JP3014192B2 - ニトリルの水素化によるアミンの製造法 - Google Patents
ニトリルの水素化によるアミンの製造法Info
- Publication number
- JP3014192B2 JP3014192B2 JP3289429A JP28942991A JP3014192B2 JP 3014192 B2 JP3014192 B2 JP 3014192B2 JP 3289429 A JP3289429 A JP 3289429A JP 28942991 A JP28942991 A JP 28942991A JP 3014192 B2 JP3014192 B2 JP 3014192B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- hours
- reaction
- added
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ニトリルを水素化して
アミンを製造する方法に関する。アミンは工業的に最も
有用な化合物の１つであり、繊維や樹脂等のポリマー原
料、医薬や農薬の原料、キレート剤や界面活性剤の原料
として用いられている。
アミンを製造する方法に関する。アミンは工業的に最も
有用な化合物の１つであり、繊維や樹脂等のポリマー原
料、医薬や農薬の原料、キレート剤や界面活性剤の原料
として用いられている。
【０００２】
【従来の技術】ニトリルの水素化によるアミンの製造に
おいて、ラネー触媒または担持金属触媒が用いられるこ
とは公知である。
おいて、ラネー触媒または担持金属触媒が用いられるこ
とは公知である。
【０００３】鉄、ニッケル、コバルト、銅等の接触水素
添加能を有する金属とアルミニウムまたはケイ素との合
金を強アルカリ水溶液と処理して、合金中のアルミニウ
ムまたはケイ素を溶出させることによって水素添加能を
有するラネー触媒が製造される。しかし、従来知られた
方法によって工業的規模において大量のラネー合金を展
開する場合は、アルミニウムまたはケイ素とアルカリの
反応による激しい発熱と多量に発生する水素の処置に多
大の注意と特殊な装置を必要とする。
添加能を有する金属とアルミニウムまたはケイ素との合
金を強アルカリ水溶液と処理して、合金中のアルミニウ
ムまたはケイ素を溶出させることによって水素添加能を
有するラネー触媒が製造される。しかし、従来知られた
方法によって工業的規模において大量のラネー合金を展
開する場合は、アルミニウムまたはケイ素とアルカリの
反応による激しい発熱と多量に発生する水素の処置に多
大の注意と特殊な装置を必要とする。
【０００４】金属を触媒として用いる場合、有効表面積
の増加、機械的強度の増加、耐熱性の付与などを目的と
して、触媒成分を担体に担持させることが多い。触媒の
調製法としては、触媒成分含有溶液に担体を浸漬した
後、溶媒を乾燥により除去する含浸法、あるいは担体が
分散された触媒金属塩含有溶液にアンモニア水などを加
えて、水酸化物などの溶媒不溶性の触媒金属化合物を生
成させ、担体上に沈着させる沈着法などが知られてい
る。しかし、これらの方法では比較的多量の触媒金属を
分散性よく担体上に担持させることが困難である。さら
に沈着法では担体上に触媒金属を沈着させるために使用
した物質の塩が不純物として沈着してしまうという欠点
があった。
の増加、機械的強度の増加、耐熱性の付与などを目的と
して、触媒成分を担体に担持させることが多い。触媒の
調製法としては、触媒成分含有溶液に担体を浸漬した
後、溶媒を乾燥により除去する含浸法、あるいは担体が
分散された触媒金属塩含有溶液にアンモニア水などを加
えて、水酸化物などの溶媒不溶性の触媒金属化合物を生
成させ、担体上に沈着させる沈着法などが知られてい
る。しかし、これらの方法では比較的多量の触媒金属を
分散性よく担体上に担持させることが困難である。さら
に沈着法では担体上に触媒金属を沈着させるために使用
した物質の塩が不純物として沈着してしまうという欠点
があった。
【０００５】また、ニトリルを触媒の存在下に水素化し
てアミンを製造する方法では、一級アミンの生成にとも
なって二級および三級アミンも生成する。これらアミン
の生成割合は触媒、温度、圧力、溶媒など反応条件によ
って異なり、一級アミンを主に得たいときは触媒および
反応条件の選択が必要となる。通常は過剰のアンモニア
存在下、ニッケルまたはコバルト触媒を用いてニトリル
を水素化し一級アミンを得る方法が用いられるが、例え
ばサクシノニトリルからアミノニトリルを製造する場
合、ラネーＮｉを用いると１２０℃、１００Ｋｇ／Ｃｍ
2 を必要とし( 特公昭４６ー３３０１９号公報 )、ある
いはラネーＣｏを用いると２７５℃、２００Ｋｇ／Ｃｍ
2 を必要とする( 特開昭４８ー５６６６６号公報 )な
ど、高温高圧となることはさけられない。
てアミンを製造する方法では、一級アミンの生成にとも
なって二級および三級アミンも生成する。これらアミン
の生成割合は触媒、温度、圧力、溶媒など反応条件によ
って異なり、一級アミンを主に得たいときは触媒および
反応条件の選択が必要となる。通常は過剰のアンモニア
存在下、ニッケルまたはコバルト触媒を用いてニトリル
を水素化し一級アミンを得る方法が用いられるが、例え
ばサクシノニトリルからアミノニトリルを製造する場
合、ラネーＮｉを用いると１２０℃、１００Ｋｇ／Ｃｍ
2 を必要とし( 特公昭４６ー３３０１９号公報 )、ある
いはラネーＣｏを用いると２７５℃、２００Ｋｇ／Ｃｍ
