JP3012224B2 - ラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置 - Google Patents
ラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置Info
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- JP3012224B2 JP3012224B2 JP11075498A JP11075498A JP3012224B2 JP 3012224 B2 JP3012224 B2 JP 3012224B2 JP 11075498 A JP11075498 A JP 11075498A JP 11075498 A JP11075498 A JP 11075498A JP 3012224 B2 JP3012224 B2 JP 3012224B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スラスト加重を固
定体上端の環状平面と回転体の周辺部下面との滑り面で
受けるラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装
置に関する。
定体上端の環状平面と回転体の周辺部下面との滑り面で
受けるラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンウエハー、セラミック基
板、アルミディスク、ガラスディスク、フォトマス、電
子部品、機械部品、自動車部品等の製品に平滑加工を施
したり、また、光沢加工を施したりするのにラッピング
／ポリッシングマシンが用いられている。
板、アルミディスク、ガラスディスク、フォトマス、電
子部品、機械部品、自動車部品等の製品に平滑加工を施
したり、また、光沢加工を施したりするのにラッピング
／ポリッシングマシンが用いられている。
【０００３】図７は、従来のラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置の縦断面図である。図７に示さ
れているように、ラッピング／ポリッシングマシンの下
定盤回転装置１２０において、回転軸１０１は、円筒状
の固定体１０５の中にラジアルベアリング１０２ａ、１
０２ｂを介して挿入されている。ラジアルベアリング１
０２ａ，１０２ｂは、回転軸１０１の外表面及び固定体
１０５の内表面にそれぞれ固着されている。回転軸１０
１は、ラジアルベアリング１０２ａ，１０２ｂを介して
挿入されているので、回転駆動機構（図示せず）により
スムースに回転させられる。回転体１０３は、その中心
部下面が回転軸１０１の上面に固着され、そして、その
周辺部下面がスラストベアリング１１６を介して固定体
１０５の上端の環状平面に固着されているので、回転軸
１０１の回転に伴って回転する。下定盤１０４は、この
ような回転体１０３の上に取り替え可能に保持されてい
る。
マシンの下定盤回転装置の縦断面図である。図７に示さ
れているように、ラッピング／ポリッシングマシンの下
定盤回転装置１２０において、回転軸１０１は、円筒状
の固定体１０５の中にラジアルベアリング１０２ａ、１
０２ｂを介して挿入されている。ラジアルベアリング１
０２ａ，１０２ｂは、回転軸１０１の外表面及び固定体
１０５の内表面にそれぞれ固着されている。回転軸１０
１は、ラジアルベアリング１０２ａ，１０２ｂを介して
挿入されているので、回転駆動機構（図示せず）により
スムースに回転させられる。回転体１０３は、その中心
部下面が回転軸１０１の上面に固着され、そして、その
周辺部下面がスラストベアリング１１６を介して固定体
１０５の上端の環状平面に固着されているので、回転軸
１０１の回転に伴って回転する。下定盤１０４は、この
ような回転体１０３の上に取り替え可能に保持されてい
る。
【０００４】かかるラッピング／ポリッシングマシンの
下定盤回転装置１２０は、両面又は片面のラッピング／
ポリッシング加工を行うことができる。即ち、両面ラッ
ピング／ポリッシング加工は、下定盤１０４の上に、キ
ャリア（図示せず）に保持された非加工物（図示せず）
を載置し、加工液の存在下において、このキャリアに保
持された非加工物を太陽ギヤ（図示せず）により遊星運
動をさせ、この遊星運動をする非加工物に下定盤１０４
とは逆に回転する上定盤回転ユニット１３０を降下させ
て接触させることにより行われる。また、片面ラッピン
グ／ポリッシング加工は、加工液の存在下において、加
圧プレート（図示せず）の下面に保持された非加工物を
下定盤１０４に接触させることにより行われる。
下定盤回転装置１２０は、両面又は片面のラッピング／
ポリッシング加工を行うことができる。即ち、両面ラッ
ピング／ポリッシング加工は、下定盤１０４の上に、キ
