JP3026804B1 - フッ素アルコ―ルの製造法 - Google Patents
フッ素アルコ―ルの製造法Info
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C29/44—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring increasing the number of carbon atoms by addition reactions, i.e. reactions involving at least one carbon-to-carbon double or triple bond
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Abstract
【要約】
【課題】純粋なフッ素アルコールを提供する。
【解決手段】メタノール及びテトラフルオロエチレン若
しくはヘキサフルオロプロピレンをラジカル発生源の存
在下に反応させて下記式（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールを製
造する方法において、反応液を蒸留塔に導いて、塔頂よ
りメタノールを留出せしめ、水とＨＦを含有するサイド
カット留分、式（１）のフッ素アルコールを含むボトム
液に分け、塔頂より得られたメタノールを反応器に戻し
て再利用し、前記ボトム液は精製工程に導いて式（１）
のフッ素アルコールを回収するフッ素アルコールの製造
法。
しくはヘキサフルオロプロピレンをラジカル発生源の存
在下に反応させて下記式（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールを製
造する方法において、反応液を蒸留塔に導いて、塔頂よ
りメタノールを留出せしめ、水とＨＦを含有するサイド
カット留分、式（１）のフッ素アルコールを含むボトム
液に分け、塔頂より得られたメタノールを反応器に戻し
て再利用し、前記ボトム液は精製工程に導いて式（１）
のフッ素アルコールを回収するフッ素アルコールの製造
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般式（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールの製
造法に関する。
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールの製
造法に関する。
【０００２】
【従来の技術及びその課題】Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）nＣＨ2Ｏ
Ｈ（ｎ＝１、２）の製造法としては特開昭５４−１５４
７０７号公報および米国特許２５５９６２８号に記載さ
れるように、過剰のメタノールとテトラフルオロエチレ
ンをｔ−ブチルオクチルパーオキサイドの存在下に反応
させることにより、H(CF2CF2)nCH2OH（ｎは最高１２）
のテロマー混合物が得られることが記載されている。
Ｈ（ｎ＝１、２）の製造法としては特開昭５４−１５４
７０７号公報および米国特許２５５９６２８号に記載さ
れるように、過剰のメタノールとテトラフルオロエチレ
ンをｔ−ブチルオクチルパーオキサイドの存在下に反応
させることにより、H(CF2CF2)nCH2OH（ｎは最高１２）
のテロマー混合物が得られることが記載されている。
【０００３】この反応では、過剰量のメタノールを用い
ているため、メタノールの回収を効率よく行う必要があ
る。
ているため、メタノールの回収を効率よく行う必要があ
る。
【０００４】本発明の目的は、メタノールを効率的に回
収するフッ素アルコールの製造法にある。
収するフッ素アルコールの製造法にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、反応混合物
からのメタノールの回収について検討を重ねた結果、反
応混合物中に存在する水及びＨＦが回収メタノール中に
混入すると、該回収メタノールを反応器にリサイクルす
る際に、反応を阻害することを発見し、水及びＨＦをメ
タノールと分離して回収することにより、効率的なメタ
ノールの回収が行えることを見出した。
からのメタノールの回収について検討を重ねた結果、反
応混合物中に存在する水及びＨＦが回収メタノール中に
混入すると、該回収メタノールを反応器にリサイクルす
る際に、反応を阻害することを発見し、水及びＨＦをメ
タノールと分離して回収することにより、効率的なメタ
ノールの回収が行えることを見出した。
【０００６】本発明は、項１〜項２に関する。項１．
メタノール及びテトラフルオロエチレン若しくはヘキサ
フルオロプロピレンをラジカル発生源の存在下に反応さ
せて下記式（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールを製
造する方法において、反応液を蒸留塔に導いて、塔頂よ
