JP3021135B2 - フィルム厚み制御装置 - Google Patents

フィルム厚み制御装置

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JP3021135B2 JP3295978A JP29597891A JP3021135B2 JP 3021135 B2 JP3021135 B2 JP 3021135B2 JP 3295978 A JP3295978 A JP 3295978A JP 29597891 A JP29597891 A JP 29597891A JP 3021135 B2 JP3021135 B2 JP 3021135B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フィルム製造装置等の
押出或いは流延成形製造に於けるフィルム厚み制御装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の樹脂フィルムの厚み制御を図２に
より説明する。図２は一般的なフィルムが製造させる工
程を示し、先ず押出機１ａにより樹脂粒をスクリュによ
り溶融して液状にする。溶融した樹脂は、保温されたダ
イ２ａの細い間隙３ａから押し出される。この間隙３ａ
は紙面に垂直に同じ幅に保たれているため、ダイ２ａか
らは薄い板状樹脂液４ａが流れ落ちる。
【０００３】この板状樹脂液４ａは、冷却されている回
転ローラ５ａに接触して固化し、厚みのあるフィルム６
ａとなる。このフィルム６ａは、所定の厚みプロファイ
ルを得るために、回転ローラ５ａの後工程で縦延伸機１
３および横延伸機１４で延伸プロセスを受ける。縦延伸
機１３では、フィルム６ａの流れ方向に沿ってフィルム
速度を増すことにより、フィルム流れ方向にフィルム６
ａを延伸してフィルム厚みを薄くする機能を果たす。横
延伸機１４では、フィルム速度は変えずにフィルム６ａ
の幅を広げることにより、フィルム厚みを薄くする機能
を果たす。横延伸機１４を出たフィルム６ａは、巻取機
９ａに巻取られる。
【０００４】厚み計１０は、フィルム６ａの厚みを計測
するもので、通常、放射性物質の自然破壊による放射線
を利用し、その放射線の強さがフィルム６ａを通過する
ときに弱まる度合によって厚さを計測する原理を用いて
いる。厚み計１０の検出端は１つで、その検出端がフィ
ルム６ａの幅方向に沿って往復動することにより、幅方
向の厚みを計測する。
【０００５】ところで、フィルム６ａは、幅方向に同じ
所定の厚みを持つことが要求されるが、実際にはダイ２
ａの細い間隙３ａを幅方向に同じ速度で樹脂液を通過す
ることが難しいため、フィルム６ａの厚みは必ずしも幅
方向に同じにならない。
【０００６】このため従来は、図２及び図３に示すよう
にダイ２ａの間隙３ａの両側にヒータ１２ａを埋め込む
形で幅方向に多数分布させ、同間隙３ａでの幅方向流れ
を一様にすることが行なわれている。
【０００７】即ち、フィルム６ａの厚みが厚すぎる箇所
のヒータ１２ａの発生熱を下げると、ダイ２ａに接する
樹脂温度が下がって粘性抵抗が増すため、その部分の樹
脂速度は低下する。そのためヒータ１２ａの発生熱を下
げた箇所のフィルム６ａの厚みは減少し、同フィルム６
ａの厚すぎた箇所の修正がなされる。逆にフィルム６ａ
の厚みが薄すぎる場合は、その箇所のヒータ１２ａの発
生熱を上げることにより、その部分の樹脂速度は上昇
し、その箇所のフィルム６ａの厚みは増して厚みの修正
がなされる。
【０００８】以上の原理を使って、ヒータ１２ａにより
フィルム６ａの厚みを自動制御することが考えられてい
た。図４は厚み制御の原理を示すブロック図であり、厚
み計１０で計測されたフィルム厚みとその設定値の差が
制御器１３に入力される。制御器１３は、例えばヒータ
１２ａの発生熱指令を出力し、ヒータ１２ａの発生熱を
変える。ヒータ発生熱が変わると、ダイ２ａの中の樹脂
速度が変化しヒータ発生熱を変えた箇所のフィルム厚み
が変えられて厚み制御が可能となる。従来のフィルム厚
み制御装置には、次に述べるような技術課題（１），
（２），（３）を解決するための工夫がなされている。
【０００９】（１） ダイ出口でフィルムの厚みの変化
が生じてから、厚み計１０でその変化が検出されるまで
には、ダイ出口から厚み計１０間でフィルムの移動によ
る無駄時間Ｌ1 がある。 （２） ダイリップ調整機構の或る箇所の操作端を操作
すると、リップ調整機構の隣接する箇所に対応するフィ
ルム厚みまで変化するという干渉現象がある。
【００１０】（３） 上記（２）で述べたリップ調整機
構の操作端の相互干渉によるフィルム厚みへの干渉効果
を極力小さくするために多数の操作端の操作量指令を同
時に変更する制御方式が考えられる。
【００１１】そのためには、厚み計１０がフィルム幅方
向に往復動し、幅方向に沿っての全厚みデータの読取り
が完了するフィルム端部に到達する度に制御演算を行な
う必要がある。この場合、厚み計１０がフィルムの或る
箇所の厚みを計測してからフィルム端部に到達するまで
に時間を要する。この時間は、厚みデータが得られてか
ら実際に制御演算を開始するまで無駄時間Ｌ2 と考えら
れる。
【００１２】従って、操作端の操作量が変えられてその
影響を厚みデータとして検出し、その厚みデータを使っ
て制御演算を行なうまでの無駄時間は、上記（１）に述
べた無駄時間Ｌ1 と前述の無駄時間Ｌ2 の和となる。図
５（ａ）は図４で無駄時間Ｌ1 および無駄時間Ｌ2 を含
めた厚み制御系のブロック図を示す。図５（ｂ）は無駄
時間を等価的に１つにまとめたブロック図を示す。通常