2 を必要とする( 特開昭４８ー５６６６６号公報 )な
ど、高温高圧となることはさけられない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ニト
リルを水素化してアミンを製造するに当たり、できるだ
け低温低圧で反応を行うと共に、ー級アミンを高収率で
得ることのできる方法を提供することにある。
リルを水素化してアミンを製造するに当たり、できるだ
け低温低圧で反応を行うと共に、ー級アミンを高収率で
得ることのできる方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、１種または２
種以上の接触水素添加能を有する金属の塩を多価アルコ
ールに溶解し、これに担体原料として金属アルコキシド
またはシリカゾルを添加し、この混合物に水を加えて加
水分解を行い、次いで生成したゲルを乾燥、必要により
焼成したのち、還元することにより調製した担持金属触
媒を用いて、ニトリルを水素化することを特徴とするア
ミンの製造法に関する。
種以上の接触水素添加能を有する金属の塩を多価アルコ
ールに溶解し、これに担体原料として金属アルコキシド
またはシリカゾルを添加し、この混合物に水を加えて加
水分解を行い、次いで生成したゲルを乾燥、必要により
焼成したのち、還元することにより調製した担持金属触
媒を用いて、ニトリルを水素化することを特徴とするア
ミンの製造法に関する。
【０００８】以下、本発明を具体的に説明する。ニトリ
ルの水素化は公知の技術であって、本発明と矛盾しない
限り公知の技術を利用することができる。
ルの水素化は公知の技術であって、本発明と矛盾しない
限り公知の技術を利用することができる。
【０００９】本発明は、この反応を特定の調製法により
製造した担持金属触媒を用いて実施するものである。本
発明の重要な点は、使用する触媒にあり、その触媒は次
のようにして製造される。
製造した担持金属触媒を用いて実施するものである。本
発明の重要な点は、使用する触媒にあり、その触媒は次
のようにして製造される。
【００１０】本発明の触媒を構成する金属成分として
は、ニッケル、コバルト、銅、鉄、ロジウム、パラジウ
ム、白金、銀等の接触水素添加能を有する元素が挙げら
れ、これら触媒成分の原料としては、それぞれの金属の
硝酸塩等の鉱酸塩、酢酸塩等の有機酸塩が用いられる。
これらの金属塩は１種または２種以上組み合わせて用い
ることができる。また、触媒の活性、選択性、物性等を
ー層向上させるために、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、イットリウム、ランタ
ン、セリウム、サマリウム、ジルコニウム、クロム、マ
ンガン、亜鉛、カドミウム、水銀、アルミニウム、鉛等
の１種または２種以上の元素を補助成分として、前記金
属成分に添加することもできる。好ましい補助成分とし
ては、リチウム、ルビジウム、カルシウム、ストロンチ
ウム、サマリウム等が挙げられる。補助成分は金属成分
に対して、モル比で０．１〜１０％、好ましくは１〜５
％の範囲内で適宜用いればよい。
は、ニッケル、コバルト、銅、鉄、ロジウム、パラジウ
ム、白金、銀等の接触水素添加能を有する元素が挙げら
れ、これら触媒成分の原料としては、それぞれの金属の
硝酸塩等の鉱酸塩、酢酸塩等の有機酸塩が用いられる。
これらの金属塩は１種または２種以上組み合わせて用い
ることができる。また、触媒の活性、選択性、物性等を
ー層向上させるために、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、イットリウム、ランタ
ン、セリウム、サマリウム、ジルコニウム、クロム、マ
ンガン、亜鉛、カドミウム、水銀、アルミニウム、鉛等
の１種または２種以上の元素を補助成分として、前記金
属成分に添加することもできる。好ましい補助成分とし
ては、リチウム、ルビジウム、カルシウム、ストロンチ
ウム、サマリウム等が挙げられる。補助成分は金属成分
に対して、モル比で０．１〜１０％、好ましくは１〜５
％の範囲内で適宜用いればよい。
【００１１】本発明で使用される金属触媒は、担体に担
持された触媒である。金属成分の担持量は、触媒の活性
と経済性から考慮して、卑金属を用いる場合には５〜８
０重量％、好ましくは２０〜６０重量％、貴金属を用い
る場合には０．１〜１０重量％、好ましくは０．３〜６
重量％が望ましい。担体としては、シリカ、アルミナ、
チタニア、マグネシア、酸化カルシウム、酸化亜鉛等が
挙げられ、その原料としてはそれぞれの金属アルコキシ
ド例えばケイ酸エチル、ケイ酸メチル、アルミニウムイ
ソプロポキシド、アルミニウムブトキシド、チタニウム
イソプロポキシド、チタニウムエトキシド、チタニウム
ブトキシド、マグネシウムエトキシド等が用いられる。
また、シリカゾルを用いることもできる。
持された触媒である。金属成分の担持量は、触媒の活性
と経済性から考慮して、卑金属を用いる場合には５〜８
０重量％、好ましくは２０〜６０重量％、貴金属を用い
る場合には０．１〜１０重量％、好ましくは０．３〜６
重量％が望ましい。担体としては、シリカ、アルミナ、
チタニア、マグネシア、酸化カルシウム、酸化亜鉛等が
挙げられ、その原料としてはそれぞれの金属アルコキシ
ド例えばケイ酸エチル、ケイ酸メチル、アルミニウムイ
ソプロポキシド、アルミニウムブトキシド、チタニウム
イソプロポキシド、チタニウムエトキシド、チタニウム
ブトキシド、マグネシウムエトキシド等が用いられる。
また、シリカゾルを用いることもできる。