ャリア（図示せず）に保持された非加工物（図示せず）
を載置し、加工液の存在下において、このキャリアに保
持された非加工物を太陽ギヤ（図示せず）により遊星運
動をさせ、この遊星運動をする非加工物に下定盤１０４
とは逆に回転する上定盤回転ユニット１３０を降下させ
て接触させることにより行われる。また、片面ラッピン
グ／ポリッシング加工は、加工液の存在下において、加
圧プレート（図示せず）の下面に保持された非加工物を
下定盤１０４に接触させることにより行われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このようなラッピング
／ポリッシングマシンにおいては、下定盤１０４を回転
体１０３と共に回転させる場合、スラスト荷重は、スラ
ストベアリング１１６、いわゆる、転がり軸受けで受け
ることになる。ところが、最近においては、非加工品の
大型化が進められており、そのために、１１００〜３０
００ｍｍもある大きな下定盤径１０４を有するラッピン
グ／ポリッシングマシンが必要とされるようになってき
た。このように、大きな下定盤径１０４を有するラッピ
ング／ポリッシングマシンにおいて、そのスラスト荷重
を回転体１０３を介して転がり軸受けで受けた場合、
(1) スラスト荷重を受ける範囲はＬＫとなるので、ＬＫ
以外の範囲では、下定盤１０４の変形が生じ、特に、そ
の周辺に行くほどのオーバーハングによる変形が生じ、
そして、(2) スラストベアリング１１６の摩耗が生じる
ので、加工品の精度に狂いが生じという問題があった。
さらに、振動及び騒音が生じるという問題もあった。
／ポリッシングマシンにおいては、下定盤１０４を回転
体１０３と共に回転させる場合、スラスト荷重は、スラ
ストベアリング１１６、いわゆる、転がり軸受けで受け
ることになる。ところが、最近においては、非加工品の
大型化が進められており、そのために、１１００〜３０
００ｍｍもある大きな下定盤径１０４を有するラッピン
グ／ポリッシングマシンが必要とされるようになってき
た。このように、大きな下定盤径１０４を有するラッピ
ング／ポリッシングマシンにおいて、そのスラスト荷重
を回転体１０３を介して転がり軸受けで受けた場合、
(1) スラスト荷重を受ける範囲はＬＫとなるので、ＬＫ
以外の範囲では、下定盤１０４の変形が生じ、特に、そ
の周辺に行くほどのオーバーハングによる変形が生じ、
そして、(2) スラストベアリング１１６の摩耗が生じる
ので、加工品の精度に狂いが生じという問題があった。
さらに、振動及び騒音が生じるという問題もあった。
【０００６】そこで、本発明者は、従来のラッピング／
ポリッシングマシンの下定盤回転装置において、スラス
ト加重を固定体上端の環状平面と回転体の周辺部下面と
の滑り面で受ければ、スラスト荷重を受ける範囲は、Ｌ
Ｓ（第７図）となり、従来のＬＫよりも広いものとなる
ので、スラスト荷重による下定盤の変形を防止でき、し
かも、スラストベアリングを用いなくなるので、振動及
び騒音を防止できると考えて、スラスト加重を固定体上
端の環状平面と回転体の周辺部下面との滑り面で受ける
ラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置を開
発した。
ポリッシングマシンの下定盤回転装置において、スラス
ト加重を固定体上端の環状平面と回転体の周辺部下面と
の滑り面で受ければ、スラスト荷重を受ける範囲は、Ｌ
Ｓ（第７図）となり、従来のＬＫよりも広いものとなる
ので、スラスト荷重による下定盤の変形を防止でき、し
かも、スラストベアリングを用いなくなるので、振動及
び騒音を防止できると考えて、スラスト加重を固定体上
端の環状平面と回転体の周辺部下面との滑り面で受ける
ラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置を開
発した。
【０００７】しかし、このようなスラスト加重を固定体
上端の環状平面と回転体の周辺部下面との滑り面で受け
るラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置に
おいては、該滑り面で受ける許容荷重は、下定盤の内径
側及び外径側とも同じになるが、その内径側及び外径側
の速度（周速）差が大きくなる。下定盤がさらに大きく
なると、スラスト荷重を受ける滑り面の範囲も広くなる
ために、その内径側及び外径側の速度差は、著しく大き
くなる。それ故、このようなラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置は、前記従来の「転がり軸受
け」で受けるものよりも、振動、騒音及び下定盤の変形
が少なくなり、加工品の精度に狂いが生じにくくなると
いう利点があるが、大きな加工荷重を必要とする場合