のフィードバック制御系では、このような無駄時間はな
いが、厚み制御系では図５（ｂ）に示すように、大きな
無駄時間（Ｌ1 ＋Ｌ2 ）が制御系の中に含まれる。上記
技術課題を解決するための手段として、図６に示すよう
なフィルム厚み制御装置が従来考えられている。
【００１３】 すなわち、従来のフィルム厚み制御装置
は、フィルムの幅方向に沿って溶融樹脂の吐出量を調整
操作する機構をもつダイを有し、同ダイ位置と厚み計位
置間をフィルムが流動するに要する無駄時間Ｌ1 を以て
厚み変化を検出する厚み計１０を有するフィルムの押出
成形並びに流延成形装置において、厚み計１０がフィル
ム幅方向の所定の位置に対応した厚み検出値と、その位
置での厚み設定値との差を出力する減算器１０１と、同
減算器１０１の出力する厚み差の時間積分を行ない、出
力する積分器１０２と、上記無駄時間Ｌ1 と厚み計１０
が所定の位置の厚み検出後、フィルム側端部に達するま
での時間Ｌ2 との和Ｌ＝Ｌ1 ＋Ｌ2 の時間分だけ過去の
操作端の操作量の時系列を記憶するメモリ１０４と、同
メモリ１０４に記憶されている過去の操作端の時系列を
使って、厚み計１０がフィルム側端部に達してフィルム
厚み検出値が入力された時刻より無駄時間Ｌだけ以前の
状態変数の推定値を出力する観測器１０３と、前記積分
器１０２の出力と前記観測器１０３の出力を入力し、フ
ィルム全幅での各厚み制御点に対応した無駄時間Ｌの平
均値である／Ｌだけ状態を推移させる係数を乗じて所定
の時刻での状態推定値を出力する状態推移器１０５と、
前記メモリ１０４に記憶されている過去の操作端の操作
量の時系列を入力し、厚み計がフィルム側端部に達した
時刻から平均無駄時間／Ｌを経た時刻までの入力による
状態変化量を出力する状態予測器１０６と、前記状態推
移器の出力と前記状態予測器の出力を加算して近似的に
厚み計１０がフィルム側端部に達した時刻での状態推定
値を出力する加算器１０７と、同加算器１０７の出力で
ある或る時刻での状態推定値に状態フィードバックゲイ
ンを乗じて前記操作端の操作量指令値を出力する操作端
の操作量指令器１０８とにより構成されている。なお、
厚み計１０の出力は、サンプラ１００を減算器１０１及
び観測器１０３に入力している。
【００１４】上記のフィルム厚み制御装置では、無駄時
間による位相遅れ分は観測器で、無駄時間に相応する以
前の状態を推定し、状態推移器と状態予測器とでその時
間分だけ時間積分して補正する。次に上記フィルム厚み
制御装置の作用を説明する。
【００１５】 図７に示すような５組のヒータ１〜５
と、各ヒータ位置に対応した厚み計１０の位置でのフィ
ルム厚み１′〜５′の計測値を使って、厚み３′を所定
の値に制御する場合について考えてみる。厚み３′を制
御するのにヒータ３以外に両隣の２つのヒータ１，２お
よび４，５を考えたのは、厚み３′へのヒータ１，２お
よびヒータ４，５の干渉を考慮した制御系を設計するた
めである。なお、ここではヒータ１およびヒータ５より
外側にあるヒータ厚み３′への影響は小さいとして無視
した。ヒータ１〜５の発生熱をそれぞれｕ1 （ｔ），ｕ
2 （ｔ），ｕ3 （ｔ），ｕ4 （ｔ），ｕ5 （ｔ）とし、
厚み１′〜５′のフィルム厚みをそれぞれｙ1 （ｔ），
ｙ2 （ｔ），ｙ3 ｔ），ｙ4 （ｔ），ｙ5 ｔ）とする。
【００１６】 またｕi （ｔ），ｙi （ｔ）（ｉ＝１〜
５）のラプラス変換をＵi （ｓ），Ｙi （ｓ）（ｉ＝１
〜５）とすると、Ｕi （ｓ），Ｙi （ｓ）は、次の伝達
関数行列Ｇ（ｓ）で関係付けられる。
【００１７】
【数１】
【００１８】上式において、ｇ1 （ｓ）は例えばヒータ
３のみを変えたときの厚み３′の時間変化を与える伝達
関数である。また、ｇ2 （ｓ）はヒータ２或いはヒータ
４のみを変えたときの厚み３′の時間変化を与える伝達
関数である。ｇ3 （ｓ）はヒータ１或いはヒータ５のみ
を変えたときの厚み３′の時間変化を与える伝達関数で
ある。（１）式ではダイ出口から厚み計１０までのフィ
ルム流動遅れによる無駄時間は含んでいないので、ｇ1
（ｓ），ｇ2 （ｓ），ｇ3 （ｓ）はラプラス演算子ｓの
有理関数で表わせる。また、（２）式の伝達関数行列Ｇ
（ｓ）の非対角項が隣接ヒータによる厚みへの干渉を表
わしている。（１）式の入力Ｕi （ｓ）と出力Ｙi （ｓ）（ｉ＝１〜
５）の間の関係を表わすのに、制御系設計に便利な次の
ような状態方式を使用する。 ｘ′（ｔ）＝Ａｘ（ｔ）＋Ｂｕ（ｔ） ・・・（２） ｙ（ｔ）＝Ｃｘ（ｔ） ・・・（３） ｘは状態ベクトル、ｕは入力ベクトルで、 ｕ（ｔ）＝［ｕ1 （ｔ），ｕ2 （ｔ），ｕ3 （ｔ），ｕ
4 （ｔ）， ｕ5 （ｔ）］ T （Ｔは転置を表わす）、 ｙは出力ベクトルで、 ｙ（ｔ）＝［ｙ1 （ｔ），ｙ2 （ｔ），ｙ3 （ｔ），ｙ
4 （ｔ）， ｙ5 （ｔ）］ T である。前記状態方程式（２）（３）式は可制御で可観
測とする。
【００１９】また、ダイ出口から厚み計１０までのフィ
ルム流動遅れによる無駄時間をＬ1、厚み計測点３′か
らフィルム端部まで厚み計１０が移動するに要する時間
をＬ2 とすれば、図５（ｂ）に示すように出力ベクトル
ｙ側の全無駄時間Ｌは、次式で与えられる。 Ｌ＝Ｌ1 ＋Ｌ2 ・・・（４） 従って、出力方程式（３）は次のように表わされる。 ｙ（ｔ）＝Ｃｘ（ｔ−Ｌ） ・・・（５） （２），（５）式より入力ｕ（ｔ）（ヒータ発生熱）と
出力ｙ（ｔ）（厚み計検出値）の関係は、図８のように
示される。
【００２０】ところで、厚み計１０はフィルム幅方向に
沿って往復しながら、フィルム厚み計測する。フィルム
はある速度で流れていることから、厚み計１０はフィル