【００１２】触媒成分の溶解に用いる多価アルコールと
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール
およびこれらのアルキル置換体、あるいはこれらの構造
異性体等があげられる。
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール
およびこれらのアルキル置換体、あるいはこれらの構造
異性体等があげられる。
【００１３】触媒の調製は、触媒成分の金属塩あるいは
更に補助成分を少なくとも１当量好ましくは５〜１００
当量の多価アルコールに溶解したのち、この溶液に担持
量に相当する量の金属アルコキシドまたはシリカゾルを
加え、２０〜１２０℃好ましくは６０〜１００℃の温度
範囲で１〜１０時間好ましくは２〜６時間撹拌する。
更に補助成分を少なくとも１当量好ましくは５〜１００
当量の多価アルコールに溶解したのち、この溶液に担持
量に相当する量の金属アルコキシドまたはシリカゾルを
加え、２０〜１２０℃好ましくは６０〜１００℃の温度
範囲で１〜１０時間好ましくは２〜６時間撹拌する。
【００１４】次いで、この混合物に、金属アルコキシド
またはシリカゾルに対して１〜１０当量の水を加えて約
６０〜約１００℃の温度範囲で加水分解を行なう。
またはシリカゾルに対して１〜１０当量の水を加えて約
６０〜約１００℃の温度範囲で加水分解を行なう。
【００１５】これにより生成したゲルを減圧下または常
圧下約６０〜約２００℃の温度範囲で加熱乾燥する。次
いで、必要に応じて約２００〜約９００℃好ましくは３
００〜７００℃の温度範囲で１〜１０時間好ましくは３
〜５時間焼成したのち、水素気流中で約２００〜約９０
０℃好ましくは３００〜７００℃の温度範囲で１〜１０
時間好ましくは１〜５時間還元処理を行う。これにより
触媒の金属成分が高分散された高活性な担持金属触媒
を、簡便にしかも再現性よく得られる。
圧下約６０〜約２００℃の温度範囲で加熱乾燥する。次
いで、必要に応じて約２００〜約９００℃好ましくは３
００〜７００℃の温度範囲で１〜１０時間好ましくは３
〜５時間焼成したのち、水素気流中で約２００〜約９０
０℃好ましくは３００〜７００℃の温度範囲で１〜１０
時間好ましくは１〜５時間還元処理を行う。これにより
触媒の金属成分が高分散された高活性な担持金属触媒
を、簡便にしかも再現性よく得られる。
【００１６】本発明による触媒は、たとえばサクシノニ
トリル、アジポニトリル、３ーアミノプロピオニトリ
ル、３ージメチルアミノプロピオニトリルなどの脂肪族
ニトリルおよびベンゾニトリル、イソフタロニトリル、
テレフタロニトリルなどの芳香族ニトリルから、脂肪
族、芳香族または脂環族アミンを水素添加によって製造
する反応に適用される。
トリル、アジポニトリル、３ーアミノプロピオニトリ
ル、３ージメチルアミノプロピオニトリルなどの脂肪族
ニトリルおよびベンゾニトリル、イソフタロニトリル、
テレフタロニトリルなどの芳香族ニトリルから、脂肪
族、芳香族または脂環族アミンを水素添加によって製造
する反応に適用される。
【００１７】反応は、回分式反応、連続式反応のいずれ
の方法によっても実施することができる。通常、以下の
ようにして行う。ニトリルを溶媒中で前記の担持金属触
媒の存在下に水素加圧下で還元処理する。溶媒として
は、アンモニアを用いるのが好ましいが、トルエン、テ
トラヒドロフラン、ジオキシサン、２ーピロリジノン等
の不活性溶媒を用いることもできる。溶媒の使用量は、
ニトリルに対して少なくとも１当量好ましくは１０〜１
００当量の範囲でよい。
の方法によっても実施することができる。通常、以下の
ようにして行う。ニトリルを溶媒中で前記の担持金属触
媒の存在下に水素加圧下で還元処理する。溶媒として
は、アンモニアを用いるのが好ましいが、トルエン、テ
トラヒドロフラン、ジオキシサン、２ーピロリジノン等
の不活性溶媒を用いることもできる。溶媒の使用量は、
ニトリルに対して少なくとも１当量好ましくは１０〜１
００当量の範囲でよい。
【００１８】触媒の使用量は、ニトリルに対して１〜２
００重量％好ましくは５〜５０重量％がよい。水素の使
用量は、ニトリルに対して２〜４モル好ましくは２〜３
モルの範囲がよい。水素圧力は、少なくとも１気圧好ま
しくは５〜１５０気圧の範囲でよい。反応温度は、約５
０〜約１５０℃好ましくは８０〜１２０℃の範囲でよ
い。反応時間は１時間以内が好ましい。
００重量％好ましくは５〜５０重量％がよい。水素の使
用量は、ニトリルに対して２〜４モル好ましくは２〜３
モルの範囲がよい。水素圧力は、少なくとも１気圧好ま
しくは５〜１５０気圧の範囲でよい。反応温度は、約５
０〜約１５０℃好ましくは８０〜１２０℃の範囲でよ
い。反応時間は１時間以内が好ましい。
【００１９】
【実施例】次に本発明の方法を実施例によりさらに詳細
に説明する。 実施例 １ 触媒調製（４０重量％ニッケル−シリカゲル触媒） 硝酸ニッケル３５ｇをエチレングリコール３００ｍｌに
溶解し、８０℃で１時間撹拌した。この溶液にケイ酸エ
チル３７ｇを滴下し、８０℃で３時間撹拌した。次いで
水１３ｇを加え、８０℃で３時間撹拌した。生成したゲ
ルを赤外線ランプで乾燥し、５００℃で３時間焼成し
た。水素気流中５００℃で２時間還元し、ただちに水素
化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブにサクシノニトリル２ｇを秤
り取り、還元した触媒２ｇとアンモニア約５０ｍｌを仕
込み、水素２０気圧を導入した。オートクレーブの加熱