には、滑り面の許容荷重が大きくなり、回転速度を速く
することができないこと、大きな加工速度を必要とす
る場合には、摩擦抵抗に伴う発熱で滑り面での温度が上
昇するので、許容荷重を小さくする必要があること、等
の問題があった。
上端の環状平面と回転体の周辺部下面との滑り面で受け
るラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置に
おいては、該滑り面で受ける許容荷重は、下定盤の内径
側及び外径側とも同じになるが、その内径側及び外径側
の速度（周速）差が大きくなる。下定盤がさらに大きく
なると、スラスト荷重を受ける滑り面の範囲も広くなる
ために、その内径側及び外径側の速度差は、著しく大き
くなる。それ故、このようなラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置は、前記従来の「転がり軸受
け」で受けるものよりも、振動、騒音及び下定盤の変形
が少なくなり、加工品の精度に狂いが生じにくくなると
いう利点があるが、大きな加工荷重を必要とする場合
には、滑り面の許容荷重が大きくなり、回転速度を速く
することができないこと、大きな加工速度を必要とす
る場合には、摩擦抵抗に伴う発熱で滑り面での温度が上
昇するので、許容荷重を小さくする必要があること、等
の問題があった。
【０００８】本発明は、かかる問題を解決することを目
的としている。即ち、本発明は、大きな加工荷重（スラ
スト荷重）及び／又は加工速度を必要とする場合でもス
ラスト荷重による下定盤の変形及び摩擦抵抗に伴う発熱
を防止した故障原因の少ないラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置を提供することを目的とする。
的としている。即ち、本発明は、大きな加工荷重（スラ
スト荷重）及び／又は加工速度を必要とする場合でもス
ラスト荷重による下定盤の変形及び摩擦抵抗に伴う発熱
を防止した故障原因の少ないラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、先に開発し
たスラスト加重を固定体上端の環状平面と回転体の周辺
部下面との滑り面で受けるラッピング／ポリッシングマ
シンの下定盤回転装置において、固定体に、その上端の
環状平面に沿って空気溜まり室を設けると共に、該空気
溜まり室に通じる細孔を設けて、その細孔より圧力空気
（静圧）を送り込むことにより、大きな加工荷重及び／
又は加工速度を必要とする場合でも、スラスト荷重によ
る内外径の周速差の大きい回転体の変形及び摩擦抵抗に
伴う発熱を防止できることを見出して本発明を完成する
に至った。
たスラスト加重を固定体上端の環状平面と回転体の周辺
部下面との滑り面で受けるラッピング／ポリッシングマ
シンの下定盤回転装置において、固定体に、その上端の
環状平面に沿って空気溜まり室を設けると共に、該空気
溜まり室に通じる細孔を設けて、その細孔より圧力空気
（静圧）を送り込むことにより、大きな加工荷重及び／
又は加工速度を必要とする場合でも、スラスト荷重によ
る内外径の周速差の大きい回転体の変形及び摩擦抵抗に
伴う発熱を防止できることを見出して本発明を完成する
に至った。
【００１０】本第１発明は、上記目的を達成するため
に、スラスト加重を固定体上端の環状平面と回転体の周
辺部下面との滑り面で受けるラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置において、固定体に、その上端
の環状平面に沿って空気溜まり室を設けると共に、該空
気溜まり室に通じる細孔を設けて、該細孔より圧力空気
を送り込むようにしたことを特徴とするラッピング／ポ
リッシングマシンの下定盤回転装置である。
に、スラスト加重を固定体上端の環状平面と回転体の周
辺部下面との滑り面で受けるラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置において、固定体に、その上端
の環状平面に沿って空気溜まり室を設けると共に、該空
気溜まり室に通じる細孔を設けて、該細孔より圧力空気
を送り込むようにしたことを特徴とするラッピング／ポ
リッシングマシンの下定盤回転装置である。
【００１１】第２発明は、第１発明において、空気溜ま
り室を、円周方向に等間隔に設けた平面視で円形、楕円
形、正方形、長方形、三角形又は菱形をした多数の室に
より、構成したことを特徴とするものである。
り室を、円周方向に等間隔に設けた平面視で円形、楕円
形、正方形、長方形、三角形又は菱形をした多数の室に
より、構成したことを特徴とするものである。
【００１２】第３発明は、第２発明において、空気溜ま
り室を構成する多数の室間にそれらを連通させる空気溝
を円周方向に設けたことを特徴とするものである。
り室を構成する多数の室間にそれらを連通させる空気溝