ムの厚みを図９に示すような軌跡に沿って計測する。例
えば、制御演算をフィルム端部Ａ点で行なう場合には図
９で厚み３′の位置Ｃ点で示すと、厚み計１０の移動に
よる無駄時間Ｌ2 は、図９中ＣＡ間の移動時間Ｌ2 ′で
表わせる。
【００２１】一方、制御演算をフィルム端部Ｂ点で行な
う場合には、厚み計１０の移動による無駄時間Ｌ2 は図
９中のＣ′Ｂ間の移動時間Ｌ2 ″で表わせる。図９から
分かるようにＬ2 ′とＬ2 ″の大きさは一般に異なるこ
とから、厚み３′を所定の値に制御する本制御系では、
制御演算をフィルム端部のＡ点側で行なうときと、Ｂ点
側で行なうときでは、図８の伝達係数をｅ-SL で示す無
駄時間Ｌが異なるという特徴がある。そのため厚み計１
０は、フィルム両端部の何れかの側に達したかの到達点
識別信号ｄを出力する。以上で制御系を設計する準備を
終了する。
【００２２】最初に厚み３′を設定値に制御するのに隣
接ヒータからの熱伝導による外乱の影響を受けることを
避けるために、外乱補償として厚み３′の検出値ｙ3
（ｔ）と、設定値ｒ3 （ｔ）の偏差 ε（ｔ）＝ｒ3 （ｔ）−ｙ3 （ｔ）
【００２３】 に対して積分器を導入する。以下では設
定ｒ3 （ｔ）＝０とする。積分器は制御偏差ε（ｔ）の
現時刻ｔまで積分できると想定する。実際には無駄時間
Ｌのため、時刻（ｔ−Ｌ）までの制御偏差しか積分でき
ない。また、積分器の出力／ＸI （ｔ）は、次式で表わ
される。
【００２４】
【数２】
【００２５】なお、Ｃ3 は（３）式のＣ行列の第３行を
表わす。また、（６）式の右辺第１項は、時刻ｔまでに
実際に厚み計から取得できる量の時間積分であるので、
計算可能である。しかし、右辺第２項の積分される量は
取得できず、時間積分はこのままでは計算できない。そ
のため／ＸI （ｔ）での予測を得るために／ＸI （ｔ）
を状態変数に含む次のような拡大系を考える。（６）式
より
【００２６】
【数３】
【００２７】となる。ｆ1 は、／Ｆ行列の第１列を表わ
す。また、／ＸI （ｔ），Ｘ（ｔ）が得られるならば、
行列（／Ａ−／Ｂ／Ｆ）の全ての固有値が安定領域にあ
るようにフィードバックゲイン行列／Ｆを定めれば、入
力ｕ（ｔ）により厚みｙ3 （ｔ）は所定の値に安定に制
御することができる。しかも、行列／Ａ，／Ｂには無駄
時間Ｌの影響は含まれていないので、この設計法では、
あたかも無駄時間Ｌがない系としてフィードバックゲイ
ン行列／Ｆを決めることができ、制御系の速応性、定常
精度ともに性能を確保できる。そのためには、／ＸI
（ｔ），Ｘ（ｔ）を求める必要がある。
【００２８】次に（１１）式における／ＸI （ｔ），Ｘ
（ｔ）を実際に得るための手段を説明する。／ＸI
（ｔ），Ｘ（ｔ）は時刻（ｔ−Ｌ）を初期状態にして
（９）式を時刻（ｔ−Ｌ）から時刻ｔまで積分すること
により求められる。ここでの考え方は、入力ｕ（ｔ）が
既知であるので無駄時間Ｌの分だけ過去に遡って積分す
ることにより、状態量／ＸI （ｔ），Ｘ（ｔ）を推定し
ようとするものである。
【００２９】このときの、積分時間の長さとして採る無
駄時間の大きさとして、フィルム全幅の各厚み制御点で
の無駄時間Ｌの平均値／Ｌを用いる。平均無駄時間／Ｌ
は、フィルム中央の厚み制御点での全無駄時間Ｌに等し
い。従って、状態量／ＸI （ｔ），Ｘ（ｔ）は、次式に
より求められる。
【００３０】
【数４】 （１３）式の右辺は計算可能な量で、現時刻ｔでの出力
ｙ3 （ｔ）での制御偏差の積分値であることから、（１
３）式を次のように表わす。
【００３１】
【数５】 ｙ（ｔ）＝Ｃｘ（ｔ−Ｌ） ・・・（１６） 次式で定義される変数ω（ｔ）を導入する。 ω（ｔ）＝Ｘ（ｔ−Ｌ） ・・・（１７） 上記（１５）〜（１７）式より次式が成り立つ。
【００３２】
【数６】 ところで制御演算は、厚み計１０が図９に示すようにＡ
点あるいはＢ点に到達する度に実行されるので、一定時
間間隔Ｔ毎に行なわれる。時間Ｔは厚み計１０がフィル
ム幅を横断するのに要する時間である。一方、厚み３′
の位置Ｃ点に対する無駄時間ＬはＡ点側とＢ点側で異な
る。すなわち、 Ａ点での制御演算時の無駄時間ＬA ＝Ｌ1 ＋Ｌ2 ′ Ｂ点での制御演算時の無駄時間ＬB ＝Ｌ1 ＋Ｌ2 ″ ・・・（２０） であり、位置Ｃ点に対しては明らかにＬA ＞ＬB とな
る。前記の平均無駄時間／Ｌは／Ｌ＝１／２（ＬA ＋Ｌ
B ）で表わすこともできる。
【００３３】
【数７】 また、制御演算間ｔk 〜Ｔk+1 ではヒータ入力ｕ（ｋ）
は一定に保たれているとする。
【００３４】 時刻ｔk+1 に厚み計がＡ点に到達してい
るので、時刻ｔk+1 より時間Ｔだけ過去の時刻ｔk で
は、厚み計がＢ点に到達していたことになる。時刻ｔk
に行なったＢ点での制御演算で推定値
【００３５】
【数８】
【００３６】を求める必要がある。時刻ｔ1 は、時刻ｔ
k+1 より無駄時間ＬA だけ過去にあり、時刻ｔ0 は時刻
ｔk より無駄時間ＬB だけ過去にある。時刻ｔ1 は無駄
時間ＬA の大きさに応じて演算周期Ｔの数周期分過去に
あることになるから、ここでは一般的に区間（ｔki，Ｔ
ki+1）にすることにした 。図１１はＢ点での制御演算
での推定値
【００３７】
【数９】 を求める必要がある。図１０、図１１から分かるように
制御演算の時間間隔Ｔは一定であるが、Ａ点とＢ点での
無駄時間ＬA ，ＬB が異なるために推定値
【００３８】
【数１０】
【００３９】
【数１１】
【００４０】上式において、ｔ0 ＝ｔk −ＬB ，ｔ1 ＝
ｔk+1 −ＬA ，ｔ1 −ｔ0 ＝Ｔ−ＬA ＋ＬB ，Ｔ＝ｔk+