と撹拌を開始し、１００℃に達してから１２分間で反応
を終了した。触媒をろ過により除去し、得られた反応液
をガスクロ分析した結果、収率９５％で４−アミノブチ
ロニトリルが得られた。
に説明する。 実施例 １ 触媒調製（４０重量％ニッケル−シリカゲル触媒） 硝酸ニッケル３５ｇをエチレングリコール３００ｍｌに
溶解し、８０℃で１時間撹拌した。この溶液にケイ酸エ
チル３７ｇを滴下し、８０℃で３時間撹拌した。次いで
水１３ｇを加え、８０℃で３時間撹拌した。生成したゲ
ルを赤外線ランプで乾燥し、５００℃で３時間焼成し
た。水素気流中５００℃で２時間還元し、ただちに水素
化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブにサクシノニトリル２ｇを秤
り取り、還元した触媒２ｇとアンモニア約５０ｍｌを仕
込み、水素２０気圧を導入した。オートクレーブの加熱
と撹拌を開始し、１００℃に達してから１２分間で反応
を終了した。触媒をろ過により除去し、得られた反応液
をガスクロ分析した結果、収率９５％で４−アミノブチ
ロニトリルが得られた。
【００２０】実施例 ２ 触媒調製（２５重量％ニッケル０．４重量％ロジウム−
シリカゲル触媒） 硝酸ニッケル３５ｇと硝酸ロジウム０．３５ｇをエチレ
ングリコール３００ｍｌに溶解し、８０℃で１時間撹拌
した。この溶液にケイ酸エチル７３ｇを滴下し、８０℃
で３時間撹拌した。次いで水２６ｇを加え、８０℃で３
時間撹拌した。生成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、
３００℃で５時間焼成した。水素気流中３００℃で４時
間還元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 反応時間を１５分とした以外は実施例１と同様にして水
素化反応を行なった。ガスクロ分析の結果、収率９７％
で４−アミノブチロニトリルが得られた。
シリカゲル触媒） 硝酸ニッケル３５ｇと硝酸ロジウム０．３５ｇをエチレ
ングリコール３００ｍｌに溶解し、８０℃で１時間撹拌
した。この溶液にケイ酸エチル７３ｇを滴下し、８０℃
で３時間撹拌した。次いで水２６ｇを加え、８０℃で３
時間撹拌した。生成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、
３００℃で５時間焼成した。水素気流中３００℃で４時
間還元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 反応時間を１５分とした以外は実施例１と同様にして水
素化反応を行なった。ガスクロ分析の結果、収率９７％
で４−アミノブチロニトリルが得られた。
【００２１】実施例 ３ 触媒調製（２０重量％ニッケル２０重量％コバルト−シ
リカゲル触媒） 硝酸ニッケル１７．４ｇと硝酸コバルト１７．５ｇをエ
チレングリコール３００ｍｌに溶解し、８０℃で１時間
撹拌した。この溶液にケイ酸エチル３７ｇを滴下し、８
０℃で３時間撹拌した。次いで水１３ｇを加え、８０℃
で３時間撹拌した。生成したゲルを赤外線ランプで乾燥
し、５００℃で３時間焼成した。水素気流中３００℃で
４時間還元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３−アミノプロピオニトリ
ル２ｇを秤り取り、還元した触媒２ｇとアンモニア約５
０ｍｌを仕込み、水素３０気圧を導入した。オートクレ
ーブの加熱と撹拌を開始し、１２０℃に達してから３０
分間で反応を終了した。触媒をろ過により除去し、得ら
れた反応液をガスクロ分析した結果、収率８０％で１，
３−ジアミノプロパンが得られた。
リカゲル触媒） 硝酸ニッケル１７．４ｇと硝酸コバルト１７．５ｇをエ
チレングリコール３００ｍｌに溶解し、８０℃で１時間
撹拌した。この溶液にケイ酸エチル３７ｇを滴下し、８
０℃で３時間撹拌した。次いで水１３ｇを加え、８０℃
で３時間撹拌した。生成したゲルを赤外線ランプで乾燥
し、５００℃で３時間焼成した。水素気流中３００℃で
４時間還元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３−アミノプロピオニトリ
ル２ｇを秤り取り、還元した触媒２ｇとアンモニア約５
０ｍｌを仕込み、水素３０気圧を導入した。オートクレ
ーブの加熱と撹拌を開始し、１２０℃に達してから３０
分間で反応を終了した。触媒をろ過により除去し、得ら
れた反応液をガスクロ分析した結果、収率８０％で１，
３−ジアミノプロパンが得られた。
【００２２】実施例 ４ 触媒調製（２５重量％ニッケル−マグネシア触媒） 硝酸ニッケル５．８１ｇをエチレングリコール５０ｍｌ
に溶解し、８０℃で１時間撹拌した。マグネシウムエト
キシド１０ｇを加え、８０℃で３時間攪拌した。次いで
水５０ｇを加え、８０℃で２時間攪拌した。生じた沈澱
を濾別、水洗し乾燥した。７００℃で３時間焼成したの
ち水素気流中７００℃で１時間還元し、ただちに水素化
反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３−ジメチルアミノプロピ
オニトリル２ｇを秤り取り、還元した触媒１ｇとアンモ
ニア約５０ｍｌを仕込み、水素２０気圧を導入した。オ
ートクレーブの加熱と撹拌を開始し、１００℃に達して
から１０分間で反応を終了した。触媒をろ過により除去
し、得られた反応液をガスクロ分析した結果、収率９８
％で３−ジメチルアミノプロピルアミンが得られた。
に溶解し、８０℃で１時間撹拌した。マグネシウムエト