りメタノールを留出せしめ、水とＨＦを含有するサイド
カット留分、式（１）のフッ素アルコールを含むボトム
液に分け、塔頂より得られたメタノールを反応器に戻し
て再利用し、前記ボトム液は精製工程に導いて式（１）
のフッ素アルコールを回収するフッ素アルコールの製造
法（以下、第１発明という）。項２． メタノール及び
テトラフルオロエチレン若しくはヘキサフルオロプロピ
レンをラジカル発生源の存在下に反応させて下記式
（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールを製
造する方法において、反応液を第１蒸留塔に導いて、塔
頂よりメタノールを留出せしめ、水、ＨＦ及び式（１）
のフッ素アルコールを含有する第１蒸留塔ボトム液に分
け、第１蒸留塔ボトム液を第２蒸留塔に導いて、塔頂留
分として水とＨＦを含有する液を抜き出し、式（１）の
フッ素アルコールを含有する第２蒸留塔ボトム液に分
け、第１蒸留塔の塔頂より得られたメタノールを反応器
に戻して再利用し、第２蒸留塔ボトム液は精製工程に導
いて式（１）のフッ素アルコールを回収するフッ素アル
コールの製造法（以下、第２発明という）。
メタノール及びテトラフルオロエチレン若しくはヘキサ
フルオロプロピレンをラジカル発生源の存在下に反応さ
せて下記式（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールを製
造する方法において、反応液を蒸留塔に導いて、塔頂よ
りメタノールを留出せしめ、水とＨＦを含有するサイド
カット留分、式（１）のフッ素アルコールを含むボトム
液に分け、塔頂より得られたメタノールを反応器に戻し
て再利用し、前記ボトム液は精製工程に導いて式（１）
のフッ素アルコールを回収するフッ素アルコールの製造
法（以下、第１発明という）。項２． メタノール及び
テトラフルオロエチレン若しくはヘキサフルオロプロピ
レンをラジカル発生源の存在下に反応させて下記式
（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールを製
造する方法において、反応液を第１蒸留塔に導いて、塔
頂よりメタノールを留出せしめ、水、ＨＦ及び式（１）
のフッ素アルコールを含有する第１蒸留塔ボトム液に分
け、第１蒸留塔ボトム液を第２蒸留塔に導いて、塔頂留
分として水とＨＦを含有する液を抜き出し、式（１）の
フッ素アルコールを含有する第２蒸留塔ボトム液に分
け、第１蒸留塔の塔頂より得られたメタノールを反応器
に戻して再利用し、第２蒸留塔ボトム液は精製工程に導
いて式（１）のフッ素アルコールを回収するフッ素アル
コールの製造法（以下、第２発明という）。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の製造法において、テトラ
フルオロエチレンまたはヘキサフルオロプロピレンに対
しメタノールを過剰量使用する。反応温度は４０〜１４
０℃程度、反応時間は３〜１２時間程度、反応圧力は、
０．２〜１．２ＭＰａ程度である。反応は、例えば高圧
反応釜で行うことができる。反応系内は窒素、アルゴン
等の不活性ガスで置換するのが好ましい。
フルオロエチレンまたはヘキサフルオロプロピレンに対
しメタノールを過剰量使用する。反応温度は４０〜１４
０℃程度、反応時間は３〜１２時間程度、反応圧力は、
０．２〜１．２ＭＰａ程度である。反応は、例えば高圧
反応釜で行うことができる。反応系内は窒素、アルゴン
等の不活性ガスで置換するのが好ましい。
【０００８】フッ素アルコールの製造反応は、受酸剤の
存在下に行うのが好ましい。受酸剤としては、炭酸カル
シウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩及び炭酸水
素塩、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、ソーダライ
ム、炭酸バリウムなどが挙げられる。受酸剤は、反応系
を強アルカリ性にすることなく、反応時に発生するＨＦ
などの酸をトラップできるものが好ましい。
存在下に行うのが好ましい。受酸剤としては、炭酸カル
シウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩及び炭酸水
素塩、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、ソーダライ
ム、炭酸バリウムなどが挙げられる。受酸剤は、反応系
を強アルカリ性にすることなく、反応時に発生するＨＦ
などの酸をトラップできるものが好ましい。
【０００９】受酸剤の使用量は、特に限定されないが、
テトラフルオロエチレン又はヘキサフルオロプロピレン
１モルあたり、０．００１〜０．１モル程度使用でき
る。
テトラフルオロエチレン又はヘキサフルオロプロピレン
１モルあたり、０．００１〜０．１モル程度使用でき
る。
【００１０】ラジカル発生源としては、反応開始剤、Ｕ
Ｖおよび熱からなる群から選ばれる少なくとも１種を使
用できる。ラジカル発生源がＵＶであるとき、中圧又は