1 −Ｔk でサンプリング周期であり、新変数η＝ｔ1 −
τを導入すると、
【００４１】
【数１２】
【００４２】次に図１１に示すＢ点での制御演算を考え
る。このときは（２２）式でｔ0 ＝ｔk −ＬB ，ｔ1 ＝
ｔk+1 −ＬB ，ｔ1 −ｔ0 ＝Ｔ−ＬB ＋ＬA で図１１の
２重線部分を積分することにより、（２２）式と同じ次
式が得られる。
【００４３】
【数１３】 ｔ1 −ｔ0 ＝Ｔ−ＬA ＋ＬB ・・・（２
８） Ｋ：観測器のゲイン行列 Ｂ点での推定値
【００４４】
【数１４】 積分Ｉは、図１２の２重線部分を積分することになる。
図１２では、／ＬがＴ＜／Ｌ≦２Ｔを満たす場合を示し
ている。
【００４５】
【数１５】 以上述べた従来の制御方式の計算手順を整理すると次の
ようになる。
【００４６】（１） 時間周期Ｔの制御演算実行時刻ｔ
＝ｔk+1 に、フィルム厚み検出値ｙ（k+1 ）（ｙ1 （k+
1 ），ｙ2 （k+1 ），ｙ3 （k+1 ），ｙ4 （k+1 ），ｙ
5 （k+1 ）からなるベクトルが図６における厚み計１０
及びサンプラ１００を通して得られる。サンプラ１００
は、制御演算実行時刻ｔ＝ｔk+1 毎に閉じられるもので
厚み計１０が図９のフィルム端部Ａ点或いはＢ点に到達
した度に閉じられる。厚み計１０は図９のフィルム端部
Ａ点或いはＢ点に到達すると、そのいずれかの側に達し
たかが判る到達点識別信号ｄを出力する。
【００４７】（２） フィルム厚み検出値ｙ（k+1 ）の
うち、ｙ3 （k+1 ）が図６の減算器１０１に入力され、
減算器１０１は厚み設定値ｒ3 （k+1 ）との厚み偏差ε
（k+1 ）＝ｒ3 （k+1 ）−ｙ3 （k+1 ）を出力する 。（３） 積分器１０２は、減算器１０１からの厚み偏差
ε（k+1 ）を入力して次式より厚み偏差の時間積分値を
出力する。 ＸI （k+1 ）＝ＸI （k ）＋０．５（ｔk+1 −ｔk ）｛εk ）＋ε（k+1 ）｝ ・・・（３３） ここで、ε（k ）は、前回厚み検出時（時刻ｔ＝ｔk ）
での厚み偏差、ＸI は時刻ｔ＝ｔk での積分器１０２の
出力である。 積分器１０２は、厚みｙ3 を変動させる外
乱熱をヒータ発生熱で補償して、常に厚みｙ3 が設定値
に一致するように外乱補償器の役目を果たす。
【００４８】 （４） 厚み計１０がフィルム端部のど
ちらかの側に到達すると、厚み計は到達点識別信号ｄを
出力し、識別信号ｄに応じて、（２６）（２７）式或い
は（２９）（３０）式より
【００４９】
【数１６】
【００５０】 を計算する。即ち、メモリ１０４に記憶
されている過去のヒータ発生熱時系列（ｕ（k-2 ）とｕ
（k-1 ））とフィルム厚み検出値ｙ（k+1）が観測器１
０３に入力されて厚み計１０の出力する到達点識別信号
ｄで定まる無駄時間Ｌだけ時刻ｔk+1 より以前の時刻
（ｔk+1 −Ｌ）での状態変数の推定値
【００５１】
【数１７】 を出力する。 （５） 上記（１２）式の右辺第一項の計算で時刻（ｔ
k+1 −Ｌ）での状態推定値
【００５２】
【数１８】
【００５３】が状態推移器１０５に入力され、状態推移
器１０５は平均無駄時間／Ｌだけ状態を推移させる係数
を乗じて時刻ｔk+1 での状態推定値を得る。無駄時間／
Ｌの大きさは、フィルム全幅の各厚み制御点での無駄時
間の平均値を採用する。平均無駄時間／Ｌ分だけの時間
領域で加わる入力ｕ（k ）による状態推移は、（１２）
式の右辺第２項の積分項で表わし、この補正は次の状態
予測器１０６により行なう。
【００５４】（６） 上記（１２）式の右辺第２項は、
時刻（ｔk+1 −／Ｌ）から時刻ｔk+1までの平均無駄時
間／Ｌの時間領域に加える入力の時系列ｕ（k-1 ），ｕ
（k ）による状態の推移量を表わし、例えば（32）式の
Ｉで表わされる。即ち、メモリ１０４に記憶されている
平均無駄時間／Ｌの長さで決まる分だけの過去のヒータ
発生熱の時系列（ここではｕ（k-1 ），ｕ（k ）の２
つ）が状態予測器１０６に入力され、時刻（ｔk+1 −／
Ｌ）から時刻ｔk+1 までの入力のｕ（k ）による状態変
化量Ｉを出力する。 （７） 加算器１０７には、状態推移器１０５の出力
【００５５】
【数１９】 を出力する。
【００５６】上記のようにして無駄時間Ｌのために時刻
（ｔk+1 −Ｌ）での状態推定値しか観測器１０３で得ら
れないが、状態推移器１０５と状態予測器１０６が平均
無駄時間／Ｌの分だけ積分動作を行なうことにより近似
的に時刻ｔk+1 での状態推定値を得ることができる。こ
の操作により、無駄時間Ｌによる位相遅れの影響を除去
できる。（８） 時刻ｔk+1 から次の制御演算時刻ｔk+2 までの
ヒータ発生熱ｕ（k+1 ）は、状態フィードバックゲイン
（ｆ1 ，Ｆ2 ）を使って、次式より定まる。
【００５７】
【数２０】 に状態フィードバックゲインを乗ずることによって、ヒ
ータ発生熱指令値を定める。
【００５８】（９） 以上の制御演算は、時間周期Ｔ後
に厚み計１０がフィルム幅方向に移動して反対側のフィ
ルム端部に達する制御演算実行時刻ｔ＝ｔk+2 に次回の
フィルム厚み検出値ｙ（k+2 ）をサンプラ１００から得
て実行される。
【００５９】
【発明が解決しようとする課題】フィルム製造装置で
は、所定の厚みプロファイルのフィルムを得るために、
次のように運転条件を決める要因が変えられる。 （１） 回転ローラ５ａの周速度で決まるキャスティン
グ速度 （２） ダイ２ａからの樹脂吐出速度を決める押出機吐
出量 （３） フィルムの縦・横延伸倍率 このように運転条件が変わるとき、従来のフィルム厚み
制御装置では次のような問題がある。