キシド１０ｇを加え、８０℃で３時間攪拌した。次いで
水５０ｇを加え、８０℃で２時間攪拌した。生じた沈澱
を濾別、水洗し乾燥した。７００℃で３時間焼成したの
ち水素気流中７００℃で１時間還元し、ただちに水素化
反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３−ジメチルアミノプロピ
オニトリル２ｇを秤り取り、還元した触媒１ｇとアンモ
ニア約５０ｍｌを仕込み、水素２０気圧を導入した。オ
ートクレーブの加熱と撹拌を開始し、１００℃に達して
から１０分間で反応を終了した。触媒をろ過により除去
し、得られた反応液をガスクロ分析した結果、収率９８
％で３−ジメチルアミノプロピルアミンが得られた。
【００２３】実施例 ５ 触媒調製（４０重量％コバルト−アルミナ触媒） 硝酸コバルト２３ｇをヘキサエチレングリコール（２ー
メチルー２，４ーペンタンジオール）１００ｍｌに溶解
し、６０℃で１時間撹拌した。この溶液にアルミニウム
イソプロポキシド２８ｇを加え、６０℃で４時間攪拌し
た。次いで水１０ｇを加え、６０℃で４時間攪拌した。
生成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、７００℃で４時
間焼成したのち水素気流中７００℃で１時間還元し、た
だちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブにベンゾニトリル２ｇを秤り
取り、還元した触媒０．５ｇとアンモニア約５０ｍｌを
仕込み、水素２０気圧を導入した。オートクレーブの加
熱と撹拌を開始し、１００℃に達してから２０分間で反
応を終了した。触媒をろ過により除去し、得られた反応
液をガスクロ分析した結果、収率９８％でベンジルルア
ミンが得られた。
メチルー２，４ーペンタンジオール）１００ｍｌに溶解
し、６０℃で１時間撹拌した。この溶液にアルミニウム
イソプロポキシド２８ｇを加え、６０℃で４時間攪拌し
た。次いで水１０ｇを加え、６０℃で４時間攪拌した。
生成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、７００℃で４時
間焼成したのち水素気流中７００℃で１時間還元し、た
だちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブにベンゾニトリル２ｇを秤り
取り、還元した触媒０．５ｇとアンモニア約５０ｍｌを
仕込み、水素２０気圧を導入した。オートクレーブの加
熱と撹拌を開始し、１００℃に達してから２０分間で反
応を終了した。触媒をろ過により除去し、得られた反応
液をガスクロ分析した結果、収率９８％でベンジルルア
ミンが得られた。
【００２４】実施例 ６ 触媒調製（５重量％ロジウム−シリカゲル触媒） 硝酸ロジウム３ｇを１，４ーブタンジオール１００ｍｌ
に溶解し、７０℃で１時間撹拌した。この溶液に２０重
量％シリカゾル１００ｇを加え、７０℃で５時間攪拌し
た。次いで、生成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、６
００℃で３時間焼成したのち水素気流中６００℃で１時
間還元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３ーシアノピリジン２ｇを
秤り取り、還元した触媒０．２ｇとアンモニア約５０ｍ
ｌを仕込み、水素２０気圧を導入した。オートクレーブ
の加熱と撹拌を開始し、１００℃に達してから１０分間
で反応を終了した。触媒をろ過により除去し、得られた
反応液をガスクロ分析した結果、収率９５％で３ーアミ
ノメチルピリジンが得られた。
に溶解し、７０℃で１時間撹拌した。この溶液に２０重
量％シリカゾル１００ｇを加え、７０℃で５時間攪拌し
た。次いで、生成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、６
００℃で３時間焼成したのち水素気流中６００℃で１時
間還元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３ーシアノピリジン２ｇを
秤り取り、還元した触媒０．２ｇとアンモニア約５０ｍ
ｌを仕込み、水素２０気圧を導入した。オートクレーブ
の加熱と撹拌を開始し、１００℃に達してから１０分間
で反応を終了した。触媒をろ過により除去し、得られた
反応液をガスクロ分析した結果、収率９５％で３ーアミ
ノメチルピリジンが得られた。
【００２５】実施例 ７ 触媒調製（５重量％ロジウム−マグネシア触媒） 硝酸ロジウム３ｇをエチレングリコール１００ｍｌに溶
解し、８０℃で１時間撹拌した。この溶液にマグネシウ
ムエトキシド５８ｇを加え、８０℃で３時間攪拌した。
次いで、水４０ｇを加えて８０℃で３時間攪拌した。生
成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、５００℃で３時間
焼成したのち水素気流中５００℃で１時間還元し、ただ
ちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに４ーアミノプロピオニトリ
ル２ｇを秤り取り、還元した触媒０．５ｇとアンモニア
約５０ｍｌを仕込み、水素２０気圧を導入した。オート
クレーブの加熱と撹拌を開始し、１００℃に達してから
２０分間で反応を終了した。触媒をろ過により除去し、
得られた反応液をガスクロ分析した結果、収率９８％で
１，３ージアミノプロパンが得られた。