を円周方向に設けたことを特徴とするものである。
【００１３】第４発明は、第１発明において、空気溜ま
り室を、平面視で円形渦巻状、星状又は矩形渦巻状の連
続溝或いは放射状に配置した多数の溝により、構成した
ことを特徴とするものである。
り室を、平面視で円形渦巻状、星状又は矩形渦巻状の連
続溝或いは放射状に配置した多数の溝により、構成した
ことを特徴とするものである。
【００１４】第５発明は、第１，２，３又は４発明にお
いて、固定体に、その上端の環状平面に沿って油溝を設
けると共に、該油溝に通じる細孔を設けたことを特徴と
するものである。
いて、固定体に、その上端の環状平面に沿って油溝を設
けると共に、該油溝に通じる細孔を設けたことを特徴と
するものである。
【００１５】第６発明は、第５発明において、油溝を、
平面視で放射状に配置した多数の溝で構成したことを特
徴とするものである。
平面視で放射状に配置した多数の溝で構成したことを特
徴とするものである。
【００１６】第７発明は、第１，２，３，５又は６発明
において、回転体の周辺部下面にフッ素系樹脂シートを
設けたことを特徴とするものである。
において、回転体の周辺部下面にフッ素系樹脂シートを
設けたことを特徴とするものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は、本発明の一実施の形態を
示す下定盤及び回転体を取り外した状態のラッピング／
ポリッシングマシンの平面図である。図２は、本発明の
他の一実施の形態を示す下定盤及び回転体を取り外した
状態のラッピング／ポリッシングマシンの平面図であ
る。図３は、本発明の他の一実施の形態を示す下定盤及
び回転体を取り外した状態のラッピング／ポリッシング
マシンの平面図である。図４は、本発明の他の一実施の
形態を示す下定盤及び回転体を取り外した状態のラッピ
ング／ポリッシングマシンの平面説明図である。図５
は、本発明の一実施の形態を示すラッピング／ポリッシ
ングマシンの下定盤回転装置の図１のＡ−Ａ断面に対応
する断面図である。図６は、本発明の他の一実施の形態
を示すラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装
置の図１のＡ−Ａ断面に対応する断面図である。
に基づいて説明する。図１は、本発明の一実施の形態を
示す下定盤及び回転体を取り外した状態のラッピング／
ポリッシングマシンの平面図である。図２は、本発明の
他の一実施の形態を示す下定盤及び回転体を取り外した
状態のラッピング／ポリッシングマシンの平面図であ
る。図３は、本発明の他の一実施の形態を示す下定盤及
び回転体を取り外した状態のラッピング／ポリッシング
マシンの平面図である。図４は、本発明の他の一実施の
形態を示す下定盤及び回転体を取り外した状態のラッピ
ング／ポリッシングマシンの平面説明図である。図５
は、本発明の一実施の形態を示すラッピング／ポリッシ
ングマシンの下定盤回転装置の図１のＡ−Ａ断面に対応
する断面図である。図６は、本発明の他の一実施の形態
を示すラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装
置の図１のＡ−Ａ断面に対応する断面図である。
【００１８】図５に示されているように、ラッピング／
ポリッシングマシンの下定盤回転装置２０において、回
転軸１は、円筒状の固定体５の中にラジアルベアリング
２ａ，２ｂを介して挿入されている。ラジアルベアリン
グ２ａ，２ｂは、回転軸１の外表面及び固定体５の内表
面にそれぞれ固着されている。本実施の形態において
は、ラジアルベアリングが二段に設けられているが、そ
の段数は任意に選択することができる。回転軸１は、ラ
ジアルベアリング２ａ，２ｂを介して挿入されているの
で、回転駆動機構（図示せず）によりスムースに回転さ
せられる。回転体３は、その中心部下面が回転軸１の上
面１ａに固着され、そして、その周辺部下面が固定体上
端の環状平面に面接触している。そのために、スラスト
加重は、固定体上端の環状平面と回転体の周辺部下面と
の滑り面８で受けることとなる。そして、固定体５に
は、その上端の環状平面に沿って空気溜まり室６が設け
られ、また、該空気溜まり室６に通じる細孔７が設けら
れて、該細孔７より圧力空気が送り込まれるようにされ
ている。
ポリッシングマシンの下定盤回転装置２０において、回
転軸１は、円筒状の固定体５の中にラジアルベアリング
２ａ，２ｂを介して挿入されている。ラジアルベアリン
グ２ａ，２ｂは、回転軸１の外表面及び固定体５の内表
面にそれぞれ固着されている。本実施の形態において
は、ラジアルベアリングが二段に設けられているが、そ
の段数は任意に選択することができる。回転軸１は、ラ
ジアルベアリング２ａ，２ｂを介して挿入されているの