【００６０】（１） キャスティング速度や縦・横延伸
倍率が変わると、フィルムがダイ出口から厚み計１０に
達するまでのフィルム移動による無駄時間Ｌ1が変わる
ため、無駄時間ＬA ，ＬB が変わり、更に平均無駄時間
／Ｌも変わる。そのため、図１０、図１１に示すように
制御演算式（２６），（２９）式での積分開始区間が無
駄時間ＬA ，ＬB の大きさによって変わることから、運
転条件に合致して（２６），（２９）式の制御演算式が
実行されるような適応性をもつ必要がある。更に制御演
算式（１２）で運転条件に合致した無駄時間／Ｌを使っ
て計算できるような適応性を持つ必要がある。
【００６１】 （２） ヒータ入力変化に対するフィル
ム厚み感度は、上記の運転条件の変化により変わるの
で、運転条件が変わっても所定の制御性能を保つために
は、（１２）式での／Ａ，／Ｂ行列、（１１）式のレギ
ュレータゲイン行列／Ｆおよび（２７），（３０）式の
観測器ゲイン行列Ｋを運転条件に合致した値に変えるこ
とができる適応性を持つ必要がある。
【００６２】 本発明は上記実情に鑑みてなされたもの
で、運転条件が変化しても常に所定の厚み制御の速応性
が得られるフィルム厚み制御装置を提供することを目的
とする。
【００６３】
【課題を解決するための手段】本発明は、フィルムの幅
方向に沿って溶融樹脂の吐出量を調整操作する機構をも
つダイを有し、同ダイ位置と厚み計位置間をフィルムが
流動するに要する時間だけの無駄時間Ｌ1を以て変化を
検出する厚み計を有するフィルムの押出成形並びに流延
成形装置において、フィルム厚み制御装置を構成する観
測器、状態予測器、状態推移器、操作量指令器に対し、
それぞれ適応器を付加し、フィルム流動による無駄時間
の変化に対して、制御演算式の行列を運転条件に合致し
た値に自動的に変更させると共に、運転条件の変化によ
るヒータ入力変化に対するフィルム厚み感度の変化に対
して、制御演算式中の行列、レギュレータゲイン行列及
び観測器ゲイン行列を決定された運転条件に合致した値
に自動的に変更させるようにしたことを特徴とするもの
である。
【００６４】
【作用】厚み計がフィルム幅方向の所定の位置に対応し
た厚み検出値と同位置での厚み設定値との差を減算器に
より求め、その厚み差を積分器により時間積分を行な
う。また、無駄時間Ｌ1 と厚み計が所定の位置の厚み検
出後、フィルム側先端に達する迄の時間Ｌ2 との和Ｌの
時間分だけ過去の操作量指令器の操作量の時系列をメモ
リに記憶させる。そして、このメモリの記憶情報を観測
器に入力し、厚み計がフィルム側端部に達して全てのフ
ィルム厚み検出値が入力された時刻より、厚み計が到達
したフィルム側端部に応じた上記無駄時間Ｌだけ以前の
状態変数の推定値を求める。観測器適応器は、上記観測
器での演算式に使う行列を運転条件に合致するように変
更する。
【００６５】 また、状態推移器は、上記積分器の出力
及び上記観測器の出力から、フィルム両端部での前記無
駄時間Ｌの平均値である平均無駄時間／Ｌだけ状態を推
移させる係数を乗じて厚み計がフィルム側端部に達した
時刻での状態推定値を出力する。推移器適応器は、上記
状態推移器での演算式に使う行列を運転条件に合致する
ように変更する。状態状態予測器は、上記メモリに記憶
されている過去の操作端の操作量の時系列に基づき、厚
み計がフィルム側端部に到達した時刻から上記平均無駄
時間／Ｌを経た時刻までの入力の設定による状態変化量
を出力する。状態予測器適応器は、上記状態予測器での
演算式に使う行列を運転条件に合致するように変更す
る。
【００６６】そして、上記状態推移器の出力と上記状態
予測器の出力を加算器により加算し、厚み計がフィルム
側端部達した時刻での状態推定値を求める。この状態推
定値を操作量指令器に入力し、状態フィードバックゲイ
ンを乗じて上記操作端の操作量指令値として出力する。
操作量指令器適応器は、操作量指令器での演算式に使う
行列を運転条件に合致するように変更する。
【００６７】上記のように運転条件の変化によるフィル
ム流動による無駄時間の変化に対して、制御演算式の行
列を運転条件に合致した値に自動的に変更することによ
り、又、運転条件の変化によるヒータ入力変化に対する
フィルム厚み感度の変化に対して、制御演算式中の行
列、レギュレータゲイン行列及び観測器ゲイン行列を運
転条件に合致した値に自動的に変更することにより、運
転条件が変化しても常に所定の厚み制御の速応性を得る
ことができる。
【００６８】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。
【００６９】図１は本発明の一実施例に係るフィルム厚
み制御装置の構成を示すブロック図である。本発明に係
るフィルム厚み制御装置は、図６に示したフィルム厚み
制御装置において、観測器１０３に対して観測器適応器
２００、状態予測器１０６に対して状態予測器適応器２
０１、状態推移器１０５に対して状態推移器適応器２０
２、操作量指令器１０８に対して操作量指令器適応器２
０３を、それぞれ付加したもので、その他は図６の装置
と同様の構成であるので、同一部分には同一符号を付し
て詳細な説明は省略する。次に上記実施例の動作を説明
する。
【００７０】今、例えば図７に示す５組のヒータからな
るシステムにおいて、厚み３′を所定の値に制御するも
のとすると、上記システムの動特性は、（１）式より次
のように表わせる。
【００７１】
【数２１】 次に各々運転条件を変えたときの比例ゲイン定数ｋの変
化について説明する。 （１） キャスティング速度を変えたとき キャスティング速度変化によるゲイン定数の変化をｋ1