高圧水銀灯からのＵＶを例示できる。ラジカル発生源が
熱であるとき、２５０〜３００℃の温度を例示できる。
反応開始剤としては、過酸化物が例示でき、反応温度に
おける半減期が約１０時間となる反応開始剤を好ましく
例示できる。
Ｖおよび熱からなる群から選ばれる少なくとも１種を使
用できる。ラジカル発生源がＵＶであるとき、中圧又は
高圧水銀灯からのＵＶを例示できる。ラジカル発生源が
熱であるとき、２５０〜３００℃の温度を例示できる。
反応開始剤としては、過酸化物が例示でき、反応温度に
おける半減期が約１０時間となる反応開始剤を好ましく
例示できる。
【００１１】好ましいラジカル発生源としては、パーブ
チルＤ（ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド）、パーブチル
Ｏ（ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエー
ト）またはパーブチルＩ（ｔ−ブチルパーオキシイソプ
ロピルカーボネート）が好ましく例示される。反応開始
剤の使用量は、テトラフルオロエチレン又はヘキサフル
オロプロピレン１モルあたり、通常０．００５〜０．１
モル程度である。 （１）第１発明について 図１に示すように、メタノール及びテトラフルオロエチ
レン若しくはヘキサフルオロプロピレンの反応液は、反
応終了後、反応器から蒸留塔に導かれる。この反応液中
には、ＨＦ及び水が各々３００〜１０００ｐｐｍ程度含
まれる。蒸留塔は、メタノールを塔頂から留出するため
に加熱される。該蒸留塔では、メタノールが頂部に位置
し、フッ素アルコールが底部に位置するが、蒸留塔の中
段において、ＨＦ及び水が３０００ｐｐｍ〜３％程度に
濃縮される。ＨＦ及び水が濃縮された層はサイドカット
留分として蒸留塔から抜き出される。サイドカット留分
の温度は８０〜１２０℃／０．１ＭＰａ程度である。
チルＤ（ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド）、パーブチル
Ｏ（ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエー
ト）またはパーブチルＩ（ｔ−ブチルパーオキシイソプ
ロピルカーボネート）が好ましく例示される。反応開始
剤の使用量は、テトラフルオロエチレン又はヘキサフル
オロプロピレン１モルあたり、通常０．００５〜０．１
モル程度である。 （１）第１発明について 図１に示すように、メタノール及びテトラフルオロエチ
レン若しくはヘキサフルオロプロピレンの反応液は、反
応終了後、反応器から蒸留塔に導かれる。この反応液中
には、ＨＦ及び水が各々３００〜１０００ｐｐｍ程度含
まれる。蒸留塔は、メタノールを塔頂から留出するため
に加熱される。該蒸留塔では、メタノールが頂部に位置
し、フッ素アルコールが底部に位置するが、蒸留塔の中
段において、ＨＦ及び水が３０００ｐｐｍ〜３％程度に
濃縮される。ＨＦ及び水が濃縮された層はサイドカット
留分として蒸留塔から抜き出される。サイドカット留分
の温度は８０〜１２０℃／０．１ＭＰａ程度である。
【００１２】ボトム液は蒸留による精製工程に導いて式
（１）のフッ素アルコールを回収することができる。な
お、原料としてテトラフルオロエチレンを用いた場合、
ＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨ
のフッ素アルコールを含む混合物が得られるので、図３
に示すように、精製工程においてＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2Ｏ
ＨとＨ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨを順次分離してもよ
い。 （２）第２発明について メタノール及びテトラフルオロエチレン若しくはヘキサ
フルオロプロピレンの反応液は、反応終了後、反応器か
ら第１蒸留塔に導かれる。第１蒸留塔は、塔頂からメタ
ノールを留出するために加熱され、メタノール以外の成
分はボトムから抜き出され、第２蒸留塔に送られる。塔
頂から得られたメタノールは、反応器にリサイクルされ
る。第２蒸留塔では、塔頂からＨＦ及び水を含有する留
分を抜き出し、ボトムからフッ素アルコールを含む混合
物を抜き出し、精製工程に送られ、目的とする式（１）
のフッ素アルコールを精製する。
（１）のフッ素アルコールを回収することができる。な
お、原料としてテトラフルオロエチレンを用いた場合、
ＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨ
のフッ素アルコールを含む混合物が得られるので、図３
に示すように、精製工程においてＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2Ｏ
ＨとＨ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨを順次分離してもよ