解し、８０℃で１時間撹拌した。この溶液にマグネシウ
ムエトキシド５８ｇを加え、８０℃で３時間攪拌した。
次いで、水４０ｇを加えて８０℃で３時間攪拌した。生
成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、５００℃で３時間
焼成したのち水素気流中５００℃で１時間還元し、ただ
ちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに４ーアミノプロピオニトリ
ル２ｇを秤り取り、還元した触媒０．５ｇとアンモニア
約５０ｍｌを仕込み、水素２０気圧を導入した。オート
クレーブの加熱と撹拌を開始し、１００℃に達してから
２０分間で反応を終了した。触媒をろ過により除去し、
得られた反応液をガスクロ分析した結果、収率９８％で
１，３ージアミノプロパンが得られた。
【００２６】実施例 ８ 触媒調製（４０重量％コバルト０．０５重量％リチウム
−マグネシア触媒） 硝酸コバルト２３ｇと硝酸リチウム５４ｇをエチレング
リコール１００ｍｌに溶解し、９０℃で１時間撹拌し
た。この溶液にマグネシウムエトキシド２０ｇを加え、
９０℃で３時間攪拌した。次いで、水２０ｇを加えて９
０℃で３時間攪拌した。生成したゲルを赤外線ランプで
乾燥し、４００℃で４時間焼成したのち水素気流中４０
０℃で１時間還元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３ージメチルアミノプロピ
オニトリル２ｇを秤り取り、還元した触媒０．３ｇとア
ンモニア約５０ｍｌを仕込み、水素２０気圧を導入し
た。オートクレーブの加熱と撹拌を開始し、１００℃に
達してから１０分間で反応を終了した。触媒をろ過によ
り除去し、得られた反応液をガスクロ分析した結果、収
率９９％で３ージメチルアミノプロピルアミンが得られ
た。
−マグネシア触媒） 硝酸コバルト２３ｇと硝酸リチウム５４ｇをエチレング
リコール１００ｍｌに溶解し、９０℃で１時間撹拌し
た。この溶液にマグネシウムエトキシド２０ｇを加え、
９０℃で３時間攪拌した。次いで、水２０ｇを加えて９
０℃で３時間攪拌した。生成したゲルを赤外線ランプで
乾燥し、４００℃で４時間焼成したのち水素気流中４０
０℃で１時間還元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３ージメチルアミノプロピ
オニトリル２ｇを秤り取り、還元した触媒０．３ｇとア
ンモニア約５０ｍｌを仕込み、水素２０気圧を導入し
た。オートクレーブの加熱と撹拌を開始し、１００℃に
達してから１０分間で反応を終了した。触媒をろ過によ
り除去し、得られた反応液をガスクロ分析した結果、収
率９９％で３ージメチルアミノプロピルアミンが得られ
た。
【００２７】実施例 ９ 触媒調製（３０重量％銅０．１９重量％カルシウム−シ
リカゲル触媒） 硝酸銅１９ｇと硝酸カルシウム１８９ｇをエチレングリ
コール１００ｍｌに溶解し、７０℃で１時間撹拌した。
この溶液にケイ酸エチル４２ｇを加え、７０℃で３時間
攪拌した。次いで、水２０ｇを加えて７０℃で３時間攪
拌した。生成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、４００
℃で４時間焼成したのち水素気流中４００℃で１時間還
元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３ージエチルアミノプロピ
オニトリル２ｇを秤り取り、還元した触媒０．３ｇとア
ンモニア約５０ｍｌを仕込み、水素２０気圧を導入し
た。オートクレーブの加熱と撹拌を開始し、１００℃に
達してから１０分間で反応を終了した。触媒をろ過によ
り除去し、得られた反応液をガスクロ分析した結果、収
率９８％で３ージエチルアミノプロピルアミンが得られ
た。
リカゲル触媒） 硝酸銅１９ｇと硝酸カルシウム１８９ｇをエチレングリ
コール１００ｍｌに溶解し、７０℃で１時間撹拌した。
この溶液にケイ酸エチル４２ｇを加え、７０℃で３時間
攪拌した。次いで、水２０ｇを加えて７０℃で３時間攪
拌した。生成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、４００
℃で４時間焼成したのち水素気流中４００℃で１時間還
元し、ただちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブに３ージエチルアミノプロピ
オニトリル２ｇを秤り取り、還元した触媒０．３ｇとア
ンモニア約５０ｍｌを仕込み、水素２０気圧を導入し
た。オートクレーブの加熱と撹拌を開始し、１００℃に
達してから１０分間で反応を終了した。触媒をろ過によ
り除去し、得られた反応液をガスクロ分析した結果、収
率９８％で３ージエチルアミノプロピルアミンが得られ
た。
【００２８】実施例 １０ 触媒調製（５重量％パラジウム−シリカゲル触媒） 硝酸パラジウム２．３ｇを１，４ーブタンジオール１０
０ｍｌに溶解し、６０℃で１時間撹拌した。この溶液に
ケイ酸エチル７０ｇを加え、６０℃で３時間攪拌した。
次いで、水３０ｇを加えて６０℃で３時間攪拌した。生
成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、５００℃で４時間
焼成したのち水素気流中５００℃で１時間還元し、ただ
ちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブにシアン化ベンジル２ｇを秤
り取り、還元した触媒０．２ｇとアンモニア約５０ｍｌ