で表わす。ｋ1は次式で定まる。 ｋ1 ＝ｖc0／ｖc ・・・（３８） 但し、ｖc0：基準運転条件でのキャスティング速度 ｖc ：運転条件が変化したときのキャスティング速度 キャスティング速度ｖc が増すにつれて、フィルム厚み
は薄くなることから、（３８）式のゲイン定数ｋ1 を定
めた。 （２）押出機吐出量を変えたとき 押出機吐出量変化によるゲイン定数の変化をｋ2 で表わ
す。ｋ2 は次式で定まる。 ｋ2 ＝Ｗ／Ｗ0 ・・・（３９） 但し、Ｗ0 ：基準運転条件での押出機吐出量 Ｗ：運転条件が変化したときの押出機吐出量 押出機吐出量が増すにつれて、フィルム厚みは厚くなる
ことから、（３９）式のゲイン定数ｋ2 を定めた。 （３） 縦・横延伸倍率を変えたとき 延伸倍率変化によるゲイン定数の変化をｋ3 で表わす、
ｋ3 は次式で定まる。 ｋ3 ＝（ＥＬDO／ＥＬD ）×（ＥＬTD／ＥＬT ） ・・・（４０） 但し、ＥＬDO：基準運転条件での縦延伸倍率 ＥＬTD：基準運転条件での横延伸倍率 ＥＬD ：運転条件が変化したときの縦延伸倍率 ＥＬT ：運転条件が変化したときの横延伸倍率 延伸倍率が大きくなるにつれて、フィルム厚みは薄くな
ることから、（４０）式のゲイン定数ｋ3 を定めた。以
上により、各種運転条件が変化したときのゲイン定数は
総合的には次式で与えられる。 ｋ＝ｋ1 ｋ2 ｋ3 ・・・（４１）
【００７２】次に運転条件が変化したときに、制御演算
式に使われる行列（Ａ，Ｂ，Ｃ）がどのように変化する
かを説明する。行列（Ａ，Ｂ，Ｃ）は、或る運転条件で
の伝達行列ｋＧ0 （ｓ）の最小実現システムとして与え
られる状態方程式表現である。Ｇ0 （ｓ）の最小実現シ
ステムを与える状態方程式の行列を（Ａ0 ，Ｂ0 ，Ｃ0
）とすると、運転条件が変化したときの伝達関数行列
ｋＧ0 （ｓ）の最小実現システムの行列（Ａ，Ｂ，Ｃ）
は次式で与えられる 。 Ａ＝Ａ0 ，Ｂ＝Ｂ0 ，Ｃ＝ＫＣ0 ・・・（４２）
【００７３】従って、Ａ，Ｂ行列は、運転条件が変わっ
ても基準運転条件での行列Ａ0 ，Ｂ0 と変わらないこと
になる。Ｃ行列は、行列Ｃ0 を（４１）式で定まるゲイ
ン定数ｋ倍して得られる。ところで制御演算式（１２）
で使われる行列／Ａは、（１０）式に見るようにＣ行列
の一部を含むので、行列／Ａは運転条件の変化によって
変わることになる。
【００７４】次に運転条件が変わったときの無駄時間の
変化について説明する。図２でヒータ１２ａから縦延伸
機１３までの距離ｌ1 ，縦延伸機１３から厚み計１０ま
での距離をｌ2 とすると、ダイ２ａの出口から厚み計１
０までのフィルム移動による無駄時間Ｌ1 は次式出表わ
せる。 Ｌ1 ＝ｌ1 ／ｖc ＋ｌ2 ／（ｖc ×ＥＬD ） ・・・（４３）
【００７５】厚み計１０のフィルム幅方向の移動による
無駄時間Ｌ2 は運転条件が変化しても変わらないが、厚
み制御での全無駄時間Ｌ＝Ｌ1 ＋Ｌ2 は、運転条件で変
化することになる。以上で述べた運転条件が変わったと
きに、制御演算式中の行列や無駄時間が変わっても、制
御性能を保持するための手段および作用を説明する。 （１） 観測器１０３での制御演算式に対する対応手段
【００７６】観測器１０３で予測値を求める（２６）式
或いは（２９）式で図１０或いは図１１に示すように、
積分開始時刻ｔ1 が時間区間（ｔki，ｔki+1）にあると
する。時刻ｔ1 は現在時刻ｔk+1 より無駄時間ＬA 或い
はＬB だけ過去の時刻であるので、時刻ｔ1 は運転条件
により変化することになる。積分時間「ｔ1 −ｔ0 ＝Ｔ
−ＬA ＋ＬB 」或いは「Ｔ−ＬA ＋ＬB 」は、無駄時間
Ｌ1 の成分がキャンセルされるため運転条件が変化して
も同じ制御点位置に対して大きさは変わらないが、制御
点の位置毎に異なる値を持つ。従って、制御点毎に異な
る積分区間（ｔ1 −ｔ0 ）の大きさに応じて、例えば、
次のようなケースに分けられる。（ａ）区間（ｔ1 −ｔ
0 ）が区間（ｔki，ｔki+1）内にあるとき
【００７７】
【数２２】 ｍ1 ＝ｔ1 −ｔki ｍ2 ＝ｔ1 −ｔki-1 但し、ｕ（ｋ）：時間区間（ｔki，ｔki+1）での入力ベ
クトル ｍ1 ：積分区間（ｔ1 −ｔ0 ）のうち、区間（ｔki，ｔ
ki+1）にある時間長さ ｍ2 ：積分区間（ｔ1 −ｔ0 ）のうち、区間（ｔki-1，
ｔki+1）にある時間長さ となる。次に（４４）〜（４６）式の演算を運転条件に
合致した形で行なうための手順を説明する。 （i ） 運転条件が定まると、各制御点毎に全無駄時間
Ｌを求めて各制御点毎に積分開始時刻ｔ1 が位置する時
間区間（ｔki，ｔki+1）を定める。
【００７８】更に、（４５）（４６）式の積分区間の大
きさｍ1 ，ｍ2を定める。積分区間（ｔ1 −ｔ0 ）は制
御点毎に異なるが、運転条件が変化しても変わることは
ない。
【００７９】（ii）ヒータ間を厚み計が移動するに要す
る時間をΔＴ（運転条件で変わらない）とすると、積分
区間（ｔ1 −ｔ0 ）はΔＴの整数倍で与えられる。ｍ1
，ｍ2 は連続値であるが、ΔＴの整数倍で近似する
。（iii ）予め、ΔＴの時間刻みで２Ｔの時間分だけ行列
ｅA(ＮΔT)
【００８０】
【数２３】 を計算しておく。ここで行列Ａ，Ｂは（４２）式に示す
ように運転条件が変化しても変わらないので、予め一度
だけ計算しておけばよい。 （iv）行列ｅＡ（ＮΔＴ）（Ｎ＝１，２…）から、制御
点毎にｅＡ（ｔ1 −ｔ0 ）に相当する行列を選択する。 （V ）行列
【００８１】
【数２４】 を最も良く近似する行列を選択する。以上により、基準
運転条件での行列Ａ，Ｂを使って予め計算しておいた行
列