で、回転駆動機構（図示せず）によりスムースに回転さ
せられる。回転体３は、その中心部下面が回転軸１の上
面１ａに固着され、そして、その周辺部下面が固定体上
端の環状平面に面接触している。そのために、スラスト
加重は、固定体上端の環状平面と回転体の周辺部下面と
の滑り面８で受けることとなる。そして、固定体５に
は、その上端の環状平面に沿って空気溜まり室６が設け
られ、また、該空気溜まり室６に通じる細孔７が設けら
れて、該細孔７より圧力空気が送り込まれるようにされ
ている。
【００１９】図１に示されているように、空気溜まり室
６は、円周方向に等間隔に設けられた平面視で円形をし
た多数の室により構成されている。このような空気溜ま
り室６は、平面視で楕円形、正方形、長方形、三角形又
は菱形をした多数の室により構成してもかまわない。図
２に示されているように、空気溜まり室６を構成する多
数の室間にそれらを連通させる空気溝１４を設けること
ができる。そして、図３に示されているように、空気溜
まり室６を平面視で円形渦巻状の連続溝１５により構成
することができる。図４に示されているように、このよ
うな空気溜まり室６を平面視で星状（ａ）又は矩形渦巻
状（ｂ）の連続溝１５或いは放射状（ｃ）に配置された
多数の溝１６により構成することができる。
６は、円周方向に等間隔に設けられた平面視で円形をし
た多数の室により構成されている。このような空気溜ま
り室６は、平面視で楕円形、正方形、長方形、三角形又
は菱形をした多数の室により構成してもかまわない。図
２に示されているように、空気溜まり室６を構成する多
数の室間にそれらを連通させる空気溝１４を設けること
ができる。そして、図３に示されているように、空気溜
まり室６を平面視で円形渦巻状の連続溝１５により構成
することができる。図４に示されているように、このよ
うな空気溜まり室６を平面視で星状（ａ）又は矩形渦巻
状（ｂ）の連続溝１５或いは放射状（ｃ）に配置された
多数の溝１６により構成することができる。
【００２０】そして、図５に示されているように、固定
体５には、その上端の環状平面に沿って油溝９が設けら
れ、また、該油溝９に通じる細孔１１が設けられてい
る。このような油溝９は、図１，２に示されているよう
に、平面視で放射状に配置された多数の溝により構成さ
れている。この溝は、図２に示すように、放射方向にい
くつかに分割して設けてもかまわない。
体５には、その上端の環状平面に沿って油溝９が設けら
れ、また、該油溝９に通じる細孔１１が設けられてい
る。このような油溝９は、図１，２に示されているよう
に、平面視で放射状に配置された多数の溝により構成さ
れている。この溝は、図２に示すように、放射方向にい
くつかに分割して設けてもかまわない。
【００２１】さらに、図６に示されているように、回転
体３の下面には、フッ素系樹脂シート１２を設けること
ができる。このようなフッ素系樹脂シート１２は、例え
ば、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化エチレン、四
フッ化エチレン／六フッ化プロピレン共重合体、ポリフ
ッ化ビニリデン等の摩擦係数の小さい樹脂により構成さ
れるシートである。このように回転体３の下面にフッ素
系樹脂シート１２が設けられると、スラスト加重は、固
定体上端の環状平面と回転体の周辺部下面に設けられた
フッ素系樹脂シート１２との滑り面８で受けることとな
る。
体３の下面には、フッ素系樹脂シート１２を設けること
ができる。このようなフッ素系樹脂シート１２は、例え
ば、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化エチレン、四
フッ化エチレン／六フッ化プロピレン共重合体、ポリフ
ッ化ビニリデン等の摩擦係数の小さい樹脂により構成さ
れるシートである。このように回転体３の下面にフッ素
系樹脂シート１２が設けられると、スラスト加重は、固
定体上端の環状平面と回転体の周辺部下面に設けられた
フッ素系樹脂シート１２との滑り面８で受けることとな
る。
【００２２】以上、本発明によれば、回転体３が滑り面
８の上を回転しているときには、滑り面８が下定盤４及
び回転体３の重量を受けることになるが、細孔７を通じ
て空気溜まり室６に静圧Ｐ（ｋｇ／ｃｍ2 ）を供給する
と、静圧による力Ｆ（ｋｇ）が下定盤４及び回転体３の
重量を軽減する方向に働くこととなる。但し、空気溜ま
り室６の受容面積をＡ（ｃｍ2 ）とすると、Ｐ、Ａ及び
Ｆの関係は、次の式、Ｐ×Ａ＝Ｆで示される。その結
果、滑り面８の許容荷重が軽くなり、回転体３によるス
ムースな回転が得られる。
８の上を回転しているときには、滑り面８が下定盤４及
び回転体３の重量を受けることになるが、細孔７を通じ
て空気溜まり室６に静圧Ｐ（ｋｇ／ｃｍ2 ）を供給する
と、静圧による力Ｆ（ｋｇ）が下定盤４及び回転体３の