い。 （２）第２発明について メタノール及びテトラフルオロエチレン若しくはヘキサ
フルオロプロピレンの反応液は、反応終了後、反応器か
ら第１蒸留塔に導かれる。第１蒸留塔は、塔頂からメタ
ノールを留出するために加熱され、メタノール以外の成
分はボトムから抜き出され、第２蒸留塔に送られる。塔
頂から得られたメタノールは、反応器にリサイクルされ
る。第２蒸留塔では、塔頂からＨＦ及び水を含有する留
分を抜き出し、ボトムからフッ素アルコールを含む混合
物を抜き出し、精製工程に送られ、目的とする式（１）
のフッ素アルコールを精製する。
【００１３】本発明のフッ素アルコールは、基板上にレ
ーザーによる情報の書き込み及び／又は読みとり可能な
記録層が設けられてなる情報記録媒体を製造する際の溶
剤として好適である。
ーザーによる情報の書き込み及び／又は読みとり可能な
記録層が設けられてなる情報記録媒体を製造する際の溶
剤として好適である。
【００１４】基板上にレーザーによる情報の書き込み及
び／又は読みとり可能な記録層が設けられてなる情報記
録媒体は、本発明の一般式（１）のフッ素アルコールを
含む溶剤、好ましくは該フッ素アルコールを含むフッ素
系溶剤に色素を溶解し、得られた溶液を基板上に塗布、
乾燥するなどの常法に従い、色素を含む記録層を形成し
て製造できる。該色素としては、シアニン系色素、フタ
ロシアニン系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム
系色素、スクワリリウム系色素、アズレニウム系色素、
インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素、キノン系色素、アルミニウム系
色素、ジインモニウム系色素、金属錯塩系色素等が挙げ
られる。基板としては、ポリカーボネート、ポリメチル
メタクリレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレ
フィン、ポリエステル、ポリ塩化ビニルなどのプラスチ
ック、ガラス、セラミックスが挙げられる。尚、記録層
と基板の間に平面性の改善、接着力の向上、記録層の変
質防止等の目的で下塗層を設けてもよく、記録層の上に
は保護層を設けてもよい。
び／又は読みとり可能な記録層が設けられてなる情報記
録媒体は、本発明の一般式（１）のフッ素アルコールを
含む溶剤、好ましくは該フッ素アルコールを含むフッ素
系溶剤に色素を溶解し、得られた溶液を基板上に塗布、
乾燥するなどの常法に従い、色素を含む記録層を形成し
て製造できる。該色素としては、シアニン系色素、フタ
ロシアニン系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム
系色素、スクワリリウム系色素、アズレニウム系色素、
インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素、キノン系色素、アルミニウム系
色素、ジインモニウム系色素、金属錯塩系色素等が挙げ
られる。基板としては、ポリカーボネート、ポリメチル
メタクリレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレ
フィン、ポリエステル、ポリ塩化ビニルなどのプラスチ
ック、ガラス、セラミックスが挙げられる。尚、記録層
と基板の間に平面性の改善、接着力の向上、記録層の変
質防止等の目的で下塗層を設けてもよく、記録層の上に
は保護層を設けてもよい。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、基板上にレーザーによ
る情報の書き込み及び／又は読みとり可能な記録層が設
けられてなる情報記録媒体（ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の
光ディスクなど）、フィルムの感光体の製造に好適な、
不純物を実質的に含まないＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ
（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨおよびＨＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2
ＣＨ2ＯＨを容易に製造することができる。
る情報の書き込み及び／又は読みとり可能な記録層が設
けられてなる情報記録媒体（ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の
光ディスクなど）、フィルムの感光体の製造に好適な、
不純物を実質的に含まないＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ
（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨおよびＨＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2