【００８２】
【数２５】 相当する行列を選択して運転条件の変化に対応する。
【００８３】次に運転条件が変わっても観測器１０３の
収束性が変わらないようにする必要がある。そのため、
運転条件が変わったときの（２７），（３０）式での観
測器ゲイン行列Ｋの変え方を説明する。観測器１０３の固有値は行列 ［ｅ A(t1 -t0 ) −ＫＣｅ A(t1 -t0 ) ］
【００８４】の固有値で与えられる。基準運転条件での
観測器ゲイン行列をＫ0 とし、或る運転条件でＣ行列の
みがｋ倍になったときに、ゲイン行列Ｋ0 を１／ｋ倍に
したゲイン行列Ｋを使えば、上記行列の固有値は基準運
転条件のときと同じになることが分かる。従って、運転
条件が変化しても観測器の収束性が変化しないようにす
るためには、観測器ゲイン行列Ｋ0 全体を１／ｋ倍すれ
ば良い。
【００８５】以上述べたように運転条件に合わせて予測
値計算式（２６）（２９）式で必要な行列の変更作業お
よび（２７），（３０）式の観測器ゲイン列Ｋの変更作
業は図１に示す観測器適応器２００が行なう。 （２） 状態予測器１０６での制御演算式の対応手段 （１２）式の右辺第２項の積分計算Ｉでは、平均無駄時
間／Ｌの大きさに応じて例えば、次のようなケースに分
けられる。 （ａ）０＜／Ｌ≦Ｔのとき
【００８６】
【数２６】
【００８７】
【数２７】 上記（４７）〜（５１）式の演算では、次の形の行列を
予め計算しておく必要がある。
【００８８】
【数２８】
【００８９】ところが前述したように、（５２）式の行
列中の／Ａ行列は、運転条件によって変わるため、（５
２）式の行列は基準運転条件での拡大行列／Ａ0 ，／Ｂ
0 について予め計算しておいた次の行列より、運転条件
に合致した（52）式の行列を求める必要がある。
【００９０】
【数２９】 ａd1＝ｋａd0 Ａd22 ＝Ａd220 ・・・（５６） ｂd1＝ｋｂd10 Ｂd2＝Ｂd20 ・・・（５７）
【００９１】この（５６），（５７）式より、予め基準
運転条件での行列で計算しておいた行列／Ａd0，／d0よ
り、或る運転条件に合致した行列／Ａd ，／Ｂd を求め
ることができる。従って、（４７）〜（５１）式の演算
を運転条件に合致した形で行なうための手順を次に説明
する 。（i ） 予め基準運転条件での行列で計算しておいた行
列
【００９２】
【数３０】 を求める。 （ii） 予め、Δｔ秒の時間刻みでのＴの時間分だけ基
準運転条件出の行列で計算しておいた行列
【００９３】
【数３１】 を求める。Δｔは通常、１秒或いは２秒という短い時間
とする。（iii ） 運転条件から平均無駄時間／Ｌを定める。 （iv） 理解し易くするために、上記（ｄ）の３Ｔ＜／
Ｌ≦４Ｔの時について説明する。
【００９４】
【数３２】 は（ii）でΔｔ刻みで演算した行列から近似する。 （v ） 上記（iv）で求めた行列の積演算をすることに
より、Ｉの計算式に必要な係数行列が定まる。
【００９５】以上述べたように状態予測器１０６での計
算式、すなわち（１２）式の右辺第２項の積分計算に必
要な行列を運転条件に合わせて変更する作業は、図１に
示す状態予測器適応器２０１が行なう。（３） 状態推移器１０５での制御演算式の対応手段
【００９６】
【数３３】 を運転条件に合わせて変更する作業は、図１に示す状態
推移器適応器２０２が行なう。（４） 操作量指令器１０８での制御演算式の対応手段 操作量指令器１０８では、（１１）式の演算を行なうが
運転条件が変わっても制御の速応性が変わらないように
する必要がある。
【００９７】基準運転条件で求めたレギュレータゲイン
行列を／Ｆ0 とする。或る運転条件で厚み感度がｋ倍に
なったときに、ゲイン行列を／Ｆ0 の第１列のみ１／ｋ
に倍にしたゲイン行列／Ｆを使うと、そのときの行列
（／Ａ−／Ｂ／Ｆ）の固有値は、基準運転条件のときと
殆ど同じになる。このことは、（４２）式で示したよう
にＡ，Ｂ行列は運転条件に対して不変なこと、（１１）
式右辺のベクトルの第１項のみがｋ倍になったことに依
る。従って、運転条件が変化しても、制御の速応性が変
化しないようにするためには、ゲイン行列／Ｆの第１列
のみを１／ｋ倍にすれば良い。以上述べた、レギュレー
タゲイン行列／Ｆを運転条件に合わせて変更する作業は
図１に示す操作量指令器適応器２０３が行なう。
【００９８】次に上記本発明による効果を示すために、
シミュレーション結果を示す。制御モデルは図１３に示
すような１０個のヒータからなるモデルを製品中央部に
想定し、制御点３〜８での製品フィルム厚みを所定の値
に制御するシミュレーション計算を行なった。シミュレ
ーションは、運転条件の変化例としてキャスティング速
度が次の２通りに変化したときの制御性能を比較したも
のである。 （１） ケース１：キャスティング速度…４０ｍ／min （２） ケース２：キャスティング速度…２５ｍ／min
【００９９】図１４は、キャスティング速度４０ｍ／mi
n での制御点３〜８に対応してフィルム厚み設定値を
０．５μｍ増したときの制御点３〜５での制御性能を示
している。図中には、ヒータ１，ヒータ２に対応する位
置での厚み変化も示している。制御点６〜８に対する制
御性能は、図１４と同様の結果を示す。図１４（ａ）
は、製品フィルム厚み変化の時間応答を示している。図
１４（ｂ）は、ヒータ発熱量指令の時間応答を示してい
る。
【０１００】図１５は、キャスティング速度２５ｍ／mi
n での制御点３〜５に対応するフィルム厚み設定値を
０．５μｍ増したときの制御性能を示している。制御点
６〜８に対する制御性能は図１５と同様の結果を示す。
図１５（ａ）は製品フィルム厚み変化の時間応答を示し