重量を軽減する方向に働くこととなる。但し、空気溜ま
り室６の受容面積をＡ（ｃｍ2 ）とすると、Ｐ、Ａ及び
Ｆの関係は、次の式、Ｐ×Ａ＝Ｆで示される。その結
果、滑り面８の許容荷重が軽くなり、回転体３によるス
ムースな回転が得られる。
【００２３】採用される下定盤４の径により滑り面８の
径が変わることとなるが、滑り面８の外径寸法として
は、滑り面の外径をｄとし、下定盤４の外径をＤとした
場合、次の式、ｄ＝（１／２〜１）×Ｄで示される範囲
が目安となる。また、空気溜まり室６を構成する室の個
数や大きさは、滑り面８の大きさに対応して適宜に変更
することができる。滑り面８への潤滑油の供給は、細孔
１１より行われるが、潤滑油ポンプでホースを通じて細
孔１１に供給すると、その搬送圧（油圧）で回転体３が
何μｍか浮き上がることがあるため、潤滑油容器を滑り
面より高い位置に保持してその自然落下によりホースを
通じて細孔１１に供給すると良い。また、滑り面８での
摩擦抵抗による発熱も静圧を空気溜まり室６に供給する
ことにより、回転体３の重量を軽減することができるた
め、摩擦損失が少なくなり、その結果、摩擦抵抗による
温度上昇が少なくなる。
径が変わることとなるが、滑り面８の外径寸法として
は、滑り面の外径をｄとし、下定盤４の外径をＤとした
場合、次の式、ｄ＝（１／２〜１）×Ｄで示される範囲
が目安となる。また、空気溜まり室６を構成する室の個
数や大きさは、滑り面８の大きさに対応して適宜に変更
することができる。滑り面８への潤滑油の供給は、細孔
１１より行われるが、潤滑油ポンプでホースを通じて細
孔１１に供給すると、その搬送圧（油圧）で回転体３が
何μｍか浮き上がることがあるため、潤滑油容器を滑り
面より高い位置に保持してその自然落下によりホースを
通じて細孔１１に供給すると良い。また、滑り面８での
摩擦抵抗による発熱も静圧を空気溜まり室６に供給する
ことにより、回転体３の重量を軽減することができるた
め、摩擦損失が少なくなり、その結果、摩擦抵抗による
温度上昇が少なくなる。
【００２４】以下、本発明の作用を説明すると次のとお
りとなる。 （１）本第１発明について スラスト加重を固定体上端の環状平面と回転体の周辺部
下面との滑り面で受けるので、そのスラスト荷重を受け
る範囲は、ＬＳ（第５図）となり、従来のＬＫ（図７）
より広い範囲で受けるものとなる。そのために、スラス
ト荷重に基づく下定盤のオーバーハングによる変形を防
止することができると共に振動及び騒音を防止ででき
る。しかも、固定体に、その上端の環状平面に沿って空
気溜まり室を設けると共に、該空気溜まり室に通じる細
孔を設けたので、細孔を通じて圧力空気（静圧）を空気
溜まり室に送り込み、滑り面にかかるスラスト荷重を軽
減させることにより、スラスト荷重による内外径の周速
差の大きい回転体の変形及び摩擦抵抗に伴う発熱を防止
できる。それらの結果、加工精度を向上させることがで
きると共に故障原因の少ないラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置を提供することができる。ま
た、大きな加工荷重及び／又は加工速度を必要とする場
合でも、静圧とスラスト荷重とのバランスを取ることに
より、加工精度を向上させることができる。
りとなる。 （１）本第１発明について スラスト加重を固定体上端の環状平面と回転体の周辺部
下面との滑り面で受けるので、そのスラスト荷重を受け
る範囲は、ＬＳ（第５図）となり、従来のＬＫ（図７）
より広い範囲で受けるものとなる。そのために、スラス
ト荷重に基づく下定盤のオーバーハングによる変形を防
止することができると共に振動及び騒音を防止ででき
る。しかも、固定体に、その上端の環状平面に沿って空
気溜まり室を設けると共に、該空気溜まり室に通じる細
孔を設けたので、細孔を通じて圧力空気（静圧）を空気
溜まり室に送り込み、滑り面にかかるスラスト荷重を軽
減させることにより、スラスト荷重による内外径の周速
差の大きい回転体の変形及び摩擦抵抗に伴う発熱を防止
できる。それらの結果、加工精度を向上させることがで
きると共に故障原因の少ないラッピング／ポリッシング
マシンの下定盤回転装置を提供することができる。ま
た、大きな加工荷重及び／又は加工速度を必要とする場
合でも、静圧とスラスト荷重とのバランスを取ることに
より、加工精度を向上させることができる。
【００２５】（２）本第２，３発明について 空気溜まり室を、円周方向に等間隔に設けた平面視で円
形、楕円形、正方形、長方形、三角形又は菱形をした多
数の室により、構成したので、滑り面にかかるスラスト
荷重を軽減させることができる。また、空気溜まり室を
構成する多数の室間にそれらを連通させる空気溝を設け
たので、静圧をより均一に付与することができる。
形、楕円形、正方形、長方形、三角形又は菱形をした多
