JP3008596B2 - 化学研磨装置 - Google Patents

化学研磨装置

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JP3008596B2
JP3008596B2 JP3243784A JP24378491A JP3008596B2 JP 3008596 B2 JP3008596 B2 JP 3008596B2 JP 3243784 A JP3243784 A JP 3243784A JP 24378491 A JP24378491 A JP 24378491A JP 3008596 B2 JP3008596 B2 JP 3008596B2
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均 野田
洋 宮村
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0085Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
    • HELECTRICITY
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    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits

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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属板あるいは表面に
金属層を備える樹脂板などの板状体の表面を化学的に研
磨処理するための化学研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント配線板の内層板など銅の
金属表面を備える板状体に、メッキやエッチングなどの
ためのレジストを形成するためのドライフィルム層をコ
ーティング乃至貼り合わせる場合には、その前処理とし
て、一般的に、前記板状体の銅表面に化学研磨用の処理
液(例えば硫酸と過酸化水素との混合溶液)を接触させ
て、その表面を化学研磨処理している。
【0003】従来の一般的な銅表面に対する前記化学研
磨処理ラインの工程を、図3の従来の化学研磨装置及び
図4の一般的な化学研磨工程図に従って説明すれば、ま
ず、化学研磨処理すべき銅(Cu )表面を備える板状体
1を、化学研磨装置2の処理ラインの投入部3より投入
する。そして、駆動回転する上下1対の対向ロール4
(上側ロール4a,下側ロール4b)を水平方向に複数
対配列した搬送手段5の前記対向ロール4の間に板状体
1を挟持して図2の右方向に水平に搬送する。
【0004】化学研磨装置2の複数対配列された上下対
向ロール4,4,4,・・・の上方と下方には、1基乃
至数基の化学研磨処理液供給部6を備え、搬送手段5に
て搬送される板状体1の表面乃至裏面に、前記化学研磨
処理液供給部6から、希硫酸(H2 SO4 )と過酸化水
素水(H2 2 )との混合液を化学研磨処理液として供
給(例えば吹きつけ)して接触させ、板状体1の銅表面
を化学研磨処理する。
【0005】続いて、化学研磨処理液供給部6を通過終
了した板状体1は水洗手段7側に搬出され、該水洗手段
7を通過する間に、板状体1の銅表面に残留する研磨処
理液を水洗して洗い流す。
【0006】続いて、水洗手段7を通過した板状体1
は、適宜乾燥手段8(遠赤外線ヒーター、熱風ファンな
ど)を通過させて、その化学研磨された表面を乾燥さ
せ、化学研磨を終了するものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記化学研磨工程にお
ける化学研磨過程においては、板状体1表面の銅(C
u)を希硫酸又は過酸化水素溶液、若しくはそれらの混
合液を化学研磨処理液として化学研磨処理する場合、化
学研磨装置2(チャンバー)内では、下記のような反応
が進行し、硫酸銅(CuSO4 )が結晶状体で固体とし
て生成される。 Cu +H2 SO4 +H2 2 →Cu SO4 +2H2
【0008】また一方、従来の処理中の化学研磨装置2
内には、噴出する化学研磨処理液の希硫酸(H2
4 )の飛沫が、酸性のガス状、ミスト状となって充満
するために、化学研磨装置2には排気部9(自然排気方
式、若しくは強制排気方式)が設置されており、装置2
内に溜まった酸性のガスを装置2外側に排気するように
している。
【0009】そのため、該装置2内の水分も排気と同時
に装置2外側に排出され、特に排気部9に近設する位置
にある対向ロール4(例えば図2の排気部直近位置A,
B)は、排気による水分の減少によって乾燥し易く、化
学研磨処理中の対向ロール4などに水溶液状態で付着す
る硫酸銅(CuSO4 )が、乾燥によって該対向ロール
4周面などに固体状態、結晶状態となって付着し易い。
【0010】この固体状態となって付着した硫酸銅は、
順次搬送されてくる化学研磨処理用の板状体1の銅表面
を均一に粗面化するための障害となっており、又、処理
後の板状体1の銅表面にシミを発生させる原因ともなっ
ている。
【0011】本発明は、酸性の化学研磨処理液を用い
て、板状体の金属表面の化学研磨処理をする化学研磨処
理装置の板状体搬送用の対向ロールに、研磨処理反応生
成物が固形状となって付着することを防止することを目
的とするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、上下1対の対
向ロールを水平方向に複数対設置した搬送手段と、該搬
送手段の少なくとも前段と後段とに排気部と、該搬送手
段の途中に化学研磨処理液供給部とを備えた化学研磨装
置において、少なくとも前記排気部近傍に位置する上下
一対の対向ロールの下側ロールを洗浄する洗浄手段を設
けたことを特徴とする化学研磨装置である。
【0013】又、本発明は、前記上下一対の対向ロール
の下側ロールを洗浄する洗浄手段が、該下側ロールを浸
漬する洗浄液槽であることを特徴とする化学研磨装置。
【0014】又、本発明は、前記上下一対の対向ロール
の下側ロールを洗浄する洗浄手段が、該下側ロール周面
に対して洗浄液を供給する洗浄液噴出部であることを特
徴とする化学研磨装置である。
【0015】
【実施例】本発明を実施例に従って詳細に説明する。図
1は、本発明の化学研磨装置24の側面図であり、底部
26と四方側壁27,27,27,27と上部板28と
から化学研磨装置24の外側ハウジング部25を構成し
ている。
【0016】ハウジング部25内には、上下一対の駆動
回転可能な対向ロール4,4,4,・・・(それぞれ上
側ロール4aと下側ロール4bが1対となっている)が
水平方向に複数対配列されており、それぞれの対向ロー
ルは、互いに連動して、駆動用モーターによって回転可
能である。
【0017】該対向ロール4の全部は耐薬品性のゴムロ
ール又は樹脂ロールを使用するか、若しくは、該対向ロ
ール4は、耐薬品性のゴムロールと樹脂ロールとを併用
して使用するものである。なお、耐薬品処理してあれ
ば、金属製ロールを使用することも可能である。前記対
向ロール4の配列位置の上方、及び下方には、化学研磨
処理液(例えば希硫酸と過酸化水素水との混合液など酸
性水溶液)を、該対向ロール4方向に供給するための処
理液供給部6を1基、乃至その対向ロール4の配列方向
に平行に複数基設置されている。
【0018】前記処理液供給部6は、処理液を吹き付け
るように供給する吹き付けノズル、若しくは吹き付けパ
イプ、あるいは塗布ロールであってもよい。
【0019】前記ハウジング部25の一部には排気部9
を備え、該ハウジング部25内の気体を排気できるよう
になっている。前記排気部9の排気方式は、自然排気方
式、あるいは、吸気用ファン、押し込み用ファンなどに
よる強制排気方式のいずれでもよい。
【0020】図1の一実施例においては、前記排気部9
は、ハウジング部25内に配列した複数の対向ロール
4,4,4・・・の両端側に、それぞれ1個所ずつ設置
されている。又、前記排気部9に近設する対向ロール4
と、該対向ロール4に隣接する対向ロール4との間に
は、排気による気体の流れの影響が直接的に前記隣接す
る対向ロール4に及ぼさないように、適宜隔壁板23を
設置することは可能である。
【0021】本発明においては、前記排気部に近設する
一対の対向ロール4のうち下側ロール4bには、該下側
ロール4bの周面を洗浄可能な洗浄手段10を備えるも
のであるが、本発明の一実施例としては、図1に示すよ
うに、前記排気部9に近設する(排気部直近位置A,B
に配置される)一対の対向ロール4の上側ロール4aと
下側ロール4bのうち、該下側ロール4bを浸漬する水
洗水など洗浄液12を貯留するための洗浄液槽11を設
置する。
【0022】前記洗浄液槽11は、前記下側ロール4b
に対して取り付け、取り外し可能な着脱できる手段を設
けてあり、該着脱手段は、従来より公知の手段によって
達成でき、又、該洗浄液槽11には、洗浄液12を常に
循環供給するための洗浄液循環供給手段を併設すること
ができ、該洗浄液循環供給手段には、従来より公知の液
体循環供給ポンプなどを使用することができる。
【0023】又、本発明においては、前記洗浄液層11
は、前記排気部9に直近位置に配置された対向ロール4
の下側ロール4bに設置することによって、本発明の目
的は十分達成できるものであるが、必ずしもこれに限定
するものではなく、ハウジング部25内に水平方向に配
列された各対向ロール4,4,4・・・のいずれかの下
側ロール4bが洗浄液に浸漬するように洗浄手段10
(前記一実施例においては洗浄液槽11)を設置するこ
とは可能である。
【0024】又、本発明においては、必要に応じて、前
記対向ロール4の水平配列方向両端部のハウジング部2
5外側に、上下に対向する一対の送り込みロール21
(上側ロール21a,下側ロール21b)と、送り出し
ロール22(上側ロール22a,下側ロール22b)を
設置して、化学研磨処理するための板状体1を投入、排
出処理するものである。
【0025】図2は、本発明の化学研磨処理装置の他の
実施例における洗浄手段10の側面図であり、上下一対
の対向ロール4のうち、下側ロール4bの周面に対して
洗浄水など洗浄液を吹き付けるための洗浄液吹き付けノ
ズル14を設置したものである。
【0026】次に、本発明の化学研磨装置を用いて、板
状体1の金属表面を処理する操作方法を図1に従って説
明すれば、化学研磨処理すべき板状体1を、送り込みロ
ール21に導入して前方に送り込み、投入口16よりチ
ャンバー25内に投入する。投入口16より投入された
板状体1は、駆動回転する対向ロール4、4,4・・・
の間に挟持されて、各対向ロール4の回転によってチャ
ンバー25内を前方に搬送される。
【0027】前記各対向ロール4を通過する間に、該対
向ロール4の上方と下方とに設置された化学処理液供給
部6より酸性の処理液15が板状体1の両面に吹き付け
られて、該板状体1の金属表面が酸性の処理液15によ
って化学研磨される。
【0028】前記板状体1を前方に搬送しながら、駆動
回転している前記対向ロール4のうち洗浄手段10の設
置された下側ロール4b、即ち、洗浄液槽11に貯留さ
れた洗浄液12(水洗水)内に浸漬している下側ロール
4bのロール周面は、常に洗浄液12に接触しており、
乾燥せずに湿潤状態を保持しており、前記化学研磨処理
によって生成する処理廃液の固形分は、該洗浄液12に
よって常に洗い流され清浄化される。
【0029】前記対向ロール4,4,4,・・・を通過
終了した板状体1は、搬出口17を通過して対向する送
り出しローラー22間に導入されて、化学研磨処理装置
24の外側に搬出される。
【0030】搬出された前記板状体1は、該化学研磨処
理装置24の後段に併設した水洗手段(図示せず)によ
って処理液15が洗い落とされて化学研磨処理を終了
し、水洗手段の後段に設置された乾燥手段(図示せず)
によって乾燥されて、化学研磨処理操作が完了するもの
である。
【0031】
【作用】本発明の化学研磨装置は、酸性の化学研磨処理
液を使用して、板状体の金属表面を化学研磨処理するた
めの装置であって、研磨処理すべき板状体を上下方向よ
り挟持しながら前方に搬送するための回転する対向ロー
ルに洗浄手段を設けたので、板状体を対向ロールによっ
て挟持しながら前方に搬送しつつ、酸性の処理液によっ
て金属表面の化学研磨処理(金属表面の平滑化研磨、粗
面化研磨など)をするに当たって生成される処理廃液に
含まれる生成物が、固形状となって対向ロールに付着し
ないように、常に前記洗浄手段によって、対向ロールの
周面を清浄に保つことができる。
【0032】
【発明の効果】本発明の化学研磨装置は、板状体を搬送
する対向ロールに、化学研磨処理によって生成される処
理廃液の固形分が付着するのを防止でき、対向ロールに
固形分が付着して、板状体に処理ムラが発生することを
解消でき、例えば、プリント配線板の内層板など銅の金
属表面を備える板状体に、メッキやエッチングなどのた
めのレジストを形成するためのドライフィルム層をコー
ティング乃至貼り合わせる場合における前処理研磨など
の化学研磨処理に効果的である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の化学研磨処理装置の一実施例における
側面図である。
【図2】本発明の化学研磨処理装置の他の実施例におけ
る洗浄手段の側面図である。
【図3】従来の化学研磨装置の側面図である。
【図4】一般的な化学研磨工程を説明する説明図であ
る。
【符号の説明】
1…板状体 2…化学研磨装置 3…投入部 4…対向
ロール 4a…上側ロール 4b…下側ロール 5…搬
送手段 6…処理液供給部 7…水洗手段 8…乾燥手
段 9…排気部 10…洗浄手段 11…洗浄液層 1
2…洗浄液 14…洗浄液ノズル 15…処理液 16
…投入口 17…搬出口 21…送り込みロール 22
…送り出しロール 23…隔壁板 24…化学研磨装置
25…チャンバー 26…底部 27…側壁 28…
上部板 29…処理液排出管 A,B…排気部直近位置

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】上下1対の対向ロールを水平方向に複数対
    設置した搬送手段と、該搬送手段の少なくとも前段と後
    段とに排気部と、該搬送手段の途中に化学研磨処理液供
    給部とを備えた化学研磨装置において、少なくとも前記
    排気部近傍に位置する上下一対の対向ロールの下側ロー
    ルを洗浄する洗浄手段を設けたことを特徴とする化学研
    磨装置。
  2. 【請求項2】前記上下一対の対向ロールの下側ロールを
    洗浄する洗浄手段が、該下側ロールを浸漬する洗浄液槽
    である請求項1に記載の化学研磨装置。
  3. 【請求項3】前記上下一対の対向ロールの下側ロールを
    洗浄する洗浄手段が、該下側ロール周面に対して洗浄液
    を供給する洗浄液噴出部である請求項1に記載の化学研
    磨装置。
JP3243784A 1991-09-24 1991-09-24 化学研磨装置 Expired - Lifetime JP3008596B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITUA20163138A1 (it) * 2016-05-04 2017-11-04 C I E Compagnia Italiana Ecologia S R L Procedimento per il trattamento di rame.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITUA20163138A1 (it) * 2016-05-04 2017-11-04 C I E Compagnia Italiana Ecologia S R L Procedimento per il trattamento di rame.

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JPH0578868A (ja) 1993-03-30

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