ている。図１５（ｂ）はヒータ発熱量指令の時間応答を
示している。
【０１０１】キャスティング速度が小さくなるにつれ
て、ヒータ発熱量変化量に対するフィルム厚み変化量の
感度が増すため、キャスティング速度が小さくなるにつ
れて、ヒータ発熱量変化量は減少している。
【０１０２】キャスティング速度が小さくなるにつれ
て、フィルム厚み検出の無駄時間は増えるが、キャステ
ィング速度が変わっても制御性能は殆ど変化せず約１５
分で整定状態に達していることが分かる。
【０１０３】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、運
転条件の変化によるフィルム流動による無駄時間の変化
に対して、制御演算式の行列を運転条件に合致した値に
自動的に変更することにより、又、運転条件の変化によ
るヒータ入力変化に対するフィルム厚み感度の変化に対
して、制御演算式中の行列、レギュレータゲイン行列及
び観測器ゲイン行列を運転条件に合致した値に自動的に
変更することにより、運転条件が変化しても常に所定の
厚み制御の速応性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に係るフィルム厚み制御装置
の構成を示すブロック線図。
【図２】従来例のフィルム製造プラントの構成を示す
図。
【図３】ダイに埋め込まれたヒータは配置例を示す正面
図。
【図４】従来のフィルム厚み制御装置の制御ブロック
図。
【図５】従来のフィルム厚み制御装置に無駄時間を含め
たブロック図。
【図６】従来のフィルム厚み制御装置の構成を示すブロ
ック図。
【図７】５組のヒータ位置と５組の厚み検出位置の対応
を示す説明図。
【図８】フィルム厚みの動的数式モデルを表わすブロッ
ク図。
【図９】 フィルム厚みを検出する厚み計の軌跡を示す
線図。
【図１０】制御演算の時間間隔及び時間積分区間を説明
する線図。
【図１１】時間積分区間を説明する線図。
【図１２】時間積分区間を説明する線図。
【図１３】１０組のヒータと１０組の厚み検出位置の対
応を示す説明図。
【図１４】本発明の制御装置におけるシミュレーション
結果を示す説明図。
【図１５】本発明の制御装置における他のシミュレーシ
ョン結果を示す説明図。
【符号の説明】
１０…厚み計、１００…サンプラ、１０１…減算器、１
０２…積分器、１０３…観測器、１０４…メモリ、１０
５…状態推移器、１０６…状態予測器、１０７…加算
器、１０８…操作量指令器、２００…観測器適応器、２
０１…状態予測器適応器、２０２…状態推移器適応器、
２０３…操作量指令器適応器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｃ 55/02 Ｂ２９Ｃ 55/02 Ｇ０５Ｄ 5/03 Ｇ０５Ｄ 5/03 // Ｂ２９Ｌ 7:00

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】フィルムの幅方向に沿って溶融樹脂の吐出
    量を調整操作する機構をもつダイを有し、同ダイ位置と
    厚み計位置間をフィルムが流動するに要する時間だけの
    無駄時間Ｌ1を以て変化を検出する厚み計を有するフィ
    ルムの押出成形並びに流延成形装置において、 厚み計がフィルム幅方向の所定の位置に対応した厚み検
    出値と同位置での厚み設定値との差を出力する減算器
    と、 この減算器から出力される厚み差の時間積分を行う積分
    器と、 上記無駄時間Ｌ1と厚み計が所定の位置の厚み検出後、
    フィルム側先端に達する迄の時間Ｌ2との和Ｌの時間分
    だけ過去の操作量指令器の操作量の時系列を記憶するメ
    モリと、 このメモリに記憶されている過去の操作端の操作量の時
    系列を使って厚み計がフィルム側端部に達して全てのフ
    ィルム厚み検出値が入力された時刻より、厚み計が到達
    したフィルム側端部に応じた上記無駄時間Ｌだけ以前の
    状態変数の推定値を出力する観測器と、 この観測器での演算式に使う行列を決定された運転条件
    に合致するように変更する観測器適応器と、 上記積分器の出力及び上記観測器の出力が入力され、フ
    ィルム両端部での前記無駄時間Ｌの平均値である平均無
    駄時間／Ｌだけ状態を推移させる計数を乗じて厚み計が
    フィルム側端部に達した時刻での状態推定値を出力する
    状態推移器と、 この状態推移器での演算式に使う行列を決定された運転
    条件に合致するように変更する状態推移器適応器と、 上記メモリに記憶されている過去の操作端の操作量の時
    系列に基づき、厚み計がフィルム側端部に到達した時刻
    から上記平均無駄時間／Ｌを経た時刻までの入力の設定
    による状態変化量を出力する状態予測器と、 この状態予測器での演算式に使う行列を決定された運転
    条件に合致するように変更する状態予測器適応器と、 上記状態推移器の出力と上記状態予測器の出力を加算し
    て厚み計がフィルム側端部に達した時刻での状態推定値
    を出力する加算器と、 この加算器から出力される状態推移値に状態フィードバ
    ックゲインを乗じて上記操作端の操作量指令値を出力す
    る操作量指令器と、 この操作量指令器での演算式に使う行列を決定された運
    転条件に合致するように変更する操作量指令器適応器
    と、 を具備したことを特徴とするフィルム厚み制御装置。
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