ＣＨ2ＯＨを容易に製造することができる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例を用いて
より詳細に説明する。 実施例１ 高圧反応釜にメタノール（２Ｌ）、パーブチルＤ（４５
ｇ）および炭酸カルシウム（３０ｇ）を仕込む。反応釜
を窒素置換した後テトラフルオロエチレンを初期速度６
００ｇ／ｈｒで仕込み、温度１２５℃、圧力０．８ＭＰ
ａに制御し、６時間反応させた。
より詳細に説明する。 実施例１ 高圧反応釜にメタノール（２Ｌ）、パーブチルＤ（４５
ｇ）および炭酸カルシウム（３０ｇ）を仕込む。反応釜
を窒素置換した後テトラフルオロエチレンを初期速度６
００ｇ／ｈｒで仕込み、温度１２５℃、圧力０．８ＭＰ
ａに制御し、６時間反応させた。
【００１７】反応混合物を図１に示すようなフローに従
い、メタノールを含む塔頂留分、ＨＦおよび水を含有す
るサイドカット留分、フッ素アルコールを含むボトム成
分に分離した。該ボトム成分から図３に示すように、順
次ＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨおよびＨ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ
2ＯＨを分離した。
い、メタノールを含む塔頂留分、ＨＦおよび水を含有す
るサイドカット留分、フッ素アルコールを含むボトム成
分に分離した。該ボトム成分から図３に示すように、順
次ＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨおよびＨ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ
2ＯＨを分離した。
【００１８】分離は、以下のようにして行った。
【００１９】ＨＦ及び水を各々３００〜１０００ｐｐｍ
含む反応液を蒸留塔へ仕込む。蒸留塔の圧力を０．１Ｍ
Ｐａに制御しながらスチルを加熱する。
含む反応液を蒸留塔へ仕込む。蒸留塔の圧力を０．１Ｍ
Ｐａに制御しながらスチルを加熱する。
【００２０】蒸留塔の塔頂よりメタノールを、留出温度
８０〜９０℃で留出させる。塔頂より留出したメタノー
ルには、ＨＦが１０ｐｐｍ以下、好ましくは５ｐｐｍ以
下、より好ましくは２ｐｐｍ以下含まれ、水は３０００
ｐｐｍ以下、好ましくは１０００ｐｐｍ以下、より好ま
しくは５００ｐｐｍ以下含まれる。
８０〜９０℃で留出させる。塔頂より留出したメタノー
ルには、ＨＦが１０ｐｐｍ以下、好ましくは５ｐｐｍ以
下、より好ましくは２ｐｐｍ以下含まれ、水は３０００
ｐｐｍ以下、好ましくは１０００ｐｐｍ以下、より好ま
しくは５００ｐｐｍ以下含まれる。
【００２１】蒸留塔の中段より留出温度８０〜１２０℃
で、メタノール及びＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨを主成分と
し、ＨＦ及び水が各々３０００ｐｐｍ〜３％に濃縮され
たサイドカット留分を抜き出す。
で、メタノール及びＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨを主成分と
し、ＨＦ及び水が各々３０００ｐｐｍ〜３％に濃縮され
たサイドカット留分を抜き出す。
【００２２】蒸留塔の塔底からは、フッ素アルコールの
混合物が抜き出され、蒸留による精製工程に供され、Ｈ
ＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨの
フッ素アルコールが順次蒸留により分離精製される。 実施例２ 実施例１で得た反応混合物について、図２に示すフロー
に従い、メタノールを含む第１蒸留塔の塔頂留分、第２
蒸留塔のＨＦおよび水を含有する塔頂留分、フッ素アル
コールを含むボトム成分に分離した。
混合物が抜き出され、蒸留による精製工程に供され、Ｈ
ＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨの
フッ素アルコールが順次蒸留により分離精製される。 実施例２ 実施例１で得た反応混合物について、図２に示すフロー
に従い、メタノールを含む第１蒸留塔の塔頂留分、第２
蒸留塔のＨＦおよび水を含有する塔頂留分、フッ素アル
コールを含むボトム成分に分離した。
【００２３】分離は、以下のようにして行った。
【００２４】先ず、ＨＦ及び水を各々３００〜１０００
ｐｐｍ含む反応液を第１蒸留塔へ仕込む。第１蒸留塔の
圧力を０．１ＭＰａに制御しながらスチルを加熱する。
ｐｐｍ含む反応液を第１蒸留塔へ仕込む。第１蒸留塔の
圧力を０．１ＭＰａに制御しながらスチルを加熱する。
【００２５】第１蒸留塔の塔頂よりメタノールを、留出
温度８０〜９０℃で留出させる。
温度８０〜９０℃で留出させる。
【００２６】第１蒸留塔の塔底からは、メタノール、フ
ッ素アルコールを主成分とし、水及びＨＦを含む混合物
を抜き出し、第２蒸留塔に送る。
ッ素アルコールを主成分とし、水及びＨＦを含む混合物
