップの製造 直ぐ下の表に詳述するスクロース−６−アセテートのシ
ロツプの５回の連続的製造を、スクロース（６８．５ｇ
、２００ミリモル）及びＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ（１２２ｇ、
２００ミリモル）をＤＭＦ（４００ｍｌ）及びシクロヘ
キサン（１５０ｍｌ）の混合物中において、共蒸留的に
水を除去（脱水温度９３℃、存在する全水の６２．５％
を除去）しつつ６０分間還流させる方法（ここでは元の
サイクルと記述）に従って行った。次いで２相の、但し
固体を含まない混合物を２０℃まで冷却し、そしてトリ
エチルアミン（２２．３ｇ、２２０ミリモル）及び無水
酢酸（２２．５ｇ、２２０ミリモル）で連続的に処理し
た。無水物の添加中約２０℃の反応温度を維持するため
に必要に応じて氷浴で冷却した。

【０１５９】室温で約１５分間撹拌した後、反応混合物
を水（５０ｍｌ）で処理し、シクロヘキサン（３×５０
０ｍｌ）で抽出してＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏを除去した。次い
で炭水化物含有の溶液を蒸発させて（ロータリーエバポ
レータ、機械ポンプの真空下、水浴４５℃）、ＨＰＬＣ
分析によるとスクロース−６−アセテート６０．２ｇ（
１５７ミリモル、収率７８．４％）を含む薄茶色のシロ
ップを得た。

【０１６０】一緒にしたシクロヘキサン抽出物を蒸発さ
せ（ロータリーエバポレータ、水流ポンプの真空下、水
浴３０℃）、このようにして得た粘稠な油をシクロヘキ
サン１５０ｍｌに溶解し、そしてＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏを原
子吸光分光法で分析した（１１９ｇ、１９４ミリモル、
回収率９７．２％）。次いでシクロヘキサン溶液及びＤ
ＭＦ　４００ｍｌに溶解したスクロース６８．５ｇを用
いて上述した工程を繰返した。

【０１６１】

【表７】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　最初の　　１回目の　２回目の　３回目の　４回
目の実験　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　サイクル　サイクル　サイクル　サイクル　サイク
ルスクロース（当量）１　　　　　　　　　　　１．０
０　　　　　１．００　　　　　１．００　　　　　１
．００　　　　　１．００新しい　ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ（
当量）１，２　　　１．００　　　　　０．０３　　　
　　０．０１　　　　　０．００　　　　　０．０１循
環　ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ（当量）１，２　　　　　０．０
０　　　　　０．９７　　　　　０．９９　　　　　１
．００　　　　　０．９９全　ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ（当量
）１，２　　　　　　　１．００　　　　　１．００　
　　　　１．００　　　　　１．００　　　　　１．０
０ＴＥＡ（当量）１，３　　　　　　　　　　　　　　
　　１．１０　　　　　１．１０　　　　　１．１０　
　　　　１．１０　　　　　１．１０無水物（当量）１
，４　　　　　　　　　　　　　１．１０　　　　　１
．１０　　　　　１．１０　　　　　１．１０　　　　
　１．１０％　収率（ＨＰＬＣ）５　　　　　　　　　
　　　　　７８．４　　　　　７９．１　　　　　７７
．９　　　　　７９．３　　　　　８０．１ １　モル当量基準のスクロース。２　ＤＳＤＡ・Ｈ２Ｏ
は１，３−ジアセトキシ−１，１，３，３−テトラブチ
ルジスタノキサン・１水和物。３　ＴＥＡはトリエチル
アミン。４　無水物は無水酢酸。５　ＨＰＬＣ分析によ
る生成物シロップ中のＳ−６−Ａの収率。

【０１６２】ニーディッチらの方法を以下に概述する。

【０１６３】この方法は、スクロースを不活性な有機媒
体中においてジ（ヒドロカルビル）スズオキシド例えば
ジブチルスズオキシドと反応させることによって行われ
る。ＤＢＴＯの代りに、スズに結合したヒドロカルビル
基がそれぞれアルキル、シクロアルキル、アリール、又
はアリールアルキル、例えばメチル、エチル、プロピル
、ブチル、オクチル、ベンジル、フエネチル、フェニル
、ナフチル、シクロヘキシル、及び置換フェニルであっ
てよい他のジ（ヒドロカルビル）スズオキシドを用いる
こともできる。好適なヒドロカルビル基は炭素数８まで
のアルキルである。スズオキシドの代りに、それがその
場でジ（ヒドロカルビロキシ）ジスタノキサンを生成す
る限りにおいて、ジ（ヒドロカルビル）スズジアルコキ
シド、ジハライド、ジアシレート、又は他の有機スズ化
合物も使用できる。