数の室により、構成したので、滑り面にかかるスラスト
荷重を軽減させることができる。また、空気溜まり室を
構成する多数の室間にそれらを連通させる空気溝を設け
たので、静圧をより均一に付与することができる。
【００２６】（３）第４発明について 空気溜まり室を、平面視で円形渦巻状、星状又は矩形渦
巻状の連続溝或いは放射状に配置した多数の溝により、
構成したので、滑り面にかかるスラスト荷重を軽減させ
ることができると共に静圧をより均一に付与することが
できる。
巻状の連続溝或いは放射状に配置した多数の溝により、
構成したので、滑り面にかかるスラスト荷重を軽減させ
ることができると共に静圧をより均一に付与することが
できる。
【００２７】（４）第５発明について 固定体に、その上端の環状平面に沿って油溝を設けると
共に、該油溝に通じる細孔を設けたので、細孔より潤滑
油を油溝に少量送り込むことによって、滑り面で受ける
スラスト荷重が許容以上になった場合でもラッピング／
ポリッシング加工が可能となり、また、この潤滑油は、
滑り面の潤滑を目的として少量使用するものであるの
で、潤滑油による悪影響は全くない。
共に、該油溝に通じる細孔を設けたので、細孔より潤滑
油を油溝に少量送り込むことによって、滑り面で受ける
スラスト荷重が許容以上になった場合でもラッピング／
ポリッシング加工が可能となり、また、この潤滑油は、
滑り面の潤滑を目的として少量使用するものであるの
で、潤滑油による悪影響は全くない。
【００２８】（５）第６発明について 油溝を平面視で放射状に配置した多数の溝で構成したの
で、潤滑油を滑り面に均一に供給することができる。
で、潤滑油を滑り面に均一に供給することができる。
【００２９】（６）第７発明について 回転体の周辺部下面にフッ素系樹脂シートを設けたの
で、滑り面における摩擦抵抗をいっそう軽減させること
ができ、そのために、許容されるスラスト荷重の範囲を
広くすることができる。
で、滑り面における摩擦抵抗をいっそう軽減させること
ができ、そのために、許容されるスラスト荷重の範囲を
広くすることができる。
【００３０】
【発明の効果】大きな加工荷重（スラスト荷重）及び／
又は加工速度を必要とする場合でもスラスト荷重による
下定盤の変形及び摩擦抵抗に伴う発熱を防止した故障原
因の少ないラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回
転装置を提供することができる。
又は加工速度を必要とする場合でもスラスト荷重による
下定盤の変形及び摩擦抵抗に伴う発熱を防止した故障原
因の少ないラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回
転装置を提供することができる。
【図１】本発明の一実施の形態を示す下定盤及び回転体
を取り外した状態のラッピング／ポリッシングマシンの
平面図である。
を取り外した状態のラッピング／ポリッシングマシンの
平面図である。
【図２】本発明の他の一実施の形態を示す下定盤及び回
転体を取り外した状態のラッピング／ポリッシングマシ
ンの平面図である。
転体を取り外した状態のラッピング／ポリッシングマシ
ンの平面図である。
【図３】本発明の他の一実施の形態を示す下定盤及び回
転体を取り外した状態のラッピング／ポリッシングマシ
ンの平面図である。
転体を取り外した状態のラッピング／ポリッシングマシ
ンの平面図である。
【図４】本発明の他の一実施の形態を示す下定盤及び回
転体を取り外した状態のラッピング／ポリッシングマシ
ンの平面説明図である。
転体を取り外した状態のラッピング／ポリッシングマシ
ンの平面説明図である。
【図５】本発明の一実施の形態を示すラッピング／ポリ
ッシングマシンの下定盤回転装置の図１のＡ−Ａ断面に
対応する断面図である。
ッシングマシンの下定盤回転装置の図１のＡ−Ａ断面に
対応する断面図である。
【図６】本発明の他の一実施の形態を示すラッピング／
ポリッシングマシンの下定盤回転装置の図１のＡ−Ａ断
面に対応する断面図である
ポリッシングマシンの下定盤回転装置の図１のＡ−Ａ断
面に対応する断面図である
【図７】従来のラッピング／ポリッシングマシンの下定
盤回転装置の縦断面図である。
盤回転装置の縦断面図である。