を抜き出し、第２蒸留塔に送る。
【００２７】第２蒸留塔の圧力を０．１ＭＰａに制御し
ながらスチルを加熱する。
ながらスチルを加熱する。
【００２８】第２蒸留塔の塔頂よりメタノール、ＨＦ及
び水を含む留分を、留出温度８０〜１２０℃で留出さ
せ、第２蒸留塔の塔底よりフッ素アルコールの混合物が
抜き出され、蒸留による精製工程に供され、ＨＣＦ2Ｃ
Ｆ2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨのフッ素ア
ルコールが順次蒸留により分離精製される。
び水を含む留分を、留出温度８０〜１２０℃で留出さ
せ、第２蒸留塔の塔底よりフッ素アルコールの混合物が
抜き出され、蒸留による精製工程に供され、ＨＣＦ2Ｃ
Ｆ2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨのフッ素ア
ルコールが順次蒸留により分離精製される。
【００２９】尚、図３に示すように、反応液又はメタノ
ール留分を除いたボトム成分を第１蒸留塔に導いてメタ
ノールを回収し、次いで第２蒸留塔でＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ
2ＯＨ（Ｎ＝１）の蒸留を行い、さらに第３蒸留塔でＨ
（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨ（Ｎ＝２）の蒸留を行うこと
で、ＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨ及びＨ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ
2ＯＨ分離を同時に行うことができる。
ール留分を除いたボトム成分を第１蒸留塔に導いてメタ
ノールを回収し、次いで第２蒸留塔でＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ
2ＯＨ（Ｎ＝１）の蒸留を行い、さらに第３蒸留塔でＨ
（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨ（Ｎ＝２）の蒸留を行うこと
で、ＨＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＨ及びＨ（ＣＦ2ＣＦ2）2ＣＨ
2ＯＨ分離を同時に行うことができる。
【図１】本発明の一実施態様を示す図である。
【図２】本発明の一実施態様を示す図である。
【図３】本発明の一実施態様を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−154707（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−5434（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−53540（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−201900（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 29/44 C07C 29/80 C07C 31/38 C07C 31/04 C07B 63/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】メタノール及びテトラフルオロエチレン若
しくはヘキサフルオロプロピレンをラジカル発生源の存
在下に反応させて下記式（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールを製
造する方法において、反応液を蒸留塔に導いて、塔頂よ
りメタノールを留出せしめ、水とＨＦを含有するサイド
カット留分、式（１）のフッ素アルコールを含むボトム
液に分け、塔頂より得られたメタノールを反応器に戻し
て再利用し、前記ボトム液は精製工程に導いて式（１）
のフッ素アルコールを回収するフッ素アルコールの製造
法。 - 【請求項２】メタノール及びテトラフルオロエチレン若
しくはヘキサフルオロプロピレンをラジカル発生源の存
在下に反応させて下記式（１） Ｈ（ＣＦＲ1ＣＦ2）nＣＨ2ＯＨ （１） 〔ｎ＝１のときＲ1はＦまたはＣＦ3を示す。ｎ＝２のと
きＲ1はＦを示す。〕で表されるフッ素アルコールを製
造する方法において、反応液を第１蒸留塔に導いて、塔
頂よりメタノールを留出せしめ、水、ＨＦ及び式（１）
のフッ素アルコールを含有する第１蒸留塔ボトム液に分
け、第１蒸留塔ボトム液を第２蒸留塔に導いて、塔頂留
分として水とＨＦを含有する液を抜き出し、式（１）の
フッ素アルコールを含有する第２蒸留塔ボトム液に分
け、第１蒸留塔の塔頂より得られたメタノールを反応器
に戻して再利用し、第２蒸留塔ボトム液は精製工程に導
いて式（１）のフッ素アルコールを回収するフッ素アル
コールの製造法。
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