【０１６４】ＤＨＴＯ及びスクロースは広い範囲の化学
量論量比で使用しうる。しかしながら約１：１の化学量
論量比は好適である。これは、過剰なスクロースの使用
がＳ−６−Ｅの、スクロース及び望ましくないスクロー
スエステルでの汚れをもたらし、一方過剰なＤＨＴＯの
使用がＳ−６−Ｅ生成物のスクロースジエステルでの汚
れを誘導するからである。最も好適な化学量論量比は、
生成物中にスクロースを殆んどなくさせるためにＤＨＴ
Ｏを（スクロース基準で）非常に僅かに（１〜３％）モ
ル過剰量で使用することである。

【０１６５】ニーディッチらの方法は不活性な有機反応
媒体中で行われる。ここに「不活性な」とは、反応媒体
がスクロース又はＤＨＴＯのいずれかと反応するいずれ
の有機官能基を含まないということを意味する。多くの
場合に、発明の目的を達成するための不活性な有機反応
媒体は、極性の中性溶媒及び共溶媒を含んでなる混合溶
媒系であろう。この極性の中性溶媒はスクロースを溶解
させる目的で使用され、また共溶媒はスクロースとＤＨ
ＴＯの反応で生ずるすべての水を共蒸留的に除去し且つ
更にＤＨＴＯの溶解を促進する目的で使用される。使用
しうる極性の中性溶媒はアシル化工程に関して後述する
ものを含む。ＤＭＦは好適な極性の中性溶媒である。

【０１６６】縮合水を共蒸留的に除去しうる共溶媒は、
塩素化炭化水素例えばクロロホルム、種々の飽和及び芳
香族炭化水素例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、及びトルエン、ケトン例えば
メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン、非環
式及び環式エーテル例えばテトラヒドロフラン、及び記
述する、基準に合う他の不活性な有機液体を含む。この
発明における共溶媒としては非常に広い範囲の有機液体
が適当である。共溶媒に対する主な基準は、（１）　極
性の中性溶媒、ＤＨＴＯ、及びスクロースと混合物を作
り、大気圧下に約７５℃〜約１２５℃の範囲内の内部反
応温度で還流すること、（２）　ＤＨＴＯとスクロース
の縮合によって生ずる水を共蒸留し、これによって反応
中の水の除去を容易にすること、そして（３）　ＤＨＴ
Ｏの反応混合物への溶解を促進し（ＤＨＴＯは普通極性
の中性溶媒中へかなりの程度まで溶解しない）、これに
よってＤＨＴＯとスクロースの反応速度を高めること、
である。

【０１６７】水と混和しない且つ水と一定組成で最小沸
点の共沸物を形成する共溶媒は好適であるが、実験で決
定されるようにそのような共溶媒を用いる反応系は典型
的には水との共沸物の沸点又は純溶媒の沸点よりもかな
り高い温度で還流する。またこれらの系から生ずる留出
物の水−共溶媒組成物がＤＨＴＯ−スクロース縮合期間
を通して一定でないことを示すデータもある。

【０１６８】化学的安定性、水の除去効率、価格、及び
沸点の理由のために好適な共溶媒はシクロヘキサン、ｎ
−ヘプタン、及びイソオクタンを示す。

【０１６９】スクロース及びＤＨＴＯ間の反応は約７５
〜約１２５℃の範囲内の温度で行われる。７５℃以下で
は、反応は不経済的に遅く、また１２５℃以上では、炭
水化物の分解する傾向がある。好適な反応温度は約８０
〜約１００℃、好ましくは約８５〜約９０℃の範囲内で
ある。

【０１７０】スクロースとＤＨＴＯの反応生成物は、下
記の如くアシル化しうる１，３−ジ−（６−Ｏ−スクロ
ース）−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジ
スタノキサンである。

【０１７１】（スクロース基準で）アシル化剤は１モル
当量よりも僅かに（１〜５％）過剰に用いることが好適
である。アシル化反応において使用しうる特別なアシル
化剤の選択は、一部アシル化生成物に意図する用途で決
つてくる。例えばアシル基を、本明細書の最初に議論し
たような人工甘味料の製造の場合のように保護基として
用いるならば、それが安価であり、アシル基が合成の適
当な段階で容易に除去でき、且つアシル化された化合物
がアシル化の除去に先立って受けねばならない反応に対
して安定であるが故に、無水安息香酸又は無水酢酸のよ
うなアシル化剤が使用されよう。Ｓ−６−Ｅが合成の最
終生成物であるならば、用いるアシル化剤はエステル生
成物に対して所望のアシル基を与えるものである。

【０１７２】これらの本質に留意するならば、使用しう
るアシル化剤には、安息香酸及び置換安息香酸（例えば
４−ニトロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸など）
、例えば炭素数２８までのアルカン酸例えば酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、シクロヘキサンカルボン酸、長鎖脂肪
酸、即ち飽和及び不飽和酸、例えばステアリン酸、オレ
イン酸、リノール酸など、更に不飽和酸、例えばアクリ
ル酸及びメタクリル酸、置換酸例えばクロル酢酸、シア
ノ酢酸、フエノキシ酢酸など、及び飽和及び不飽和ジカ
ルボン酸例えばフタル酸、ヌレイン酸、グルタル酸など
である。

【０１７３】アシル化反応は不活性な反応媒体例えばＤ
ＭＦ又は他の極性の中性溶媒例えばＤＭＳＯ、ＮＭＰ、
ＤＭＡ、ＨＭＰＡ、及びスクロースが溶解する他の極性
の中性溶媒中で行われる。ＤＭＦは、安価、比較的低沸
点、及びスクラロースを製造する方法の更なる工程に対
する溶媒としての適合性の理由から、好適な極性の中性
溶媒である。アシル化反応はＳ−６−Ｅ生成物を製造す
るのに十分な温度及び期間において行われる。

【０１７４】無水物が液体ならば、それはスクロース−
有機スズ付加物にそのまま添加でき、或いは不活性な共
溶媒で希釈してもよい。無水物が固体ならば、それは固
体形で添加しても、適当な不活性な溶媒中溶液として添
加してもよい。無水物はすべて一度に添加してもよく、
又はある期間にわたってゆっくり添加してもよい。

【０１７５】無水物の化学量論量はこの発明を成功裏に
行う重要な観点である。あまりに少い無水物を用いると
、残存スクロースで汚れたＳ−６−Ｅ生成物をもたらす
。多すぎる無水物の使用はスクロースジエステル汚染物
を誘導しよう。最も好適な化学量論比は、生成物にスク
ロースが殆んど存在しないことを保証するために無水物
を（スクロース基準で）僅かに（５〜１０％）モル過剰
量で使用する。

【０１７６】０℃以下〜約３０℃のアシル化温度は経験
的に使用される。許容しうるアシル化温度の上限は、望
ましくないスクロースモノエステル及びジエステルの生
成に帰結する熱的に活性化された非位置選択的なアシル
化の開始によって支配される。実際的な立場から、この
温度の制限は酸無水物の反応性の関数である。例えば無
水酢酸が比較的反応性の種であるから、これを用いるア
シル化は普通約２０℃以下で行われる。一方それよりい
くらか反応性の低い無水安息香酸は室温で又は僅かにそ
れ以上でアシル化が行われる。

【０１７７】アシル化反応は穏やかに発熱する。最初の
反応温度及び無水物のジ（ヒドロカルビル）スズ−スク
ロース付加物への付加速度に依存して、熱的に活性化さ
れた非位置選択的アシル化を最小にするために、アシル
化工程を外部から冷却することが必要である。

【０１７８】スクロース付加物のアシル化が完結するの
に要する時間は、反応物の濃度（アシル化は高次反応で
あるから）、アシル化剤の反応性、及び反応混合物の温
度に依存する。実験室では１時間〜数日間が用いられる
けれど、アシル化剤の消費に必要な時間よりも長い反応
時間に延長しても利益はない。これは一般に典型的な条
件下に約１〜約５時間内で完了する。

【０１７９】アシル化反応の生成物はスクロース−６−
エステル及びジスタノキサンジエステルである。

【０１８０】本発明の特徴及び態様は以下の通りである
： １．極性で中性の反応媒体中及び触媒量の１，３−ジア
シロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカルビル）
ジスタノキサンの存在下において、スクロースを、スク
ロース−６−エステルの製造に十分な期間及び温度でア
シル化剤と反応させることを含んでなる方法。

【０１８１】２．１，３−ジアシロキシ−１，１，３，
３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，３
−ジアセトキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカル
ビル）ジスタノキサンである上記１の方法。

【０１８２】３．１，３−ジアシロキシ−１，１，３，
３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，３
−ジベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒドロ
カルビル）ジスタノキサンである上記１の方法。

【０１８３】４．１，３−ジアシロキシ−１，１，３，
３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，３
−ジアシロキシ−１，１，３，３−テトラ（アルキル）
ジスタノキサンである上記１の方法。

【０１８４】５．１，３−ジアセトキシ−１，１，３，
３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，３
−ジアセトキシ−１，１，３，３−テトラ（アルキル）
ジスタノキサンである上記２の方法。

【０１８５】６．１，３−ジベンゾイロキシ−１，１，
３，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１
，３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラ（ア
ルキル）ジスタノキサンである上記３の方法。

【０１８６】７．アルキルがブチル又はオクチルである
上記４、５、又は６の方法。

【０１８７】８．極性の中性媒体がＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドである上記１の方法。

【０１８８】９．アシル化剤が無水カルボン酸である上
記１の方法。

【０１８９】１０．無水カルボン酸が無水酢酸である上
記９の方法。

【０１９０】１１．無水カルボン酸が無水安息香酸であ
る上記９の方法。

【０１９１】１２．１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジアシロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカ
ルビル）ジスタノキサン・１水和物である上記１の方法
。

【０１９２】１３．反応媒体が更に共蒸留によつて水を
除去しうる共溶媒を含み、そして本方法が反応混合物か
ら水を除去するための共蒸留の工程を含む上記１２の方
法。１４．共溶媒が炭化水素、塩素化炭化水素、ケトン
、又はエーテルである上記１３の方法。

【０１９３】１５．共溶媒がトルエン、シクロヘキサン
、ｎ−ヘプタン、又はイソオクタンである上記１３の方
法。

【０１９４】１６．１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジアセトキシ−１，１，３，３−テトラブチルジス
タノキサン、１，３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，
３−テトラブチルジスタノキサン、１，３−ジアセトキ
シ−１，１，３，３−テトラオクチルスタノキサン、又
は１，３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラ
オクチルジスタノキサンであり、反応媒体がＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドであり、そしてアシル化剤が無水酢
酸又は無水安息香酸である上記１の方法。

【０１９５】１７．反応媒体が更にトルエン、シクロヘ
キサン、ｎ−ヘプタン、又はイソオクタンを含有する上
記１６の方法。

【０１９６】１８．極性で中性の反応媒体中及び触媒量
の１，３−ジアシロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒ
ドロカルビル）ジスタノキサン及び３級アミンの存在下
において、スクロースを、スクロース−６−エステルの
製造に十分な期間及び温度でアシル化剤と反応させるこ
とを含んでなる方法。

【０１９７】１９．１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジアセトキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカ
ルビル）ジスタノキサンである上記１８の方法。

【０１９８】２０．１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒド
ロカルビル）ジスタノキサンである上記１８の方法。

【０１９９】２１．１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジアシロキシ−１，１，３，３−テトラ（アルキル
）ジスタノキサンである上記１８の方法。

【０２００】２２．１，３−ジアセトキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジアセトキシ−１，１，３，３−テトラ（アルキル
）ジスタノキサンである上記１９の方法。

【０２０１】２３．１，３−ジベンゾイロキシ−１，１
，３，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが
１，３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラ（
アルキル）ジスタノキサンである上記２０の方法。

【０２０２】２４．アルキルがブチル又はオクチルであ
る上記２１、２２、又は２３の方法。

【０２０３】２５．極性の中性媒体がＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミドである上記１８の方法。

【０２０４】２６．アシル化剤が無水カルボン酸である
上記１８の方法。

【０２０５】２７．無水カルボン酸が無水酢酸である上
記２６の方法。

【０２０６】２８．無水カルボン酸が無水安息香酸であ
る上記２６の方法。

【０２０７】２９．１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジアシロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒドロカ
ルビル）ジスタノキサン・１水和物である上記２９の方
法。

【０２０８】３０．反応媒体が更に共蒸留によつて水を
除去しうる共溶媒を含み、そして本方法が反応混合物か
ら水を除去するための共蒸留の工程を含む上記１８の方
法。３１．共溶媒が炭化水素、塩素化炭化水素、ケトン
、又はエーテルである上記３０の方法。

【０２０９】３２．共溶媒がトルエン、シクロヘキサン
、ｎ−ヘプタン、又はイソオクタンである上記３０の方
法。

【０２１０】３３．１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジアセトキシ−１，１，３，３−テトラブチルジス
タノキサン、１，３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，
３−テトラブチルジスタノキサン、１，３−ジアセトキ
シ−１，１，３，３−テトラオクチルスタノキサン、又
は１，３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラ
オクチルジスタノキサンであり、反応媒体がＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドであり、そしてアシル化剤が無水酢
酸又は無水安息香酸である上記１８の方法。

【０２１１】３４．反応媒体が更にトルエン、シクロヘ
キサン、ｎ−ヘプタン、又はイソオクタンを含有する上
記３３の方法。

【０２１２】３５．３級アミンが極性の中性反応媒体よ
りも高揮発性である上記１８の方法。

【０２１３】３６．３級アミンがトリメチルアミンであ
り、そして極性の中性反応媒体がＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドである上記３５の方法。

【０２１４】３７．３級アミンがトリエチルアミンであ
り、そして極性の中性反応媒体がＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドである上記３５の方法。

【０２１５】３８．３級アミンが極性の中性反応媒体よ
りも低揮発性である上記１８の方法。

【０２１６】３９．３級アミンがＮ，Ｎ−ジメチルオク
チルアミンであり、そして極性の中性反応媒体がＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミドである上記３８の方法。

【０２１７】４０．３級アミンがＮ，Ｎ−ジメチルドデ
シルアミンであり、そして極性の中性反応媒体がＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミドである上記３８の方法。

【０２１８】４１．１，３−ジアシロキシ−１，１，３
，３−テトラ（ヒドロカルビル）ジスタノキサンが１，
３−ジアセトキシ−１，１，３，３−テトラブチルジス
タノキサン、１，３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，
３−テトラブチルジスタノキサン、１，３−ジアセトキ
シ−１，１，３，３−テトラオクチルスタノキサン、又
は１，３−ジベンゾイロキシ−１，１，３，３−テトラ
オクチルジスタノキサンであり、反応媒体がＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドであり、３級アミンがトリメチルア
ミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクチルア
ミン、又はＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンであり、そ
してアシル化剤が無水酢酸又は無水安息香酸である上記
１の方法。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の方法をアミンで促進された連続
法で行う場合の工程図を示す。

【図２】図２は本発明の方法をアミンで促進された連続
法で行う場合の工程図を示す。

【図３】図３は本発明の方法をアミンで促進された連続
法で行う場合の工程図を示す。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　極性で中性の反応媒体中及び触媒量の
   １，３−ジアシロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒド
   ロカルビル）ジスタノキサンの存在下において、スクロ
   ースを、スクロース−６−エステルの製造に十分な期間
   及び温度でアシル化剤と反応させることを含んでなる方
   法。
2. 【請求項２】　　極性で中性の反応媒体中及び触媒量の
   １，３−ジアシロキシ−１，１，３，３−テトラ（ヒド
   ロカルビル）ジスタノキサン及び３級アミンの存在下に
   おいて、スクロースを、スクロース−６−エステルの製
   造に十分な期間及び温度でアシル化剤と反応させること
   を含んでなる方法。