１ 回転軸 １ａ 上面 ２ａ，２ｂ ラジアルベアリング ３ 回転体 ４ 下定盤 ５ 固定体 ６ 空気溜まり室 ７ 細孔 ８ 滑り面 ９ 油溝 １１ 細孔 １２ フッ素系樹脂シート １４ 空気溝 １５ 連続溝 １６ 多数の溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平９−155727（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−13278（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−52034（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−56489（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−219152（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−109678（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−140267（ＪＰ，Ｕ) 実公 昭62−34670（ＪＰ，Ｙ２) 特表 平２−500349（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B24B 37/04
Claims (7)
- 【請求項１】 スラスト加重を固定体上端の環状平面と
回転体の周辺部下面との滑り面で受けるラッピング／ポ
リッシングマシンの下定盤回転装置において、固定体
に、その上端の環状平面に沿って空気溜まり室を設ける
と共に、該空気溜まり室に通じる細孔を設けて、該細孔
より圧力空気を送り込むようにしたことを特徴とするラ
ッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置。 - 【請求項２】 空気溜まり室を、円周方向に等間隔に設
けた平面視で円形、楕円形、正方形、長方形、三角形又
は菱形をした多数の室により、構成したことを特徴とす
る請求項１記載のラッピング／ポリッシングマシンの下
定盤回転装置。 - 【請求項３】 空気溜まり室を構成する多数の室間にそ
れらを連通させる空気溝を円周方向に設けたことを特徴
とする請求項２記載のラッピング／ポリッシングマシン
の下定盤回転装置。 - 【請求項４】 空気溜まり室を、平面視で円形渦巻状、
星状又は矩形渦巻状の連続溝或いは放射状に配置した多
数の溝により、構成したことを特徴とする請求項１記載
のラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置。 - 【請求項５】 固定体に、その上端の環状平面に沿って
油溝を設けると共に、該油溝に通じる細孔を設けたこと
を特徴とする請求項１，２，３又は４記載のラッピング
／ポリッシングマシンの下定盤回転装置。 - 【請求項６】 油溝を、平面視で放射状に配置した多数
の溝で構成したことを特徴とする請求項５記載のラッピ
ング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置。 - 【請求項７】 回転体の周辺部下面にフッ素系樹脂シー
トを設けたことを特徴とする請求項１，２，３，４，５
又は６記載のラッピング／ポリッシングマシンの下定盤
回転装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11075498A JP3012224B2 (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | ラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11075498A JP3012224B2 (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | ラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11300606A JPH11300606A (ja) | 1999-11-02 |
| JP3012224B2 true JP3012224B2 (ja) | 2000-02-21 |
Family
ID=14543725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11075498A Expired - Fee Related JP3012224B2 (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | ラッピング／ポリッシングマシンの下定盤回転装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3012224B2 (ja) |
-
1998
- 1998-04-21 JP JP11075498A patent/JP3012224B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11300606A (ja) | 1999-11-02 |
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