を仕込み、水素２０気圧を導入した。オートクレーブの
加熱と撹拌を開始し、１００℃に達してから１０分間で
反応を終了した。触媒をろ過により除去し、得られた反
応液をガスクロ分析した結果、収率９７％でβーフェニ
ルエチルアミンが得られた。
０ｍｌに溶解し、６０℃で１時間撹拌した。この溶液に
ケイ酸エチル７０ｇを加え、６０℃で３時間攪拌した。
次いで、水３０ｇを加えて６０℃で３時間攪拌した。生
成したゲルを赤外線ランプで乾燥し、５００℃で４時間
焼成したのち水素気流中５００℃で１時間還元し、ただ
ちに水素化反応に用いた。 水素化反応 １５０ｍｌオートクレーブにシアン化ベンジル２ｇを秤
り取り、還元した触媒０．２ｇとアンモニア約５０ｍｌ
を仕込み、水素２０気圧を導入した。オートクレーブの
加熱と撹拌を開始し、１００℃に達してから１０分間で
反応を終了した。触媒をろ過により除去し、得られた反
応液をガスクロ分析した結果、収率９７％でβーフェニ
ルエチルアミンが得られた。
【００２９】
【発明の効果】本発明の方法によれば、特定の調製法に
よる担持金属触媒を用いることによりニトリルの水素化
を低温低圧で効果的に行うことができ、目的生成物アミ
ンを収率よく得ることができた。
よる担持金属触媒を用いることによりニトリルの水素化
を低温低圧で効果的に行うことができ、目的生成物アミ
ンを収率よく得ることができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 23/78 Ｂ０１Ｊ 23/78 Ｘ 23/89 23/89 Ｘ Ｃ０７Ｃ 211/01 Ｃ０７Ｃ 211/01 211/33 211/33 211/43 211/43 255/24 255/24 Ｃ０７Ｄ 213/38 Ｃ０７Ｄ 213/38 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 209/48 C07C 209/00 C07B 61/00 300
Claims (2)
- 【請求項１】１種または２種以上の接触水素添加能を有
する金属の塩を多価アルコールに溶解し、これに担体原
料として金属アルコキシドまたはシリカゾルを添加し、
この混合物に水を加えて加水分解を行い、次いで生成し
たゲルを乾燥、必要により焼成したのち、還元すること
により調製した担持金属触媒を用いて、ニトリルを水素
化することを特徴とするアミンの製造法 - 【請求項２】接触水素添加能を有する金属が、ニッケ
ル、コバルト、銅、鉄、ロジウム、パラジウム、白金お
よび銀の元素から選ばれたものである請求項１記載の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3289429A JP3014192B2 (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | ニトリルの水素化によるアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3289429A JP3014192B2 (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | ニトリルの水素化によるアミンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597776A JPH0597776A (ja) | 1993-04-20 |
| JP3014192B2 true JP3014192B2 (ja) | 2000-02-28 |
Family
ID=17743135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3289429A Expired - Lifetime JP3014192B2 (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | ニトリルの水素化によるアミンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3014192B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000046179A1 (fr) * | 1999-02-04 | 2000-08-10 | Sagami Chemical Research Center | Procede de production d'amine primaire aromatique par hydrogenation a basse pression de nitrile aromatique |
| EP2571840A1 (en) * | 2010-05-19 | 2013-03-27 | BioAmber S.A.S. | Processes for producing diaminobutane (dab), succinic dinitrile (sdn) and succinamide (dam) |
| US9464030B2 (en) | 2011-05-18 | 2016-10-11 | Bioamber Inc. | Processes for producing butanediol (BDO), diaminobutane (DAB), succinic dinitrile (SDN) and succinamide (DAM) |
-
1991
- 1991-10-09 JP JP3289429A patent/JP3014192B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0597776A (ja) | 1993-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4017023B2 (ja) | 脂肪族α，ω−アミノニトリルの製法 | |
| US4301077A (en) | Process for the manufacture of 1-4-butanediol and tetrahydrofuran | |
| EP0064241B1 (en) | Process for producing ethylene glycol and/or glycolic acid ester, catalyst composition used therefor, and process for the production of this composition | |
| US7468342B2 (en) | Catalysts and process for producing aromatic amines | |
| US7053247B2 (en) | Process for the manufacture of diethylenetriamine and higher polyethylenepolyamines | |
| DE19507007A1 (de) | Katalysatoren für die Aminierung von Alkoholen, Ketonen und Aldehyden | |
| US4482741A (en) | Preparation of xylylenediamine | |
| EP0526851B1 (en) | Process and catalyst for producing an ethylenamine | |
| DE69621156T3 (de) | Verfahren zur Hydrierung von Nitrilen | |
| JPS62178565A (ja) | ε−カプロラクタムの製造方法 | |
| KR20010041628A (ko) | 지방족 알파, 오메가-디니트릴의 수소화 방법 | |
| JPS6256785B2 (ja) | ||
| JP3014192B2 (ja) | ニトリルの水素化によるアミンの製造法 | |
| US5703264A (en) | Process for producing aliphatic nitrile | |
| JP2003511219A (ja) | 不動態化された鉄の活性化 | |
| EP0535484B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Diphenylaminen | |
| JPH0759300B2 (ja) | ロジウム触媒、それらの製造方法及びそれを用いるジフエニルアミンの製造方法 | |
| US3789074A (en) | Particle size-ph effects on reduced copper oxide in preparation of acrylamide | |
| JPH0873406A (ja) | ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法 | |
| EP0510493B1 (en) | Process for producing N-alkyl-N-methylamine or N-alkenyl-N-methylamine | |
| US3900517A (en) | Conversion of nitrile to its corresponding amide using improved copper oxide catalyst | |
| EP1431272B1 (de) | Verfahren zur katalytischen Hydrierung einer aliphatisch ungesättigten Gruppe in einer organischen Verbindung | |
| DE3303789C2 (ja) | ||
| JP4182324B2 (ja) | 芳香族アミン製造触媒の製法 | |
| JP4147809B2 (ja) | ハロゲン化芳香族メチルアミン類の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071217 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081217 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091217 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091217 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101217 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101217 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111217 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |